KR20150076361A - 이오나이저를 이용한 디스플레이 글라스 및 필름의 이물질 제거장치 - Google Patents

Abstract

본 발명은 디스플레이 글라스 및 필름의 이물질 제거장치에 관한 것으로, 보다 상세하게는 이물질 제거장치의 하부를 수평방향으로 이동하는 글라스 또는 필름의 상면을 이온발생기로부터 공급되는 이온을 통해 정전기를 제거하여 흡입함으로써 글라스 또는 필름의 이물질을 제거하는 장치에 관한 것이다.
본 발명에 의할 경우, 고가의 장비 또는 대형 장비에 의한 디스플레이 글라스 또는 필름의 세정장치에 대응하여 비교적 저정밀도의 이물질 제거가 용인되는 후공정에 있어서의 이물질 제거에 최적된 장치를 제시함으로써 공정의 효율을 높이고 투입비용을 저감할 수 있다.

Description

이오나이저를 이용한 디스플레이 글라스 및 필름의 이물질 제거장치{Cleaning apparatus for dust particle of display glass and film with using ionizer}

본 발명은 디스플레이 글라스 및 필름의 이물질 제거장치에 관한 것으로, 보다 상세하게는 이물질 제거장치의 하부를 수평방향으로 이동하는 글라스 또는 필름의 상면을 이온발생기로부터 공급되는 이온을 통해 정전기를 제거하여 흡입함으로써 글라스 또는 필름의 이물질을 제거하는 장치에 관한 것이다.

스마트폰 등에 사용되는 디스플레이 글라스 또는 필름을 제조하기 위해서는 다수의 공정이 진행되고 그 진행과정에 따라 표면의 이물질을 제거하는 공정이 부가됨이 일반적이다.

특히, 원판의 글라스에 다수의 전처리 공정을 통해 패터닝 및 인쇄과정이 이행되는 과정에서는 이물질의 제거 여부에 따라 그 수율에 큰 영향을 미칠 수 있고, 그에 따라 다양한 이물질 제거 장치가 이용되고 있다.

글라스 표면의 이물질을 제거하기 위해 세정조를 이용하거나 세정조에 더하여 초음파를 이용하여 글라스 표면의 미세 입자까지 제거하는 장치 등이 개발되고 있다.

그러나 상기한 세정조를 이용한 세정의 경우 세정과정에 부대하는 세정액의 사용과 장비의 비대화가 문제될 소지를 가진다. 물론 필수적으로 이 같은 과정을 통해 3 내지 5 마이크로 단위의 입자를 제거하는 것은 전처리에 있어서는 큰 의미를 지닌다. 또한, 근자에는 초음파를 이용해 글라스 표면의 이물질을 진동시켜 박리한 후 이를 진공밸브를 통해 흡입하는 방식의 이물질 제거장치가 제시되고 있다. 그러나 후처리 공정, 즉 디스플레이 글라스에 패터닝이나 인쇄 등의 정밀한 처리 작업이 완료된 후 이를 커팅 후 제품에 장착하는 단계의 후처리 공정이라면 상기한 정도의 이물질 제거능력을 요하지 않는다고 봄이 타당하다.

이에 따라 후처리 공정의 글라스 세정에 있어서 효율적인 이물질 박리 및 제거 수단 및 간소화된 장비가 요구되고 있다.

본 발명은, 상기한 문제점을 해결하기 위해 안출된 것으로, 디스플레이 글라스 또는 필름의 후처리 공정에 요구되는 이물질 제거능력을 구비한 이물질 제거장치를 제시함을 그 목적으로 하며, 나아가 글라스 표면의 이물질을 용이하게 박리시킬 수 있는 수단을 제시함을 그 목적으로 한다.

본 발명은 이를 위하여, 하우징 내에 안치된 이온공급관(120a,120c)에 이온을 공급하는 이오나이저(111a,111b)를 구비한 이온발생부(110a,110b); 와 이물질을 흡수하도록 구비된 이물질 회수부(140)로 구성된 이물질 제거유닛(100)을 포함하여 구성되는 이오나이저를 이용한 디스플레이 글라스 및 필름의 이물질 제거장치를 제시하되, 상기 이물질 제거 유닛(100)이 하우징 내에 수평하게 2 이상 병렬하여 구비되는 이오나이저를 이용한 디스플레이 글라스 및 필름의 이물질 제거장치를 제시한다.

또한, 상기 이온공급관(120a,120c)은 이오나이저(111a,111b)와 밸브(112a,112b)를 통해 각각 연통하며 그 중앙부에는 분리벽(130a)을 구비하고, 상기 이온공급관(120a,120c)의 저면에는 소정 간격을 가지고 일렬로 배열되어 형성되는 이온 토출공(121a,121b)를 적어도 1 이상 구비함으로써 구성되는 이오나이저를 이용한 디스플레이 글라스 및 필름의 이물질 제거장치를 제시한다.

본 발명에 의할 경우, 고가의 장비 또는 대형 장비에 의한 디스플레이 글라스 또는 필름의 세정장치에 대응하여 비교적 저정밀도의 이물질 제거가 용인되는 후공정에 있어서의 이물질 제거에 최적된 장치를 제시함으로써 공정의 효율을 높이고 투입비용을 저감할 수 있다.

도 1은 본 발명의 일례에 따른 횡방향 단면도
도 2는 본 발명의 일례에 따른 종방향 단면도
도 3은 본 발명의 일례에 따른 평면도로써 단면을 표시한 도면

이하, 본 발명에 따른 이오나이저를 이용한 디스플레이 글라스 및 필름의 이물질 제거장치의 바람직한 실시 예들을 도면을 참조하여 상세하게 설명한다. 이하에서 사용된 용어나 단어는 통상적이거나 사전적인 의미로 한정해서 해석되어서는 아니 되며, 발명자는 그 자신의 발명을 최선의 방법으로 설명하기 위해 용어의 개념을 적절하게 정의할 수 있다는 원칙에 입각하여 본 발명의 기술적 사상에 부합하는 의미와 개념으로 해석되어야할 것이다.

이하, 도면을 참조하여 본 발명을 상세하게 설명한다. 각 도면 중에서 동일 부호는 동일 또는 동등한 구성요소를 나타내고 있다.

도 1 내지 2에서 보는 바와 같이 본 발명은 하우징 내에 안치된 이온공급관(120a,120c)에 이온을 공급하는 이오나이저(111a,111b)를 구비한 이온발생부(110a,110b); 와 이물질을 흡수하도록 구비된 이물질 회수부(140)로 구성된 이물질 제거유닛(100)을 포함하여 구성된다. 상기 이오나이저(111a,111b)는 제거하고자 하는 이물질의 제거 정도에 따라 그 토출 강도를 조절할 수 있음은 물론이며, 요구되는 이물질 제거 정도에 따라 그 용량의 변화를 줄 수 있음은 물론이다.

상기 이온공급관(120a,120c)은 이오나이저(111a,111b)와 밸브(112a,112b)를 통해 각각 연통하며 그 중앙부에는 분리벽(130a)을 구비함으로써 양측의 이오나이저(111a,111b)를 통해 이온을 공급받도록 구성된다. 이에 따라 일측의 이오나니저를 통해 이온공급관의 전단에 종단까지 이온을 공급하는 경우 공급되는 이온의 농도에 차이가 발생함을 방지할 수 있다.

한편, 상기 이온공급관(120a,120c)에 이온을 공급함에 있어 도시하지 않았으나 별도로 구비된 콘트롤러에 의해 이온을 불어 넣기 위한 압축공기의 제어 및 이오나이저의 토출을 간헐적으로 제어할 수 있도록 구성될 수 있음은 물론이다.

또한, 상기 이온공급관(120a,120c)의 저면에는 소정 간격을 가지고 일렬로 배열되어 형성되는 이온 토출공(121a,121b)를 적어도 1 이상 구비함으로써 구성된다. 상기 이온토출공은 이물질을 제거하기 위해 이온공급관의 수평방향으로 저면을 이동하는 글라스 또는 필름의 표면에 이온을 균등하게 토출하여 이물질의 정전기를 제거하여 이물질이 극성을 띄지 않도록 한 상태를 유지하게 하기 위해 구비된다. 통상적으로 글라스 또는 필름의 표면에 침착 내지는 점착된 이물질은 대전되거나 극성을 띔에 따라 제거가 용이하지 않기 때문이다.

한편, 상기 이온토출공(121a,121b)의 간격 및 토출공의 직경 등은 요구되는 이물질의 제거 정도 및 이물질의 종류에 따라 가변적일 수 있으므로 이에 대한 구체적인 규격이나 배열간격을 특정하지는 않는다.

한편, 상기 이물질 회수부(140a)는 챔버(141a)를 구비하고 그 내부로 이물질 흡입부(150a)를 통해 진공흡입된 이물질을 이물질 회수공(142a,142b)을 통해 진공 흡입하는 진공 흡입관로(143a)를 구비함으로써 구성된다. 상기 진공 흡입관로(143a)는 도시하지 않았으나 블로워 모터 등을 이용해 챔버내의 이물질을 외부로 배출할 수 있도록 구성됨은 공지의 사실인바 이에 대한 상세한 설명은 생략한다.

한편, 상기 이물질 흡입부(150a)는 챔버(141a) 저면에 소정 폭을 구비한 띠 형상으로 구비하되, 상기 이온토출공(121a)의 수평방향으로 소정 간격을 가지는 측단에 구비됨이 바람직하다. 이에 따라 이온토출공을 통해 투하된 이온이 이물질의 정전기 등을 제거한 상태에서 그 이온토출공 측면의 이온흡입부를 통해 이물질을 빠르게 챔버내로 흡입하여 제거하는 것이 용이하기 때문이다.

한편, 도 1 내지 도 3에서 보는 바와 같이 본 발명인 이오나이저를 이용한 디스플레이 글라스 및 필름의 이물질 제거장치는 이물질 제거 유닛(100)이 글라스의 진행방향과 수평하게 2 이상 병렬하여 구비될 수 있다. 따라서 이온공급관(120a,120c)에 이온을 공급하는 이오나이저(111a,111b)를 구비한 이온발생부(110a,110b); 와 이물질을 흡수하도록 구비된 이물질 회수부(140a)를 포함하여 구성되는 본 발명은 이와 병렬하여 글라스의 진행방향에 수평하게 병렬하여 이온공급관(120b,120d)에 이온을 공급하는 이오나이저(111c,111d)를 구비한 이온발생부(110a,110b); 와 이물질을 흡수하도록 구비된 이물질 회수부(140b)를 포함하여 구성돨 수 있다.

이하에서 본 발명의 작동원리를 설명하기로 한다. 이물질의 제거가 요구되는 글라스 또는 필름은 별도로 구비된 이송장치에 의해 본 발명인 이물질 제거유닛(100)의 하단부를 수평하게 이동하게 되면, 그 이동에 따라 글라스 또는 필름의 상면에 이온토출공(121a,121b, 단 병렬로 구비된 경우 121c,121d 포함)을 통해 이온을 투하하여 이물질의 정전기 등을 제거함과 동시에 진행방향과 수평이며 이온토출공의 측단에 구비된 이물질 흡입부(150a, 단 병렬로 구비된 경우 150b 포함)를 통해 챔버(141a, 단 병렬인 경우 141b 포함) 내로 진공 흡입된다.

상기 챔버 내로 흡입된 이물질은 이물질 회수공(142a,142b, 단 병렬로 구비된 경우 142c,142d 포함)을 통해 진공 흡입관로(143a, 단 병렬로 구비된 경우 143b 포함)를 따라 외부로 배출되게 된다. 이때 진공 흡입관로를 형성하는 블로워의 유량은 요구되는 이물질 제거 정도 및 글라스의 두께 내지는 강도 등에 따라 조절될 수 있다.

한편, 본 발명의 하단부를 이동하며 이물질이 제거되는 글라스 등의 경우 이온토출공 및 이물질 흡입부와 소정 간격을 유지함이 중요한 요소인데, 진공흡입 압력이 과도하게 글라스 또는 필름에 가해질 경우 자칫 글라스 도는 필름의 손상 도는 파손을 유발할 수 있기 때문이다. 따라서 사전 설계를 통해 적정 간격을 조절하여야 함은 물론이다, 통상 디스플레이 글라스의 경우 그 가격을 5mm 이상 유지함으로써 이물질 제거 능력을 저하하지 않으면서 글라스의 손상을 방지할 수 있음은 확인되바 있다, 다양한 소재의 강도 내지 특성에 기인해 진공 흡입력을 기준으로 적정 이격을 조절할 필요가 있다.

이상에서와 같이 본 발명은 특정의 바람직한 실시 예를 들어 도시하고 설명하였으나, 상기한 실시예에 한정하는 것은 아니며, 본 발명의 기술적 요지를 변경하지 않는 범위 내에서 단순한 설계변경이나 관용수단의 치환 등의 경우에도 본 발명의 보호범위에 속함을 분명히 한다.

100 : 이물질 제거장치
110a,110b,110c,110d : 이온 발생부
111a,111b,111c,111d : 이오나이저
112a,112b : 밸브
120a,120b : 이온 공급관 121a,121b : 이온 토출공
130a,130b : 분리벽
140a,140b : 이물질 회수부 141a,141b : 챔버
142a,142b,142c,142d : 회수공
143a,143b : 진공 흡입관로

Claims (6)

1. 글라스 또는 필름의 이물질 제거장치에 있어서,
   하우징 내에 안치된 이온공급관(120a,120c)에 이온을 공급하는 이오나이저(111a,111b)를 구비한 이온발생부(110a,110b); 와 이물질을 흡수하도록 구비된 이물질 회수부(140)로 구성된 이물질 제거유닛(100)을 포함하여 구성되는 이오나이저를 이용한 디스플레이 글라스 및 필름의 이물질 제거장치.
   
2. 제 1항에 있어서,
   상기 이물질 제거 유닛(100)이 하우징 내에 수평하게 2 이상 병렬하여 구비되는 이오나이저를 이용한 디스플레이 글라스 및 필름의 이물질 제거장치.
   
3. 제 1항에 있어서,
   상기 이온공급관(120a,120c)은 이오나이저(111a,111b)와 밸브(112a,112b)를 통해 각각 연통하며 그 중앙부에는 분리벽(130a)을 구비하는 이오나이저를 이용한 디스플레이 글라스 및 필름의 이물질 제거장치.
   
4. 제 1항 또는 제 3항에 있어서,
   상기 이온공급관(120a,120c)의 저면에는 소정 간격을 가지고 일렬로 배열되어 형성되는 이온 토출공(121a,121b)를 적어도 1 이상 구비함으로써 구성되는 이오나이저를 이용한 디스플레이 글라스 및 필름의 이물질 제거장치.
   
5. 제 1항에 있어서,
   상기 이물질 회수부(140a)는 챔버(141a)를 구비하고 그 내부로 이물질 흡입부(150a)를 통해 진공흡입된 이물질을 이물질 회수공(142a,142b)을 통해 진공 흡입하는 진공 흡입관로(143a)를 구비함으로써 구성되는 이오나이저를 이용한 디스플레이 글라스 및 필름의 이물질 제거장치.
   
6. 제 5항에 있어서,
   상기 이물질 흡입부(150a)는 챔버(141a) 저면에 소정 폭을 구비한 띠 형상으로 구비하되, 상기 이온토출공(121a)의 수평방향으로 소정 간격을 가지는 측단에 구비되는 이오나이저를 이용한 디스플레이 글라스 및 필름의 이물질 제거장치.
   
   
   
   

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