JP6024698B2 - 基板搬送用真空吸着アーム - Google Patents
基板搬送用真空吸着アーム Download PDFInfo
- Publication number
- JP6024698B2 JP6024698B2 JP2014079194A JP2014079194A JP6024698B2 JP 6024698 B2 JP6024698 B2 JP 6024698B2 JP 2014079194 A JP2014079194 A JP 2014079194A JP 2014079194 A JP2014079194 A JP 2014079194A JP 6024698 B2 JP6024698 B2 JP 6024698B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- substrate
- suction hole
- arm
- vacuum suction
- base
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Active
Links
Images
Landscapes
- Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)
- Manipulator (AREA)
Description
これら基板を使用して製品を製造するプロセスには、多種多様な製造装置が用いられるが、多くの製造プロセスは自動化されており、基板の自動搬送の機構が採用されている。基板の搬送には、装置間の搬送の他、装置間の基板の搬送に使用されるカセットから基板を取り出して装置に搬送したり、装置から取り出してカセットに戻したりする搬送も含まれる。
しかしながら、このような基板の反りは、搬送用の真空吸着アームでは問題となり得る。真空吸着する場合、アームの上面に設けられた真空吸着穴を基板が塞ぎ、吸着穴内が負圧になる必要がある。基板が反っていると、本来塞がれる筈の真空吸着穴が塞がれず、真空がリークしてしまう。
吸着エラーの警報が発せられると、装置の真空吸着機構や搬送機構等を点検しなければならず、生産性に影響を与えることがある。このため、多少の反りがあっても基板を確実に真空吸着できるようにすることが必要になってきている。
平板状の長尺な基部と、基部の先端から枝分かれして設けられた二つの枝部とを備えており、
各枝部の上面は基部の上面と面一の状態で連続しており、各枝部の幅は基部よりも狭いものであり、
基部の上面には吸着穴が形成されており、
各枝部の上面にはゴム部材が設けられていて各枝部の上面よりも上方に突出しており、
基部に形成された吸着穴の縁部にはゴム部材は設けられておらず、支持される基板は吸着穴の縁部に接触する構造であり、
各ゴム部材が設けられた位置は、吸着穴において基板が吸着された際、吸着穴の縁部と二つのゴム部材により基板が三点支持される位置であり、
各枝部は、各ゴム部材に基板の下面が当接して基板が支持された際、当該基板の反りの有無及び当該基板の剛性に応じて下方に撓む可撓性を有するという構成を有する。
また、上記課題を解決するため、請求項2記載の発明は、前記請求項1の構成において、前記吸着穴は無終端の周状であるという構成を有する。
また、上記課題を解決するため、請求項3記載の発明は、前記請求項2の構成において、前記基部の上面には前記吸着穴とは別に中心吸着穴が設けられており、中心吸着穴は前記吸着穴の周の中心に位置しているという構成を有する。
また、上記課題を解決するため、請求項4記載の発明は、前記請求項2又は3の構成において、前記吸着穴の外側の縁は外側プラテン部となっているとともに、内側の縁は内側プラテン部となっており、
外側プラテン部と内側プラテン部は前記基部の上面から同じ高さで突出しているという構成を有する。
また、上記課題を解決するため、請求項5記載の発明は、前記請求項1乃至4いずれかの構成において、前記各ゴム部材が前記各枝部の上面から突出する高さは0.1mm以上0.5mm以下であり、前記各枝部の厚さは1.5mm以上2.5mm以下であるという構成を有する。
また、請求項2記載の発明によれば、上記効果に加え、吸着穴は無終端の周状であるので、吸着のために基板に反りが発生してしまったり反りが大きくなってしまったりする問題が生じない。
また、請求項3記載の発明によれば、上記効果に加え、中心吸着穴を有するので、基板の中心においても吸着力が作用する。このため、より安定して吸着することができる。
また、請求項4記載の発明によれば、上記効果に加え、外側プラテン部と内側プラテン部とが設けられているので、基板を支持する際の接触面積が小さくなる。このため、裏面における基板の傷付きをより少なくして基板を支持することができる。
図1は、第一の実施形態の基板搬送用真空吸着アームの斜視概略図、図2は、図1に示す真空吸着アームの平面概略図、図3は図1に示す真空吸着アームの正面断面概略図である。
実施形態の真空吸着アームは、セラミックス製であり、例えばアルミナで形成されている。図1に示すように、真空吸着アームは、平板状の長尺な基部1と、基部1の先端から枝分かれして設けられた二つの枝部2とを有している。二つの枝部2は、基部1と同じ方向に長いものであり、従ってお互いに平行に延びている。
図1及び図2に示すように、基部1は、先端部分の上面に吸着穴11を有している。吸着穴11は基部1の幅方向では中央の位置に形成されている。
ゴム部材3は、例えばニトリルゴム製の小さな柱状の部材であり、各枝部2の上面に接着等の方法で固定されている。ゴム部材3の弾性は、少なくとも高さ方向に作用するようになっている。即ち、ゴム部材3は高さ方向に圧縮され得る。尚、図2に示すように、各ゴム部材3は、周状吸着穴11の中心から互いに等距離の位置に設けられている。
図4には、反りの具合が異なる基板Sを支持する状況が描かれている。このうち、図4(1)は、大きな反りが発生した基板Sを支持する状況、(2)は反りが小さい基板Sを支持する状況、(3)は反りが発生していない基板Sを支持する状況となっている。
実施形態の真空吸着アームは、このような作用効果を有することから、反りがランダムに発生し得るプロセスで処理される基板Sの搬送用に好適に使用される。尚、ゴム部材3の高さは、反りが最も大きい場合でも基板Sが接触する高さとされ、例えば0.1〜0.5mm程度とされる。
枝部2に真空吸着穴を設けた構造では、基板Sが吸着穴を塞ぐ必要があるため、基板Sの反りの状況によっては前述したように吸着エラーとなり易い。例えば、ゴム部材3に代え、筒状の突起を設け、この突起の開口を真空吸着穴として真空ポンプに連通させた構造が考えられる。この構造でも真空吸着は可能であるが、基板Sの反りが突起の高さ以上であった場合、突起の開口が基板Sで塞がれない状態となるので、やはり吸着エラーとなる。また、反りが小さい基板Sや反っていない基板Sを支持しようとすると、周状吸着穴11の縁に基板Sが当接しない状態となり、同様に吸着エラーとなる。ゴム部材3を筒状としてその開口を真空吸着穴とすることも考えられるが、吸着の際に圧縮されるため、吸着動作が不安定になる可能性がある。
これらの点を考え合わせると、各枝部2には真空吸着穴は設けず、各ゴム部材3による摩擦力のみを作用させることが、確実な吸着という点で好適である。
また、実施形態の真空吸着アームでは、周状吸着穴11に加えて中心吸着穴14が設けられている。この点は、基板Sの反りを抑制しつつも中心で吸着力をさせることで吸着をより安定化させる意義を有している。
中心吸着穴14は、周の中心で吸着作用を生じさせる穴であれば足りるので、実施形態のように直線状のものではなく、中心に位置する小さなスポット状(円形又は角形)の穴でも良く、中心から十の字状(又は放射状)に延びる穴でも良い。
第二の実施形態の真空吸着アームは、周状吸着穴11や中心吸着穴14の周辺の部位の形状が第一の実施形態と異なっている。他は、同様である。
外側プラテン部15は、周状吸着穴11の外側の縁に沿って延びる土手状の部位である。内側プラテン部16は、周状吸着穴11の内側を占める部位であり、同様の中心吸着穴14を有する部位である。外側プラテン部15の上面と内側プラテン部16の上面はともに平坦面であり、同じ高さとなっている。
基板Sを真空吸着する場合、なるべく接触面積を小さくすることが要請される。これは、下面においても基板Sの傷つきを少なくする観点等からである。第二の実施形態の構成は、この要請を満足している。
尚、反りのない基板Sを支持する場合、図7(2)に示すように各ゴム部材3は圧縮されるが、この際、図4(3)に示すように各枝部2が若干撓むこともあり得る。
尚、基板搬送ロボットは、制御装置とともに使用される。制御装置は、前述したように、最先端のアーム41の真空吸着穴の位置(正確には、周状吸着穴11の中心位置)が基板Sの中心となるようティーチングされて基板搬送ロボットを制御する。
露光処理は、基板Sの表面に微細なパターンを形成するフォトリソグラフィのために行われる処理である。露光装置は、光源61と、形成するパターンの原画としてのマスク62を保持するマスクホルダー621と、光源61からの光をマスク62に照射する照射光学系63と、マスク62の像を基板Sに結像する結像光学系64と、マスク62の像の投影位置に基板Sを保持するステージ65等を備えている。
尚、各実施形態において、二つの枝部2は互いに平行に伸びるものであったが、これは必須ではなく、徐々に広がって延びる形状(ハの字状)であっても良い。
尚、周状吸着穴11は前述したような効果を有するが、本願発明においては他の形状の吸着穴を採用することもできる。例えば、基部1の先端部分において、多数の小さな穴が吸着穴として形成された構成とすることもできる。この場合、多数の小さい穴が形成された領域の中心に基板Sの中心が位置した状態で基板Sが支持される。
各実施形態の真空吸着アームは、基板Sに反りが発生している場合に好適に用いられるが、反りの無い基板S(反りが発生する可能性が無い基板S)について用いられても良いことは勿論である。
11 周状吸着穴
12 接続穴
13 貫通路
14 中心吸着穴
15 外側プラテン部
16 内側プラテン部
2 枝部
3 ゴム部材
S 基板
Claims (5)
- 基板に対して下側から進入して基板を真空吸着して支持する基板搬送用真空吸着アームであって、
平板状の長尺な基部と、基部の先端から枝分かれして設けられた二つの枝部とを備えており、
各枝部の上面は基部の上面と面一の状態で連続しており、各枝部の幅は基部よりも狭いものであり、
基部の上面には吸着穴が形成されており、
各枝部の上面にはゴム部材が設けられていて各枝部の上面よりも上方に突出しており、
基部に形成された吸着穴の縁部にはゴム部材は設けられておらず、支持される基板は吸着穴の縁部に接触する構造であり、
各ゴム部材が設けられた位置は、吸着穴において基板が吸着された際、吸着穴の縁部と二つのゴム部材により基板が三点支持される位置であり、
各枝部は、各ゴム部材に基板の下面が当接して基板が支持された際、当該基板の反りの有無及び当該基板の剛性に応じて下方に撓む可撓性を有することを特徴とする基板搬送用真空吸着アーム。 - 前記吸着穴は無終端の周状であることを特徴とする請求項1記載の基板搬送用真空吸着アーム。
- 前記基部の上面には前記吸着穴とは別に中心吸着穴が設けられており、中心吸着穴は前記吸着穴の周の中心に位置していることを特徴とする請求項2記載の基板搬送用真空吸着アーム。
- 前記吸着穴の外側の縁は外側プラテン部となっているとともに、内側の縁は内側プラテン部となっており、
外側プラテン部と内側プラテン部は前記基部の上面から同じ高さで突出していることを特徴とする請求項2又は3記載の基板搬送用真空吸着アーム。 - 前記各ゴム部材が前記各枝部の上面から突出する高さは0.1mm以上0.5mm以下であり、前記各枝部の厚さは1.5mm以上2.5mm以下であることを特徴とする請求項1乃至4いずれかに記載の基板搬送用真空吸着アーム。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2014079194A JP6024698B2 (ja) | 2014-04-08 | 2014-04-08 | 基板搬送用真空吸着アーム |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2014079194A JP6024698B2 (ja) | 2014-04-08 | 2014-04-08 | 基板搬送用真空吸着アーム |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2015201540A JP2015201540A (ja) | 2015-11-12 |
JP6024698B2 true JP6024698B2 (ja) | 2016-11-16 |
Family
ID=54552560
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2014079194A Active JP6024698B2 (ja) | 2014-04-08 | 2014-04-08 | 基板搬送用真空吸着アーム |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP6024698B2 (ja) |
Families Citing this family (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP6799395B2 (ja) * | 2016-06-30 | 2020-12-16 | 株式会社荏原製作所 | 基板ホルダ、電子デバイス製造装置において基板を搬送する搬送システム、および電子デバイス製造装置 |
CN108357920B (zh) * | 2018-01-22 | 2020-06-02 | 京东方科技集团股份有限公司 | 抓取装置及其报警方法 |
Family Cites Families (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0511992Y2 (ja) * | 1987-10-16 | 1993-03-25 | ||
JPH056932A (ja) * | 1991-06-28 | 1993-01-14 | Hitachi Ltd | ウエハ搬送装置 |
JPH0547899A (ja) * | 1991-08-20 | 1993-02-26 | Sharp Corp | ウエハー搬送用アーム |
JP4489904B2 (ja) * | 2000-04-14 | 2010-06-23 | 株式会社アルバック | 真空処理装置及び基板保持方法 |
JP2003045937A (ja) * | 2001-07-31 | 2003-02-14 | Ishikawajima Harima Heavy Ind Co Ltd | 高温炉用ハンド |
JP4067810B2 (ja) * | 2001-11-07 | 2008-03-26 | 大日本印刷株式会社 | 基板搬送装置及びそのアーム |
JP5607965B2 (ja) * | 2010-03-23 | 2014-10-15 | 日東電工株式会社 | 半導体ウエハマウント方法および半導体ウエハマウント装置 |
-
2014
- 2014-04-08 JP JP2014079194A patent/JP6024698B2/ja active Active
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2015201540A (ja) | 2015-11-12 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US9829802B2 (en) | Conveying hand and lithography apparatus | |
TWI735438B (zh) | 物體搬運裝置、曝光裝置、平板顯示器的製造方法、元件製造方法、物體搬運方法以及曝光方法 | |
JP4680657B2 (ja) | 基板搬送システム | |
KR101699120B1 (ko) | 처리 장치, 디바이스 제조 방법, 및 처리 방법 | |
KR20150006379A (ko) | 흡착 구조, 로봇 핸드 및 로봇 | |
JP6224437B2 (ja) | 基板搬送装置 | |
JP2008218781A (ja) | 基板処理装置 | |
TW201901313A (zh) | 搬運手、搬運設備、微影設備、物品的製造方法及保持機構 | |
JP6024698B2 (ja) | 基板搬送用真空吸着アーム | |
TWI696225B (zh) | 吸附手、搬送機構、樹脂成形裝置、搬送方法及樹脂成形品的製造方法 | |
JP2005310989A (ja) | 基板及びフォトマスクの受け渡し方法、並びに基板及びフォトマスクの受け渡し装置 | |
KR20150006378A (ko) | 흡착 구조, 로봇 핸드 및 로봇 | |
JP5597502B2 (ja) | 吸着用部材およびこれを用いた吸着装置、並びに光照射装置および荷電粒子線装置 | |
JP6357187B2 (ja) | 搬送装置、リソグラフィ装置、および物品の製造方法 | |
JP2006339347A (ja) | レチクルチャック | |
JP2009154213A (ja) | 搬送装置、搬送方法、およびデバイス製造方法 | |
JP2018163272A (ja) | 露光装置 | |
JP2008083478A (ja) | 露光システムおよびワーク搬送方法 | |
JP7355174B2 (ja) | 基板搬送装置、露光装置、フラットパネルディスプレイ製造方法、デバイス製造方法、基板搬送方法、及び露光方法 | |
JP6773435B2 (ja) | 露光装置 | |
WO2015040915A1 (ja) | 搬入出装置および搬入出方法 | |
JP7316033B2 (ja) | 基板搬送装置および基板搬送方法 | |
JP2004337744A (ja) | ステージ装置、それを用いたペースト塗布装置、及びペースト塗布方法 | |
JP5857725B2 (ja) | 露光装置 | |
JP2005047123A (ja) | スクリーン印刷装置およびスクリーン印刷方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20160324 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20160405 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20160603 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20160913 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20160926 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 6024698 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |