JP2022092624A - 光学積層体、カバーガラス付光学積層体、およびこれらの製造方法、ならびにカバーガラス付画像表示装置 - Google Patents

Abstract

【課題】切削加工されているにもかかわらずクラックの抑制された光学積層体、このような光学積層体を含むカバーガラス付光学積層体、およびこれらの製造方法、ならびに、これらの光学積層体またはカバーガラス付光学積層体を含むカバーガラス付画像表示装置を提供すること。
【解決手段】本発明の光学積層体は、切削加工された光学フィルムおよび粘着剤層を有し、切削端面における正反射率ＲＲと拡散反射率ＤＲとの比ＲＲ／ＤＲが０．１５以上である。本発明のカバーガラス付光学積層体は、このような光学積層体と、光学積層体の粘着剤層と反対側に配置された別の粘着剤層を介して積層されたカバーガラスと、を有する。
【選択図】図５

Description

本発明は、光学積層体、カバーガラス付光学積層体、およびこれらの製造方法、ならびに、これらの光学積層体またはカバーガラス付光学積層体を含むカバーガラス付画像表示装置に関する。

携帯電話、ノート型パーソナルコンピューター等の画像表示装置には、画像表示を実現し、および／または当該画像表示の性能を高めるために、種々の光学積層体（例えば、偏光板）が使用されている。光学積層体は、所定形状に切断された後、切断面を切削による仕上げ加工に供する場合がある。さらに、近年、光学積層体を矩形以外に加工（異形加工）することが望まれる場合がある。このような切削加工においては、エンドミルによる切削が行われる場合がある。しかし、エンドミルにより切削加工された光学積層体は、クラックが発生する場合がある。

特開２００７－１８７７８１号公報 特開２０１８－０２２１４０号公報

本発明は上記従来の課題を解決するためになされたものであり、その主たる目的は、切削加工されているにもかかわらずクラックの抑制された光学積層体、このような光学積層体を含むカバーガラス付光学積層体、およびこれらの製造方法、ならびに、これらの光学積層体またはカバーガラス付光学積層体を含むカバーガラス付画像表示装置を提供することにある。

本発明の光学積層体は、切削加工された光学フィルムおよび粘着剤層を有し、切削端面における正反射率ＲＲと拡散反射率ＤＲとの比ＲＲ／ＤＲが０．１５以上である。
１つの実施形態においては、上記光学フィルムは偏光子を含む。
１つの実施形態においては、上記光学フィルムは、上記偏光子の上記粘着剤層と反対側に保護フィルムをさらに有する。
１つの実施形態においては、上記光学フィルムは、上記偏光子と上記粘着剤層との間に別の保護フィルムをさらに有する。
１つの実施形態においては、上記別の保護フィルムは位相差層を兼ねる。
本発明の別の局面によれば、カバーガラス付光学積層体が提供される。このカバーガラス付光学積層体は、上記の光学積層体と、該光学積層体の上記粘着剤層と反対側に配置された別の粘着剤層を介して積層されたカバーガラスと、を有する。
本発明のさらに別の局面によれば、カバーガラス付画像表示装置が提供される。このカバーガラス付画像表示装置は、表示セルと、該表示セルの視認側に配置された上記の光学積層体と、該光学積層体の視認側に配置されたカバーガラスと、を有する。本発明の別のカバーガラス付画像表示装置は、表示セルと、該表示セルの視認側に配置された上記のカバーガラス付光学積層体と、を有する。

本発明によれば、切削加工された光学積層体において切削端面の正反射率ＲＲと拡散反射率ＤＲとの比ＲＲ／ＤＲを０．１５以上とすることにより、クラック（特に、ヒートサイクル試験後のクラック）を抑制することができる。このような光学積層体は、カバーガラスと好適に積層され得、カバーガラス付画像表示装置に好適に適用され得る。

本発明の１つの実施形態による光学積層体を説明する概略断面図である。 本発明の１つの実施形態による光学積層体を所定厚みに積層した状態で切削端面の透過光の状態を観察した写真である。 本発明の実施形態の範囲外である光学積層体を所定厚みに積層した状態で切削端面の透過光の状態を観察した写真である。 本発明の切削加工された光学積層体の形状の一例を示す概略平面図である。 本発明の光学積層体の切削加工の一例を説明するための概略斜視図である。 本発明の光学積層体の製造方法における切削加工に用いられる切削手段の一例を説明するための概略斜視図である。 図７（ａ）は、本発明の光学積層体の製造方法における切削加工に用いられる切削手段の別の例を説明するための軸方向から見た概略断面図であり；図７（ｂ）は、図７（ａ）の切削手段の概略斜視図である。 本発明の１つの実施形態によるカバーガラス付光学積層体を説明する概略断面図である。

以下、図面を参照して本発明の具体的な実施形態について説明するが、本発明はこれらの実施形態には限定されない。なお、見やすくするために図面は模式的に表されており、さらに、図面における長さ、幅、厚み等の比率、ならびに角度等は、実際とは異なっている。

Ａ．光学積層体
本発明の光学積層体は、切削加工された光学フィルムおよび粘着剤層を有する。図１は、本発明の１つの実施形態による光学積層体を説明する概略断面図である。図示例の光学積層体１００は、光学フィルム１１０および粘着剤層１２０を有する。実用的には、粘着剤層１２０の表面にはセパレーター１３０が剥離可能に仮着されている。本発明の光学積層体は、カバーガラスと好適に積層され得、カバーガラス付画像表示装置に好適に適用され得る。

光学フィルムとしては、切削加工が必要とされる用途に用いられ得る任意の適切な光学フィルムが挙げられる。光学フィルムは、単一層で構成されるフィルムであってもよく、積層体であってもよい。光学フィルムの具体例としては、偏光子、位相差フィルム、偏光板（代表的には、偏光子と保護フィルムとの積層体）、タッチパネル用導電性フィルム、表面処理フィルム、ならびに、これらを目的に応じて適切に積層した積層体（例えば、反射防止用円偏光板、タッチパネル用導電層付偏光板）が挙げられる。本発明の実施形態によれば、特に、偏光子のような収縮しやすい光学フィルムを含む光学積層体においてクラックを顕著に抑制することができる。

例えば光学フィルム１１０が偏光板である場合、当該偏光板は偏光子の粘着剤層１２０の反対側のみに保護フィルムを有していてもよく、偏光子と粘着剤層１２０との間のみに保護フィルムを有していてもよく、両方に保護フィルムを有していてもよい。粘着剤層の反対側に設けられる保護フィルムには、必要に応じて、ハードコート処理、反射防止処理、スティッキング防止処理、アンチグレア処理等の表面処理が施されていてもよい。偏光子と粘着剤層との間に設けられる保護フィルムは、１つの実施形態においては、光学的に等方性であることが好ましい。本明細書において「光学的に等方性である」とは、面内位相差Ｒｅ（５５０）が０ｎｍ～１０ｎｍであり、厚み方向の位相差Ｒｔｈ（５５０）が－１０ｎｍ～＋１０ｎｍであることをいう。当該保護フィルムは、別の実施形態においては、位相差層を兼ねてもよい。位相差層としての保護フィルムの構成は、目的に応じて任意の適切な構成が採用され得る。例えば、保護フィルムは、λ／２板であってもよく、λ／４板であってもよく、これらの積層体であってもよい。λ／２板およびλ／４板は、代表的にはｎｘ＞ｎｙ≧ｎｚの屈折率特性を有する。λ／２板は、面内位相差Ｒｅ（５５０）が好ましくは１８０ｎｍ～３２０ｎｍであり、λ／４板は、面内位相差Ｒｅ（５５０）が好ましくは１００ｎｍ～２００ｎｍである。また例えば、保護フィルムは、ネガティブＢプレート（ｎｘ＞ｎｙ＞ｎｚ）とポジティブＣプレート（ｎｚ＞ｎｘ＝ｎｙ）との積層体であってもよい。なお、本明細書において「Ｒｅ（λ）」は、２３℃における波長λｎｍの光で測定した面内位相差である。例えば、「Ｒｅ（５５０）」は、２３℃における波長５５０ｎｍの光で測定した面内位相差である。Ｒｅ（λ）は、層（フィルム）の厚みをｄ（ｎｍ）としたとき、式：Ｒｅ（λ）＝（ｎｘ－ｎｙ）×ｄによって求められる。「Ｒｔｈ（λ）」は、２３℃における波長λｎｍの光で測定した厚み方向の位相差である。例えば、「Ｒｔｈ（５５０）」は、２３℃における波長５５０ｎｍの光で測定した厚み方向の位相差である。Ｒｔｈ（λ）は、層（フィルム）の厚みをｄ（ｎｍ）としたとき、式：Ｒｔｈ（λ）＝（ｎｘ－ｎｚ）×ｄによって求められる。「ｎｘ」は面内の屈折率が最大になる方向（すなわち、遅相軸方向）の屈折率であり、「ｎｙ」は面内で遅相軸と直交する方向（すなわち、進相軸方向）の屈折率であり、「ｎｚ」は厚み方向の屈折率である。

粘着剤層１２０は、主として、最終的に得られる光学積層体を表示セルに貼り合わせるために用いられる。本発明の実施形態によれば、粘着剤層を含む光学積層体を切削加工した場合であっても、クラック（特に、ヒートサイクル試験後のクラック）を抑制することができる。粘着剤層１２０は、代表的にはアクリル系粘着剤（アクリル系粘着剤組成物）で構成され得る。アクリル系粘着剤組成物は、代表的には、（メタ）アクリル系ポリマーを主成分として含む。（メタ）アクリル系ポリマーは、粘着剤組成物の固形分中、例えば５０重量％以上、好ましくは７０重量％以上、より好ましくは９０重量％以上の割合で粘着剤組成物に含有され得る。（メタ）アクリル系ポリマーは、モノマー単位としてアルキル（メタ）アクリレートを主成分として含有する。なお、（メタ）アクリレートはアクリレートおよび／またはメタクリレートをいう。アルキル（メタ）アクリレートのアルキル基としては、例えば、１個～１８個の炭素原子を有する直鎖状または分岐鎖状のアルキル基が挙げられる。当該アルキル基の平均炭素数は、好ましくは３個～９個である。（メタ）アクリル系ポリマーを構成するモノマーとしては、アルキル（メタ）アクリレート以外に、カルボキシル基含有モノマー、ヒドロキシル基含有モノマー、アミド基含有モノマー、芳香環含有（メタ）アクリレート等が挙げられる。アクリル系粘着剤組成物は、好ましくは、シランカップリング剤および／または架橋剤を含有し得る。シランカップリング剤としては、例えばエポキシ基含有シランカップリング剤が挙げられる。架橋剤としては、例えば、イソシアネート系架橋剤、過酸化物系架橋剤が挙げられる。粘着剤層の厚みは、例えば１０μｍ～５０μｍであり得る。粘着剤層またはアクリル系粘着剤組成物の詳細は、例えば特開２０１６－１９０９９６号公報に記載されており、当該公報の記載は本明細書に参考として援用される。

本発明の実施形態においては、光学積層体の切削端面における正反射率ＲＲと拡散反射率ＤＲとの比ＲＲ／ＤＲは０．１５以上であり、好ましくは０．１６以上であり、より好ましくは０．２２以上であり、さらに好ましくは０．２４以上である。比ＲＲ／ＤＲの上限は、例えば０．３７であり、好ましくは０．３０である。比ＲＲ／ＤＲがこのような範囲であれば、切削加工（例えば、エンドミル加工）された光学積層体におけるクラック（特に、ヒートサイクル試験後のクラック）を抑制することができる。特に、切削加工された光学積層体をカバーガラスと積層した場合のクラックを抑制することができる。

光学積層体の切削端面における正反射率ＲＲは、好ましくは０．３０％以上であり、より好ましくは０．４０％以上であり、さらに好ましくは０．５０％以上である。正反射率ＲＲの上限は、例えば０．７５％であり、好ましくは０．６５％である。光学積層体の切削端面における拡散反射率ＤＲは、好ましくは２．４０％～５．００％であり、より好ましくは２．５０％～３．５０％である。

正反射率ＲＲおよび拡散反射率ＤＲは例えば下記のようにして求められ、得られたＲＲおよびＤＲから比ＲＲ／ＤＲが算出される。切削加工された光学積層体をランダムに選び出し、選出した光学積層体を積層して厚み約１５ｍｍの束を作製する。より詳細には、光学積層体は、異なる複数のワーク（ワークについては後述）からランダムに選出される。作製した束の測定面を面一とした状態で、束の測定面方向の両端部から所定の距離の位置（２か所）に輪ゴムを巻いて束を拘束する。拘束した束の測定面について、分光測色計（例えば、コニカミノルタ社製「ＣＭ－２６００ｄ」）を用いてＳＣＩ（Ｓｐｅｃｕｌａｒ Ｃｏｍｐｏｎｅｎｔ Ｉｎｃｌｕｄｅ）およびＳＣＥ（Ｓｐｅｃｕｌａｒ Ｃｏｍｐｏｎｅｎｔ Ｅｘｃｌｕｄｅ）を測定し、以下の式から正反射率ＲＲおよび拡散反射率ＤＲを求める。
正反射率ＲＲ＝ＳＣＩ－ＳＣＥ
拡散反射率ＤＲ＝ＳＣＥ

以下、ＲＲ／ＤＲについてより詳細に説明する。図２は、ＲＲ／ＤＲが上記のような範囲を満たす光学積層体を所定厚みに積層した状態で切削端面の透過光の状態を観察した写真であり、図３は、ＲＲ／ＤＲが上記のような範囲から外れる光学積層体を所定厚みに積層した状態で切削端面の透過光の状態を観察した写真である。図２と図３とを比較すると明らかなように、ＲＲ／ＤＲが上記のような範囲を満たす光学積層体は光の輪郭が明確であり（いわゆるテカリがあり）、一方、ＲＲ／ＤＲが上記のような範囲を外れる光学積層体は光の輪郭が不明確である（テカリがない）。本発明者らは、切削加工（代表的には、エンドミル加工）された光学積層体におけるクラックの問題について試行錯誤を繰り返した結果、切削端面にテカリがある光学積層体においてクラックが抑制されることを発見した。特に、このような積層体は、カバーガラスと積層した場合のクラックが抑制されることを発見した。このように、本発明は光学積層体の切削加工（代表的には、エンドミル加工）において新たに生じた課題を解決するものであり、切削端面のテカリ（またはＲＲ／ＤＲ）を最適化することによる効果は予期せぬ優れた効果である。なお、図２および図３においては差異を明確化するために透過光の状態を示しているが、反射光のテカリもこれに対応する。

以下、一例として図４に示すような平面形状の光学積層体の製造方法における各工程を説明する。

Ｂ．ワークの形成
図４は、切削加工を説明するための概略斜視図であり、本図にワーク１が示されている。図４に示すように、光学積層体を複数枚重ねたワーク１が形成される。光学積層体は、ワーク形成に際し、代表的には任意の適切な形状に切断されている。具体的には、光学積層体は矩形形状に切断されていてもよく、矩形形状に類似する形状に切断されていてもよく、目的に応じた適切な形状（例えば、円形）に切断されていてもよい。図示例では、光学積層体は矩形形状に切断されており、ワーク１は、互いに対向する外周面（切削面）１ａ、１ｂおよびそれらと直交する外周面（切削面）１ｃ、１ｄを有している。ワーク１は、好ましくは、クランプ手段（図示せず）により上下からクランプされている。ワークの総厚みは、好ましくは８ｍｍ～２０ｍｍであり、より好ましくは９ｍｍ～１５ｍｍであり、さらに好ましくは約１０ｍｍである。このような厚みであれば、クランプ手段による押圧または切削加工時の衝撃による損傷を防止し得る。光学積層体は、ワークがこのような総厚みとなるように重ねられる。ワークを構成する光学積層体の枚数は、例えば１０枚～５０枚であり得る。クランプ手段（例えば、治具）は、軟質材料で構成されてもよく硬質材料で構成されてもよい。軟質材料で構成される場合、その硬度（ＪＩＳ Ａ）は、好ましくは６０°～８０°である。硬度が高すぎると、クランプ手段による押し跡が残る場合がある。硬度が低すぎると、治具の変形により位置ずれが生じ、切削精度が不十分となる場合がある。

Ｃ．切削加工
次に、ワーク１の外周面を、切削手段２０により切削する。切削は、切削手段の切削刃をワーク１の外周面に当接させることにより行われる。切削は、ワークの外周面の全周にわたって行ってもよく、所定の位置のみに行ってもよい。図４に示すような平面形状の光学積層体を作製する場合、切削は、代表的にはワークの外周面の全周にわたって行われる。切削加工は、代表的には図５～図７に示すように、いわゆるエンドミル加工である。すなわち、切削手段（エンドミル）２０の側面を用いて、ワーク１の外周面を切削する。切削手段（エンドミル）２０としては、代表的にはストレートエンドミルが用いられ得る。

エンドミル２０は、図６および図７に示すように、ワーク１の積層方向（鉛直方向）に延びる回転軸２１と、回転軸２１を中心として回転する本体の最外径として構成される切削刃２２と、を有する。切削刃２２は、図６に示すように回転軸２１に沿ってねじれた最外径として構成されてもよく（所定のねじれ角を有していてもよく）、図７に示すように回転軸２１に実質的に平行な方向に延びるよう構成されていてもよい（ねじれ角が０°であってもよい）。なお、「０°」は実質的に０°であるという意味であり、加工誤差等によりわずかな角度ねじれている場合も包含する。切削刃が所定のねじれ角を有する場合、ねじれ角は好ましくは７０°以下であり、より好ましくは６５°以下であり、さらに好ましくは４５°以下である。切削刃２２は、刃先２２ａと、すくい面２２ｂと、逃がし面２２ｃと、を含む。切削刃２２の刃数は、後述の所望の接触回数が得られる限りにおいて適切に設定され得る。図６における刃数は３枚であり図７における刃数は２枚であるが、刃数は１枚であってもよく、４枚であってもよく、５枚以上であってもよい。好ましくは、刃数は２枚である。このような構成であれば、刃の剛性が確保され、かつ、ポケットが確保されて削りカスを良好に排出することができる。

１つの実施形態においては、切削刃２２のＨＶ硬度は、代表的には１５００以上であり、好ましくは１７００以上であり、より好ましくは２０００以上である。ＨＶ硬度の上限は、例えば２３５０であり得る。この場合、切削刃は、代表的には超硬合金で構成される。超硬合金は、代表的には、金属炭化物の粉末を焼結して得られる。超硬合金の具体例としては、ＷＣ－Ｃｏ系合金、ＷＣ－ＴｉＣ－Ｃｏ系合金、ＷＣ－ＴａＣ－Ｃｏ系合金、ＷＣ－ＴｉＣ－ＴａＣ－Ｃｏ系合金が挙げられる。なお、ＨＶ硬度はビッカーズ硬さとも称され、ＪＩＳ Ｚ ２２４４に準じて測定され得る。

別の実施形態においては、切削刃２２のＨＶ硬度は、代表的には７０００以上であり、好ましくは８０００以上であり、より好ましくは９０００以上であり、さらに好ましくは１００００以上である。ＨＶ硬度の上限は、例えば１５０００であり得る。この場合、切削刃は、代表的には焼結ダイヤモンドを含む。より詳細には、切削刃は、超硬合金で構成された基部に焼結ダイヤモンド層が形成されている。焼結ダイヤモンド（ＰＣＤ：Ｐｏｌｙｃｒｙｓｔａｌｌｉｎｅ ｄｉａｍｏｎｄ）は、ダイヤモンドの小さな粒を金属および／またはセラミックスの粉と一緒に高温・高圧で焼き固めた多結晶ダイヤモンドをいう。

切削加工の条件は、目的に応じて適切に設定され得る。例えば、エンドミルの送り速度、回転数、刃数等を適切に調整することにより、所定のＲＲ／ＤＲを有する切削加工された光学積層体が得られ得る。本明細書において「送り速度」は、切削手段（エンドミル）とワークとの相対速度を意味する。したがって、切削加工においては、エンドミルのみを移動させてもよく、ワークのみを移動させてもよく、エンドミルおよびワークの両方を移動させてもよい。切削回数は、１回削り、２回削り、３回削りまたはそれ以上であり得る。１つの実施形態においては、エンドミル２０の直径は、好ましくは３ｍｍ～２０ｍｍである。

以上のようにして、所定のＲＲ／ＤＲを有する切削加工された光学積層体が得られ得る。なお、切削加工された光学積層体（実質的には、光学フィルムおよび粘着剤層）は、代表的には、切削痕を有し得る。

Ｄ．カバーガラス付光学積層体
本発明の実施形態による光学積層体（例えば、上記Ａ項～Ｃ項に記載の光学積層体）は、上記のとおり、カバーガラスと好適に積層され得る。したがって、カバーガラス付光学積層体もまた、本発明の実施形態に包含される。図８は、本発明の１つの実施形態によるカバーガラス付光学積層体を説明する概略断面図である。図示例のカバーガラス付光学積層体１０１は、偏光子１１０と、粘着剤層１２０と、偏光子１１０の粘着剤層１２０と反対側に配置された別の粘着剤層１４０を介して積層されたカバーガラス１５０と、を有する。粘着剤層１２０の表面にはセパレーター１３０が剥離可能に仮着されている。すなわち、カバーガラス付光学積層体１０１は、図１の光学積層体と、当該光学積層体の粘着剤層１２０と反対側に配置された別の粘着剤層１４０を介して積層されたカバーガラス１５０と、を有する。

別の粘着剤層１４０を構成する粘着剤（粘着剤組成物）は、－４０℃における貯蔵弾性率が好ましくは１．０×１０^８（Ｐａ）以上である。このような粘着剤層を採用すれば、光学積層体の切削端面のＲＲ／ＤＲの最適化による効果との相乗的な効果により、切削加工された光学積層体にカバーガラスを貼り合わせた場合であっても、クラック（特に、ヒートサイクル試験後のクラック）を抑制することができる。このような粘着剤（粘着剤組成物）としては、例えば、ゴム系粘着剤が挙げられる。ゴム系粘着剤は、代表的には、ブタジエン重合体および／またはポリイソプレン重合体（またはその変性物）と光重合開始剤とを含み得る。ゴム系粘着剤は、ポリウレタンアクリレート、ポリイソプレン系アクリレートまたはそのエステル化物、テルペン系水素添加樹脂、ジシクロペンテニルオキシエチルメタクリレート、２－ヒドロキシブチルメタクリレート等をさらに含んでいてもよい。

カバーガラス１５０については業界で周知の構成が採用され得るので、詳細な説明は省略する。

カバーガラス付光学積層体は、切削加工された光学積層体（例えば、上記Ａ項～Ｃ項に記載の光学積層体）に、上記別の粘着剤層１４０を介してカバーガラスを貼り合わせることにより得られ得る。

Ｅ．カバーガラス付画像表示装置
本発明の実施形態による光学積層体（例えば、上記Ａ項～Ｃ項に記載の光学積層体）は、上記のとおり、カバーガラス付画像表示装置に好適に適用され得る。したがって、カバーガラス付画像表示装置もまた、本発明の実施形態に包含される。カバーガラス付画像表示装置は、表示セルと、表示セルの視認側に配置された本発明の実施形態による光学積層体と、光学積層体の視認側に配置されたカバーガラスと、を有する。

本発明の実施形態によるカバーガラス付光学積層体（例えば、上記Ｄ項に記載のカバーガラス付光学積層体）もまた、画像表示装置に適用されてカバーガラス付画像表示装置を構成し得る。この場合、カバーガラス付画像表示装置は、表示セルと、表示セルの視認側に配置された本発明の実施形態によるカバーガラス付光学積層体と、を有する。

画像表示装置としては、例えば、液晶表示装置、有機エレクトロルミネセンス（ＥＬ）表示装置、量子ドット表示装置が挙げられる。

以下、実施例により本発明を具体的に説明するが、本発明はこれらの実施例には限定されない。実施例における評価項目は以下のとおりである。

（１）ＲＲ／ＤＲ
実施例および比較例で得られた異なる複数のワークから偏光板をランダムに選び出し、選出した偏光板を積層して厚み約１５ｍｍの束を作製した。作製した束の測定面を面一とした状態で、束の測定面方向の両端部から１０ｍｍの位置（２か所）に輪ゴム（アイ・ジー・オー社製、＃７）を巻いて束を拘束した。拘束した束の測定面について、分光測色計（コニカミノルタ社製「ＣＭ－２６００ｄ」）を用いてＳＣＩおよびＳＣＥを測定し、以下の式から正反射率ＲＲおよび拡散反射率ＤＲを求めた。
正反射率ＲＲ＝ＳＣＩ－ＳＣＥ
拡散反射率ＤＲ＝ＳＣＥ
（２）クラック
実施例および比較例で得られた偏光板の両側にガラス板を貼り合わせ、－４０℃～８５℃で２００サイクルのヒートサイクル（ヒートショック）試験を行った。試験後のクラックの発生状況について、偏光フィルターを上記偏光板の偏光子の吸収軸とクロスニコルになるように配置した状態で透過光検査を行い、以下の基準で評価した。
あり：光漏れを視認できる
なし：光漏れを視認できない

＜実施例１＞
常法により、視認側から順に表面保護フィルム（４８μｍ）／ハードコート層（５μｍ）／シクロオレフィン系保護フィルム（４７μｍ）／偏光子（５μｍ）／シクロオレフィン系保護フィルム（２４μｍ）／粘着剤層（２０μｍ）／セパレーターの構成を有する粘着剤層付偏光板を作製した。粘着剤層は、特開２０１６－１９０９９６号公報の［０１２１］および［０１２４］に準じて作製した。得られた粘着剤層付偏光板を図４に類似した形状（概略サイズ１４２．０ｍｍ×６６．８ｍｍで四隅のＲ６．２５ｍｍ）に打ち抜き、打ち抜いた粘着剤層付偏光板を複数枚重ねてワーク（総厚み約１０ｍｍ）とした。得られたワークをクランプ（治具）で挟んだ状態で、エンドミル加工により周縁部を切削し、図４に示すような切削加工された粘着剤層付偏光板を得た。エンドミルの切削刃は焼結ダイヤモンドを用いたものであり、ＨＶ硬度は１００００であった。また、エンドミルの刃数は２枚、ねじれ角は０°であった。また、エンドミルの送り速度（直線部を切削する際の送り速度）は１０００ｍｍ／分であり、回転数は２５０００ｒｐｍであり、切削回数は２回（１回目０．１ｍｍ、２回目０．２ｍｍの切削しろ０．３ｍｍ）であった。得られた切削加工された粘着剤層付偏光板のＲＲ／ＤＲは０．１７であった。

上記の粘着剤層付偏光板の表面保護フィルムを剥離し、剥離面に別の粘着剤層を形成した。別の粘着剤層は、特開２０１６－１０３０３０号公報の［００５３］に準じて作製した。さらに、上記シクロオレフィン系保護フィルム側の粘着剤層に仮着されていたセパレーターを剥離し、このようにして得られた両側に粘着剤層を有する偏光板の両側にガラス板を貼り合わせ、上記のクラックの評価に供した。結果を表１に示す。

＜実施例２および比較例１～２＞
切削加工の条件を表１に示すように変更したこと以外は実施例１と同様にして、図４に示すような切削加工された粘着剤層付偏光板を得た。得られた切削加工された粘着剤層付偏光板のＲＲ／ＤＲは表１に示すとおりであった。さらに、実施例１と同様にしてクラックの評価を行った。結果を表１に示す。

本発明の切削加工された光学積層体は、画像表示部にカバーガラスを積層する場合に好適に用いられ、特に、パーソナルコンピューター（ＰＣ）やタブレット端末に代表される矩形の画像表示部、および／または、自動車のインストゥルメントパネルやスマートウォッチに代表される異形の画像表示部に好適に用いられ得る。

１ ワーク
２０ 切削手段
１００ 光学積層体
１０１ カバーガラス付光学積層体
１１０ 光学フィルム
１２０ 粘着剤層
１４０ 別の粘着剤層
１５０ カバーガラス

Claims (10)

1. ねじれ角が０°であるエンドミルにより切削加工された光学フィルムおよび粘着剤層を有し、
   切削端面における正反射率ＲＲと拡散反射率ＤＲとの比ＲＲ／ＤＲが０．１５以上である、光学積層体。
2. 切削加工された光学フィルムおよび粘着剤層を有し、
   切削端面は、前記光学フィルムの厚み方向と直交する方向に沿って延びる切削痕を有し、
   切削端面における正反射率ＲＲと拡散反射率ＤＲとの比ＲＲ／ＤＲが０．１５以上である、光学積層体。
3. 前記光学フィルムが偏光子を含む、請求項１または２に記載の光学積層体。
4. 前記光学フィルムが、前記偏光子の前記粘着剤層と反対側に保護フィルムをさらに有する、請求項３に記載の光学積層体。
5. 前記光学フィルムが、前記偏光子と前記粘着剤層との間に別の保護フィルムをさらに有する、請求項３または４に記載の光学積層体。
6. 前記別の保護フィルムが位相差層を兼ねる、請求項５に記載の光学積層体。
7. 矩形以外の異形状を有する、請求項１から６のいずれかに記載の光学積層体。
8. 請求項１から７のいずれかに記載の光学積層体と、該光学積層体の前記粘着剤層と反対側に配置された別の粘着剤層を介して積層されたカバーガラスと、を有する、カバーガラス付光学積層体。
9. 表示セルと、該表示セルの視認側に配置された請求項１から７のいずれかに記載の光学積層体と、該光学積層体の視認側に配置されたカバーガラスと、を有する、カバーガラス付画像表示装置。
10. 表示セルと、該表示セルの視認側に配置された請求項８に記載のカバーガラス付光学積層体と、を有する、カバーガラス付画像表示装置。

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