JP4836512B2 - 基板昇降装置および基板処理装置 - Google Patents

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Description

本発明は、処理室内でフラットパネルディスプレイ(FPD)製造用のガラス基板などの被処理基板を昇降するための基板昇降装置、および、この基板昇降装置を備え、被処理基板に対してドライエッチング等の処理を施す基板処理装置に関する。
例えば、FPD製造プロセスにおいては、被処理基板であるガラス基板に対して、ドライエッチングやスパッタリング、CVD(化学気相成長)等のプラズマ処理が多用されている。このようなプラズマ処理は、例えば、チャンバー内に一対の平行平板電極(上部および下部電極)を配置した基板処理装置において行うことができる。このような基板処理装置では、下部電極として機能する載置台に被処理基板を載置し、処理ガスをチャンバー内に導入するとともに、電極の少なくとも一方に高周波電力を印加して電極間に高周波電界を形成し、この高周波電界により処理ガスのプラズマを形成して被処理基板に対してプラズマ処理が施される。
ところで、基板処理装置の載置台には、基板載置面に対し突没可能な複数のリフターピンが設けられており、被処理基板を基板処理装置に搬入出する際には、これらのリフターピンが上昇することにより、被処理基板を載置台の載置面から離間させ、搬送機構との受渡しが行われる。また、基板処理装置でプラズマ処理を行う場合には、リフターピンが下降して被処理基板を載置台の載置面に載置する。
上記のようなリフターピンは、載置台に形成された穴に挿入された状態で配備される。この穴の径が大きいと、被処理基板へエッチング等の処理を行う際にエッチングむらなどの処理の不均一を生じさせる可能性があるため、通常はリフターピンとの隙間があまり大きくならないような穴径が選択される。しかし、プラズマ処理に際しては、載置台の温度変化を伴うことから、熱膨張により載置台に穿設された穴の位置がずれることがある。載置台の穴の位置がずれると、穴の壁(あるいは穴内に配備されたブッシュなどの位置決め部材)と、そこに挿入されたリフターピンとが接触し、片当りを起こしてリフターピンが昇降不能なロック状態になったり、昇降時に摩耗が生じてパーティクルの原因になったりするという問題があった。
このため、常圧で加熱処理等を行う装置において、リフターピンの下端に当接してこれを押し上げる押し上げ部材にピローボールを配備し、バネの付勢力によりリフターピンの下端をピローボールに当接させることによって、熱膨張による載置台の穴の位置ずれに対してリフターピンを追随させることが提案されている(例えば、特許文献1)。
特開平10−308348号公報
上記特許文献1では、ピローボールを使用して横方向の遊びを持たせることにより、載置台の熱膨張に基づく穴の位置ずれにリフターピンを追随させている点で優れたものである。しかし、真空装置の場合には、処理室内が真空状態になると、その吸引力によりリフターピンが上方向へ吸引されてしまうため、リフターピンの下端をピローボールに当接させる特許文献1の方法では、リフターピンの下端とピローボールとが非接触の状態となり、ピローボールの機能が奏されなくなる。このため、真空状態での昇降時に片当りが生じてロック状態になったり、摩耗によるパーティクルが発生したりするおそれがある。
また、FPD用のガラス基板の処理に用いる載置台は、半導体ウエハの処理に用いる載置台に比べて大型であり、しかも、近年ではガラス基板の大型化に伴い載置台が益々大型化する傾向にあるので、熱膨張に伴う穴の位置のずれも必然的に大きくなっており、片当りを起こす頻度が増加している。従って、FPD用のガラス基板を真空処理するような場合でも、安定したリフターピンの駆動を確保する観点において、従来技術にはさらなる改良の余地が残されていた。
本発明は、上記実情に鑑みてなされたものであり、真空処理装置においても、リフターピンの片当りを生じさせず、安定して基板を昇降させることが可能な基板昇降装置および基板処理装置を提供することを課題としている。
本発明の第1の観点は、基板処理装置の基板載置台に備えられ、基板を昇降させる基板昇降装置であって、
前記基板載置台の基板載置面に対して突没可能に設けられ、基板に当接してこれを昇降させるリフターピンと、
前記リフターピンを支持する支持部と、
前記リフターピンを昇降変位させる駆動部と、
を有しており、
前記リフターピンは、その基端部において、複数の球体を介して前記支持部に支持され、前記基端部は、前記リフターピンの昇降方向に対して直交する方向に拡大したフランジ部を備えるとともに、付勢手段を介して前記フランジ部と平行に連結された付勢板を有しており、前記フランジ部および前記付勢板は、前記支持部に形成された互いに対向する壁面の間に介在する前記球体を介し、前記付勢手段の付勢力により該球体を押圧した状態で、前記球体に挟持されていることを特徴とする、基板昇降装置を提供する。
のように、基端部にフランジ部を設けるとともに付勢板を備える構成とし、これらと支持部の壁面との間に介在する球体を付勢力により押圧した状態で前記フランジ部および付勢板を支持するようにしたので、球体とフランジ部および付勢板との接触が弾力的かつ確実になされ、球体の回転を利用した微調整が可能になる。
また、上記場合において、前記駆動部と連結され、球体を介して前記基端部に前記駆動部からの駆動力を伝達する伝達部材をさらに備えていることが好ましい。
また、上記第1の観点において、前記リフターピンは、基板処理装置からの基板の搬入時および搬出時に減圧環境下で昇降変位することが好ましい。
本発明の第2の観点は、処理室内において基板を処理する基板処理装置であって、
基板を載置する載置台と、
上記第1の観点の基板昇降装置を備えたことを特徴とする、基板処理装置を提供する。
上記第2の観点の基板処理装置において、前記処理室は、真空状態で基板を処理する真空処理室であることが好ましい。
また、前記基板処理装置は、フラットパネルディスプレイの製造に用いられるものであることが好ましい。この場合、基板に対し、プラズマエッチング処理を行なうプラズマエッチング装置であることが好ましい。
本発明の基板昇降装置によれば、真空処理装置においても、リフターピンの昇降時に載置台に形成された穴内での片当りを確実に防止できる。従って、片当りによってリフターピンがロック状態となったり、摩耗によってパーティクルが発生したりすることを確実に防止することが可能となる。また、片当りを防止できることによって、リフターピンの寿命を長期化することが可能になる。
よって、本発明の基板昇降装置を採用することにより、信頼性の高い基板処理装置を提供できる。
以下、図面を参照しながら、本発明の好ましい実施形態について説明する。図1は、本発明の一実施形態に係る基板処理装置の一例であるプラズマエッチング装置を示す断面図である。このプラズマエッチング装置1は、FPD用ガラス基板(以下、単に「基板」と記す)Gに対し、エッチングを行う容量結合型平行平板プラズマエッチング装置として構成されている。ここで、FPDとしては、液晶ディスプレイ(LCD)、発光ダイオード(LED)ディスプレイ、エレクトロルミネセンス(Electro Luminescence;EL)ディスプレイ、蛍光表示管(Vacuum Fluorescent Display;VFD)、プラズマディスプレイパネル(PDP)等が例示される。なお、本発明の処理装置は、プラズマエッチング装置にのみ限定されるものではない。
このプラズマエッチング装置1は、例えば表面がアルマイト処理(陽極酸化処理)されたアルミニウムからなる角筒形状に成形されたチャンバー2を有している。このチャンバー2内の底部には絶縁材からなる角柱状の絶縁板3が設けられており、さらにこの絶縁板3の上には、被処理基板であるFPD用のガラス基板Gを載置するためのサセプタ4が設けられている。このサセプタ4は、例えば1800mm×1500mmサイズまたはそれ以上のサイズの基板Gを載置できるように構成されている。サセプタ4は導電性材料からなる基材4aを備え、その上面には誘電性材料膜5が設けられるとともに、基材4aの周縁には絶縁膜6が設けられており、周囲が絶縁被覆されている。
サセプタ4の基材4aには、高周波電力を供給するための給電線23が接続されており、この給電線23には整合器24および高周波電源25が接続されている。高周波電源25からは例えば13.56MHzの高周波電力がサセプタ4に供給される。
チャンバー2の底壁2a、絶縁板3およびサセプタ4には、これらを貫通する挿通孔7が複数箇所(例えば16箇所)に設けられている。各挿通孔7には、基板Gを昇降させるためのリフターピン8がサセプタ4の基板載置面に対して突没可能に挿入されている。なお、図1では2本のリフターピン8のみを図示している。リフターピン8は、その下端において昇降装置30と連結されることにより、上下に変位して基板Gを昇降させる。つまり、リフターピン8と昇降装置30は協働して基板昇降装置として機能する。リフターピン8および昇降装置30の詳細については後述する。
前記サセプタ4の上方には、このサセプタ4と平行に対向して上部電極として機能するシャワーヘッド11が設けられている。シャワーヘッド11はチャンバー2の上部に支持されており、内部に内部空間12を有するとともに、サセプタ4との対向面に処理ガスを吐出する複数の吐出孔13が形成されている。このシャワーヘッド11は接地されており、サセプタ4とともに一対の平行平板電極を構成している。
シャワーヘッド11の上面にはガス導入口14が設けられ、このガス導入口14には、処理ガス供給管15が接続されており、この処理ガス供給管15には、バルブ16およびマスフローコントローラ17を介して、処理ガス供給源18が接続されている。処理ガス供給源18からは、エッチングのための処理ガスが供給される。処理ガスとしては、ハロゲン系のガス、Oガス、Arガス等、通常この分野で用いられるガスを用いることができる。
前記チャンバー2の側壁底部には排気管19が接続されており、この排気管19には排気装置20が接続されている。排気装置20はターボ分子ポンプなどの真空ポンプを備えており、これによりチャンバー2内を所定の減圧雰囲気まで真空引き可能なように構成されている。また、チャンバー2の側壁には基板搬入出口21と、この基板搬入出口21を開閉するゲートバルブ22とが設けられており、このゲートバルブ22を開にした状態で基板Gが隣接するロードロック室(図示せず)との間で搬送されるようになっている。
前記したように、チャンバー2の底壁2a、絶縁板3およびサセプタ4を貫通して設けられた各挿通孔7には、リフターピン8が挿入されており、このリフターピン8が昇降装置30によって鉛直方向に変位することにより、基板Gがサセプタ4に載置された載置状態と、サセプタ4の上方においてリフターピン8により支持された離間状態と、の切替えが行われる。昇降装置30は、主要な構成として、ステッピングモータ等を内蔵した駆動部31と、該駆動部31に連結され、各リフターピン8と連結して各リフターピン8を同期して昇降変位させる押上げプレート32と、押上げプレート32を案内するガイド軸33を備えている。
ここで、リフターピン8と昇降装置30を含む本実施形態の基板昇降装置の詳細を図2および図3を参照しながら説明する。図2は、リフターピン8がサセプタ4の挿通孔7内に退避した非作動状態を示し、図3は、リフターピン8がサセプタ4の基板載置面から突出した作動状態を示している。
リフターピン8の先端とは反対側、すなわちリフターピン基端部9は、円柱ブロック状に形成されており、その縁端には、その昇降方向に対して直交する方向(つまり、円柱ブロックの周方向)に拡大したフランジ9aを有している。このリフターピン8の上部は、挿通孔7内に、図示しない位置決め用ブッシュにより位置決めされて挿入されている。
また、リフターピン8の下部は、チャンバー2の底壁2aから大気側に突出しており、リフターピン基端部9のフランジ9aは、リフターピン8を支持する支持部である押上げプレート32の上面に立設された囲繞筒体34内に収容されている。なお、チャンバー2の底壁2aとリフターピン基端部9までの間は、上下に伸縮自在なベローズ10によって覆われているので、挿通孔7内は真空状態に保たれる。
押上げプレート32の囲繞筒体34は、中空状で天井部34aに開口を有しており、その開口にリフターピン基端部9の下部が挿入されている。そして、押上げプレート32の上面32aにはボールベア35が配備され、押上げプレート32に平行にかつ対向して設けられた囲繞筒体34の天井部内面34bにはボールベア36が配備されている。このように、フランジ9aの下面にはボールベア35が当接し、フランジ9aの上面には、ボールベア36が当接することにより、リフターピン基端部9のフランジ9aが挟み込まれるようにしてリフターピン8が支持されている。なお、ボールベア35およびボールベア36は、フランジ9aの周方向にそれぞれ複数個配備されている(図2および図3では各2つのみ図示)。
前記したように、昇降装置30は駆動部31を備えており、押上げプレート32は、この駆動部31とシャフト31aによって連結されている(図1参照)。例えばシャフト31aには、押上げプレート32と係合する螺旋溝が刻設されており、駆動部31を作動させてこのシャフト31aに所定の回転が与えられると、押上げプレート32が上下に昇降するようになっている。また、押上げプレート32の貫通孔(不図示)には、ガイド軸33,33が貫装されており、複数のリフターピン8が精度良く同期して昇降変位することを可能にしている。
以上のような構成の昇降装置30において、図2に示す状態から、駆動部31を作動させ、押上げプレート32を上昇させることにより、ボールベア35を介して駆動力が伝達され、リフターピン8が挿通孔7内を上昇していく。そして、図3に示すように、リフターピン8を所定の高さでサセプタ4の基板載置面から突出させることができる。
また、図3に示す状態から、駆動部31を作動させ、押上げプレート32を下降させることにより、ボールベア36を介して駆動力が伝達され、リフターピン8が挿通孔7内を下降していく。そして、図2に示すように、リフターピン8の先端が、サセプタ4の基板載置面と略面一になるまで退避させることができる。
本実施形態の基板昇降装置は、基端部9に対してリフターピン8の変位方向に(すなわち、フランジ9aの上下両側に)、ボールベア35およびボールベア36を配備したので、リフターピン8の作動時および非作動時において、サセプタ4の熱膨張・収縮に伴う挿通孔7の横方向の位置ずれに対し、ボールベア35およびボールベア36の回転を利用し、リフターピン基端部9側が容易に追随することにより、横方向の微調整が可能であるという特長を備えている。特に、チャンバー2内が真空状態となり、リフターピン8にその変位方向、つまり鉛直方向の吸引力が加わった場合でも、上側のボールベア36により横方向の動き(遊び)が維持されるので、リフターピン8のセンタリングが容易に行われ、挿通孔7の横方向の位置ずれに対する追随性が損なわれることがない。従って、リフターピン8が挿通孔7内で片当りを生じてロック状態になったり、摩耗によってパーティクルが発生したりする事態を回避でき、高い信頼性をもって基板Gを昇降させることができる。
次に、再び図1を参照して、プラズマエッチング装置1における処理動作について説明する。
まず、被処理基板である基板Gは、ゲートバルブ22が開放された後、図示しないロードロック室から基板搬入出口21を介してチャンバー2内へと搬入される。この際、昇降装置30の駆動部31を作動させ、押上げプレート32を上昇させることにより、リフターピン8を所定の高さでサセプタ4の基板載置面から突出させ、図示しない搬送手段から、基板Gを受取る。その後、再び駆動部31を作動させ、押上げプレート32を下降させることにより、リフターピン8を下降させて基板Gをサセプタ4上に載置する。その後、ゲートバルブ22が閉じられ、排気装置20によって、チャンバー2内が所定の真空度まで真空引きされる。
その後、バルブ16が開放されて、処理ガス供給源18から処理ガスがマスフローコントローラ17によってその流量が調整されつつ、処理ガス供給管15、ガス導入口14を通ってシャワーヘッド11の内部空間12へ導入され、さらに吐出孔13を通って基板Gに対して均一に吐出され、チャンバー2内の圧力が所定の値に維持される。
この状態で高周波電源25から整合器24を介して高周波電力がサセプタ4に印加されると、下部電極としてのサセプタ4と上部電極としてのシャワーヘッド11との間に高周波電界が生じ、処理ガスが解離してプラズマ化し、これにより基板Gにエッチング処理が施される。
このようにしてエッチング処理を施した後、高周波電源25からの高周波電力の印加を停止し、ガス導入を停止した後、チャンバー2内を所定の圧力まで減圧する。そして、ゲートバルブ22を開放し、前記と同様に昇降装置30の駆動部31を作動させてリフターピン8を上昇させ、図示しない搬送手段に基板Gを受け渡す。基板Gは、基板搬入出口21を介してチャンバー2内から図示しないロードロック室へ搬出され、一つの基板Gに対するエッチング処理が終了する。
次に、図4〜図6を参照しながら、本発明の第2の実施形態に係る基板処理装置について説明を行う。図4は、基板処理装置の一例であるプラズマエッチング装置100の要部構成を示す断面図である。プラズマエッチング装置100は、基板昇降装置を除き、図1のプラズマエッチング装置1と同様の構成であるため、ここでは相違点のみを説明し、同一の構成については説明および図示を省略する。
プラズマエッチング装置100のチャンバー2の底壁2a、絶縁板(図示省略)およびサセプタ4には、これらを貫通する挿通孔7が複数箇所に設けられている。各挿通孔7には、基板Gを昇降させるため、複数のリフターピン80がサセプタ4の基板載置面に対して突没可能に挿入されている。なお、図4では2本のリフターピンのみを図示している。
リフターピン80は、その下端において、駆動部51を備えた昇降装置50と連結されることにより、上下に変位して、基板Gを昇降させる。つまり、リフターピン80と昇降装置50は協働して基板昇降装置として機能する。
昇降装置50は、主要な構成として、駆動部51と、この駆動部51に連結された駆動力伝達部(主として伝達ロッド52、ワイヤ54および押上げロッド57を含む)と、一対のガイド軸64の端部に形成されたストッパー58と、リフターピン80に連結してこれを支持する支持部としての昇降ブロック59とを備えている。
駆動部51は、図示しないエアシリンダなどの駆動機構を備え、この駆動機構はリフターピン80の数に対応する本数の伝達ロッド52に連結されている。つまり、各伝達ロッド52の一端側が、それぞれ駆動部51に連結されることにより、各伝達ロッド52は、図4中矢印で示す方向に同期して進退する。なお、図4では、伝達ロッド52を2本のみ図示している。
伝達ロッド52の他端側は、連結具53を介して可撓性のワイヤ54に連結され、このワイヤ54を介して、リフターピン基端部81に駆動部51からの駆動力を伝達する伝達部材としての押上げロッド57に連結されている。ワイヤ54は、合成樹脂等からなる可撓性のチューブ55により非固着状態で被覆されており、伝達ロッド52の動きに追従してチューブ55内を往復動する。ワイヤ54の他端側には、連結具56を介して押上げロッド57が連結され、この押上げロッド57は、ワイヤ54の動きに応じて上下に変位可能になっている。
図5は、リフターピン80がサセプタ4の挿通孔7内に退避した非作動状態を拡大して示し、図6は、リフターピン80がサセプタ4の基板載置面から突出した作動状態を拡大して示すものである。
リフターピン80の上部は、挿通孔7内の図示しない位置決め用ブッシュに挿入されている。リフターピン80の下部は、チャンバー2の底壁2aから大気側に突出しており、リフターピン基端部81を有している。なお、チャンバー2の底壁2aとリフターピン基端部81までの間は、上下に伸縮自在なベローズ84によって覆われているので、挿通孔7内は真空状態に保たれる。
リフターピン基端部81は、上部が閉塞した円筒状に形成され、その下端には、昇降方向に対して直交する方向(つまり、リフターピン基端部81の周方向)に拡大したフランジ81aを有している。また、このリフターピン基端部81の内部は中空になって凹部81bが形成されており、この凹部81b内には、後述するボールベア63との当接面81cが形成されている。また、リフターピン基端部81には、付勢手段としての複数のバネ82(2つのみ図示)が設けられ、このバネ82を介して付勢板83がフランジ81aに対して平行に配設されている。
昇降ブロック59は、その貫通孔(不図示)にガイド軸64,64が貫装されることにより、ガイド軸64,64に案内されて上下に昇降自在に支持されている。これらガイド軸64,64により、昇降ブロック59に連結されたリフターピン80が精度良く昇降変位できるようになっている。ガイド軸64,64の端部には、ストッパー58が設けられており、昇降ブロック59の最下降位置を規制している。また、昇降ブロック59の中央部には開口59bが形成され、ストッパー58の中央部には開口58aが形成されており、これらの開口59bおよび開口58a内には、押上げロッド57が挿入されている。
昇降ブロック59には、囲繞筒体60が立設されている。この囲繞筒体60は、中空状で天井部60aに開口を有しており、その開口にリフターピン基端部81の下部が挿入されている。そして、昇降ブロック59の上面59aにはボールベア61が配備され、昇降ブロック59の上面59aに平行かつ対向して設けられた囲繞筒体60の天井部内面60bにはボールベア62が配備されている。つまり、フランジ81aと平行に設けられた付勢板83の下面にはボールベア61が当接し、フランジ81aの上面には、ボールベア62が当接することにより、リフターピン基端部81のフランジ81aと付勢板83が弾力を持って上下からボールベア61とボールベア62に挟み込まれるようにしてリフターピン80が支持されている。なお、ボールベア61およびボールベア62は、フランジ81aの周方向にそれぞれ複数個配備されている(図5および図6では各2つのみ図示)。
押上げロッド57は、その一端側で連結具56によってワイヤ54に連結されており(図4参照)、ストッパー58の開口58aおよび昇降ブロック59の開口59b内に挿入されている。押上げロッド57の他端側には、先端ブロック57aが形成されており、さらにその先端には複数のボールベア63が配設されている。
以上のような構成の昇降装置50において、図5に示す状態から、駆動部51を作動させ、伝達ロッド52を進出させることにより、ワイヤ54がチューブ55内を全体的にスライドし、押上げロッド57を上昇させる。そして、図6に示すように、押上げロッド57の先端ブロック57aが、リフターピン基端部81に形成された凹部81b内に嵌め込まれるような状態になり、先端ブロック57aに配備されたボールベア63が凹部81b内の当接面81cに当接する。このようにして、伝達ロッド52の動きがリフターピン80に伝達され、リフターピン80が挿通孔7内を上昇していく。これにより、リフターピン80を所定の高さでサセプタ4の基板載置面から突出させることができる。
また、図6に示す状態から、駆動部51を作動させ、伝達ロッド52を引き込むことにより、その動きがワイヤ54を介して押上げロッド57に伝達され、押上げロッド57が下降する。これにより、押上げロッド57の先端ブロック57aに配備されたボールベア63とリフターピン基端部81の凹部81b内の当接面81cとの当接が解除され、リフターピン80と昇降ブロック59は、その自重によって昇降ブロック59の下端がストッパー58に当接する位置まで下降し、図5に示すように、リフターピン80の先端が、サセプタ4の基板載置面と略面一になるまで退避させることができる。
本実施形態の基板昇降装置では、リフターピン基端部81に対してその変位方向にボールベア61および62を配備した。すなわち、フランジ81aの上側にボールベア62を、付勢板83の下側にボールベア61を配備したので、リフターピン80の作動時および非作動時において、サセプタ4の熱膨張・収縮に伴う挿通孔7の横方向の位置ずれに対してボールベア61および62の回転を利用し、リフターピン基端部81側が容易に追随することにより、横方向の微調整が可能であるという特長を備えている。特に、チャンバー2内が真空状態となり、リフターピン80にその変位方向、つまり鉛直方向の吸引力が加わった場合でも、上側のボールベア62により横方向の動き(遊び)が維持されるので、リフターピン80のセンタリングが容易に行われ、挿通孔7の横方向の位置ずれに対する追随性が損なわれることがない。
また、リフターピン80の作動時においても、リフターピン基端部81の凹部81b内に挿入される押上げロッド57の先端ブロック57aは、ボールベア63を介して当接面81cを押し上げるので、リフターピン基端部81の横方向の動き(遊び)が確保され、挿通孔7の横方向の位置ずれに対する追随性が保たれる。
さらに、リフターピン基端部81のフランジ81aと、付勢板83とは、これらの間に介在するバネ82により、リフターピン80の変位方向に常時付勢され押し広げられているので、ボールベア61および62との接触が常に図られ、リフターピン基端部81が囲繞筒体60内で上下方向にガタつくことがなく、安定して横方向に微調整される。
従って、リフターピン80が挿通孔7内で片当りを生じてロック状態になったり、摩耗によってパーティクルが発生したりする事態を回避でき、高い信頼性をもって基板Gを昇降させることができる。
以上、代表的な実施形態を挙げて本発明を説明したが、本発明は上記実施形態に制約されることはなく、種々の変形が可能である。
例えば、図1では、下部電極に高周波電力を印加するRIEタイプの容量結合型平行平板プラズマエッチング装置を例示して説明したが、これに限らず、上部電極に高周波電力を供給するタイプであってもよく、また容量結合型に限らず誘導結合型であってもよい。さらに、エッチング装置に限らず、アッシング、CVD成膜等の他のプラズマ処理装置に適用することができる。
また、被処理基板はFPD用ガラス基板Gに限られず半導体ウエハであってもよい。
また、第1実施形態に係る図1のプラズマエッチング装置1の昇降装置30では、押上げプレート32の上面32aのボールベア35と、押上げプレート32に対向する囲繞筒体34の天井部内面34bのボールベア36との間にリフターピン基端部9のフランジ9aを挟持してリフターピン8を支持する構造としたが、第2実施形態のプラズマエッチング装置100の昇降装置50におけるリフターピン基端部81と同様に、付勢板を配備してリフターピン8の変位方向にボールベア35およびボールベア36を押圧するようにしてもよい。
また、第1実施形態および第2実施形態では、リフターピン基端部のフランジと平行に対向する壁面の側にボールベアを配備したが、これに限るものではない。例えば、図1の昇降装置30において、押上げプレート32の上面32aと囲繞筒体34の天井部内面34bにボールベア35および36を配設する替りに、ボールベアをリフターピン基端部9側(つまり、フランジ9aの上下両面)に配備してもよい。あるいは、上側のボールベアをフランジ9aに配備し、下側のボールベアを押上げプレート32に配備してもよく、これとは逆に、上側のボールベアを囲繞筒体34に配備し、下側のボールベアをフランジ9aに配備してもよい。さらにボールベアは、フランジ9aと囲繞筒体34との間および押上げプレート32とフランジ9aとの間に介在配備してもよい。
また、上記実施形態では、リフターピン基端部にフランジや付勢板を設けてボールベアと係合させるようにしたが、フランジや付勢板に限らず、ボールベアと係合して横方向の位置調整が可能な構造であれば制限なく採用することができる。
本発明の第1実施形態に係る基板昇降装置を備えたプラズマエッチング装置を示す概略断面図。 第1実施形態の基板昇降装置におけるリフターピンの下降状態の説明に供するプラズマエッチング装置の要部断面図。 第1実施形態の基板昇降装置におけるリフターピンの上昇状態の説明に供するプラズマエッチング装置の要部断面図。 本発明の第2実施形態に係る基板昇降装置を備えたプラズマエッチング装置を示す要部断面図。 第2実施形態の基板昇降装置におけるリフターピンの下降状態の説明に供するプラズマエッチング装置の要部断面図。 第2実施形態の基板昇降装置におけるリフターピンの上昇状態の説明に供するプラズマエッチング装置の要部断面図。
符号の説明
1 プラズマエッチング装置
2 チャンバー
3 絶縁板
4 サセプタ
5 誘電性材料膜
6 絶縁膜
7 挿通孔
8 リフターピン
9 リフターピン基端部
9a フランジ
10 ベローズ
11 シャワーヘッド
20 排気装置
25 高周波電源
30 昇降装置
31 駆動部
32 押上げプレート
33 ガイド軸
34 囲繞筒体
35 ボールベア
36 ボールベア

Claims (7)

  1. 基板処理装置の基板載置台に備えられ、基板を昇降させる基板昇降装置であって、
    前記基板載置台の基板載置面に対して突没可能に設けられ、基板に当接してこれを昇降させるリフターピンと、
    前記リフターピンを支持する支持部と、
    前記リフターピンを昇降変位させる駆動部と、
    を有しており、
    前記リフターピンは、その基端部において、複数の球体を介して前記支持部に支持され、前記基端部は、前記リフターピンの昇降方向に対して直交する方向に拡大したフランジ部を備えるとともに、付勢手段を介して前記フランジ部と平行に連結された付勢板を有しており、前記フランジ部および前記付勢板は、前記支持部に形成された互いに対向する壁面の間に介在する前記球体を介し、前記付勢手段の付勢力により該球体を押圧した状態で、前記球体に挟持されていることを特徴とする、基板昇降装置。
  2. 前記駆動部と連結され、球体を介して前記基端部に前記駆動部からの駆動力を伝達する伝達部材をさらに備えたことを特徴とする、請求項1に記載の基板昇降装置。
  3. 前記リフターピンは、基板処理装置からの基板の搬入時および搬出時に減圧環境下で昇降変位することを特徴とする、請求項1または請求項2に記載の基板昇降装置。
  4. 処理室内において基板を処理する基板処理装置であって、
    基板を載置する載置台と、
    請求項1から請求項3のいずれか1項に記載の基板昇降装置を備えたことを特徴とする、基板処理装置。
  5. 前記処理室は、真空状態で基板を処理する真空処理室であることを特徴とする、請求項4に記載の基板処理装置。
  6. フラットパネルディスプレイの製造に用いられるものである、請求項5に記載の基板処理装置。
  7. 基板に対し、プラズマエッチング処理を行なうプラズマエッチング装置であることを特徴とする、請求項6に記載の基板処理装置。
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