TWI474871B - 液體噴出噴嘴、及於液體噴出噴嘴之疏水層再生方法 - Google Patents

Description

液體噴出噴嘴、及於液體噴出噴嘴之疏水層再生方法

本發明係關於一種液體噴出噴嘴、及於液體噴出噴嘴之疏水層再生方法。

先前，例如於使用液體定量噴出裝置分注之情形時，通過噴嘴塗佈液體。此處，噴嘴通常係藉由不鏽鋼等非腐蝕性金屬而製作。因此，作為抑制自液體噴出頭之噴嘴噴出之液滴於噴嘴之噴出口前端蓄積之方法，進行有於噴嘴形成疏水膜。

然而，若直接使用包含不鏽鋼等非腐蝕性金屬之噴嘴，或形成於噴嘴之疏水膜剝落，則存在如下問題：液體容易附著於噴嘴之噴出口前端，分注時最初之滴下量變大，藉此使滴下量及液滴形狀變得不良。此現象於對含有螢光體之LED(Light Emitting Diode，發光二極體)密封或有關接著面積之相機模組等分注時尤其成為問題。

作為消除該種噴嘴之噴出口前端之積液之方法，採用於液體定量噴出裝置中安裝被稱為回吸(suction back)之減壓機構而將噴嘴前端之積液吸回之方法。然而，即便使用回吸亦無法將附著於噴嘴前端之積液充分去除。其結果，於連續地持續噴出液滴期間，即便有疏水膜亦會附著經時性之污漬，或由於液體中之粒子而導致疏水膜物理性地剝落而使液體附著於噴嘴之噴出口前端從而產生積液，而無法避免噴出量及液滴形狀變得不均勻。又，噴嘴之內外壁之 表面粗糙度及噴嘴之前端部之壁厚亦對積液產生影響。另一方面，作為提高噴嘴之加工精度者，多數情況下除金屬以外亦使用紅寶石或陶瓷等非金屬材料，但由於噴嘴價格較高，故而期望低價且可均勻地進行塗佈之技術。

因此，為解決上述問題，例如揭示有如下之噴嘴100：於專利文獻1~3所揭示之液體噴出頭中，如圖5所示，為了獲得疏水膜之耐久性，而於噴嘴板101之表面設置底層102，且於其表面成膜添加有氟之鍍敷膜或有機性之疏水膜103。又，作為其他技術，揭示有於噴嘴板之表面塗佈有氟系疏水劑或聚矽氧系疏水劑者。

[先前技術文獻] [專利文獻]

[專利文獻1]日本公開專利公報「日本專利特開2004-75739號公報(2004年3月11日公開)」

[專利文獻2]日本公開專利公報「日本專利特開2003-327909號公報(2003年11月19日公開)」

[專利文獻3]日本公開專利公報「日本專利特開2010-76422號公報(2010年4月8日公開)」

然而，於上述先前之液體噴出頭中，存在如下問題：於連續地持續噴出液滴期間，即便為難以附著污漬之疏水膜，長期情況下亦會附著經時性之污漬，或由於液體中之粒子而導致疏水膜物理性地剝落而於噴嘴前端產生積液。 又，於液滴於疏水膜固化之情形時，或疏水膜附著有其他附著物之情形時，該種附著物等亦難以去除。其結果，於噴嘴前端產生積液。

進而，於噴出液為黏度高於墨水之樹脂而並非噴墨般之低黏度之墨水之情形時，有於液體噴出噴嘴處液體之濕潤面積較大時，難以噴出而容易產生堵塞之問題。

本發明係鑒於上述先前問題而完成者，其目在於提供一種防止堵塞並且即便疏水層剝落或附著有附著物亦可容易使疏水層再生，結果可確保長壽命之液體噴出噴嘴、及於液體噴出噴嘴之疏水層再生方法。

為解決上述課題，本發明之液體噴出噴嘴之特徵在於包括：儲液容器，其收容噴出液；及噴出部，其與該儲液容器之下側連通；且於上述噴出部之噴出口前端、噴出部之內壁面、及儲液容器之內壁面設置有疏水層，並且上述疏水層包含氟系疏水層，作為上述氟系疏水層之底層，使用有氧化鋁層與氧化矽層之積層膜，經積層之上述氧化鋁層、氧化矽層及氟系疏水層之總膜厚為25 nm以下，上述氟系疏水層之膜厚為1~4 nm。

根據上述發明，該液體噴出噴嘴包括：儲液容器，其收容噴出液；及噴出部，其與該儲液容器之下側連通；且於噴出部之噴出口前端、噴出部之內壁面、及儲液容器之內壁面設置有疏水層。而且，疏水層包含氟系疏水層，作為氟系疏水層之底層，使用有氧化鋁層與氧化矽層之積層 膜。

即，一般情況下，於液體噴出噴嘴中，於噴出部之噴出口前端設置疏水層，但於噴出部之內壁面未設置疏水層。其原因在於，本來噴嘴之積液成為問題係由於在噴出口之出口即噴出口前端產生積液。又，其原因在於，噴出部之內壁面一般情況下液體之流速較快，疏水層容易剝落。

相對於此，於本發明中，於噴出部之內壁面及儲液容器之內壁面均設置有疏水層。其原因在於，於噴出液例如為黏度高於墨水之樹脂而並非噴墨般之低黏度之墨水之情形時，越增大噴出部等之內壁面之界面張力，樹脂之濕潤面積越小，噴出部等之內壁面與樹脂之表面密接力及摩擦越小，樹脂之流動性越佳。

如此，於本發明中，由於在噴出部之內壁面及儲液容器之內壁面均設置有疏水層，故而於液體噴出噴嘴之內部，即便為黏性較高之噴出液亦具有流動性良好之優點。

此處，依然殘留有如下問題：於噴出部之內壁面，由於液體之流速較快之情形或液體中存在之粒子而導致疏水層容易物理性地剝落。

因此，於本發明中，於疏水層設置有包含氧化鋁層與氧化矽層之積層膜之底層。其結果，疏水層之附著強度提高，疏水層不易剝落，故而耐久性提高。

又，於本發明中，經積層之上述氧化鋁層、氧化矽層及氟系疏水層之總膜厚為25 nm以下，氟系疏水層之膜厚成為1~4 nm。

此外，就先前之液體噴出噴嘴之疏水層之膜厚而言，為了使耐久性變得良好，例如於藉由浸漬(dip)處理進行之鐵氟龍(Teflon)(註冊商標)塗佈中有100 μm左右者。然而，例如於在噴出部之內壁面設置有總膜厚100 μm左右之疏水層之情形時，噴出部之內徑較大變化，膜厚之不均亦較大而對噴嘴之內徑形狀有影響。其結果，亦使噴出量產生變化。

因此，於本發明中，經積層之上述氧化鋁層、氧化矽層及氟系疏水層之總膜厚成為25 nm以下。

其結果，於藉由長期使用而即便為疏水層亦會附著經時性之污漬或由於液體中之粒子而導致疏水層物理性地剝落時，噴出部之筒徑亦不會較大變化。

又，於本發明中，氟系疏水層之膜厚為1~4 nm。即，只要如此使膜厚變薄，則即便於疏水層之一部分剝落之情形時，或液滴於疏水層固化之情形時，或其他附著物附著於疏水層之情形時，例如亦可進行電漿處理而容易剝除疏水層、及疏水層之附著物，再次設置疏水層。

其結果，容易對疏水層進行再生處理，藉此可延長液體噴出噴嘴之壽命。

因此，可提供一種即便為黏性較高之噴出液亦可使流動性良好而防止堵塞，並且即便疏水層剝落或附著有附著物亦可容易使疏水層再生，結果可確保長壽命之液體噴出噴嘴。

為解決上述課題，本發明之液體噴出噴嘴之疏水層再生 方法之特徵在於：其係上述液體噴出噴嘴之疏水層再生方法，且藉由電漿、紫外線照射、或鹼清洗中之至少1種以上之方法將附著於上述疏水層之附著物及該疏水層削除後，再次形成疏水層。

即，於疏水層之一部分剝落之情形時，或液滴於疏水層固化之情形時，或其他附著物附著於疏水層之情形時，藉由電漿、紫外線照射、或鹼清洗中之至少1種以上之方法將化學鍵切斷，藉此，可容易將疏水層及疏水層之附著物剝除、削除。而且，由於疏水層之膜厚亦薄為1~4 nm，故而可容易再次塗佈疏水層。

因此，可提供一種防止堵塞並且即便疏水層剝落或附著有附著物亦可容易使疏水層再生，結果可確保長壽命之液體噴出噴嘴之疏水層再生方法。

如上所述，本發明之液體噴出噴嘴包括：儲液容器，其收容噴出液；及噴出部，其與該儲液容器之下側連通；且於上述噴出部之噴出口前端、噴出部之內壁面、及儲液容器之內壁面設置有疏水層，並且上述疏水層包含氟系疏水層，作為上述氟系疏水層之底層，使用有氧化鋁層與氧化矽層之積層膜，經積層之上述氧化鋁層、氧化矽層及氟系疏水層之總膜厚為25 nm以下，上述氟系疏水層之膜厚為1~4 nm。

又，如上所述，本發明之液體噴出噴嘴之疏水層再生方法係上述液體噴出噴嘴之疏水層再生方法，且係藉由電 漿、紫外線照射、或鹼清洗中之至少1種以上之方法將附著於上述疏水層之附著物及該疏水層削除後再次形成疏水層之方法。

因此，發揮如下之效果：提供一種可防止堵塞並且即便疏水層剝落或附著有附著物亦可容易使疏水層再生，結果可確保長壽命之液體噴出噴嘴、及於液體噴出噴嘴之疏水層再生方法。

如下所述，基於圖1(a)至圖4對本發明之一實施形態進行說明。

(液體噴出噴嘴之構成)

基於圖1(a)及圖1(b)以及圖2(a)及圖2(b)對本實施形態之液體噴出噴嘴之構成進行說明。圖1(a)係表示上述液體噴出噴嘴之包含圓錐狀儲液容器與噴出筒之上述液體噴出噴嘴之構成之剖面圖，圖1(b)係表示形成於噴出筒之噴出口前端、噴出筒之內壁面、及儲液容器之內壁面之疏水層之剖面圖。又，圖2(a)係表示上述液體噴出噴嘴之構成之前視圖，圖2(b)係表示上述液體噴出噴嘴之構成之仰視圖。

本實施形態之液體噴出噴嘴1例如係用以塗佈LED(Light Emitting Diode：發光二極體)之螢光體之樹脂者，且如圖2(a)及圖2(b)所示般包括：儲液容器10，其收容噴出液；及噴出筒20，其與該儲液容器10之下側連通。

上述儲液容器10包含形成於上側之筒狀儲液容器11與形成於下側之圓錐狀儲液容器12。

上述筒狀儲液容器11與下側之圓錐狀儲液容器12一併形成為圓筒，作為噴出部之噴出筒20亦與圓錐狀儲液容器12一併形成為圓筒。但是，並非限定於圓筒，亦可整體為角筒。

上述液體噴出噴嘴1之高度H1為例如18 mm，將圓錐狀儲液容器12與噴出筒20相加而得之高度H2為例如6.5 mm。又，筒狀儲液容器11之外徑D為例如6 mm。液體噴出噴嘴1之筒狀儲液容器11之正面及背面形成為平坦面，於平坦面例如記載有液滴噴出量。

如圖1(a)所示，上述儲液容器10之圓錐狀儲液容器12與設置於該圓錐狀儲液容器12之下側之噴出筒20連通，並且噴出筒20具有較圓錐狀儲液容器12之內徑細之內徑。

於本實施形態之液體噴出噴嘴1中，如圖1(b)所示，於圓錐狀儲液容器12及噴出筒20之內外壁面2設置有疏水層5。再者，於本發明中，只要至少於噴出筒20之噴出口前端20a、噴出筒之內壁面20b、及儲液容器10之內壁面10a設置有疏水層5即可。

詳細而言，形成於圓錐狀儲液容器12及噴出筒20之內外壁面2之疏水層5包含氟系疏水層，並且，設置有作為包含氟系疏水層之疏水層5之底層之氧化鋁(Al₂ O₃ )層3、及作為積層於該氧化鋁(Al₂ O₃ )層3之底層之氧化矽(SiO₂ )層4。

再者，於本實施形態之液體噴出噴嘴1中，於圓錐狀儲液容器12及噴出筒20之內外壁面2設置有疏水層5。但是，於本發明中並非限定於此，只要疏水層5至少形成於圓錐 狀儲液容器12及噴出筒20之內壁面即可。

於本實施形態中，上述疏水層5之厚度為1~4 nm，將疏水層5、以及作為底層之氧化鋁(Al₂ O₃ )層3及氧化矽(SiO₂ )層4之該3層相加亦為例如25 nm以下。較佳為設為20 nm以下。其原因在於，若疏水層5、以及作為底層之氧化鋁(Al₂ O₃ )層3及氧化矽(SiO₂ )層4之該3層之膜厚超過25 nm，則藉由長期使用，噴出筒20之內徑逐漸產生變化，故而亦使噴出筒20之形狀產生變化。具體而言，試製品之液體噴出噴嘴1之各層之厚度中例如氧化鋁(Al₂ O₃ )層3為10.5 nm，氧化矽(SiO₂ )層4為6.5 nm，包含氟系疏水層之疏水層5為1.2 nm。

(液體噴出噴嘴之疏水層之形成方法)

對上述構成之液體噴出噴嘴1之疏水層5之形成方法進行說明。

即，於本實施形態中，於內外壁面2積層形成氧化鋁(Al₂ O₃ )層3及氧化矽(SiO₂ )層4作為底層，於其上形成氟系疏水層(自組單分子)。藉此，3層之總膜厚為20 nm左右，而不會對噴出筒20之內徑形狀產生影響。

首先，使用有機分子之氣相成長法於腔室內設置液體噴出噴嘴1，使用氧電漿清洗液體噴出噴嘴1之內外壁面2而使其活化。其次，將反應氣體加熱至100℃而使其氣化，並導入至預先加熱至55℃之腔室內，於該腔室內形成氧化鋁(Al₂ O₃ )層3。其後，對該腔室內進行排氣直至成為3~8 Pa為止，並重複循環，藉此形成10 nm左右之氧化鋁 (Al₂ O₃ )層3。

繼而，於同一腔室內使用氧電漿清洗氧化鋁(Al₂ O₃ )層3之上表面而使其活化。然後，將反應氣體加熱至100℃而使其氣化，並導入至預先加熱至55℃之腔室內而形成氧化矽(SiO₂ )層4。其後，對該腔室內進行排氣直至成為3~8 Pa為止，並重複循環，藉此形成10 nm左右之氧化矽(SiO₂ )層4。

繼而，於氧化矽(SiO₂ )層4之上表面整個區域形成氟系疏水膜。藉此，成為膜厚為1~4 nm左右之單分子膜。

(於液體噴出噴嘴之疏水層再生方法)

液體噴出噴嘴1之疏水層5一般情況下疏水性較高但疏油性並非完美，於重複進行液體之噴出期間會產生殘渣而導致疏水性能逐漸劣化。該等問題係即便使用例如丙酮等之有機溶劑之清洗、異丙醇(IPA，isopropyl alcohol)等之超音波清洗等亦無法完全去除。因此，藉由氧電漿僅將形成於內外壁面2之最表面之氟系疏水層與殘渣一併去除，而使成為底層之氧化矽(SiO₂ )層4露出，於潔淨化之狀態下再次形成氟系疏水層。

如此，本實施形態之液體噴出噴嘴1包括：儲液容器10，其收容噴出液；及噴出筒20，其與該儲液容器10之下側連通；且於噴出筒20之噴出口前端20a、噴出筒20之內壁面20b、及儲液容器10之內壁面10a設置有疏水層5。而且，疏水層5包含氟系疏水層，作為氟系疏水層之底層，使用有氧化鋁(Al₂ O₃ )層3與氧化矽(SiO₂ )層4之積層膜。

即，一般情況下，於液體噴出噴嘴中，於噴出筒之噴出口前端設置疏水層，但於噴出筒之內壁面未設置疏水層。其原因在於，本來噴嘴之積液成為問題係由於在噴出口之出口即噴出口前端產生積液。又，其原因在於，噴出筒之內壁面一般情況下液體之流速較快，疏水層容易剝落。

相對於此，於本實施形態中，於噴出筒20之內壁面20b及儲液容器10之內壁面10a均設置有疏水層5。其原因在於，於噴出液例如為黏度高於墨水之樹脂而並非噴墨般之低黏度之墨水之情形時，越增大噴出筒20等之內壁面20b之界面張力，樹脂之濕潤面積越小，噴出筒20等之內壁面20b與樹脂之表面密接力及摩擦越小，樹脂之流動性越佳。

如此，於本實施形態中，由於在噴出筒20之內壁面20b及儲液容器10之內壁面10a均設置有疏水層5，故而於液體噴出噴嘴1之內部，即便為黏性較高之噴出液亦具有流動性良好之優點。

此處，依然殘留有如下問題：於噴出筒20之內壁面20b，由於液體之流速較快之情形或液體中存在之粒子而導致疏水層容易物理性地剝落。

因此，於本實施形態中，於疏水層5設置有包含氧化鋁(Al₂ O₃ )層3與氧化矽(SiO₂ )層4之積層膜之底層。其結果，疏水層5之附著強度提高，疏水層5不易剝落，故而耐久性提高。

又，於本實施形態中，經積層之氧化鋁(Al₂ O₃ )層3、氧 化矽(SiO₂ )層4、及氟系疏水層之總膜厚為25 nm以下，氟系疏水層之膜厚為1~4 nm。再者，難以將氟系疏水層之單分子膜形成為膜厚未達1 nm。另一方面，若氟系疏水層之膜厚超過4 nm，則如專利文獻3所示般分子鏈交聯之層變厚。但是，如此一來，氟系疏水層變得容易剝落，故而欠佳。

此外，就先前之液體噴出噴嘴之疏水層之膜厚而言，為了使耐久性變得良好，例如於藉由浸漬(dip)處理進行之鐵氟龍(註冊商標)塗佈中有100 μm左右者。然而，例如於在噴出筒之內壁面設置有總膜厚為100 μm左右之疏水層之情形時，噴出部之內徑較大變化，膜厚之不均亦較大而對噴嘴之內徑形狀有影響。其結果，亦使噴出量產生變化。

因此，於本實施形態中，經積層之氧化鋁(Al₂ O₃ )層3、氧化矽(SiO₂ )層4、及氟系疏水層之總膜厚成為25 nm以下。

其結果，於藉由長期使用而即便疏水層5亦會附著經時性之污漬或由於液體中之粒子而導致疏水層5物理性地剝落時，噴出筒20之筒徑亦不會較大變化。

又，於本實施形態中，氟系疏水層之膜厚為1~4 nm。即，若如此使膜厚變薄，則即便於疏水層5之一部分剝落之情形時，或液滴於疏水層5固化之情形時，或其他附著物附著於疏水層5之情形時，例如亦可進行電漿處理而容易剝除疏水層5、及疏水層5之附著物，再次設置疏水層5。

其結果，容易對疏水層5進行再生處理，藉此可延長液體噴出噴嘴1之壽命。

因此，可提供一種即便為黏性較高之噴出液亦可使流動性良好而防止堵塞，並且即便疏水層5剝落或附著有附著物亦可容易使疏水層5再生，結果可確保長壽命之液體噴出噴嘴1。

又，於本實施形態之液體噴出噴嘴1中，噴出液為樹脂材料。藉此，由於樹脂材料與墨水相比黏性較高，故而藉由使其成為本實施形態之液體噴出噴嘴1之噴出介質，而可更大程度地獲得本實施形態之效果。

進而，本實施形態之液體噴出噴嘴1之疏水層5之再生方法係藉由電漿、紫外線照射、或鹼清洗中之至少1種以上之方法將附著於疏水層5之附著物及該疏水層5削除後再次形成疏水層5。

即，於因液體之重複噴出而導致疏水層5之一部分剝落之情形時，或液滴於疏水層5固化之情形時，或其他附著物附著於疏水層5之情形時，藉由物理性之機械加工、電漿、紫外線照射、或鹼清洗中之至少1種以上之方法將化學鍵切斷，藉此，可容易將疏水層5、及疏水層5之附著物剝除、削除。而且，由於疏水層5之膜厚亦薄為1~4 nm，故而可容易再次塗佈疏水層5。

再者，於上述各種疏水層5等之去除方法中，電漿處理中有氧電漿處理、或氬電漿處理。又，紫外線照射包含臭氧處理。如此，於削除疏水層5等時，可應用物理性之機 械加工、化學性之去除方法。

又，於上述各種疏水層5等之去除方法中，較佳為氬電漿及氧電漿，最佳為氧電漿。其原因在於，於形成疏水層5等之情形時，於真空腔室內進行膜形成。因此，由於氬電漿及氧電漿處理亦可於同一真空腔室內進行，故而無需於中途將覆膜形成對象之液體噴出噴嘴1曝露於大氣中。其結果，不會附著大氣中之懸浮固體，故而可於潔淨狀態下進行膜形成。進而，與氬電漿相比，氧電漿較為普通，成本亦較低。

如此，藉由對伴隨液體之重複噴出所致之膜之劣化之膜再生進行氧電漿等處理，而僅將表面之氟系疏水層去除，藉此，作為底層之氧化矽(SiO₂ )層4露出，而可於潔淨化之狀態下再次形成氟系疏水層。

因此，可提供一種防止堵塞並且即便疏水層5剝落或附著有附著物亦可容易使疏水層5再生，結果可確保長壽命之液體噴出噴嘴1之疏水層5之再生方法。

再者，本發明並不限定於上述實施形態，可於本發明之範圍內進行各種變更。例如，於上述實施形態中，液體噴出噴嘴1之下側如噴出筒20般成為筒狀，但並非限定於此。即，本發明之液體噴出噴嘴1可應用於圖3(a)、圖3(b)及圖3(c)所示之各類型之液體噴出噴嘴。

即，圖3(a)所示之液體噴出噴嘴1為錐型。該類型之液體噴出噴嘴1之噴出部為錐狀，於該噴出部中流速增加，並保持不受內部直線配管阻抗之影響之狀態下之流速。該類 型之液體噴出噴嘴1之阻抗較少，相應地噴出液本身之不穩定性對流速產生不良影響，定量性容易變差。

其次，圖3(b)所示之液體噴出噴嘴1為錐+直線型。該類型之液體噴出噴嘴1之噴出部為直線型，於上側之錐狀中流速增加，但由於內徑為直線之噴出部中之配管阻抗而使速度降低，流速穩定為某固定速度。該類型之液體噴出噴嘴1之阻抗較大，但定量性較高。

其次，圖3(c)所示之液體噴出噴嘴1係本實施形態中已說明者，其係錐+台階+直線型。該類型之液體噴出噴嘴1係於上側之錐狀部分增加流速，但因階差之影響而產生滯留，流速降低。而且，於流速降低時，內徑為直線之噴出部中之配管阻抗增加，流速進一步降低。該類型之液體噴出噴嘴1整體上流動性較為遲鈍，從而促進噴出液體之硬化。

又，於上述說明中，對本實施形態之液體噴出噴嘴1為用以塗佈LED(Light Emitting Diode：發光二極體)之螢光體之樹脂者進行了說明。然而，本發明之液體噴出噴嘴1並非限定於此，進而可應用於廣範圍之液體材料。

即，基於圖4對可應用本實施形態之液體噴出噴嘴1之液體材料進行說明。圖4係表示液體材料與液體噴出方式之關係之圖。

如圖4所示，於液體噴出裝置中，除了低塗佈直徑之噴墨以外，亦存在用以中~高塗佈直徑之空氣脈衝方式(包含閥門型)、螺旋泵方式(螺桿)、活塞泵方式(柱塞)及噴射方 式。

上述空氣脈衝方式(包含閥門型)係調整壓力與時間而進行噴出者，螺旋泵方式(螺桿)係藉由使螺桿旋轉而進行液體之噴出者。又，活塞泵方式(柱塞)係機械地調整(測量容積)柱塞之行程量而不會對黏度變化產生影響者。進而，噴射方式係自與工件分離之位置以非接觸方式自噴嘴高速送出液體而噴射、射出液體者。

此處，本實施形態之液體噴出噴嘴1可應用於該等用以中~高塗佈直徑之空氣脈衝方式(包含閥門型)、螺旋泵方式(螺桿)、活塞泵方式(柱塞)及噴射方式。即，於本實施形態之液體噴出噴嘴1中，可於噴出筒20之內壁面20b等設置疏水層5而減小液體之流動阻抗。因此，尤其於液體之流速較快之噴射方式中，藉由應用於黏性較高之液體而可減輕負荷。另一方面，空氣脈衝方式(包含閥門型)、螺旋泵方式(螺桿)、及活塞泵方式(柱塞)可於即便為低黏度之液體亦欲降低液體之流動阻抗之情形時使用。

如上所述，於本發明之液體噴出噴嘴中，上述噴出液可設為樹脂材料。

藉此，由於樹脂材料與墨水相比黏性較高，故而藉由使其成為本發明之液體噴出噴嘴之噴出介質，而可更大程度地獲得本發明之效果。

再者，本發明並不限定於上述各實施形態，可於申請專利範圍所示之範圍內進行各種變更，關於將本實施形態中分別揭示之技術性手段適當組合而獲得之實施形態亦包含 於本發明之技術性範圍內。

[產業上之可利用性]

本發明之液體噴出噴嘴可應用於用以塗佈LED(Light Emitting Diode：發光二極體)之螢光體之樹脂之液體噴出噴嘴、及於液體噴出噴嘴之疏水層再生方法。

即，可較佳應用於黏性較高之樹脂等噴出液、或表面張力較大之噴出液。又，可於即便為低黏度之液體亦欲降低液體之流動阻抗之情形時使用。

1‧‧‧液體噴出噴嘴

2‧‧‧內外壁面

3‧‧‧氧化鋁(Al₂ O₃ )層

4‧‧‧氧化矽(SiO₂ )層

5‧‧‧疏水層

10‧‧‧儲液容器

10a‧‧‧儲液容器之內壁面

11‧‧‧筒狀儲液容器

12‧‧‧圓錐狀儲液容器

20‧‧‧噴出筒(噴出部)

20a‧‧‧噴出口前端

20b‧‧‧噴出筒之內壁面

圖1(a)係表示本發明之液體噴出噴嘴之一實施形態，且係表示包含圓錐狀儲液容器與噴出筒之液體噴出噴嘴之構成之剖面圖。

圖1(b)係表示形成於上述噴出筒之噴出口前端、噴出筒之內壁面、及儲液容器之內壁面之疏水層之剖面圖。

圖2(a)係表示上述液體噴出噴嘴之構成之前視圖。

圖2(b)係表示上述液體噴出噴嘴之構成之仰視圖。

圖3(a)係表示錐型液體噴出噴嘴之剖面圖。

圖3(b)係表示錐+直線型液體噴出噴嘴之剖面圖。

圖3(c)係表示錐+台階+直線型液體噴出噴嘴之剖面圖。

圖4係表示液體材料與液體噴出方式之關係之圖表。

圖5係表示先前之液體噴出噴嘴之構成之剖面圖。

1‧‧‧液體噴出噴嘴

2‧‧‧內外壁面

3‧‧‧氧化鋁(Al₂ O₃ )層

4‧‧‧氧化矽(SiO₂ )層

5‧‧‧疏水層

10‧‧‧儲液容器

10a‧‧‧儲液容器之內壁面

12‧‧‧圓錐狀儲液容器

20‧‧‧噴出筒(噴出部)

20a‧‧‧噴出口前端

20b‧‧‧噴出筒之內壁面

Claims (4)

1. 一種液體噴出噴嘴，其特徵在於包括：儲液容器，其收容噴出液；及噴出部，其與該儲液容器之下側連通；且於上述噴出部之噴出口前端、噴出部之內壁面、及儲液容器之內壁面設置有疏水層，並且上述疏水層包含氟系疏水層，作為上述氟系疏水層之底層，使用有氧化鋁層與氧化矽層之積層膜，上述氧化矽層與上述氧化鋁層相接而形成於上述氧化鋁層上，且上述氟系疏水層與上述氧化矽層相接而形成，經積層之上述氧化鋁層、氧化矽層及氟系疏水層之總膜厚為25nm以下，上述氟系疏水層之膜厚為1~4nm。
2. 如請求項1之液體噴出噴嘴，其中上述噴出液為樹脂材料。
3. 一種液體噴出噴嘴之疏水層再生方法，其特徵在於：其係如請求項1之液體噴出噴嘴之疏水層再生方法，且係藉由電漿、紫外線照射、或鹼清洗中之至少1種以上之方法將附著於上述疏水層之附著物及該疏水層削除後，再次形成疏水層。
4. 一種液體噴出噴嘴之疏水層再生方法，其特徵在於：其係如請求項2之液體噴出噴嘴之疏水層再生方法，且係藉由電漿、紫外線照射、或鹼清洗中之至少1種以上之方法將附著於上述疏水層之附著物及該疏水層削除後，再次形成疏水層。