KR20210005860A - 광학 적층체, 커버 유리 부착 광학 적층체, 및 이들의 제조 방법, 및 커버 유리 부착 화상 표시 장치 - Google Patents

광학 적층체, 커버 유리 부착 광학 적층체, 및 이들의 제조 방법, 및 커버 유리 부착 화상 표시 장치 Download PDF

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유타 타카세
아키노리 이자키
요시츠구 키타무라
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닛토덴코 가부시키가이샤
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Abstract

절삭 가공되어 있음에도 불구하고 크랙이 억제된 광학 적층체, 이와 같은 광학 적층체를 포함하는 커버 유리 부착 광학 적층체, 및 이들의 제조 방법, 및 이들 광학 적층체 또는 커버 유리 부착 광학 적층체를 포함하는 커버 유리 부착 화상 표시 장치를 제공하는 것이다. 본 발명의 광학 적층체는 절삭 가공된 광학 필름 및 점착제층을 포함하고, 절삭 단면에서의 정반사율(RR)과 확산 반사율(DR)과의 비 RR/DR이 0.15 이상이다. 본 발명의 커버 유리 부착 광학 적층체는 이와 같은 광학 적층체와, 광학 적층체의 점착제층과 반대 측에 배치된 다른 점착제층을 개재하여 적층된 커버 유리를 포함한다.

Description

광학 적층체, 커버 유리 부착 광학 적층체, 및 이들의 제조 방법, 및 커버 유리 부착 화상 표시 장치
본 발명은 광학 적층체, 커버 유리 부착 광학 적층체 및 이들의 제조 방법, 및 이들 광학 적층체 또는 커버 유리 부착 광학 적층체를 포함하는 커버 유리 부착 화상 표시 장치에 관한 것이다.
휴대 전화, 노트북형 퍼스널 컴퓨터 등의 화상 표시 장치에는 화상 표시를 실현하고/하거나, 당해 화상 표시의 성능을 높이기 위하여, 다양한 광학 적층체(예컨대, 편광판)가 사용되고 있다. 광학 적층체는, 소정 형상으로 절단된 후, 절단면을 절삭에 의한 마무리 가공에 제공하는 경우가 있다. 또한, 근래 광학 적층체를 직사각형 이외로 가공(이형(異形) 가공)하는 것이 요망되는 경우가 있다. 이와 같은 절삭 가공에서는, 엔드 밀에 의한 절삭이 행하여지는 경우가 있다. 그러나 엔드 밀에 의해 절삭 가공된 광학 적층체는 크랙이 발생하는 경우가 있다.
 특허문헌 1: 일본 특허공개공보 2007-187781호  특허문헌 2: 일본 특허공개공보 2018-022140호
본 발명은 상기 종래의 과제를 해결하기 위하여 이루어진 것이며, 그의 주된 목적은, 절삭 가공되어 있음에도 불구하고 크랙이 억제된 광학 적층체, 이와 같은 광학 적층체를 포함하는 커버 유리 부착 광학 적층체 및 이들의 제조 방법, 및 이들 광학 적층체 또는 커버 유리 부착 광학 적층체를 포함하는 커버 유리 부착 화상 표시 장치를 제공하는 것에 있다.
본 발명의 광학 적층체는 절삭 가공된 광학 필름 및 점착제층을 포함하고, 절삭 단면에서의 정반사율(RR)과 확산 반사율(DR)과의 비 RR/DR이 0.15 이상이다.
 하나의 실시형태에서는, 상기 광학 필름은 편광자를 포함한다.
 하나의 실시형태에서는, 상기 광학 필름은, 상기 편광자의 상기 점착제층과 반대 측에 보호 필름을 더 포함한다.
 하나의 실시형태에서는, 상기 광학 필름은, 상기 편광자와 상기 점착제층과의 사이에 다른 보호 필름을 더 포함한다.
 하나의 실시형태에서는, 상기 다른 보호 필름은 위상차층을 겸한다.
 본 발명의 다른 측면에 따르면, 커버 유리 부착 광학 적층체가 제공된다. 이 커버 유리 부착 광학 적층체는 상기의 광학 적층체와, 해당 광학 적층체의 상기 점착제층과 반대 측에 배치된 다른 점착제층을 개재하여 적층된 커버 유리를 포함한다.
 본 발명의 또 다른 측면에 따르면, 커버 유리 부착 화상 표시 장치가 제공된다. 이 커버 유리 부착 화상 표시 장치는 표시 셀과 해당 표시 셀의 시인 측에 배치된 상기 광학 적층체와, 해당 광학 적층체의 시인 측에 배치된 커버 유리를 포함한다. 본 발명의 다른 커버 유리 부착 화상 표시 장치는 표시 셀과 해당 표시 셀의 시인 측에 배치된 상기 커버 유리 부착 광학 적층체를 포함한다.
본 발명에 따르면, 절삭 가공된 광학 적층체에서 절삭 단면의 정반사율(RR)과 확산 반사율(DR)과의 비 RR/DR을 0.15 이상으로 하는 것에 의해, 크랙(특히, 히트 사이클 시험 후의 크랙)을 억제할 수 있다. 이와 같은 광학 적층체는 커버 유리와 바람직하게 적층될 수 있고, 커버 유리 부착 화상 표시 장치에 바람직하게 적용될 수 있다.
도 1은 본 발명의 하나의 실시형태에 따른 광학 적층체를 설명하는 개략 단면도이다.
도 2는 본 발명의 하나의 실시형태에 따른 광학 적층체를 소정 두께로 적층한 상태에서 절삭 단면의 투과광의 상태를 관찰한 사진이다.
도 3은 본 발명의 실시형태의 범위 밖인 광학 적층체를 소정 두께로 적층한 상태에서 절삭 단면의 투과광의 상태를 관찰한 사진이다.
도 4는 본 발명의 절삭 가공된 광학 적층체의 형상의 일례를 나타내는 개략 평면도이다.
도 5는 본 발명의 광학 적층체의 절삭 가공의 일례를 설명하기 위한 개략 사시도이다.
도 6은 본 발명의 광학 적층체의 제조 방법에서의 절삭 가공에 이용되는 절삭 수단의 일례를 설명하기 위한 개략 사시도이다.
도 7(a)는 본 발명의 광학 적층체의 제조 방법에서의 절삭 가공에 이용되는 절삭 수단의 다른 예를 설명하기 위한 축 방향에서 본 개략 단면도이고; 도 7(b)는 도 7(a)의 절삭 수단의 개략 사시도이다.
도 8은 본 발명의 하나의 실시형태에 따른 커버 유리 부착 광학 적층체를 설명하는 개략 단면도이다.
이하, 도면을 참조하여 본 발명의 구체적인 실시형태에 대해 설명하지만, 본 발명은 이들 실시형태에는 한정되지 않는다. 또한 보기 쉽게 하기 위해 도면은 모식적으로 나타내고 있으며, 또한 도면에서의 길이, 폭, 두께 등의 비율, 및 각도 등은 실제와는 다르다.
A. 광학 적층체
본 발명의 광학 적층체는 절삭 가공된 광학 필름 및 점착제층을 포함한다. 도 1은 본 발명의 하나의 실시형태에 따른 광학 적층체를 설명하는 개략 단면도이다. 도시예의 광학 적층체(100)는 광학 필름(110) 및 점착제층(120)을 포함한다. 실용적으로는, 점착제층(120)의 표면에는 세퍼레이터(130)가 박리 가능하게 가착되어 있다. 본 발명의 광학 적층체는 커버 유리와 바람직하게 적층될 수 있고, 커버 유리 부착 화상 표시 장치에 바람직하게 적용될 수 있다.
광학 필름으로서는 절삭 가공이 필요로 되는 용도에 이용될 수 있는 임의의 적절한 광학 필름을 들 수 있다. 광학 필름은 단일층으로 구성되는 필름이어도 되고, 적층체이어도 된다. 광학 필름의 구체예로서는 편광자, 위상차 필름, 편광판(대표적으로는 편광자와 보호 필름과의 적층체), 터치 패널용 도전성 필름, 표면 처리 필름, 및 이들을 목적에 따라 적절히 적층한 적층체(예컨대, 반사 방지용 원편광판, 터치 패널용 도전층 부착 편광판)을 들 수 있다. 본 발명의 실시형태에 따르면, 특히 편광자와 같은 수축하기 쉬운 광학 필름을 포함하는 광학 적층체에서 크랙을 현저하게 억제할 수 있다.
예컨대 광학 필름(110)이 편광판인 경우, 당해 편광판은 편광자의 점착제층(120)의 반대 측에만 보호 필름을 포함하고 있어도 되고, 편광자와 점착제층(120)과의 사이에만 보호 필름을 포함하고 있어도 되며, 양쪽에 보호 필름을 포함하고 있어도 된다. 점착제층의 반대 측에 형성되는 보호 필름에는 필요에 따라 하드 코트 처리, 반사 방지 처리, 스티킹 방지 처리, 안티 글레어 처리 등의 표면 처리가 실시되어 있어도 된다. 편광자와 점착제층과의 사이에 형성되는 보호 필름은, 하나의 실시형태에서는, 광학적으로 등방성인 것이 바람직하다. 본 명세서에서 "광학적으로 등방성인"이란, 면내 위상차 Re(550)이 0㎚~10㎚이고, 두께 방향의 위상차 Rth(550)이 -10㎚~+10㎚인 것을 말한다. 당해 보호 필름은, 다른 실시형태에서는 위상차층을 겸하여도 된다. 위상차층으로서의 보호 필름의 구성은, 목적에 따라 임의의 적절한 구성이 채용될 수 있다. 예컨대, 보호 필름은 λ/2판이어도 되고, λ/4판이어도 되며, 이들의 적층체이어도 된다. λ/2판 및 λ/4판은 대표적으로는 nx>ny≥nz의 굴절률 특성을 갖는다. λ/2판은 면내 위상차 Re(550)이 바람직하게는 180㎚~320㎚이며, λ/4판은 면내 위상차 Re(550)이 바람직하게는 100㎚~200㎚이다. 또한 예컨대, 보호 필름은 네거티브 B 플레이트(nx>ny>nz)와 포지티브 C 플레이트(nz>nx=ny)와의 적층체이어도 된다. 또한, 본 명세서에서 "Re(λ)"는 23℃에서의 파장 λ㎚의 광으로 측정한 면내 위상차이다. 예컨대, "Re(550)"은 23℃에서의 파장 550㎚의 광으로 측정한 면내 위상차이다. Re(λ)는 층(필름)의 두께를 d(㎚)로 하였을 때, 식: Re(λ)=(nx-ny)×d에 의해 구하여진다. "Rth(λ)"는 23℃에서의 파장 λ㎚의 광으로 측정한 두께 방향의 위상차이다. 예컨대, "Rth(550)"은 23℃에서의 파장 550㎚의 광으로 측정한 두께 방향의 위상차이다. Rth(λ)는 층(필름)의 두께를 d(㎚)로 하였을 때, 식: Rth(λ)=(nx-nz)×d에 의해 구하여진다. "nx"는 면내의 굴절률이 최대가 되는 방향(즉, 지상축 방향)의 굴절률이고, "ny"는 면내에서 지상축과 직교하는 방향(즉, 진상축 방향)의 굴절률이며, "nz"는 두께 방향의 굴절률이다.
점착제층(120)은 주로 최종적으로 얻어지는 광학 적층체를 표시 셀에 첩합시키기 위하여 이용된다. 본 발명의 실시형태에 따르면, 점착제층을 포함하는 광학 적층체를 절삭 가공한 경우이어도, 크랙(특히, 히트 사이클 시험 후의 크랙)을 억제할 수 있다. 점착제층(120)은 대표적으로는 아크릴계 점착제(아크릴계 점착제 조성물)로 구성될 수 있다. 아크릴계 점착제 조성물은 대표적으로는 (메트)아크릴계 폴리머를 주성분으로서 포함한다. (메트)아크릴계 폴리머는, 점착제 조성물의 고형분 중, 예컨대 50중량% 이상, 바람직하게는 70중량% 이상, 보다 바람직하게는 90중량% 이상의 비율로 점착제 조성물에 함유될 수 있다. (메트)아크릴계 폴리머는 모노머 단위로서 알킬(메트)아크릴레이트를 주성분으로서 함유한다. 또한, (메트)아크릴레이트는 아크릴레이트 및/또는 메타크릴레이트를 말한다. 알킬(메트)아크릴레이트의 알킬기로서는, 예컨대, 1개~18개의 탄소 원자를 포함하는 직쇄상 또는 분기쇄상 알킬기를 들 수 있다. 당해 알킬기의 평균 탄소수는 바람직하게는 3개~9개이다. (메트)아크릴계 폴리머를 구성하는 모노머로서는 알킬(메트)아크릴레이트 이외에, 카복실기 함유 모노머, 히드록실기 함유 모노머, 아미드기 함유 모노머, 방향환 함유 (메트)아크릴레이트 등을 들 수 있다. 아크릴계 점착제 조성물은 바람직하게는 실란 커플링제 및/또는 가교제를 함유할 수 있다. 실란 커플링제로서는, 예컨대 에폭시기 함유 실란 커플링제를 들 수 있다. 가교제로서는 예컨대, 이소시아네이트계 가교제, 과산화물계 가교제를 들 수 있다. 점착제층의 두께는 예컨대 10㎛~50㎛일 수 있다. 점착제층 또는 아크릴계 점착제 조성물의 상세는, 예컨대 일본 특허공개공보 2016-190996호에 기재되어 있으며, 당해 공보의 기재는 본 명세서에 참고로서 원용된다.
본 발명의 실시형태에서는 광학 적층체의 절삭 단면에서의 정반사율(RR)과 확산 반사율(DR)과의 비 RR/DR은 0.15 이상이며, 바람직하게는 0.16 이상이고, 보다 바람직하게는 0.22 이상이며, 더욱 바람직하게는 0.24 이상이다. 비 RR/DR의 상한은, 예컨대 0.37이며, 바람직하게는 0.30이다. 비 RR/DR이 이와 같은 범위이면, 절삭 가공(예컨대, 엔드 밀 가공)된 광학 적층체에서의 크랙(특히, 히트 사이클 시험 후의 크랙)을 억제할 수 있다. 특히 절삭 가공된 광학 적층체를 커버 유리와 적층한 경우의 크랙을 억제할 수 있다.
광학 적층체의 절삭 단면에서의 정반사율(RR)은, 바람직하게는 0.30% 이상이고, 보다 바람직하게는 0.40% 이상이며, 더욱 바람직하게는 0.50% 이상이다. 정반사율(RR)의 상한은, 예컨대 0.75%이며, 바람직하게는 0.65%이다. 광학 적층체의 절삭 단면에서의 확산 반사율(DR)은 바람직하게는 2.40%~5.00%이며, 보다 바람직하게는 2.50%~3.50%이다.
정반사율(RR) 및 확산 반사율(DR)은 예컨대 하기와 같이 하여 구해지고, 얻어진 RR 및 DR로부터 비 RR/DR이 산출된다. 절삭 가공된 광학 적층체를 랜덤으로 선출하고, 선출한 광학 적층체를 적층하여 두께 약 15mm의 다발을 제작한다. 보다 상세하게는, 광학 적층체는 다른 복수의 워크(워크에 대해서는 후술)로부터 랜덤으로 선출된다. 제작한 다발의 측정면을 같은 평면상에 놓이게 한 상태에서, 다발의 측정면 방향의 양단부로부터 소정 거리의 위치(2개소)에 고무줄을 감아 다발을 구속한다. 구속한 다발의 측정면에 대하여, 분광 측색계(예컨대, 코니카 미놀타사 제조 "CM-2600d")를 이용하여 SCI(Specular Component Include) 및 SCE(Specular Component Exclude)를 측정하고, 이하의 식으로부터 정반사율(RR) 및 확산 반사율(DR)을 구한다.
 정반사율(RR)=SCI-SCE
 확산 반사율(DR)=SCE
이하, RR/DR에 대하여 보다 상세하게 설명한다. 도 2는 RR/DR이 상기와 같은 범위를 충족시키는 광학 적층체를 소정 두께로 적층한 상태에서 절삭 단면의 투과광의 상태를 관찰한 사진이며, 도 3은 RR/DR이 상기와 같은 범위를 벗어나는 광학 적층체를 소정 두께로 적층한 상태에서 절삭 단면의 투과광의 상태를 관찰한 사진이다. 도 2와 도 3을 비교하면 분명한 바와 같이, RR/DR이 상기와 같은 범위를 충족시키는 광학 적층체는 광의 윤곽이 명확하며(이른바 번들거림이 있으며), 한편, RR/DR이 상기와 같은 범위를 벗어나는 광학 적층체는 광의 윤곽이 불명확하다(번들거림이 없다). 본 발명자들은 절삭 가공(대표적으로는, 엔드 밀 가공)된 광학 적층체에서의 크랙의 문제에 대하여 시행 착오를 반복한 결과, 절삭 단면에 번들거림이 있는 광학 적층체에서 크랙이 억제되는 것을 발견하였다. 특히, 이와 같은 적층체는 커버 유리와 적층한 경우의 크랙이 억제되는 것을 발견하였다. 이와 같이, 본 발명은 광학 적층체의 절삭 가공(대표적으로는 엔드 밀 가공)에서 새롭게 발생한 과제를 해결하는 것이며, 절삭 단면의 번들거림(또는 RR/DR)을 최적화하는 것에 의한 효과는 예상치 못한 우수한 효과이다. 또한, 도 2 및 도 3에서는 차이를 명확화하기 위해 투과광의 상태를 나타내고 있지만, 반사광의 번들거림도 이에 대응한다.
이하, 일례로서 도 4에 나타내는 바와 같은 평면 형상의 광학 적층체의 제조 방법에서의 각 공정을 설명한다.
B. 워크의 형성
도 4는 절삭 가공을 설명하기 위한 개략 사시도이며, 본 도면에 워크(1)가 나타나 있다. 도 4에 나타내는 바와 같이, 광학 적층체를 복수 매 겹친 워크(1)가 형성된다. 광학 적층체는 워크 형성 시, 대표적으로는 임의의 적절한 형상으로 절단되어 있다. 구체적으로는 광학 적층체는 직사각형상으로 절단되어 있어도 되고, 직사각형상에 유사한 형상으로 절단되어 있어도 되며, 목적에 따른 적절한 형상(예컨대, 원형)으로 절단되어 있어도 된다. 도시예에서는 광학 적층체는 직사각형상으로 절단되어 있으며, 워크(1)는 서로 대향하는 외주면(절삭면)(1a, 1b) 및 그들과 직교하는 외주면(절삭면)(1c, 1d)을 포함하고 있다. 워크(1)는 바람직하게는 클램프 수단(도시하지 않음)에 의해 상하로부터 클램프되어 있다. 워크의 총 두께는, 바람직하게는 8mm~20mm이고, 보다 바람직하게는 9mm~15mm이며, 더욱 바람직하게는 약 10mm이다. 이와 같은 두께라면 클램프 수단에 의한 가압 또는 절삭 가공 시의 충격에 의한 손상을 방지할 수 있다. 광학 적층체는 워크가 이와 같은 총 두께가 되도록 겹쳐진다. 워크를 구성하는 광학 적층체의 매수는, 예컨대 10장~50장일 수 있다. 클램프 수단(예컨대, 지그)은 연질 재료로 구성되어도 되고 경질 재료로 구성되어도 된다. 연질 재료로 구성되는 경우, 그의 경도(JIS A)는 바람직하게는 60°~80°이다. 경도가 지나치게 높으면, 클램프 수단에 의한 눌린 자국이 남는 경우가 있다. 경도가 지나치게 낮으면, 지그의 변형에 의해 위치 어긋남이 생기고, 절삭 정밀도가 불충분하게 되는 경우가 있다.
C. 절삭 가공
다음으로, 워크(1)의 외주면을, 절삭 수단(20)에 의해 절삭한다. 절삭은 절삭 수단의 절삭 날을 워크(1)의 외주면에 당접시키는 것에 의해 행하여진다. 절삭은, 워크의 외주면의 전체 둘레(全周)에 걸쳐 행하여도 되고, 소정의 위치에만 행하여도 된다. 도 4에 나타내는 바와 같은 평면 형상의 광학 적층체를 제작하는 경우, 절삭은 대표적으로는 워크의 외주면의 전체 둘레에 걸쳐 행하여진다. 절삭 가공은 대표적으로는 도 5~도 7에 나타내는 바와 같이, 이른바 엔드 밀 가공이다. 즉, 절삭 수단(엔드 밀)(20)의 측면을 이용하여, 워크(1)의 외주면을 절삭한다. 절단 수단(엔드 밀)(20)으로서는 대표적으로는 스트레이트 엔드 밀이 이용될 수 있다.
엔드 밀(20)은 도 6 및 도 7에 나타내는 바와 같이, 워크(1)의 적층 방향 (연직 방향)으로 연장되는 회전축(21)과, 회전축(21)을 중심으로 하여 회전하는 본체의 최외경으로서 구성되는 절삭 날(22)을 포함한다. 절삭 날(22)은 도 6에 나타내는 바와 같이 회전축(21)을 따라 비틀린 최외경으로서 구성되어도 되고(소정의 비틀림 각을 갖고 있어도 되고), 도 7에 나타내는 바와 같이 회전축(21)에 실질적으로 평행한 방향으로 연장하도록 구성되어 있어도 된다(비틀림 각이 0°이어도 된다). 또한, "0°"는 실질적으로 0°라는 의미이며, 가공 오차 등에 의해 약간의 각도가 비틀어져 있는 경우도 포함한다. 절삭 날이 소정의 비틀림 각을 갖는 경우, 비틀림 각은 바람직하게는 70° 이하이고, 보다 바람직하게는 65° 이하이며, 더욱 바람직하게는 45° 이하이다. 절삭 날(22)은 날 끝(22a)과, 절삭면(22b)과, 이스케이프면(22c)을 포함한다. 절삭 날(22)의 날 수는, 후술하는 소망 접촉 횟수가 얻어지는 범위 한에서 적절하게 설정될 수 있다. 도 6에서의 날 수는 3매이며 도 7에서의 날 수는 2매이지만, 날 수는 1매이어도 되고, 4매이어도 되며, 5매 이상이어도 된다. 바람직하게는 날 수는 2매이다. 이와 같은 구성이면, 날의 강성이 확보되고, 또한 포켓이 확보되어 절삭 부스러기를 양호하게 배출할 수 있다.
하나의 실시형태에서는, 절삭 날(22)의 HV 경도는 대표적으로는 1500 이상이고, 바람직하게는 1700 이상이며, 보다 바람직하게는 2000 이상이다. HV 경도의 상한은, 예컨대 2350일 수 있다. 이 경우, 절삭 날은 대표적으로는 초경합금으로 구성된다. 초경합금은 대표적으로는 금속 탄화물의 분말을 소결하여 얻어진다. 초경합금의 구체예로서는 WC-Co계 합금, WC-TiC-Co계 합금, WC-TaC-Co계 합금, WC-TiC-TaC-Co계 합금을 들 수 있다. 또한, HV 경도는 비커스 경도라고도 칭해지며, JIS Z 2244에 준하여 측정될 수 있다.
다른 실시형태에서는, 절삭 날(22)의 HV 경도는 대표적으로는 7000 이상이고, 바람직하게는 8000 이상이며, 보다 바람직하게는 9000 이상이고, 더욱 바람직하게는 10000 이상이다. HV 경도의 상한은, 예컨대 15000일 수 있다. 이 경우, 절삭 날은 대표적으로는 소결 다이아몬드를 포함한다. 보다 상세하게는, 절삭 날은 초경합금으로 구성된 기부(基部)에 소결 다이아몬드층이 형성되어 있다. 소결 다이아몬드(PCD: Polycrystalline diamond)는, 다이아몬드의 작은 입자를 금속 및/또는 세라믹스의 분말과 함께 고온·고압에서 구워 굳힌 다결정 다이아몬드를 말한다.
절삭 가공의 조건은 목적에 따라 적절하게 설정될 수 있다. 예컨대, 엔드 밀의 이송 속도, 회전수, 날 수 등을 적절히 조정하는 것에 의해 소정의 RR/DR을 갖는 절삭 가공된 광학 적층체가 얻어질 수 있다. 본 명세서에서 "이송 속도"는 절삭 수단(엔드 밀)과 워크와의 상대 속도를 의미한다. 따라서, 절삭 가공에서는 엔드 밀만 이동시켜도 되고, 워크만을 이동시켜도 되며, 엔드 밀 및 워크 양쪽을 이동시켜도 된다. 절삭 횟수는 1회 절삭, 2회 절삭, 3회 절삭 또는 그 이상일 수 있다. 하나의 실시형태에서는, 엔드 밀(20)의 직경은 바람직하게는 3mm~20mm이다.
이상과 같이 하여 소정의 RR/DR을 갖는 절삭 가공된 광학 적층체가 얻어질 수 있다. 또한, 절삭 가공된 광학 적층체(실질적으로는, 광학 필름 및 점착제층)는 대표적으로는 절삭흔을 가질 수 있다.
D. 커버 유리 부착 광학 적층체
본 발명의 실시형태에 따른 광학 적층체(예컨대, 상기 A항~C항에 기재된 광학 적층체)는 상기한 바와 같이, 커버 유리와 바람직하게 적층될 수 있다. 따라서, 커버 유리 부착 광학 적층체도 또한, 본 발명의 실시형태에 포함된다. 도 8은 본 발명의 하나의 실시형태에 따른 커버 유리 부착 광학 적층체를 설명하는 개략 단면도이다. 도시예의 커버 유리 부착 광학 적층체(101)는 편광자(110)와, 점착제층(120)과, 편광자(110)의 점착제층(120)과 반대 측에 배치된 다른 점착제층(140)을 개재하여 적층된 커버 유리(150)를 포함한다. 점착제층(120)의 표면에는 세퍼레이터(130)가 박리 가능하게 가착되어 있다. 즉, 커버 유리 부착 광학 적층체(101)는 도 1의 광학 적층체와, 당해 광학 적층체의 점착제층(120)과 반대 측에 배치된 다른 점착제층(140)을 개재하여 적층된 커버 유리(150)를 포함한다.
다른 점착제층(140)을 구성하는 점착제(점착제 조성물)는 -40℃에서의 저장 탄성률이 바람직하게는 1.0×108(Pa) 이상이다. 이와 같은 점착제층을 채용하면 광학 적층체의 절삭 단면의 RR/DR의 최적화에 따른 효과와의 상승적인 효과에 의해, 절삭 가공된 광학 적층체에 커버 유리를 첩합시킨 경우이어도, 크랙(특히, 히트 사이클 시험 후의 크랙)을 억제할 수 있다. 이와 같은 점착제(점착제 조성물)로서는, 예컨대, 고무계 점착제를 들 수 있다. 고무계 점착제는 대표적으로는 부타디엔 중합체 및/또는 폴리이소프렌 중합체(또는 그의 변성물)와 광중합 개시제를 포함할 수 있다. 고무계 점착제는 폴리우레탄아크릴레이트, 폴리이소프렌계 아크릴레이트 또는 그의 에스테르화물, 테르펜계 수소 첨가 수지, 디시클로펜테닐옥시에틸메타크릴레이트, 2-히드록시부틸메타크릴레이트 등을 더 포함하고 있어도 된다.
커버 유리(150)에 대해서는 업계에서 주지의 구성이 채용될 수 있으므로, 상세한 설명은 생략한다.
커버 유리 부착 광학 적층체는, 절삭 가공된 광학 적층체(예컨대, 상기 A항~C항에 기재된 광학 적층체)에, 상기 다른 점착제층(140)을 개재하여 커버 유리를 첩합시키는 것에 의해 얻어질 수 있다.
E. 커버 유리 부착 화상 표시 장치
본 발명의 실시형태에 따른 광학 적층체(예컨대, 상기 A항~C항에 기재된 광학 적층체)는 상기한 바와 같이, 커버 유리 부착 화상 표시 장치에 바람직하게 적용될 수 있다. 따라서, 커버 유리 부착 화상 표시 장치도 또한, 본 발명의 실시형태에 포함된다. 커버 유리 부착 화상 표시 장치는, 표시 셀과, 표시 셀의 시인 측에 배치된 본 발명의 실시형태에 따른 광학 적층체와, 광학 적층체의 시인 측에 배치된 커버 유리를 포함한다.
본 발명의 실시형태에 따른 커버 유리 부착 광학 적층체(예컨대, 상기 D항에 기재된 커버 유리 부착 광학 적층체)도 또한, 화상 표시 장치에 적용되어 커버 유리 부착 화상 표시 장치를 구성할 수 있다. 이 경우, 커버 유리 부착 화상 표시 장치는, 표시 셀과, 표시 셀의 시인 측에 배치된 본 발명의 실시형태에 따른 커버 유리 부착 광학 적층체를 포함한다.
화상 표시 장치로서는, 예컨대, 액정 표시 장치, 유기 일렉트로 루미네센스(EL) 표시 장치, 양자점 표시 장치를 들 수 있다.
[실시예]
이하, 실시예에 의해 본 발명을 구체적으로 설명하지만, 본 발명은 이들 실시예로는 한정되지 않는다. 실시예에서의 평가 항목은 이하와 같다.
(1) RR/DR
실시예 및 비교예에서 얻어진 다른 복수의 워크로부터 편광판을 랜덤으로 선출하고, 선출한 편광판을 적층하여 두께 약 15mm의 다발을 제작하였다. 제작한 다발의 측정면을 같은 평면상에 놓이게 한 상태에서, 다발의 측정면 방향의 양단부로부터 10mm의 위치(2개소)에 고무줄(아이·지·오사 제조, #7)을 감아 다발을 구속하였다. 구속한 다발의 측정면에 대하여, 분광 측색계(코니카 미놀타사 제조 "CM-2600d")를 이용하여 SCI 및 SCE를 측정하고, 이하의 식으로부터 정반사율(RR) 및 확산 반사율(DR)을 구하였다.
    정반사율(RR)=SCI-SCE
    확산 반사율(DR)=SCE
(2) 크랙
실시예 및 비교예에서 얻어진 편광판의 양쪽에 유리판을 첩합시키고, -40℃~85℃에서 200 사이클의 히트 사이클(히트 쇼크) 시험을 행하였다. 시험 후의 크랙의 발생 상황에 대해, 편광 필터를 상기 편광판의 편광자의 흡수축과 크로스 니콜이 되도록 배치한 상태에서 투과광 검사를 행하고, 이하의 기준으로 평가하였다.
    있음: 광 누출을 시인할 수 있음
    없음: 광 누출을 시인할 수 없음
<실시예 1>
통상적인 방법에 따라, 시인 측으로부터 순서대로 표면 보호 필름(48㎛)/하드 코트층(5㎛)/시클로올레핀계 보호 필름(47㎛)/편광자(5㎛)/시클로올레핀계 보호 필름(24㎛)/점착제층(20㎛)/세퍼레이터의 구성을 갖는 점착제층 부착 편광판을 제작하였다. 점착제층은, 일본 특허공개공보 2016-190996호의 [0121] 및 [0124]에 준하여 제작하였다. 얻어진 점착제층 부착 편광판을 도 4와 유사한 형상(개략 사이즈 142.0mm×66.8mm에서 4개의 모서리의 R 6.25mm)으로 펀칭하고, 펀칭한 점착제층 부착 편광판을 복수 매 겹쳐서 워크(총 두께 약 10mm)로 하였다. 얻어진 워크를 클램프(지그)로 끼운 상태에서, 엔드 밀 가공에 의해 주연부를 절삭하여, 도 4에 나타내는 바와 같은 절삭 가공된 점착제층 부착 편광판을 얻었다. 엔드 밀의 절삭 날은 소결 다이아몬드를 이용한 것이며, HV 경도는 10000이었다. 또한 엔드 밀의 날 수는 2매, 비틀림 각은 0°이었다. 또한, 엔드 밀의 이송 속도(직선부를 절삭할 때의 이송 속도)는 1000mm/분이고, 회전수는 25000rpm이며, 절삭 횟수는 2회(1회째 0.1mm, 2회째 0.2mm, 절삭 여유 0.3mm)이었다. 얻어진 절삭 가공된 점착제층 부착 편광판의 RR/DR은 0.17이었다.
상기의 점착제층 부착 편광판의 표면 보호 필름을 박리하고, 박리면에 다른 점착제층을 형성하였다. 다른 점착제층은, 일본 특허공개공보 2016-103030호의 [0053]에 준하여 제작하였다. 또한, 상기 시클로올레핀계 보호 필름 측의 점착제층 에 가착되어 있던 세퍼레이터를 박리하고, 이와 같이 하여 얻어진 양측에 점착제층을 포함하는 편광판의 양측에 유리판을 첩합시켜, 상기의 크랙의 평가에 제공하였다. 결과를 표 1에 나타낸다.
<실시예 2 및 비교예 1~2>
절삭 가공의 조건을 표 1에 나타내는 바와 같이 변경한 것 이외에는 실시예 1과 유사하게 하여, 도 4에 나타내는 바와 같은 절삭 가공된 점착제층 부착 편광판을 얻었다. 얻어진 절삭 가공된 점착제층 부착 편광판의 RR/DR은 표 1에 나타내는 바와 같았다. 또한, 실시예 1과 유사하게 하여 크랙의 평가를 행하였다. 결과를 표 1에 나타낸다.
[표 1]
Figure pct00001
산업상 이용가능성
본 발명의 절삭 가공된 광학 적층체는, 화상 표시부에 커버 유리를 적층하는 경우에 바람직하게 이용되고, 특히 퍼스널 컴퓨터(PC)나 태블릿 단말로 대표되는 직사각형의 화상 표시부, 및/또는 자동차의 인스트루먼트 패널이나 스마트 워치로 대표되는 이형의 화상 표시부에 바람직하게 이용될 수 있다.
1 워크
20 절삭 수단   
100 광학 적층체
101 커버 유리 부착 광학 적층체
110 광학 필름
120 점착제층
140 다른 점착제층
150 커버 유리

Claims (8)

  1. 절삭 가공된 광학 필름 및 점착제층을 포함하고,
    절삭 단면에서의 정반사율(RR)과 확산 반사율(DR)과의 비 RR/DR이 0.15 이상인,
    광학 적층체.
  2. 제1항에 있어서,
    상기 광학 필름이 편광자를 포함하는, 광학 적층체.
  3. 제2항에 있어서,
    상기 광학 필름이 상기 편광자의 상기 점착제층과 반대 측에 보호 필름을 더 포함하는, 광학 적층체.
  4. 제2항 또는 제3항에 있어서,
    상기 광학 필름이 상기 편광자와 상기 점착제층과의 사이에 다른 보호 필름을 더 포함하는, 광학 적층체.
  5. 제4항에 있어서,
    상기 다른 보호 필름이 위상차층을 겸하는, 광학 적층체.
  6. 제1항 내지 제5항 중 어느 한 항에 기재된 광학 적층체와, 상기 광학 적층체의 상기 점착제층과 반대 측에 배치된 다른 점착제층을 개재하여 적층된 커버 유리를 포함하는, 커버 유리 부착 광학 적층체.
  7. 표시 셀과, 상기 표시 셀의 시인 측에 배치된 제1항 내지 제5항 중 어느 한 항에 기재된 광학 적층체와, 상기 광학 적층체의 시인 측에 배치된 커버 유리를 포함하는, 커버 유리 부착 화상 표시 장치.
  8. 표시 셀과, 상기 표시 셀의 시인 측에 배치된 제6항에 기재된 커버 유리 부착 광학 적층체를 포함하는, 커버 유리 부착 화상 표시 장치.
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