TWI499814B - 偏光板及其製造方法 - Google Patents

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TWI499814B TW104103248A TW104103248A TWI499814B TW I499814 B TWI499814 B TW I499814B TW 104103248 A TW104103248 A TW 104103248A TW 104103248 A TW104103248 A TW 104103248A TW I499814 B TWI499814 B TW I499814B
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Chihtien Chen
Iling Huang
Yennien Chen
Kuaicheng Lee
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Sumika Technology Co Ltd
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Description

偏光板及其製造方法
本發明是有關於一種偏光板及其製造方法，且特別是有關於一種具有良好尺寸精準度且不溢膠的偏光板及其製造方法。
顯示器中的偏光板可改變光線之偏振方向，而可提升顯示器之效能，且達成不同之顯示技術，例如：三維顯示器或液晶顯示器等之顯示技術。一般習知之偏光板包含偏光膜、黏膠層及離型層，且黏膠層係設置於偏光膜及離型層之間。其中，偏光膜可藉由黏膠層與其他光學膜片貼合，且離型層可避免偏光板之黏膠層與其他物體沾黏，而提升偏光板之運輸便利性。
為了量產並滿足各種尺寸之光學膜片的需求，複數片偏光板可先堆疊成積層體，再同時將積層體裁剪為適當之尺寸。
然而，當進行前述之裁切製程時，由於偏光板的機械性質較為柔韌，裁切時所施加之壓力會使得積層體之各個偏光板產生些微偏移，而降低裁剪後的尺寸精準度，進 而降低後續製得之顯示器的效能。此外，裁切時所施加之壓力會使得裁剪後偏光板之黏膠層容易由側邊溢膠，而使得偏光板彼此沾黏或沾黏其他物體，降低偏光板之品質。
有鑑於此，極須提供一種偏光板及其製造方法，以改進習知偏光板及其製造方法之缺陷。
因此，本發明之一態樣是在提供一種偏光板之製造方法，其係利用研磨設備研磨積層體，而可製得具有良好尺寸精準度且不易溢膠之偏光板。
一種偏光板之製造方法，包含：提供一研磨設備，其中研磨設備包含：一基座，包含一基座頂面；一固定裝置；以及一研磨裝置，包含一研磨面、一中心軸及一基準線，其中研磨裝置具有一半徑，且基準線垂直於中心軸之延伸方向；將一積層體置於基座之基座頂面上，其中積層體包含一偏光單元、一邊緣及一研磨起始位置；利用固定裝置及基座挾持積層體，其中固定裝置至基座頂面具有一最小挾持距離，最小挾持距離可具有一中點位置，且中點位置、中心軸與基準線為共平面；進行一研磨步驟，其中研磨步驟係利用研磨面自研磨起始位置研磨積層體之至少一邊緣，以去除積層體之部份邊緣，而製得至少一偏光板。
100‧‧‧方法
110‧‧‧提供研磨設備之步驟
120‧‧‧將積層體置於基座頂面，使積層體之偏光單元平行基座頂面之步驟
130‧‧‧利用固定裝置及基座挾持積層體之步驟
140‧‧‧判斷積層體之第一高度是否小於挾持距離之步驟
140a‧‧‧將堆疊件設於積層體之上表面或下表面，以使堆疊件之第二高度與第一高度之總和等於挾持距離
150‧‧‧進行研磨步驟
160‧‧‧移除固定裝置之步驟
170‧‧‧製得偏光板之步驟
200‧‧‧研磨設備
210‧‧‧基座
210a‧‧‧基座頂面
220‧‧‧固定裝置
230‧‧‧研磨裝置
230a‧‧‧第一旋轉方向
230b‧‧‧第二旋轉方向
231‧‧‧研磨面
232‧‧‧中心軸
232a‧‧‧延伸方向
233‧‧‧基準線
300‧‧‧積層體
300a‧‧‧上表面
300b‧‧‧下表面
300c‧‧‧邊緣
310‧‧‧偏光單元
310a‧‧‧光學薄膜
310b‧‧‧黏著薄膜
310c‧‧‧離型層
400‧‧‧堆疊件
500a/500b‧‧‧偏光板
510‧‧‧光學薄膜
510a/510b‧‧‧外緣部
520‧‧‧離型層
520a/520b‧‧‧外緣部
530‧‧‧黏著薄膜
530a/530b‧‧‧外緣部
531‧‧‧第一黏著薄膜
531a/531b‧‧‧外緣部
533‧‧‧第二黏著薄膜
533a/533b‧‧‧外緣部
θ‧‧‧切入角
D‧‧‧挾持距離
H1 ‧‧‧第一高度
H2 ‧‧‧第二高度
C/C’‧‧‧起始位置
T/T’‧‧‧厚度
d1 /d1 ’/d2 /d2 ’‧‧‧內縮距離
〔圖1〕係繪示依照本發明之一實施例之偏光板之製造方法的流程圖。
〔圖2a〕係繪示依照本發明之一實施例之研磨設備之立體圖。
〔圖2b〕係繪示依照本發明之一實施例之研磨設備之側視圖。
〔圖3a〕係繪示依照本發明之一實施例之將積層體置於研磨設備之基座的側視圖。
〔圖3b〕係繪示依照本發明之一實施例之偏光單元之局部剖面圖。
〔圖3c〕係繪示依照本發明之一實施例之進行研磨步驟時之研磨設備的側視圖。
〔圖4a〕係繪示依照本發明之另一實施例之固定裝置及基座挾持積層體的側視圖。
〔圖4b〕係繪示依照本發明之又一實施例之固定裝置及基座挾持積層體的側視圖。
〔圖5a〕係繪示依照本發明之製造方法所製得之一偏光板的局部剖面圖。
〔圖5b〕係繪示依照本發明之製造方法所製得之另一偏光板的局部剖面圖。
以下仔細討論本發明實施例之製造和使用。然而，可以理解的是，實施例提供許多可應用的發明概念，其 可實施於各式各樣的特定內容中。所討論之特定實施例僅供說明，並非用以限定本發明之範圍。
請同時參照圖1、圖2a及圖2b，其中圖1係繪示依照本發明之一實施例之偏光板之製造方法的流程圖，且圖2a及圖2b係分別繪示依照本發明之一實施例之研磨設備之立體圖與側視圖。在一實施例中，方法100係先提供研磨設備200，如步驟110所示。
在上述實施例中，此研磨設備200包含基座210、固定裝置220及研磨裝置230。前述之研磨裝置230包含研磨面231、中心軸232及基準線233，其中基準線233垂直於中心軸232的延伸方向232a。在一具體例中，研磨裝置230可為一滾輪、一輪盤、一圓盤、前述裝置之任意組合或其他適當之研磨裝置。
請同時參照圖1與圖3a，圖3a係繪示依照本發明之一實施例之將積層體置於研磨設備之基座的側視圖。在步驟110後，如步驟120及圖3a所示，將積層體300置於基座210之基座頂面210a。此積層體300可包含至少一偏光單元310，接著使至少一偏光單元310之延伸面平行於基座頂面210a。然後，利用固定裝置220及基座210挾持積層體300，如步驟130及圖3a所示。
請參照圖3a，前述之固定裝置220至基座頂面210a具有一最小挾持距離D，積層體300具有第一高度H1 ，且第一高度H1 小於或等於挾持距離D。在一實施例中，挾持 距離D之中點位置，即D/2之位置、研磨裝置230之中心軸232及研磨裝置230之基準線233三者為共平面。
在一實施例中，上述研磨裝置之中心軸232之兩倍半徑2R與挾持距離D具有一比值，且比值介於1/15~1/3之間。
請參照圖3a及圖3b，其中圖3b係繪示依照本發明一實施例之偏光單元之局部剖面圖。在一實施例中，積層體300中之每一個偏光單元310可包含至少一光學薄膜310a、至少一黏著薄膜310b及至少一離型層310c，其中黏著薄膜310b係設置於光學薄膜310a及離型層310c之間。在一實施例中，上述光學薄膜310a或離型層310c係與基座頂面210a或固定裝置220接觸。在另一實施例中，偏光單元也可包含二層以上黏著薄膜及二層以上離型層，且此些黏著薄膜分別設置於光學薄膜及離型層之一者之間。在另一實施例中，偏光單元也可包含二層以上光學薄膜。
在一實施例中，當固定裝置220及基座210挾持積層體300時，於此挾持狀態下所產生之壓力會將積層體300之偏光單元310中的黏著薄膜310b些微擠出而造成溢膠。
請繼續參照圖1，在步驟130後，判斷前述積層體300之第一高度H1 是否等於挾持距離D，如步驟140所示。當第一高度H1 等於挾持距離D時，進行研磨步驟，如步驟150所示。
當步驟140判斷前述之第一高度H1 小於挾持距離D時，固定裝置220及基座210無法有效挾持積層體300，故方法100須進一步進行步驟140a，才得以進行後續的研磨步驟150。
請同時參照圖1、圖4a及圖4b，其中圖4a及圖4b係分別繪示依照本發明之另一實施例及又一實施例之固定裝置及基座挾持積層體的側視圖。當步驟140判斷前述之第一高度H1 小於挾持距離D時，如步驟140a所示，可將堆疊件400設置於積層體300之上表面300a，如圖4a所示；或下表面300b，如圖4b所示，以使堆疊件400之第二高度H2 與第一高度H1 之總和等於挾持距離D，使固定裝置220及基座210藉由堆疊件400而有效挾持積層體300，並進行後續的研磨步驟150。
請參照圖1及圖3c，其中圖3c係繪示依照本發明之一實施例之進行研磨步驟時之研磨設備的側視圖。當進行研磨步驟150時，使用者可根據所欲製得之偏光板的尺寸要求，調整固定裝置220、及/或基座210、及/或研磨裝置230於水平方向或垂直方向之移動距離，藉此連帶移動積層體300之位置，使挾持距離D之中點位置，即D/2之位置、研磨裝置230之中心軸232及研磨裝置230之基準線233三者為共平面。接著，使研磨裝置230之研磨面231以一預設切入角θ研磨積層體300之邊緣300c，以調整積層體300之被研磨量，從而去除積層體300之部份邊緣300c。
前述之切入角θ係指研磨裝置230之研磨面231研磨積層體之起始位置C或C’與研磨裝置230之中心軸232的連線及基準線233所形成之夾角。且依上述定義，當積層體之起始位置C或C’與基準線233平行時切入角θ即為0°。
當前述之起始位置為C時，研磨裝置230之研磨面231係以第一旋轉方向230a研磨積層體300之邊緣300c。其中，第一旋轉方向230a係指由積層體300之上表面300a往下表面300b的方向，且定義切入角θ為正值。
於另一種方式中，當前述之起始位置為C’時，研磨裝置230之研磨面231係以第二旋轉方向230b研磨積層體300之邊緣300c。其中，第二旋轉方向230b係指由積層體300之下表面300b往上表面300a的方向，且定義切入角θ為負值。
前述之切入角滿足下式(I)：
於式(I)中，θ代表切入角，D代表挾持距離，R代表研磨裝置之半徑。在本實施例中，切入角θ可介於-70°至70°。
倘若前述挾持距離D之中點位置、中心軸232及基準線233不為共平面時，研磨裝置230之中心軸232會較挾持距離D之中點位置高或低。當中心軸232高於挾持距離D之中點位置時，對於積層體300之上部的偏光單元310而言，其切入角θ之角度係小於70°；對於積層體300之下部的偏光單元310而言，其切入角θ之角度係大於70°。基 於前述相同之移動距離，積層體300之上部及下部的偏光單元310會具有不等量之被研磨部份，亦即上部的偏光單元310與下部的偏光單元310具有不同之研磨量，而降低研磨所製得之偏光板的尺寸精準度，且所製得之偏光板具有溢膠之缺陷。
前述積層體300之上部的偏光單元310係指堆疊位置高於挾持距離D之中點位置的偏光單元310；反之，積層體300之下部的偏光單元310係指堆疊位置低於挾持距離D之中點位置的偏光單元310。
反之，當中心軸232低於挾持距離D之中點位置時，對於積層體300之上部的偏光單元310而言，其切入角θ之角度係大於70°；對於積層體300之下部的偏光單元310而言，其切入角θ之角度係小於70°。據此，研磨所製得之偏光板亦具有尺寸精準度不佳及溢膠之缺陷。
此外，倘若積層體300之第一高度H1 大於挾持距離D時，除了固定裝置220及基座210不易挾持積層體300之缺點外，積層體300之偏光單元310中的黏著薄膜會被完全擠出，而使所製得之偏光板不具有黏著薄膜，進而無法應用。
其次，當第一高度H1 大於挾持距離D時，研磨面231亦會以更大之切入角θ，如大於70°去研磨積層體300之至少一邊緣300c，而降低所製得之偏光板的尺寸精準度。
請參照圖1，在研磨步驟150後，如步驟160及步驟170所示，移除研磨設備200及固定裝置220，以製得 至少一偏光板。據此，本發明係利用研磨步驟研磨積層體之每一個偏光單元310，以使研磨後之偏光單元310形成偏光板。
請參照圖5a，其係繪示依照本發明之製造方法所製得之偏光板的局部剖面圖。其中，偏光板500a包含一光學薄膜510、一離型層520及一黏著薄膜530。此離型層520之兩外緣部520a或520b係分別對齊光學薄膜510之兩外緣部510a或510b，且黏著薄膜530設置於光學薄膜510及離型層520之間。
當前述之固定裝置220移除後，因為挾持壓力解除以及自身之內聚力的影響，黏著薄膜530之外緣部530a或530b會分別較光學薄膜510之二外緣部510a或510b更加內縮。
其次，由於研磨裝置之研磨面的粗糙表面及前述內聚力之影響，當黏著薄膜530內縮時，黏著薄膜530經研磨後之外緣部530a或530b可呈一不規則面。在一實施例中，上述不規則面可為一連續曲面。在一實施例中，上述不規則面可至少包含一曲面區域。在另一實施例中，黏著薄膜530之外緣部530a或530b可為一圓弧面或一鋸齒面。在一實施例中，上述不規則面可為一連續曲面。
基於光學薄膜510之二外緣部510a或510b為起始點，黏著薄膜530之兩外緣部530a或530b之不規則面可具有一最大內縮距離d1 及d2 。其中上述最大內縮距離d1 為黏著薄膜530之最大內縮位置至光學薄膜510之一外緣 部510a與離型層520之同側外緣部520a之連線進行量測所得之垂直距離。最大內縮距離d2 之量測方法同上述方式，不再贅述。
其中，任一最大內縮距離d1 或d2 與黏著薄膜530之厚度T的比值不超過1.8。在一實施例中，任一最大內縮距離d1 或d2 與黏著薄膜530之厚度T的比值介於0.25至1.8。
當前述之最大內縮距離d1 或d2 與厚度T之比值超過1.8時，所製得偏光板之黏著薄膜530的黏貼面積會減少，使得偏光板不易與其他光學膜片貼合或是造成液晶顯示模組漏光，進而影響其應用。
光學薄膜510之黏著薄膜530之厚度一般並無特別限制，然而在一實施例中，黏著薄膜530之厚度可例如為5μm至50μm。
在一實施例中，光學薄膜510可舉例如：偏光轉換元件、反射板、或半穿透板、相位差板、視角補償薄膜、輝度提昇薄膜、保護薄膜、配向液晶層、易接合處理層、硬塗層、抗反射層、防黏層、擴散層、防眩層等各種表面處理層。在一實施例中，光學薄膜510可為複數層結構，且該複數層可為選自上列之組合。
在一實施例中，離型層520之材料可選自聚乙烯、聚丙烯、聚對苯二甲酸乙二酯等合成樹脂薄膜；橡膠片、紙、布、不織布、網狀物、發泡片、金屬箔及該等之層積體的適當薄層體。
在一實施例中，黏著薄膜530之材料可選自在丙烯酸系聚合物中調配丙烯酸寡聚物與矽烷偶合劑而獲得者，或在丙烯酸系聚合物中添加光聚合起始劑，並經照射紫外線(UV)而獲得者，或丙烯酸系聚合物中添加抗靜電成分之化合物。
請參照圖5b，其係繪示依照本發明之製造方法所製得之另一偏光板的局部剖面圖。其中，偏光板500b包含一光學薄膜510、二離型層520、一第一黏著薄膜531與一第二黏著薄膜533。兩離型層520之兩外緣部520a或520b分別對齊光學薄膜510之兩外緣部510a或510b，且分別設置於光學薄膜510之二側。第一黏著薄膜531與第二黏著薄膜533分別設置於光學薄膜510及兩離型層520之間。
相同地，由於內聚力之影響，第一黏著薄膜531之外緣部531a或531b，以及第二黏著薄膜533之外緣部533a或533b，都分別較光學薄膜510之二外緣部510a或510b內縮，且第一黏著薄膜531或第二黏著薄膜533之外緣部531a、531b、533a或533b可呈一不規則面。在一實施例中，上述不規則面可至少包含一曲面區域。在一實施例中，上述不規則面可為一連續曲面。在另一實施例中，第一黏著薄膜531或第二黏著薄膜533之外緣部531a、531b、533a或533b也可為一圓弧面或一鋸齒面。
基於光學薄膜510之二外緣部510a或510b為起始點，第一黏著薄膜531或第二黏著薄膜533之外緣 部531a、531b、533a或533b之不規則面可具有一最大內縮距離d1 、d2 、d1 ’及d2 ’。最大內縮距離d1 、d2 、d1 ’及d2 ’之量測方法同上述實施例所述之方式，不再贅述。
在一實施例中，第一黏著薄膜531之厚度T與第二黏著薄膜533之厚度T’不相同。在一實施例中，第一黏著薄膜531之厚度T約為50μm至250μm，且第二黏著薄膜533之厚度T’約為5μm至50μm。
其中，最大內縮距離d1 或d2 與第一黏著薄膜531之厚度T的比值不超過1.8，且內縮距離d1 ’或d2 ’與第二黏著薄膜533之厚度T’的比值不超過1.8。在一實施例中，內縮距離d1 或d2 中之最大內縮距離與厚度T的比值可介於0.25至1.8，且內縮距離d1 ’或d2 ’中之最大內縮距離與厚度T’的比值可介於0.25至1.8。
同樣地，當第一黏著薄膜531或第二黏著薄膜533之內縮距離與厚度T或T’之比值超過1.8時，所製得偏光板500b之第一黏著薄膜531或第二黏著薄膜533的黏膠黏貼面積減少，使得偏光板不易與其他光學膜片貼合或是造成液晶顯示模組漏光，進而影響其應用。
以下利用實施例以說明本發明之應用，然其並非用以限定本發明，任何熟習此技藝者，在不脫離本發明之精神和範圍內，當可作各種之更動與潤飾。
製備偏光板 實施例1
請同時參照圖3a至圖3c，將積層體300先置於基座210上，並利用固定裝置220及基座210挾持積層體300，其中積層體300包含複數個偏光單元310，此些偏光單元310均包含至少一層黏著薄膜310b，且此黏著薄膜310b係設置於光學薄膜310a及離型層310c之間。在此實施例中，積層體300之第一高度H1 等於固定裝置220與基座210之挾持距離D。
然後，將研磨裝置230之研磨面231以70°之切入角θ研磨積層體300。進行研磨步驟後，即可製得實施例1之偏光板，其結構如圖5a所示。所得之偏光板以下列之評價方式進行評價，且其評價結果如第1表所示，其中研磨品質及內縮程度之檢測方法容後再述。
實施例2至實施例6及比較例1至比較例4
實施例2至實施例6及比較例1至比較例4係使用與實施例1相同之方法來製備偏光板。不同的是，實施例2至實施例6及比較例1至比較例4係利用不同之切入角研磨不同結構的積層體300，其中當偏光單元310包含二層黏著薄膜時，此些黏著薄膜係分別設置於光學薄膜之兩側，且於黏著薄膜中，遠離光學薄膜之另一側設有離型層，其製造完成後之結構圖係如圖5b所示。實施例2至實施例6及比較例1至比較例4之條件及評價結果如第1表所示，此處不另贅述。
評價方式
1.研磨品質
前述實施例1至實施例6及比較例1至比較例4所製得之偏光板，可根據研磨後之尺寸精準度及溢膠狀況，評價偏光板之研磨品質。
申言之，偏光板之尺寸精準度係分別將實施例1至實施例6及比較例1至比較例4所製得之偏光板放至於水平平台上，保持偏光板為平整狀態，以游標卡尺量測偏光板的尺寸，並計算其與欲製得之尺寸的誤差值。計算所得之尺寸誤差值係根據以下基準進行評價：◎：尺寸誤差值≦±0.1公釐；○：±0.1公釐<尺寸誤差值≦±0.2公釐；×：±0.2公釐<尺寸誤差值。
前述溢膠狀況之評價方式係以目視之方式判斷偏光板之黏著薄膜是否有溢出。
2.內縮程度
本發明所製得偏光板之黏著薄膜的內縮程度係根據下式(II)計算，其中黏著薄膜之最大內縮距離係藉由光學顯微鏡量測，其中黏著薄膜最大內縮距離之量測方法同上述實施例所述之方式，不再贅述：
根據第1表之結果可知，當研磨裝置之研磨面以70°至-70°之切入角θ研磨積層體時，所製得之偏光板具有良好之尺寸精準度，且偏光板之黏著薄膜不易溢出，而可減少黏膠之污染，並降低偏光板與其他光學膜片沾黏之發生，因此提升偏光板製程之良率及偏光板之品質。
其次，藉由前述70°至-70°之切入角θ研磨積層體時，所製得偏光板之黏著薄膜的內縮程度，即黏著薄膜內縮距離與厚度之比值係大於0且不超過1.8，而確保偏光板可與其他光學膜片有效貼合。
此外，當切入角θ不為70°至-70°時，所製得偏光板之尺寸精準度不佳，且偏光板之黏著薄膜未內縮，而使得偏光板之黏著薄膜容易溢膠，進而降低偏光板之品質。
雖然本發明已以實施方式揭露如上，然其並非用以限定本發明，在本發明所屬技術領域中任何具有通常知識者，在不脫離本發明之精神和範圍內，當可作各種之更動與潤飾，因此本發明之保護範圍當視後附之申請專利範圍所界定者為準。
100‧‧‧方法
110‧‧‧提供研磨設備之步驟
120‧‧‧將積層體置於基座頂面，使積層體之偏光單元平行基座頂面之步驟
130‧‧‧利用固定裝置及基座挾持積層體之步驟
140‧‧‧判斷積層體之第一高度是否小於挾持距離之步驟
140a‧‧‧將堆疊件設於積層體之上表面或下表面，以使堆疊件之第二高度與第一高度之總和等於挾持距離
150‧‧‧進行研磨步驟
160‧‧‧移除固定裝置之步驟
170‧‧‧製得偏光板之步驟

Claims (9)

  1. 一種偏光板之製造方法，包含：提供一研磨設備，其中該研磨設備包含：一基座，包含一基座頂面；一固定裝置；以及一研磨裝置，包含一研磨面、一中心軸及一基準線，其中該研磨裝置具有一半徑，且該基準線垂直於該中心軸之延伸方向；將一積層體置於該基座之該基座頂面上，其中該積層體包含一偏光單元、一邊緣及一研磨起始位置；利用該固定裝置及該基座挾持該積層體，其中該固定裝置至該基座頂面具有一挾持距離，該挾持距離可具有一中點位置，且該中點位置、該中心軸與該基準線為共平面；以及進行一研磨步驟，其中該研磨步驟係利用該研磨面自該研磨起始位置研磨該積層體之至少一邊緣，以去除該積層體之部份邊緣，而製得該至少一偏光板，其中該研磨起始位置與該中心軸的連線及該基準線所形成之夾角可定義為一切入角θ，且該切入角θ滿足下式(I)： 於該式(I)中，該D代表該挾持距離，該R代表該研磨裝置之該半徑。
  2. 如申請專利範圍第1項所述之偏光板之製造方法，其中該切入角θ為-70°至70°。
  3. 如申請專利範圍第1項所述之偏光板之製造方法，其中該積層體具有一第一高度，且該第一高度小於或等於該挾持距離。
  4. 如申請專利範圍第1項所述之偏光板之製造方法，其中該積層體包含一上表面與一下表面，且該上表面與下表面分別與該邊緣相鄰，且其中該研磨面係由該積層體之該上表面往該積層體之該下表面方向研磨該邊緣，或該研磨面係由該積層體之該下表面往該積層體之該上表面方向研磨該邊緣。
  5. 如申請專利範圍第1項所述之偏光板之製造方法，其中該中心軸之兩倍半徑與該挾持距離具有一比值，且該比值介於1/15~1/3之間。
  6. 如申請專利範圍第1項所述之偏光板之製造方法，其中該至少一偏光板包含：一光學薄膜，具有一第一外緣部；一離型層，具有一第二外緣部，且該第二外緣部係對齊該第一外緣部；以及 一黏著薄膜，具有一第三外緣部及一第一厚度，且該黏著薄膜設於該光學薄膜及該離型層之間，其中該黏著薄膜之第三外緣部分別較該第一外緣部或該第二外緣部內縮，且具有一第一最大內縮距離，其中該第一最大內縮距離與該黏著薄膜之該第一厚度比值係大於0且不超過1.8。
  7. 如申請專利範圍第6項所述之偏光板之製造方法，其中該黏著薄膜之該第三外緣部呈一不規則面、一連續曲面、一圓弧面或一鋸齒面，且該第三外緣部可以包含一曲面區域。
  8. 如申請專利範圍第6項所述之偏光板之製造方法，其中該至少一偏光板更包含：一第二黏著薄膜，具有一第四外緣部及一第二厚度，且該第二黏著薄膜係設於該光學薄膜相對於該第一黏著薄膜之另一側；以及一第二離型層，設置於該第二黏著薄膜相對於該光學薄膜之另一側，且該一第二離型層具有一第五外緣部，且該係對齊該第一外緣部，其中該第二黏著薄膜之第四外緣部分別較該第一外緣部或該第五外緣部內縮，且具有一第二最大內縮距離，其中該第二最大內縮距離與該第二黏著薄膜之該第二厚度比值係大於0且不超過1.8。
  9. 如申請專利範圍第8項所述之偏光板之製造方法，其中該第一厚度與該第二厚度不相等。
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