TW202003224A - 光學積層體、附蓋玻璃之光學積層體及其等之製造方法、以及附蓋玻璃之影像顯示裝置 - Google Patents

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Abstract

本發明係提供一種雖經已切削加工但裂痕經抑制的光學積層體、包含所述光學積層體的附蓋玻璃之光學積層體及其等之製造方法、以及包含該等光學積層體或附蓋玻璃之光學積層體的附蓋玻璃之影像顯示裝置。本發明之光學積層體具有經切削加工之光學薄膜及黏著劑層，且切削端面的正常反射率RR與漫反射率DR之比RR/DR為0.15以上。本發明之附蓋玻璃之光學積層體具有所述光學積層體與蓋玻璃，且該蓋玻璃係透過配置於光學積層體之與黏著劑層相反之側的另一黏著劑層而積層。

Description

光學積層體、附蓋玻璃之光學積層體及其等之製造方法、以及附蓋玻璃之影像顯示裝置
本發明係涉及光學積層體、附蓋玻璃之光學積層體及其等之製造方法、以及包含該等光學積層體或附蓋玻璃之光學積層體的附蓋玻璃之影像顯示裝置。
發明背景 手機、筆記型個人電腦等影像顯示裝置為了實現影像顯示及/或提高該影像顯示性能，係使用各種光學積層體(例如偏光板)。光學積層體在裁切成預定形狀後，有時會供於進行藉由切削裁切面所行之精加工。並且，近年有時會期望將光學積層體加工成矩形以外(異形加工)。所述切削加工中，有時會利用端銑刀進行切削。然而，利用端銑刀進行切削加工後之光學積層體會有產生裂痕之情形。
先行技術文獻 專利文獻 專利文獻1：日本特開2007-187781號公報 專利文獻2：日本特開2018-022140號公報
發明概要 發明欲解決之課題 本發明是為了解決上述以往課題而成者，其主要目的在於提供一種雖經已切削加工但裂痕經抑制的光學積層體、包含所述光學積層體的附蓋玻璃之光學積層體及其等之製造方法、以及包含該等光學積層體或附蓋玻璃之光學積層體的附蓋玻璃之影像顯示裝置。
用以解決課題之方法 本發明之光學積層體具有經切削加工之光學薄膜及黏著劑層，且切削端面的正常反射率RR與漫反射率DR之比RR/DR為0.15以上。 在一實施形態中，上述光學薄膜包含偏光件。 在一實施形態中，上述光學薄膜於上述偏光件之與上述黏著劑層相反之側更具有保護薄膜。 在一實施形態中，上述光學薄膜於上述偏光件與上述黏著劑層之間更具有另一保護薄膜。 在一實施形態中，上述另一保護薄膜兼作相位差層。 根據本發明之另一面向係提供一種附蓋玻璃之光學積層體。該附蓋玻璃之光學積層體具有上述光學積層體與蓋玻璃，且該蓋玻璃係透過配置於該光學積層體之與上述黏著劑層相反之側的另一黏著劑層而積層。 根據本發明之又另一面向，可提供一種附蓋玻璃之影像顯示裝置。該附蓋玻璃之影像顯示裝置具有：顯示單元、上述光學積層體與蓋玻璃，該光學積層體配置於該顯示單元之視辨側，且該蓋玻璃配置於該光學積層體之視辨側。本發明之另一附蓋玻璃之影像顯示裝置具有顯示單元與上述附蓋玻璃之光學積層體，且該附蓋玻璃之光學積層體配置於該顯示單元之視辨側。
發明效果 根據本發明，藉由令經切削加工之光學積層體的切削端面之正常反射率RR與漫反射率DR之比RR/DR在0.15以上，可抑制裂痕(尤其是熱循環試驗後之裂痕)。所述光學積層體可適宜與蓋玻璃積層，而可適宜用於附蓋玻璃之影像顯示裝置。
用以實施發明之形態 以下參照圖式就本發明具體實施形態進行說明，惟本發明不受該等實施形態限定。此外，為了便於觀看而示意顯示圖式，並且圖式中之長度、寬度、厚度等比率、以及角度等與實際有所差異。
A.光學積層體 本發明之光學積層體具有經切削加工之光學薄膜及黏著劑層。圖1係用以說明本發明之一實施形態的光學積層體的概略截面圖。圖式例的光學積層體100具有光學薄膜110及黏著劑層120。在實際應用上，於黏著劑層120之表面係以可剝離之方式暫時黏附有分離件130。本發明之光學積層體可適宜與蓋玻璃積層，而可適宜應用於附蓋玻璃之影像顯示裝置。
光學薄膜可舉可用於需進行切削加工之用途上之任意適當的光學薄膜。光學薄膜可為單層構成之薄膜亦可為積層體。光學薄膜之具體例可舉偏光件、相位差薄膜、偏光板(代表上為偏光件與保護薄膜之積層體)、觸控面板用導電性薄膜、表面處理薄膜、以及將該等因應目的適當積層而成之積層體(例如抗反射用圓偏光板、觸控面板用附導電層之偏光板)。根據本發明之實施形態，尤其在含有像偏光件這般容易收縮之光學薄膜的光學積層體上更可顯著抑制裂痕。
舉例而言在光學薄膜110為偏光板時，該偏光板可僅於偏光件之與黏著劑層120相反之側具有保護薄膜，亦可僅於偏光件與黏著劑層120之間具有保護薄膜，而亦可於兩者皆具有保護薄膜。於設置於與黏著劑層相反之側的保護薄膜亦可視需要施行有硬塗處理、抗反射處理、抗黏著處理、防眩處理等表面處理。在一實施形態中，設置於偏光件與黏著劑層之間的保護薄膜於光學上宜為各向同性。本說明書中「在光學上為各向同性」意指面內相位差Re(550)為0nm~10nm，且厚度方向之相位差Rth(550)為-10nm~+10nm。該保護薄膜在另一實施形態中亦可兼為相位差層。作為相位差層之保護薄膜的構成可因應目的採用任意適當之構成。譬如，保護薄膜可為λ/2板，可為λ/4板，亦可為該等之積層體。λ/2板及λ/4板代表上具有nx＞ny≧nz之折射率特性。λ/2板之面內相位差Re(550)宜為180nm~320nm，λ/4板之面內相位差Re(550)宜為100nm~200nm。又譬如，保護薄膜亦可為negative B plate(nx＞ny＞nz)與positive C plate(nz＞nx＝ny)之積層體。此外，本說明書中「Re(λ)」係於23℃下以波長λnm之光測得之面內相位差。譬如，「Re(550)」係於23℃下以波長550nm之光測得之面內相位差。Re(λ)可於令層(薄膜)之厚度為d(nm)時，藉由式：Re(λ)＝(nx-ny)×d求得。「Rth(λ)」係於23℃下以波長λnm之光測得之厚度方向的相位差。譬如，「Rth(550)」係於23℃下以波長550nm之光測得之厚度方向的相位差。Rth(λ)可於令層(薄膜)厚度為d(nm)時，藉由式：Rth(λ)=(nx-nz)×d求得。「nx」為面內折射率成最大的方向(亦即慢軸方向)之折射率，「ny」為在面內與慢軸正交之方向(亦即快軸方向)之折射率，而「nz」為厚度方向之折射率。
黏著劑層120主要係用於將最終製得之光學積層體貼合至顯示單元。根據本發明之實施形態，即使是在將包含黏著劑層之光學積層體進行切削加工後，仍可抑制裂痕(尤其是熱循環試驗後之裂痕)。黏著劑層120代表上可以丙烯酸系黏著劑(丙烯酸系黏著劑組成物)構成。丙烯酸系黏著劑組成物代表上含有(甲基)丙烯酸系聚合物作為主成分。(甲基)丙烯酸系聚合物可以在黏著劑組成物之固體成分中例如為50重量%以上、較宜為70重量%以上、更宜為90重量%以上之比率含於黏著劑組成物中。(甲基)丙烯酸系聚合物含有(甲基)丙烯酸烷基酯為主成分作為單體單元。此外，(甲基)丙烯酸酯係指丙烯酸酯及/或甲基丙烯酸酯。(甲基)丙烯酸烷基酯的烷基可舉例如具有1個~18個碳原子之直鏈狀或支鏈狀烷基。該烷基的平均碳數宜為3個~9個。構成(甲基)丙烯酸系聚合物之單體除了(甲基)丙烯酸烷基酯之外還可舉含羧基之單體、含羥基之單體、含醯胺基之單體、含芳香環(甲基)丙烯酸酯等。丙烯酸系黏著劑組成物宜含有矽烷耦合劑及/或交聯劑。矽烷耦合劑可舉例如含環氧基之矽烷耦合劑。交聯劑可舉例如異氰酸酯系交聯劑、過氧化物系交聯劑。黏著劑層之厚度可為例如10μm~50μm。黏著劑層或丙烯酸系黏著劑組成物之細項例如已記載於日本特開2016-190996號公報中，而本說明書即援用該公報之記載作為參考。
本發明實施形態中，光學積層體的切削端面的正常反射率RR與漫反射率DR之比RR/DR為0.15以上，宜為0.16以上，且宜為0.22以上，更宜為0.24以上。比RR/DR的上限例如為0.37，且宜為0.30。只要比RR/DR在所述範圍內，即可抑制經切削加工(例如端銑刀加工)之光學積層體上的裂痕(尤其是熱循環試驗後之裂痕)。尤其可抑制在將經切削加工之光學積層體與蓋玻璃積層時之裂痕。
光學積層體的切削端面的正常反射率RR宜為0.30%以上，且宜為0.40%以上，更宜為0.50%以上。正常反射率RR的上限例如為0.75%，宜為0.65%。光學積層體的切削端面的漫反射率DR宜為2.40%~5.00%，且宜為2.50%~3.50%。
正常反射率RR及漫反射率DR例如係依下述方式求得，從所得RR及DR算出比RR/DR。隨機選出經切削加工之光學積層體，再將所選出之光學積層體積層而製作出厚度約15mm之疊層。更詳細而言，光學積層體係從多個不同的工件(有關工件將於後述)中隨機選出。在使所製作出之疊層的測定面平整之狀態下，於與疊層之測定面方向的兩端部距離預定距離之位置(2處)繞上橡皮筋將疊層綑綁。針對綑綁後之疊層的測定面，使用分光測色計(例如Konica Minolta公司製「CM-2600d」)測定SCI(Specular Component Include，包含鏡面正反射光)及SCE(Specular Component Exclude，排除鏡面正反射光)，並由以下式求得正常反射率RR及漫反射率DR。 正常反射率RR＝SCI-SCE 漫反射率DR＝SCE
以下針對RR/DR更詳細說明。圖2係在將RR/DR滿足如上述之範圍的光學積層體積層成預定厚度之狀態下觀察切削端面之透射光的狀態而得之照片，而圖3係在將RR/DR脫離如上述之範圍的光學積層體積層成預定厚度之狀態下觀察切削端面之透射光的狀態而得之照片。比較圖2與圖3即可知，RR/DR滿足如上述之範圍的光學積層體其光的輪廓明確(亦即有光澤)，而另一方面，RR/DR脫離如上述之範圍的光學積層體其光的輪廓不明確(無光澤)。本發明人等針對經切削加工(代表上為端銑刀加工)之光學積層體上的裂痕問題進行了反覆試錯，結果發現在切削端面有光澤的光學積層體的裂痕會受到抑制。尤其發現所述積層體在與蓋玻璃積層時之裂痕會受到抑制。如上所述，本發明係解決光學積層體之切削加工(代表上為端銑刀加工)中所產生之新課題者，藉由使切削端面之光澤(或RR/DR)最佳化而得之效果實乃未預期之優異效果。另外，在圖2及圖3中為了使差異明確化而顯示透射光的狀態，惟反射光之光澤亦對應於此。
以下舉一例說明如圖4所示平面形狀之光學積層體之製造方法中的各步驟。
B.形成工件 圖4係用以說明切削加工的概略立體圖，本圖中顯示了工件1。如圖4所示，係形成疊合有多片光學積層體而成之工件1。光學積層體在形成工件時，代表上係裁切成任意適當之形狀。具體而言，光學積層體可裁切成矩形形狀，亦可裁切成類似矩形形狀之形狀，而亦可裁切成因應目的之適當形狀(例如圓形)。圖式例中，光學積層體係裁切成矩形形狀，而工件1具有彼此相對向的外周面(切削面)1a、1b及與該等正交的外周面(切削面)1c、1d。工件1宜被鉗夾機構(未圖示)從上下鉗著。工件的總厚度宜為8mm~20mm，且宜為9mm~15mm，更宜為約10mm。只要為所述厚度，即可防止鉗夾機構之擠壓或切削加工時之衝撃造成損傷。光學積層體係將工件疊合成所述之總厚度。構成工件之光學積層體的片數例如可為10片~50片。鉗夾機構(例如夾具)可以軟質材料構成亦可以硬質材料構成。以軟質材料構成時，其硬度(JIS A)宜為60°~80°。若硬度過高，則會有鉗夾機構所造成之壓痕殘留的情形。若硬度過低，則會因夾具之變形造成位置偏移，而使其有切削精度不足之情形。
C.切削加工 接著，利用切削機構20切削工件1的外周面。切削係藉由使切削機構之切削刃與工件1之外周面抵接來進行。切削可涵蓋工件之外周面的全周進行，而亦可僅於預定之位置進行。要製作圖4所示的平面形狀之光學積層體時，切削在代表上係涵蓋工件之外周面的全周進行。切削加工代表上如圖5～圖7所示，即所謂端銑刀加工。亦即，使用切削機構(端銑刀)20之側面切削工件1的外周面。切削機構(端銑刀)20代表上可使用直刃端銑刀。
端銑刀20如圖6及圖7所示，具有：旋轉軸21，係沿工件1之積層方向(鉛直方向)延伸；及切削刃22，係構成為以旋轉軸21為中心旋轉的本體之最外徑。切削刃22可如圖6所示構成為沿旋轉軸21扭轉之最外徑(可具有預定之扭轉角)，亦可如圖7所示構成為沿實質上平行於旋轉軸21之方向延伸(扭轉角可為0°)。另外，「0°」意指在實質上為0°，還包含因加工誤差等而有些微角度扭轉時之情形。切削刃具有預定扭轉角時，扭轉角宜為70°以下，且宜為65°以下，更宜為45°以下。切削刃22包含刀鋒22a、前刀面22b與後刀面22c。切削刃22的刃數只要可獲得後述所期望之接觸次數即可適當設定。圖6中的刃數為3片而圖7中的刃數為2片，但刃數可為1片，可為4片，亦可為5片以上。刃數宜為2片。只要為所述構成，即可確保刃之剛性，且可確保容屑槽而可良好排出切屑。
在一實施形態中，切削刃22的HV硬度代表上為1500以上，宜為1700以上，更宜為2000以上。HV硬度的上限可為例如2350。此時，切削刃代表上係以超硬合金構成。超硬合金代表上可燒結金屬碳化物之粉末而得。超硬合金的具體例可舉WC-Co系合金、WC-TiC-Co系合金、WC-TaC-Co系合金、WC-TiC-TaC-Co系合金。此外，HV硬度亦稱維氏硬度，可依循JIS Z 2244測得。
在另一實施形態中，切削刃22的HV硬度代表上為7000以上，宜為8000以上，且宜為9000以上，10000以上更佳。HV硬度的上限可為例如15000。此時，切削刃代表上包含燒結鑽石。更詳細而言，切削刃係於超硬合金所構成之基部上形成有燒結鑽石層。燒結鑽石(PCD：Polycrystalline diamond)係指將鑽石的小粒與金屬及/或陶瓷粉一同在高溫、高壓下燒結而成之多晶鑽石。
切削加工的條件可因應目的適當設定。例如可藉由適當調整端銑刀之進給速度、旋轉數、刃數等來製得具有預定RR/DR的經切削加工之光學積層體。本說明書中，「進給速度」係指切削機構(端銑刀)與工件之相對速度。因此，切削加工時，可僅使端銑刀移動，可僅使工件移動，亦可使端銑刀與工件兩者移動。切削次數可削1次、削2次、削3次或其以上。在一實施形態中，端銑刀20的直徑宜為3mm~20mm。
依上述方式，可製得具有預定RR/DR之經切削加工之光學積層體。另外，經切削加工之光學積層體(實質上為光學薄膜及黏著劑層)在代表上可具有切削痕。
D.附蓋玻璃之光學積層體 本發明實施形態的光學積層體(例如上述A項~C項記載之光學積層體)如上述可適宜與蓋玻璃積層。因此，附蓋玻璃之光學積層體亦包含於本發明之實施形態。圖8係用以說明本發明之一實施形態的附蓋玻璃之光學積層體的概略截面圖。圖式例之附蓋玻璃之光學積層體101具有偏光件110、黏著劑層120與蓋玻璃150，且該蓋玻璃150係透過配置於偏光件110之與黏著劑層120相反之側的另一黏著劑層140而積層。於黏著劑層120之表面係以可剝離之方式暫時黏附有分離件130。亦即附蓋玻璃之光學積層體101具有圖1之光學積層體與蓋玻璃150，且該蓋玻璃150係透過配置於該光學積層體之與黏著劑層120相反之側的另一黏著劑層140而積層。
構成另一黏著劑層140之黏著劑(黏著劑組成物)在-40℃下之儲存彈性模數宜為1.0×108 (Pa)以上。只要採用所述黏著劑層，則藉由與使光學積層體之切削端面的RR/DR最佳化所得效果之加乘效果，而即使是在將蓋玻璃貼合至經切削加工之光學積層體時，仍可抑制裂痕(尤其是熱循環試驗後之裂痕)。所述黏著劑(黏著劑組成物)可舉例如橡膠系黏著劑。橡膠系黏著劑在代表上可含丁二烯聚合物及/或聚異戊二烯聚合物(或其改質物)與光聚合起始劑。橡膠系黏著劑亦可進一步含有聚胺甲酸乙酯丙烯酸酯、聚異戊二烯系丙烯酸酯或其酯化物、萜系加氫樹脂、甲基丙烯酸二環戊烯氧基乙酯、甲基丙烯酸2-羥丁酯等。
蓋玻璃150可採用業界周知之構成，故而省略詳細說明。
附蓋玻璃之光學積層體可透過上述另一黏著劑層140將蓋玻璃貼合至經切削加工之光學積層體(例如上述A項~C項記載之光學積層體)從而製得。
E.附蓋玻璃之影像顯示裝置 本發明之實施形態的光學積層體(例如上述A項~C項記載之光學積層體)如上述可適用於附蓋玻璃之影像顯示裝置。因此，附蓋玻璃之影像顯示裝置亦包含於本發明之實施形態。附蓋玻璃之影像顯示裝置具有顯示單元、本發明之實施形態之光學積層體與蓋玻璃，該光學積層體配置於顯示單元之視辨側，且該蓋玻璃配置於光學積層體之視辨側。
本發明之實施形態的附蓋玻璃之光學積層體(例如上述D項記載之附蓋玻璃之光學積層體)亦可應用於影像顯示裝置而構成附蓋玻璃之影像顯示裝置。此時，附蓋玻璃之影像顯示裝置具有顯示單元與本發明之實施形態之附蓋玻璃之光學積層體，且該附蓋玻璃之光學積層體配置於顯示單元之視辨側。
影像顯示裝置可舉如液晶顯示裝置、有機電致發光(EL)顯示裝置、量子點顯示裝置。 實施例
以下，以實施例來具體說明本發明，惟本發明不受該等實施例限定。實施例之評估項目如下。
(1)RR/DR 從實施例及比較例中所製得之多個不同的工件中隨機選出偏光板，再將所選出之偏光板積層而製作出厚度約15mm之疊層。在使所製作出之疊層的測定面平整之狀態下，於與疊層之測定面方向的兩端部距離10mm之位置(2處)繞上橡皮筋(IGO公司製，#7)而將疊綑綁。針對綑綁後之疊層的測定面，使用分光測色計(Konica Minolta公司製「CM-2600d」)測定SCI及SCE，並由以下式求得正常反射率RR及漫反射率DR。 正常反射率RR＝SCI-SCE 漫反射率DR＝SCE (2)裂痕 於實施例及比較例所製得之偏光板兩側貼合玻璃板，並於-40℃~85℃進行200循環的熱循環(熱衝擊)試驗。針對試驗後之裂痕產生狀況，將偏光濾鏡(Polarizing Filter)配置成與上述偏光板之偏光件的吸收軸呈正交偏光之狀態後，於該狀態下進行透射光檢查，並依以下基準進行評估。 有：可確認到漏光 無：無確認到漏光
>實施例1> 依常規方法，製出從視辨側起依序具有表面保護薄膜(48μm)/硬塗層(5μm)/環烯烴系保護薄膜(47μm)/偏光件(5μm)/環烯烴系保護薄膜(24μm)/黏著劑層(20μm)/分離件之構成的附黏著劑層之偏光板。黏著劑層係依循日本特開2016-190996號公報之[0121]及[0124]而製作。將所製得之附黏著劑層之偏光板沖裁成類似圖4之形狀(概略尺寸為142.0mm×66.8mm且四隅之R為6.25mm)，並疊合多片經沖裁之附黏著劑層之偏光板而製成工件(總厚度約10mm)。將所製得之工件以鉗夾(夾具)夾住，並在此狀態下藉由端銑刀加工來切削周緣部，而製得如圖4所示之經切削加工之附黏著劑層之偏光板。端銑刀的切削刃係使用燒結鑽石之物，HV硬度為10000。又，端銑刀的刃數為2片，且扭轉角為0°。又，端銑刀之進給速度(切削直線部時之進給速度)為1000mm/分鐘，旋轉數為25000rpm，且切削次數為2次(第1次0.1mm，第2次0.2mm，切削餘量0.3mm)。所製得之經切削加工之附黏著劑層之偏光板的RR/DR得0.17。
將上述附黏著劑層之偏光板的表面保護薄膜剝離，並於剝離面形成另一黏著劑層。另一黏著劑層係依循日本特開2016-103030號公報之[0053]而製作。並將經暫時黏附於上述環烯烴系保護薄膜側之黏著劑層上的分離件剝離，然後於以所述方式製得之兩側具有黏著劑層的偏光板之兩側貼合玻璃板後，供於進行上述裂痕評估。將結果列於表1。
>實施例2及比較例1~2> 除了將切削加工的條件變更成表1所示外，依與實施例1相同方式而製得如圖4所示之經切削加工之附黏著劑層之偏光板。所製得之經切削加工之附黏著劑層之偏光板的RR/DR如表1所示。並依與實施例1相同方式進行裂痕之評估。將結果列於表1。
[表1]
Figure 02_image001
產業上之可利用性 本發明之經切削加工之光學積層體適宜在要於影像顯示部積層蓋玻璃時使用，而尤其可適宜用於以個人電腦(PC)及平板電腦終端為代表的矩形影像顯示部、及/或以汽車之儀表面板及智慧型手錶為代表的異形影像顯示部。
1‧‧‧工件 1a、1b、1c、1d‧‧‧外周面(切削面) 20‧‧‧切削機構 21‧‧‧旋轉軸 22‧‧‧旋轉軸 22a‧‧‧刀鋒 22b‧‧‧前刀面 22c‧‧‧後刀面 100‧‧‧光學積層體 101‧‧‧附蓋玻璃之光學積層體 110‧‧‧光學薄膜、偏光件(圖8) 120‧‧‧黏著劑層 130‧‧‧分離件 140‧‧‧另一黏著劑層 150‧‧‧蓋玻璃
圖1係用以說明本發明之一實施形態的光學積層體的概略截面圖。 圖2係在將本發明之一實施形態之光學積層體積層成預定厚度之狀態下觀察切削端面之透射光的狀態而得之照片。 圖3係在將在本發明之實施形態之範圍外的光學積層體積層成預定厚度之狀態下觀察切削端面之透射光的狀態而得之照片。 圖4係顯示本發明經切削加工之光學積層體的形狀之一例的概略俯視圖。 圖5係用以說明本發明光學積層體之切削加工之一例的概略立體圖。 圖6係用以說明本發明光學積層體之製造方法中切削加工所用切削機構之一例的概略立體圖。 圖7中，圖7(a)係用以說明本發明光學積層體之製造方法中切削加工所用切削機構之另一例從軸方向觀看之概略截面圖；圖7(b)係圖7(a)之切削機構的概略立體圖。 圖8係用以說明本發明之一實施形態的附蓋玻璃之光學積層體的概略截面圖。
1‧‧‧工件
1a、1b、1c、1d‧‧‧外周面(切削面)
20‧‧‧切削機構

Claims (8)

  1. 一種光學積層體，具有經切削加工之光學薄膜及黏著劑層，且 切削端面的正常反射率RR與漫反射率DR之比RR/DR為0.15以上。
  2. 如請求項1之光學積層體，其中前述光學薄膜包含偏光件。
  3. 如請求項2之光學積層體，其中前述光學薄膜於前述偏光件之與前述黏著劑層相反之側更具有保護薄膜。
  4. 如請求項2或3之光學積層體，其中前述光學薄膜於前述偏光件與前述黏著劑層之間更具有另一保護薄膜。
  5. 如請求項4之光學積層體，其中前述另一保護薄膜兼作相位差層。
  6. 一種附蓋玻璃之光學積層體，具有如請求項1至5中任一項之光學積層體與蓋玻璃，且該蓋玻璃係透過配置於該光學積層體之與前述黏著劑層相反之側的另一黏著劑層而積層。
  7. 一種附蓋玻璃之影像顯示裝置，具有顯示單元、如請求項1至5中任一項之光學積層體與蓋玻璃，該光學積層體配置於該顯示單元之視辨側，且該蓋玻璃配置於該光學積層體之視辨側。
  8. 一種附蓋玻璃之影像顯示裝置，具有：顯示單元、與配置於該顯示單元之視辨側的如請求項6之附蓋玻璃之光學積層體。
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