TWI519373B - 基底支撐模組 - Google Patents

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李基雄
金聖進
車恩熙
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Description

基底支撐模組
本發明是關於一種基底支撐模組(module)。更具體地說，本發明是關於一種能防止一個裝載和卸載基底用的支撐物受到損壞並且能夠延長支撐物的使用壽命的基底支撐模組。
總體上，一種用於對基底進行回火的準分子雷射回火(Excimer Laser Annealing，ELA)設備包括：腔室；基底支撐模組，所述基底支撐模組放置在所述腔室內部並且基底安放並支撐在所述基底支撐模組上面；雷射產生器，所述雷射產生器放置在所述腔室外部並且產生雷射束；透射窗口，所述透射窗口被提供在所述腔室的一個側壁上，例如被提供在上壁上，並且供雷射束穿過；以及反射器，所述反射器被提供在雷射產生器與透射窗口之間，在所述腔室外部。此外，所述基底支撐模組包括：平臺(stage)，基底安放在所述平臺上；提升杆(lift bar)，所述提升杆穿過(through)所述平臺垂直地安裝，並且經配置以裝載或卸載所述基底；以及抬升板(elevation plate)，所述抬升板用於升高和降低所述提升杆。總體上，所述提升杆是由金屬製成的。
此外，在執行升高或降低操作時，所述基底受到提升銷的支撐， 以便在平臺上裝載基底或者卸載被安放在平臺上的基底。但是，有一個問題是，當裝載基底的金屬提升杠被升高或降低時，這些提升杠會在基底上造成刮擦。
為了避免這個問題，整個提升杆都由聚合樹脂(polymer resin)製成。但是，當使用聚合樹脂製成的提升杆升高或降低基底時，提升杆會彎曲，並且與平臺發生摩擦。因此，提升杠必須定期更換，這是一項麻煩的工作。
此外，支撐基底的提升杠總體上被穩固地固定住，不會發生移動。在升高或降低提升杠以便裝載基底的過程中，提升杠會受到基底負荷或外力在左右方向上的力或衝擊，並且因此提升杠可能會彎曲。
KR專利公開案No.10-2004-0115542揭示了一些由一個主體形成的提升杠，這個主體穿過基座(susceptor)使上部頂端升高和降低。在這份專利中，如上文所描述，因為所述提升杠被穩固地固定住，不會發生移動，所以提升杠會受到基底負荷或外力在左右方向上的力或衝擊，並且提升杠因此可能會彎曲。
現有技術
韓國專利公開案No.10-2004-0115542
本發明提供一種能防止一個裝載和卸載基底用的支撐物受到損壞並且能夠延長支撐物的使用壽命的基底支撐模組。
此外，本發明提供一種可以可移動地支撐一個支撐物的基底支撐模組。
根據本發明，一種基底支撐模組包括：平臺，所述平臺用於將基底安放在上面；支撐物，所述支撐物被安裝成使得支撐物的至少一部分垂直地穿過所述平臺，並且所述支撐物經配置以通過升高和降低運動將基底裝載到平臺上和從平臺上卸載基底；下部旋轉機構，所述下部旋轉機構放置在所述平臺內部，並且具有第一下部旋轉構件和第二下部旋轉構件，第一下部旋轉構件和第二下部旋轉構件面向彼此安裝，支撐物安置在中央，並且第一下部旋轉構件和第二下部旋轉構件經配置以抵靠所述支撐物旋轉；以及第一上部旋轉機構，所述第一上部旋轉機構放置在所述平臺內部的下部旋轉機構上方，並且具有第一上部旋轉構件和第二上部旋轉構件，第一上部旋轉構件和第二上部旋轉構件面向彼此安裝，支撐物安置在中央，並且第一上部旋轉構件和第二上部旋轉構件經配置以抵靠所述支撐物旋轉；其中所述支撐物包括由金屬製成的下部主體和耦合到所述下部主體的上部部分並且用於支撐所述基底的上部主體，並且其中所述上部主體由聚合物製成。
所述基底支撐模組更包括：第二上部旋轉機構，所述第二上部旋轉機構放置在所述平臺內部的下部旋轉機構與第一上部旋轉機構之間，並且具有第三上部旋轉構件和第四上部旋轉構件，第三上部旋轉構件和第四上部旋轉構件面向彼此安裝，支撐 物安置在中央，並且第三上部旋轉構件和第四上部旋轉構件經配置以抵靠所述支撐物旋轉。
第一上部旋轉機構的第一上部旋轉構件和第二上部旋轉構件中的每一者以及第二上部旋轉機構的第三旋轉構件和第四旋轉構件中的每一者的尺寸小於下部旋轉機構的第一下部旋轉構件和第二下部旋轉構件的尺寸。
下部旋轉機構的第一下部旋轉構件和第二下部旋轉構件中的每一者、第一上部旋轉機構的第一上部旋轉構件和第二上部旋轉構件中的每一者以及第二上部旋轉機構的第三旋轉構件和第四旋轉構件中的每一者均為軸承。
所述基底支撐模組包括第一移動機構，其中所述第一移動機構的一個末端耦合到第一下部旋轉構件和第二下部旋轉構件中的任一者，以便為第一下部旋轉構件和第二下部旋轉構件中的所述任一者提供間隙(gap)以容許移動(allowing movement)。
所述第一移動機構包括彈簧，其中所述彈簧的一個末端耦合到第一下部旋轉構件和第二下部旋轉構件中的任一者。
所述下部旋轉機構的第一下部旋轉構件、所述第一上部旋轉機構的第一上部旋轉構件以及第二上部旋轉機構的第三上部旋轉構件在與支撐物的一側接觸的同時旋轉。所述下部旋轉機構的第二下部旋轉構件、所述第一上部旋轉機構的第二上部旋轉構件以及所述第二上部旋轉機構的第四上部旋轉構件在與支撐物的另一側接觸的同時旋轉。
所述基底支撐模組包括第二移動機構，其中所述第二移動機構耦合到所述支撐物的下部部分，以便支撐所述支撐物，並且所述第二移動機構為所述支撐物提供間隙以容許移動。
所述第二移動機構包括：固定塊體，所述支撐物的下部部分插入到所述固定塊體中；以及可移動構件，所述可移動構件耦合到所述固定塊體的下部部分，以容許固定塊體移動。
所述固定塊體包括：第一塊體，所述第一塊體被安裝成與支撐物的下部部分的一側接觸；以及第二塊體，所述第二塊體面向所述第一塊體，並且被安裝成與支撐物的另一側接觸。所述可移動構件耦合到第一塊體和第二塊體中的任一者的下部部分。
所述第二移動機構的可移動構件插入到所述固定塊體的下部部分中，並且包括一個球珠，所述球珠被安裝成使得球珠的至少一部分從固定塊體的下端突出。
根據本發明的一個實施例的支撐物包括：下部主體，所述下部主體由金屬製成；以及上部主體，所述上部主體耦合到所述下部主體的上部部分，並且是由聚合物製成的。因而，所述金屬下部主體可以將支撐物因為基底負荷而發生的彎曲減到最小程度，並且同時當支撐物與基底接觸時在基底上刮擦或顆粒的產生也可以減到最小程度，因為與基底直接接觸的上部主體是由聚合物製成的。
此外，即使在升高或降低支撐物以便裝載基底的過程中 支撐物受到基底負荷或外力在左右方向上的力或衝擊時，所述下部旋轉機構和支撐著支撐物的支撐單元也可以移動，因為這些元件都不是固定的。因而，可以減輕被傳送到支撐物的衝擊，並且因此可以防止支撐物發生彎曲或者遭到損壞。
100‧‧‧腔室
110‧‧‧透射窗口
200‧‧‧反射器
300‧‧‧雷射產生器
400‧‧‧基底支撐模組
410‧‧‧平臺
411‧‧‧真空吸引通道
412‧‧‧排氣通道
420‧‧‧第一上部旋轉機構
420a‧‧‧第一上部旋轉構件
420b‧‧‧第二上部旋轉構件
430‧‧‧第二上部旋轉機構
430a‧‧‧第三上部旋轉構件
430b‧‧‧第四上部旋轉構件
440‧‧‧下部旋轉機構
440a‧‧‧第一下部旋轉構件
440b‧‧‧第二下部旋轉構件
450‧‧‧支撐單元
451‧‧‧固定塊體
451a‧‧‧第一塊體
451b‧‧‧第二塊體
451c‧‧‧固定構件
452‧‧‧可移動構件
452a‧‧‧球珠
452b‧‧‧主體
453‧‧‧第二移動機構
454‧‧‧連接構件
460‧‧‧抬升板
470‧‧‧支撐物
471‧‧‧下部主體
472‧‧‧上部主體
480‧‧‧第一移動機構
481‧‧‧第一支撐塊體
482‧‧‧第二支撐塊體
483‧‧‧連接構件
484‧‧‧彈性構件
485、486‧‧‧凹部
490‧‧‧定位銷
S‧‧‧基底
圖1是示出根據本發明的一個實施例的基底處理設備的方塊圖。
圖2是示出根據本發明的一個實施例的基底支撐模組的平臺和支撐物的透視圖。
圖3是示出根據本發明的一個實施例的支撐物的透視圖。
圖4是圖解說明根據本發明的一個實施例的下部旋轉機構、第一上部旋轉機構和第二上部旋轉機構、第一移動機構以及支撐單元的剖面圖。
圖5和圖6示出通過根據本發明的一個實施例的基底支撐模組升高和降低的基底。
現在，將詳細參看附圖來描述根據本發明的實施例。但是，本發明不限於如下所述的實施例，而是本發明可以體現為不同的配置。提供這個實施例是為了能完全理解本發明，並且本領 域的普通技術人員參看這個實施例可以完全理解本發明的範圍。
圖1是示出根據本發明的一個實施例的基底處理設備的方塊圖，圖2是示出根據本發明的一個實施例的基底支撐模組的平臺和支撐物的透視圖，圖3是示出根據本發明的一個實施例的支撐物的透視圖，並且圖4是圖解說明根據本發明的一個實施例的下部旋轉機構、第一上部旋轉機構和第二上部旋轉機構、第一移動機構以及支撐單元的剖面圖。
根據本發明的一個實施例的基底處理設備是一種用於使在基底上形成的非晶形膜結晶的回火設備，例如準分子雷射回火(Excimer Laser Annealing，ELA)設備。如圖1中所示，這種基底處理設備包括：腔室100，所述腔室100具有內部空間，基底S在這個內部空間中接受處理；基底支撐模組400，所述基底支撐模組400放置在腔室100內部，並且所述基底S安放和支撐在所述基底支撐模組400上；雷射產生器300，所述雷射產生器300放置在腔室100外部，並且產生雷射束；透射窗口110，所述透射窗口110被提供在所述腔室100的一個側壁上，例如被提供在上壁上，並且供雷射束穿過；以及反射器200，所述反射器被提供在雷射產生器300與透射窗口110之間，在腔室100外部。
因為腔室100、雷射產生器300、透射窗口110和反射器200的配置和結構與常見的準分子雷射回火(Excimer Laser Annealing，ELA)設備相似，所以不再詳細描述這些元件。
參看圖1至圖4，基底支撐模組400包括：平臺410，所 述平臺410用於將基底S安放在上面，並且可以在處理方向上水平移動；支撐物470，所述支撐物470被安裝成垂直地穿過平臺410，並且所述支撐物經配置以通過升高和降低運動裝載和卸載基底S；下部旋轉機構440，所述下部旋轉機構440放置在平臺410內部，並且具有第一下部旋轉構件440a和第二下部旋轉構件440b，第一下部旋轉構件440a和第二下部旋轉構件440b面向彼此安裝，支撐物470安置在中央，並且第一下部旋轉構件440a和第二下部旋轉構件440b經配置以抵靠支撐物470旋轉；第一上部旋轉機構420，所述第一上部旋轉機構420放置在平臺410內部的下部旋轉機構440上方，並且具有第一上部旋轉構件420a和第二上部旋轉構件420b，第一上部旋轉構件420a和第二上部旋轉構件420b面向彼此安裝，支撐物470安置在中央，並且第一上部旋轉構件420a和第二上部旋轉構件420b經配置以抵靠支撐物470旋轉；以及第二上部旋轉機構430，所述第二上部旋轉機構430放置在所述平臺410內部的下部旋轉機構440與第一上部旋轉機構420之間，並且具有第三上部旋轉構件430a和第四上部旋轉構件430b，第三上部旋轉構件430a和第四上部旋轉構件430b面向彼此安裝，支撐物470安置在中央，並且第三上部旋轉構件430a和第四上部旋轉構件430b經配置以抵靠支撐物470旋轉。
基底支撐模組400更包括：第一移動機構480，所述第一移動機構480耦合到構成下部旋轉機構440的第一下部旋轉構件440a和第二下部旋轉構件440b中的任一者，以便為第一下部旋轉 構件440a或第二下部旋轉構件440b中的任一者提供自由度以容許移動；支撐單元450，所述支撐單元450耦合到支撐物470的下部部分以便支撐所述支撐物470，並且具有第二移動機構453，以便為支撐物470提供自由度以容許移動；以及抬升板460，用於升高和降低支撐物470。此外，基底支撐模組400更包括：第一驅動單元(未示出)，用於水平地或垂直地移動平臺410；以及第二驅動單元(未示出)，用於升高和降低所述抬升板460。
平臺410是用於安放或固定有待處理的基底S。在這個實施例中，平臺410的形狀是方板形。但是，平臺410不限於這種形狀，並且依據基底不同可以被製造成各種形狀。
平臺410還具備真空吸引通道(vacuum aspiration channel)411和排氣通道(gas vent channel)412。在這個實施例中，真空吸引通道411形成在平臺的中央部分中，並且排氣通道412在除了中央部分之外的區域中形成網格的形式。真空吸引通道411連接到真空泵(未示出)上，這個真空泵是在外部區域中單獨提供的。在泵受到操作時，基底S被真空吸引通道411產生的吸引力吸附和安放在平臺上。排氣通道412排出氣體，例如當基底S安放在平臺410上時在基底S與平臺410之間存在的空氣。
在這個實施例中，舉例說明了真空吸引通道411，當做將基底固定在平臺410上用的部件。但是，有許多種部件可以用來將基底S固定在平臺410上。例如，平臺410可以是一個靜電卡盤(electrostatic chuck)。
此外，可以在平臺410的邊緣上提供定位銷490，定位銷從平臺410的表面突出。
支撐物470用於將基底S裝載到平臺410上，或者用於卸載被安放在平臺410上的基底S，並且支撐物470的形狀是正方形橫截面的板或杆。
插入支撐物470使得支撐物的至少一部分垂直地穿過平臺410，並且支撐物470經配置以在平臺410的內部升高和降低。
如圖3中所示，在這個實施例中，支撐物470更包括下部主體471和上部主體472，上部主體472耦合到下部主體471的上部部分，其中基底S被支撐到上部主體472上。也就是說，支撐物470被組裝成上部主體472從下部主體471的上部部分突出。下部主體471是由非常硬的金屬製成的，這樣可以在裝載和卸載過程中支承基底S。如上文所描述，上部主體472與基底S直接接觸。因此，上部主體472是由聚合材料製成，這樣可以將基底S上的刮擦等損壞減到最小程度。在這種情況下，因為下部主體471的硬度必須能支承基底S的重量，而且上部主體472必須易於接觸基底S以便支撐基底，所以上部主體472不能太大。因而，上部主體472優選被製造成尺寸小於下部主體471，而且更優選的是下部主體471的尺寸被製造成容易從內部和外部插入，而且可以在平臺410內部垂直運動，同時硬度還足以支承基底S。
因此，通過使用根據本發明的支撐物470，金屬下部主體471可以防止在裝載和卸載基底S的過程中支撐物因為基底負荷 而發生彎曲，並且同時當支撐物與基底S接觸時在基底S上刮擦或顆粒的產生也可以減到最小程度，因為與基底S直接接觸的上部主體472是由聚合物製成的。
相對於前面提到的支撐物470，如圖2中所示，優選提供多個支撐物並且用相等的間隔放置。如圖1中所示，在這個實施例中，提供了多個支撐物470，並且這些支撐物470對應地安裝在平臺410的中央部分和兩個邊緣區域中。但是(並非限制)，支撐物470可以安裝在平臺410的兩個邊緣區域中，而提升銷(未示出)可以安裝在中央部分中；或者，支撐物470可以安裝在中央部分中，而提升銷(未示出)可以安裝在兩個邊緣區域中。
參看圖4，下部旋轉機構440包括第一下部旋轉構件440a和第二下部旋轉構件440b，第一下部旋轉構件440a和第二下部旋轉構件440b以可旋轉方式面向彼此安裝，支撐物470安置在中央。第一下部旋轉構件440a與支撐物470的一側接觸，而第二下部旋轉構件440b與支撐物470的另一側接觸。支撐物470的升高和降低運動可以使第一下部旋轉構件440a和第二下部旋轉構件440b在順時針或逆時針方向上旋轉。在這個實施例中，第一下部旋轉構件440a和第二下部旋轉構件440b是軸承(bearing)。但是(不是限制)，可以使用許多種能夠在與支撐物的一側和另一側接觸時旋轉的部件，比如球珠。
第一移動機構480耦合到構成下部旋轉機構440的第一下部旋轉構件440a和第二下部旋轉構件440b中的任一者。因此， 當支撐物470上升和下降時為第一下部旋轉構件440a或第二下部旋轉構件440b中的任一者提供了間隙(gap)，從而形成了自由度，以容許移動。例如，下文將描述第一移動機構480耦合到第一下部旋轉構件440a的情況。
第一移動機構480包括：第一支撐塊體481，所述第一支撐塊體481放置在平臺410內部的在第一下部旋轉構件440a的後面(面向第二下部旋轉構件440b的方向被視為前面，而相反的方向被視為後面)，並且於第一支撐塊體481的一個末端處耦合到第一下部旋轉構件440a；第二支撐塊體482，所述第二支撐塊體482安裝成遠離第一支撐塊體481，在第一支撐塊體481後面；連接構件483，所述連接構件483的一個末端插入到第一支撐塊體481中，而另一個末端插入到第二支撐塊體482中；以及彈性構件484，所述彈性構件484被安裝成纏繞在連接構件483上，並且彈性構件484的一個末端固定到第一支撐塊體481，而另一個末端固定在第二支撐塊體482的內部。
對於第一支撐塊體481和第二支撐塊體482中的每一者，提供用於插入和容納連接構件483的凹部485、486。此外，如上文所描述，安裝彈性構件484用於纏繞在連接構件483的外部周緣，並且彈性構件484放置在第一支撐塊體481的外部，一個末端固定於第一支撐塊體481，另一個末端固定於第二支撐塊體482的內壁。在這個實施例中，將彈簧用作彈性構件484。但是，彈性構件不限於是彈簧，可以使用許多種有彈性的部件。因此， 當在升高或降低支撐物470的過程中支撐物470受到基底負荷或外力在左右方向上的力或衝擊時，第一下部旋轉構件440a因為第一移動機構480有間隙和彈性而稍微向左右方向移動。因而，可以減輕被傳送到支撐物470的衝擊，並且因此可以防止支撐物470發生彎曲或者遭到損壞。
上文描述的情況是第一移動機構480耦合到第一下部旋轉構件440a，但是第一移動機構480也可以耦合到第二下部旋轉構件440b。
固定的(stationary)第一上部旋轉機構420、第二上部旋轉機構430安裝在上文所描述的下部旋轉機構440的上側處。第一上部旋轉機構420、第二上部旋轉機構430由垂直方向上的兩列(rows)組成。也就是說，上部旋轉機構包括放置在相對上側處的第一上部旋轉機構420和放置在相對下側處的第二上部旋轉機構430。
第一上部旋轉機構420放置在平臺410內部的下部旋轉機構440上側處，並且包括第一上部旋轉構件420a和第二上部旋轉構件420b，第一上部旋轉構件420a和第二上部旋轉構件420b面向彼此安裝，支撐物470安置在中央。可通過將第一上部旋轉構件420a和第二上部旋轉構件420b安裝成至少有一些部分連接到平臺410的內部，來支撐和固定第一上部旋轉構件420a和第二上部旋轉構件420b。第一上部旋轉構件420a與支撐物470的一側接觸，而第二上部旋轉構件420b與支撐物470的另一側接觸。支 撐物470的升高和降低運動可以使第一上部旋轉構件420a和第二上部旋轉構件420b在順時針或逆時針方向上旋轉。
此外，第二上部旋轉機構430放置在平臺410內部的下部旋轉機構440與第一上部旋轉機構420之間，並且包括第三上部旋轉構件430a和第四上部旋轉構件430b，第三上部旋轉構件430a和第四上部旋轉構件430b面向彼此安裝，支撐物470安置在中央。可通過將第三上部旋轉構件430a和第四上部旋轉構件430b安裝成至少有一些部分連接到平臺410的內部，來支撐和固定第三上部旋轉構件430a和第四上部旋轉構件430b。第三上部旋轉構件430a與支撐物470的一側接觸，而第四上部旋轉構件430b與支撐物470的另一側接觸。支撐物470的升高和降低運動可以使第三上部旋轉構件430a和第四上部旋轉構件430b在順時針或逆時針方向上旋轉。
因此，第一上部旋轉機構420和第二上部旋轉機構430放置在下部旋轉機構440的上側處，並且第一上部旋轉機構420和第二上部旋轉機構430優選地放置成鄰近於平臺410的上表面。更優選的是，第一上部旋轉機構420和第二上部旋轉機構430被安裝成使得這些機構放置在平臺410內部的頂部末端處。
此外，第一至第四上部旋轉構件420a、420b、430a、430b中的每一者小於第一下部旋轉構件440a和第二下部旋轉構件440b，並且在這個實施例中使用的是軸承。但是，第一至第四上部旋轉構件420a、420b、430a、430b不限於是軸承，並且可以使 用在與支撐物470接觸時可以旋轉的許多種部件，比如球珠。
如上文所描述，支撐物470被安裝成分別在第一下部旋轉構件440a與第二下部旋轉構件440b之間、第三上部旋轉構件430a與第四上部旋轉構件430b之間以及第一上部旋轉構件420a與第二上部旋轉構件420b之間穿過。
一條垂直線優選穿過第一下部旋轉構件440a與第二下部旋轉構件440b之間，第三上部旋轉構件430a與第四上部旋轉構件430b之間，以及第一上部旋轉構件420a與第二上部旋轉構件420b之間。換句話說，如果把每一個旋轉機構中的面對的旋轉構件之間的空間(支撐物所穿過的空間)叫做“中心”，那麼下部旋轉機構440的中心、第二上部旋轉機構430的中心以及第一上部旋轉機構420的中心是放在一條垂直線上。
分別為一個支撐物470提供前述下部旋轉機構440、第一上部旋轉機構420和第二上部旋轉機構430，總共有許多個，並且這許多個組件沿支撐物470的延伸方向並排(side by side)放置。也就是說，這些組件以某一間隔沿支撐物470並排放置，支撐物470沿著對應於平臺410的寬度方向的方向上延伸。
支撐單元450支撐著支撐物470的下部部分，並且包括：第二移動機構453，用於為支撐物470提供間隙，從而允許自由度；以及連接構件454，經安裝以將第二移動機構453耦合到抬升板460。
第二移動機構453耦合到支撐物470的下部部分，以便 固定地支撐著支撐物470的下部部分，並且第二移動機構453是安裝在抬升板460上。參看圖1和圖4，第二移動機構453包括：固定塊體451，支撐物470的下部部分插入到固定塊體451中；以及可移動構件452，所述可移動構件452耦合到固定塊體451，使得固定塊體451可以移動。
固定塊體451包括：第一塊體451a，所述第一塊體451a安裝成與支撐物470的下部部分的一側接觸；第二塊體451b，所述第二塊體451b面向第一塊體451a，並且安裝成與支撐物470的另一側接觸；以及固定構件451c，所述固定構件451c安裝成穿過第一塊體451a和第二塊體451b的至少一些部分，以便將第一塊體451a穩固地耦合到第二塊體451b。在這個實施例中，第二塊體451b被製造成從支撐物470的下端延伸到其下側，並且第一塊體451a被安裝成面向第二塊體451b的上部部分的側部。支撐物470插入在第一塊體451a與第二塊體451b之間。
可移動構件452耦合到第二塊體451b的下部部分。在這個實施例中，可移動構件452例如可以是具有球珠(ball)452a的球珠柱塞(ball plunger)。也就是說，在這個實施例中，可移動構件452包括：主體452b，其中主體452b的至少一部分插入到固定塊體451中，優選地在固定的第二塊體451b中；以及可旋轉的或可移動的球珠452a，所述可旋轉的或可移動的球珠452a插入在主體452b中，其中球珠452a的至少一部分從主體452b的下側向外突出，並且球珠452a的至少一個表面與抬升板460接觸。
因而，當在升高或降低支撐物470的過程中支撐物470受到基底負荷或外力在左右方向上的力或衝擊時，支撐物470和固定塊體451因為可移動構件452的間隙和自由度而移動。更確切地說，當支撐物470在左右方向上受到力或衝擊時，可移動構件452的球珠452a沿抬升板460的彎曲表面移動並且支撐在這個表面上，並且因此第二塊體451b移動。此時，因為支撐物470插入在第二塊體451b與第一塊體451a之間，所以支撐物470隨著第二塊體451b的移動而移動，並且支撐在第二塊體451b和第一塊體451a上。其結果是，可以減輕被傳送到支撐物470的衝擊，並且因此可以防止支撐物470發生彎曲或者遭到損壞。
上文將球珠柱塞描述為第二移動機構453的可移動構件452。但是，可移動構件452並不受到限制，並且各種經安裝以耦合到固定塊體451的下部部分並允許移動的部件都可以使用。例如，可以使用一個耦合到固定塊體451上的球面球珠(spherical ball)或半球形結構或彈性彈簧。
圖5和圖6示出通過根據本發明的一個實施例的基底支撐模組升高和降低的基底。
參看圖1至圖6，下文將描述根據本發明的一個實施例的基底處理設備的操作。為方便起見，將描述耦合到多個支撐物470中的一個支撐物470的下部旋轉機構440、第一上部旋轉機構420和第二上部旋轉機構430的操作。
提供一個基底S，所述基底S上形成有非晶形膜，例如非 晶矽層，並且使用機械手(未示出)將基底S拉到腔室100中，以便將基底S安放在平臺410上，如圖5中所示。為此目的，支撐著基底S的機械手對應地放置在平臺410的上側處，並且使用抬升板460升高支撐物470，以便使支撐物470的上部部分(優選地是上部主體472)從平臺410的上側突出。此時，下部旋轉機構440、第一上部旋轉機構420和第二上部旋轉機構430受到支撐物470升高時產生的力而旋轉。更確切地說，受到支撐物470升高時產生的力，放置在相對於支撐物470的左側處的第一下部旋轉構件440a在逆時針方向上旋轉，並且放置在相對於支撐物470的右側處的第二下部旋轉構件440b在順時針方向上旋轉。此外，放置在下部旋轉機構440的上側處和相對於支撐物470的左側處的第一上部旋轉構件420a和第三上部旋轉構件430a在逆時針方向上旋轉，而放置在相對於支撐物470的右側處的第二上部旋轉構件420b和第四上部旋轉構件430b在順時針方向上旋轉。
當支撐物470一直升高直到從平臺410的上側突出時，通過降低機械手可以將基底安放(或裝載)到支撐物470上。
接著，使用抬升板460降低支撐物，以便將支撐物470放置在平臺410內部，使支撐物470不會從平臺410的上側突出，如圖6中所示。此時，下部旋轉機構440、第一上部旋轉機構420和第二上部旋轉機構430受到支撐物470降低時產生的力而旋轉。更確切地說，受到支撐物470降低時產生的力，放置在相對於支撐物470的左側處的第一下部旋轉構件440a在順時針方向上 旋轉，並且放置在相對於支撐物470的右側處的第二下部旋轉構件440b在逆時針方向上旋轉。此外，放置在下部旋轉機構440的上側處和相對於支撐物470的左側處的第一上部旋轉構件420a和第三上部旋轉構件430a在順時針方向上旋轉，而放置在相對於支撐物470的右側處的第二上部旋轉構件420b和第四上部旋轉構件430b在逆時針方向上旋轉。
當支撐物470一直降低直到放置在平臺410內部並且不從平臺410的上側突出時，安放在支撐物470上的基底S被安放在平臺410上。
因此，在升高或降低支撐物470以便裝載基底S的過程中，支撐物470可能會受到基底負荷或外力在左右方向上的力或衝擊。在這種情況下，第一下部旋轉構件440a通過第一移動機構480而移動，而支撐著支撐物470的第二移動機構453也移動，因為第二移動機構453不是固定的。其結果是，可以減輕被傳送到支撐物470的衝擊，並且因此可以防止支撐物470發生彎曲或者遭到損壞。
當基底裝載完成時，在處理方向上移動平臺410的同時，從雷射產生器發射雷射。雷射通過反射器200和透射窗口110輻射在基底S上。因而，雷射束使形成在基底S上的非晶矽層加熱並且結晶，從而形成結晶矽層。
當經由前述製程完成了基底S的處理製程時，用相反操作執行圖5和圖6中示出的製程，以便從平臺410上卸載基底S。
上文描述了根據本發明的一個實施例的基底支撐模組，其供使用準分子雷射對基底執行熱處理的回火設備使用。但是，本發明不限於這個實施例，本發明適用於各種使用基底支撐模組的基底處理設備，例如薄膜氣相沉積設備、蝕刻設備、圖案化設備及類似設備。
100‧‧‧腔室
110‧‧‧透射窗口
200‧‧‧反射器
300‧‧‧雷射產生器
400‧‧‧基底支撐模組
410‧‧‧平臺
420‧‧‧第一上部旋轉機構
430‧‧‧第二上部旋轉機構
440‧‧‧下部旋轉機構
450‧‧‧支撐單元
460‧‧‧抬升板
470‧‧‧支撐物
480‧‧‧第一移動機構
490‧‧‧定位銷
S‧‧‧基底

Claims (12)

  1. 一種基底支撐模組，包括：平臺，用於在上面安放基底；支撐物，經安裝從而使得所述支撐物的至少一部分垂直地穿過所述平臺，並且所述支撐物經配置以通過升高和降低運動在所述平臺上裝載和卸載所述基底；下部旋轉機構，放置在所述平臺內部，並且具有第一下部旋轉構件和第二下部旋轉構件，所述第一下部旋轉構件和所述第二下部旋轉構件面向彼此安裝，所述支撐物安置在中央，並且所述第一下部旋轉構件和第二下部旋轉構件經配置以抵靠所述支撐物旋轉；以及第一上部旋轉機構，放置在所述平臺內部的所述下部旋轉機構上方，並且具有第一上部旋轉構件和第二上部旋轉構件，所述第一上部旋轉構件和所述第二上部旋轉構件面向彼此安裝，所述支撐物安置在中央，並且所述第一上部旋轉構件和所述第二上部旋轉構件經配置以抵靠所述支撐物旋轉。
  2. 如申請專利範圍第1項所述的基底支撐模組，其中所述支撐物包括下部主體和上部主體，所述下部主體由金屬製成，所述上部主體耦合到所述下部主體的上部部分並且經配置以支撐所述基底，並且所述上部主體由聚合物製成。
  3. 如申請專利範圍第1或2項所述的基底支撐模組，更包括：第二上部旋轉機構，放置在所述平臺內部的所述下部旋轉機 構與所述第一上部旋轉機構之間，並且具有第三上部旋轉構件和第四上部旋轉構件，所述第三上部旋轉構件和所述第四上部旋轉構件面向彼此安裝，所述支撐物安置在中央，並且所述第三上部旋轉構件和所述第四上部旋轉構件經配置以抵靠所述支撐物旋轉。
  4. 如申請專利範圍第3項所述的基底支撐模組，其中所述第一上部旋轉機構的所述第一上部旋轉構件和所述第二上部旋轉構件中的每一者以及所述第二上部旋轉機構的所述第三旋轉構件和所述第四旋轉構件中的每一者的尺寸小於所述下部旋轉機構的所述第一下部旋轉構件和所述第二下部旋轉構件的尺寸。
  5. 如申請專利範圍第3項所述的基底支撐模組，其中所述下部旋轉機構的所述第一下部旋轉構件和所述第二下部旋轉構件中的每一者、所述第一上部旋轉機構的所述第一上部旋轉構件和所述第二上部旋轉構件中的每一者以及所述第二上部旋轉機構的所述第三旋轉構件和所述第四旋轉構件中的每一者均為軸承。
  6. 如申請專利範圍第1項所述的基底支撐模組，更包括第一移動機構，其中所述第一移動機構的一個末端耦合到所述第一下部旋轉構件和所述第二下部旋轉構件中的任一者，以便為所述第一下部旋轉構件和所述第二下部旋轉構件中的所述任一者提供間隙以容許移動。
  7. 如申請專利範圍第6項所述的基底支撐模組，其中所述第一移動機構包括彈簧，其中所述彈簧的一個末端耦合到所述第 一下部旋轉構件和所述第二下部旋轉構件中的任一者。
  8. 如申請專利範圍第3項所述的基底支撐模組，其中所述下部旋轉機構的所述第一下部旋轉構件、所述第一上部旋轉機構的所述第一上部旋轉構件以及所述第二上部旋轉機構的所述第三上部旋轉構件在與所述支撐物的一側接觸的同時旋轉，而所述下部旋轉機構的所述第二下部旋轉構件、所述第一上部旋轉機構的所述第二上部旋轉構件以及所述第二上部旋轉機構的所述第四上部旋轉構件在與所述支撐物的另一側接觸的同時旋轉。
  9. 如申請專利範圍第1項所述的基底支撐模組，更包括第二移動機構，其中所述第二移動機構耦合到所述支撐物的下部部分，以便支撐所述支撐物，並且所述第二移動機構為所述支撐物提供間隙以容許移動。
  10. 如申請專利範圍第9項所述的基底支撐模組，其中所述第二移動機構包括：固定塊體，所述支撐物的所述下部部分插入到所述固定塊體中；以及可移動構件，所述可移動構件耦合到所述固定塊體的下部部分從而容許所述固定塊體移動。
  11. 如申請專利範圍第10項所述的基底支撐模組，其中所述固定塊體包括：第一塊體，所述第一塊體被安裝成與所述支撐物的所述下部部分的一側接觸；以及第二塊體，所述第二塊體面向所述第一塊體，並且被安裝成與所述支撐物的另一側接觸，並且所述可移動構件耦合到所述第一塊體和所述第二塊體中的任一者的下部部分。
  12. 如申請專利範圍第10或11項所述的基底支撐模組，其中所述第二移動機構的所述可移動構件插入到所述固定塊體的所述下部部分中，並且包括一個球珠，所述球珠被安裝成使得所述球珠的至少一部分從所述固定塊體的下端突出。
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