JP4836512B2 - 基板昇降装置および基板処理装置 - Google Patents
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Description
前記基板載置台の基板載置面に対して突没可能に設けられ、基板に当接してこれを昇降させるリフターピンと、
前記リフターピンを支持する支持部と、
前記リフターピンを昇降変位させる駆動部と、
を有しており、
前記リフターピンは、その基端部において、複数の球体を介して前記支持部に支持され、前記基端部は、前記リフターピンの昇降方向に対して直交する方向に拡大したフランジ部を備えるとともに、付勢手段を介して前記フランジ部と平行に連結された付勢板を有しており、前記フランジ部および前記付勢板は、前記支持部に形成された互いに対向する壁面の間に介在する前記球体を介し、前記付勢手段の付勢力により該球体を押圧した状態で、前記球体に挟持されていることを特徴とする、基板昇降装置を提供する。
基板を載置する載置台と、
上記第1の観点の基板昇降装置を備えたことを特徴とする、基板処理装置を提供する。
また、前記基板処理装置は、フラットパネルディスプレイの製造に用いられるものであることが好ましい。この場合、基板に対し、プラズマエッチング処理を行なうプラズマエッチング装置であることが好ましい。
よって、本発明の基板昇降装置を採用することにより、信頼性の高い基板処理装置を提供できる。
また、図3に示す状態から、駆動部31を作動させ、押上げプレート32を下降させることにより、ボールベア36を介して駆動力が伝達され、リフターピン8が挿通孔7内を下降していく。そして、図2に示すように、リフターピン8の先端が、サセプタ4の基板載置面と略面一になるまで退避させることができる。
まず、被処理基板である基板Gは、ゲートバルブ22が開放された後、図示しないロードロック室から基板搬入出口21を介してチャンバー2内へと搬入される。この際、昇降装置30の駆動部31を作動させ、押上げプレート32を上昇させることにより、リフターピン8を所定の高さでサセプタ4の基板載置面から突出させ、図示しない搬送手段から、基板Gを受取る。その後、再び駆動部31を作動させ、押上げプレート32を下降させることにより、リフターピン8を下降させて基板Gをサセプタ4上に載置する。その後、ゲートバルブ22が閉じられ、排気装置20によって、チャンバー2内が所定の真空度まで真空引きされる。
リフターピン80は、その下端において、駆動部51を備えた昇降装置50と連結されることにより、上下に変位して、基板Gを昇降させる。つまり、リフターピン80と昇降装置50は協働して基板昇降装置として機能する。
リフターピン80の上部は、挿通孔7内の図示しない位置決め用ブッシュに挿入されている。リフターピン80の下部は、チャンバー2の底壁2aから大気側に突出しており、リフターピン基端部81を有している。なお、チャンバー2の底壁2aとリフターピン基端部81までの間は、上下に伸縮自在なベローズ84によって覆われているので、挿通孔7内は真空状態に保たれる。
従って、リフターピン80が挿通孔7内で片当りを生じてロック状態になったり、摩耗によってパーティクルが発生したりする事態を回避でき、高い信頼性をもって基板Gを昇降させることができる。
例えば、図1では、下部電極に高周波電力を印加するRIEタイプの容量結合型平行平板プラズマエッチング装置を例示して説明したが、これに限らず、上部電極に高周波電力を供給するタイプであってもよく、また容量結合型に限らず誘導結合型であってもよい。さらに、エッチング装置に限らず、アッシング、CVD成膜等の他のプラズマ処理装置に適用することができる。
2 チャンバー
3 絶縁板
4 サセプタ
5 誘電性材料膜
6 絶縁膜
7 挿通孔
8 リフターピン
9 リフターピン基端部
9a フランジ
10 ベローズ
11 シャワーヘッド
20 排気装置
25 高周波電源
30 昇降装置
31 駆動部
32 押上げプレート
33 ガイド軸
34 囲繞筒体
35 ボールベア
36 ボールベア
Claims (7)
- 基板処理装置の基板載置台に備えられ、基板を昇降させる基板昇降装置であって、
前記基板載置台の基板載置面に対して突没可能に設けられ、基板に当接してこれを昇降させるリフターピンと、
前記リフターピンを支持する支持部と、
前記リフターピンを昇降変位させる駆動部と、
を有しており、
前記リフターピンは、その基端部において、複数の球体を介して前記支持部に支持され、前記基端部は、前記リフターピンの昇降方向に対して直交する方向に拡大したフランジ部を備えるとともに、付勢手段を介して前記フランジ部と平行に連結された付勢板を有しており、前記フランジ部および前記付勢板は、前記支持部に形成された互いに対向する壁面の間に介在する前記球体を介し、前記付勢手段の付勢力により該球体を押圧した状態で、前記球体に挟持されていることを特徴とする、基板昇降装置。 - 前記駆動部と連結され、球体を介して前記基端部に前記駆動部からの駆動力を伝達する伝達部材をさらに備えたことを特徴とする、請求項1に記載の基板昇降装置。
- 前記リフターピンは、基板処理装置からの基板の搬入時および搬出時に減圧環境下で昇降変位することを特徴とする、請求項1または請求項2に記載の基板昇降装置。
- 処理室内において基板を処理する基板処理装置であって、
基板を載置する載置台と、
請求項1から請求項3のいずれか1項に記載の基板昇降装置を備えたことを特徴とする、基板処理装置。 - 前記処理室は、真空状態で基板を処理する真空処理室であることを特徴とする、請求項4に記載の基板処理装置。
- フラットパネルディスプレイの製造に用いられるものである、請求項5に記載の基板処理装置。
- 基板に対し、プラズマエッチング処理を行なうプラズマエッチング装置であることを特徴とする、請求項6に記載の基板処理装置。
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