TWI474111B - 活性能量線硬化性樹脂組成物、成形品、微細凹凸構造體、撥水性物品、模具以及微細凹凸構造體的製造方法 - Google Patents

活性能量線硬化性樹脂組成物、成形品、微細凹凸構造體、撥水性物品、模具以及微細凹凸構造體的製造方法 Download PDF

Info

Publication number
TWI474111B
TWI474111B TW101113261A TW101113261A TWI474111B TW I474111 B TWI474111 B TW I474111B TW 101113261 A TW101113261 A TW 101113261A TW 101113261 A TW101113261 A TW 101113261A TW I474111 B TWI474111 B TW I474111B
Authority
TW
Taiwan
Prior art keywords
convex structure
fine concavo
mold
resin composition
active energy
Prior art date
Application number
TW101113261A
Other languages
English (en)
Other versions
TW201248320A (en
Inventor
瀧原毅
岡本英子
Original Assignee
三菱麗陽股份有限公司
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 三菱麗陽股份有限公司 filed Critical 三菱麗陽股份有限公司
Publication of TW201248320A publication Critical patent/TW201248320A/zh
Application granted granted Critical
Publication of TWI474111B publication Critical patent/TWI474111B/zh

Links

Classifications

    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B29—WORKING OF PLASTICS; WORKING OF SUBSTANCES IN A PLASTIC STATE IN GENERAL
    • B29C—SHAPING OR JOINING OF PLASTICS; SHAPING OF MATERIAL IN A PLASTIC STATE, NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; AFTER-TREATMENT OF THE SHAPED PRODUCTS, e.g. REPAIRING
    • B29C59/00—Surface shaping of articles, e.g. embossing; Apparatus therefor
    • B29C59/02—Surface shaping of articles, e.g. embossing; Apparatus therefor by mechanical means, e.g. pressing
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08F—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
    • C08F2/00—Processes of polymerisation
    • C08F2/46—Polymerisation initiated by wave energy or particle radiation
    • C08F2/48—Polymerisation initiated by wave energy or particle radiation by ultraviolet or visible light
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B29—WORKING OF PLASTICS; WORKING OF SUBSTANCES IN A PLASTIC STATE IN GENERAL
    • B29C—SHAPING OR JOINING OF PLASTICS; SHAPING OF MATERIAL IN A PLASTIC STATE, NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; AFTER-TREATMENT OF THE SHAPED PRODUCTS, e.g. REPAIRING
    • B29C59/00—Surface shaping of articles, e.g. embossing; Apparatus therefor
    • B29C59/16—Surface shaping of articles, e.g. embossing; Apparatus therefor by wave energy or particle radiation, e.g. infrared heating
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08F—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
    • C08F20/00—Homopolymers and copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and only one being terminated by only one carboxyl radical or a salt, anhydride, ester, amide, imide or nitrile thereof
    • C08F20/02—Monocarboxylic acids having less than ten carbon atoms, Derivatives thereof
    • C08F20/10—Esters
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08L—COMPOSITIONS OF MACROMOLECULAR COMPOUNDS
    • C08L33/00—Compositions of homopolymers or copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and only one being terminated by only one carboxyl radical, or of salts, anhydrides, esters, amides, imides or nitriles thereof; Compositions of derivatives of such polymers
    • C08L33/04—Homopolymers or copolymers of esters
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B1/00—Optical elements characterised by the material of which they are made; Optical coatings for optical elements
    • G02B1/10—Optical coatings produced by application to, or surface treatment of, optical elements
    • G02B1/11—Anti-reflection coatings
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B1/00—Optical elements characterised by the material of which they are made; Optical coatings for optical elements
    • G02B1/10—Optical coatings produced by application to, or surface treatment of, optical elements
    • G02B1/11—Anti-reflection coatings
    • G02B1/118—Anti-reflection coatings having sub-optical wavelength surface structures designed to provide an enhanced transmittance, e.g. moth-eye structures
    • H—ELECTRICITY
    • H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10P—GENERIC PROCESSES OR APPARATUS FOR THE MANUFACTURE OR TREATMENT OF DEVICES COVERED BY CLASS H10
    • H10P76/00—Manufacture or treatment of masks on semiconductor bodies, e.g. by lithography or photolithography
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B1/00—Optical elements characterised by the material of which they are made; Optical coatings for optical elements
    • G02B1/04—Optical elements characterised by the material of which they are made; Optical coatings for optical elements made of organic materials, e.g. plastics
    • Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10T—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
    • Y10T428/00—Stock material or miscellaneous articles
    • Y10T428/24—Structurally defined web or sheet [e.g., overall dimension, etc.]
    • Y10T428/24355—Continuous and nonuniform or irregular surface on layer or component [e.g., roofing, etc.]

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Health & Medical Sciences (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Medicinal Chemistry (AREA)
  • Polymers & Plastics (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Optics & Photonics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • Toxicology (AREA)
  • Shaping Of Tube Ends By Bending Or Straightening (AREA)
  • Polymerisation Methods In General (AREA)
  • Surface Treatment Of Optical Elements (AREA)
  • Addition Polymer Or Copolymer, Post-Treatments, Or Chemical Modifications (AREA)
  • Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
  • Paints Or Removers (AREA)

Description

活性能量線硬化性樹脂組成物、成形品、微細凹凸構造體、撥水性物品、模具以及微細凹凸構造體的製造方法
本發明是有關於一種活性能量線硬化性樹脂組成物、使用該活性能量線硬化性樹脂組成物而形成的成形品、微細凹凸構造體、撥水性物品、模具以及微細凹凸構造體的製造方法，上述活性能量線硬化性樹脂組成物能夠形成兼具水滴滾落性等優異的撥水效果、及高耐擦傷性的微細凹凸構造體等。
已知表面具有規則地配置有微細尺寸的凹凸的微細凹凸構造的微細凹凸構造體，使折射率連續變化而表現出抗反射性能。為了使微細凹凸構造表現出良好的抗反射性能，相鄰的凸部或者凹部的間隔必需是可見光的波長以下的尺寸。另外，微細凹凸構造體亦可藉由蓮花效應(lotus effect)而表現出超撥水性能。
形成微細凹凸構造的方法例如提出有：使用形成有微細凹凸構造的反轉構造的模具來進行射出成形或擠壓成形的方法；在模具與透明基材之間配置活性能量線硬化性樹脂組成物(以下亦稱為「樹脂組成物」)，藉由活性能量線的照射而使樹脂組成物硬化，轉印模具的凹凸形狀後剝離模具的方法；對樹脂組成物轉印模具的凹凸形狀後剝離模具，然後照射活性能量線而使樹脂組成物硬化的方法等。該些方法中，若考慮到微細凹凸構造的轉印性、表面組成的自由度，則較佳為藉由活性能量線的照射而使樹脂組成 物硬化來轉印微細凹凸構造的方法。該方法特別適合於可連續生產的使用帶狀或輥狀模具的情況，是生產性優異的方法。
此種微細凹凸構造體與使用相同的樹脂組成物來製作的表面平滑的硬塗層等成形體相比，耐擦傷性差，在使用中的耐久性方面存在問題。另外，在用於製作微細凹凸構造體的樹脂組成物並不充分牢固的情況下，藉由從鑄模上的脫模或加熱，容易產生突起彼此接近的現象。
容易表現出撥水性的方法已知有在樹脂組成物中調配氟系化合物或聚矽氧系化合物等撥水性成分的方法。尤其可藉由使用氟系化合物來極度降低表面自由能量。進而，氟系化合物亦可表現出聚矽氧系化合物所無法達成的撥油性。
例如專利文獻1中揭示有使用特定構造的氟系單體成分的耐擦傷性及防污性優異的硬化皮膜。另外，專利文獻2中揭示有含有含氟聚合物的硬化性組成物。此外，專利文獻3中揭示有能夠賦予防污性及潤滑性的含有矽及氟兩者的聚合物。
然而，專利文獻1中記載有：若添加2質量份以上的氟系單體，則透明性受損。另外，為了使氟系單體與多官能單體均勻相容，需要有機溶劑。在此情況下，只要是在塗佈了塗佈溶液後，經過乾燥步驟，藉由活性能量線照射而聚合、硬化的製程，則在製造上並無大問題，但若是在流入至鑄模中的狀態下藉由活性能量線照射而聚合、硬 化，然後脫模的製程，則溶劑會殘留於硬化物中而使成形品變脆弱。
專利文獻2中記載有含氟聚合物與多官能單體難以相容的情況作為課題，為了解決課題而使多官能單體的構造成為特定的構造。另外，專利文獻2及專利文獻3中均適當使用溶劑而與多官能單體相容。在此情況下，不經過乾燥步驟的聚合、硬化製程會有問題。另外，該些低聚物或聚合物具有聚合性反應基，但在提高交聯密度方面存在限制，尤其無法獲得對於用作微細凹凸構造體而言令人滿意的硬度。
進而，上述發明防止在溶劑揮發的過程中含氟的防污成分會移往表層。因此，在流入至鑄模中的狀態下照射活性能量線而聚合、硬化後進行脫模的成形方法中，不可能形成相同程度的撥水、撥油性。
如上所述，用以形成防污性的含氟硬化性組成物已提出有多種，但作為用以形成微細凹凸構造的樹脂組成物，並非充分滿足耐擦傷性者。另外，藉由鑄模中的聚合、硬化，無法對表面賦予撥水、撥油性。
另一方面，專利文獻4、專利文獻5及專利文獻6中揭示有如下的後加工處理：在微細凹凸構造體的表面塗佈氟系化合物，以矽烷偶合反應等來維繫。依據此種後加工處理，能夠對微細凹凸構造體賦予某種程度的耐擦傷性，但存在有表層的剝離或滑落發生，或者製造成本增加等問題。
因此，本發明者等人鑒於以上所說明的各種情況，提出有能夠形成兼具高耐擦傷性及良好撥水性的微細凹凸構造體等的活性能量線硬化性樹脂組成物、以及使用該活性能量線硬化性樹脂組成物的微細凹凸構造體及其製造方法、以及具備微細凹凸構造體的撥水性物品(專利文獻7)。依據該發明，藉由使用與通用多官能單體相容的特定構造的撥水性成分，而不需要溶劑，不經過如後加工處理之類的複雜步驟，就能夠製造兼具撥水性的微細凹凸構造體。
然而，專利文獻7中揭示的發明亦使用特殊的聚矽氧系化合物。因此，期望一種能夠使用更價廉且容易獲取的原料來形成表現出良好撥水性的微細凹凸構造體等的活性能量線硬化性樹脂組成物。
[先前技術文獻] [專利文獻]
[專利文獻1]日本專利特開2009-114248號公報
[專利文獻2]日本專利特開2009-167354號公報
[專利文獻3]日本專利特開2009-249558號公報
[專利文獻4]日本專利特開2007-196383號公報
[專利文獻5]日本專利特開2007-144916號公報
[專利文獻6]日本專利特開2010-201799號公報
[專利文獻7]日本專利特開2010-275525號公報
本發明是為了解決以上的各課題而形成。即，本發明 的目的在於提供一種活性能量線硬化性樹脂組成物、使用該活性能量線硬化性樹脂組成物而形成的成形品、微細凹凸構造體、撥水性物品、模具以及微細凹凸構造體的製造方法，上述活性能量線硬化性樹脂組成物可提供如下硬化物，該硬化物藉由形成於表面的微細凹凸構造而表現出抗反射功能，即便不使用含氟化合物或聚矽氧系化合物，亦表現出優異的撥水性，且兼具高耐擦傷性。
本發明是一種活性能量線硬化性樹脂組成物，其以全部單體的含量的合計100質量份為基準，包含：具有碳數12以上的烷基的(甲基)丙烯酸烷基酯(A)3質量份~18質量份；以及分子內具有3個以上自由基聚合性官能基的多官能單體(B)82質量份~97質量份，以費多(Fedor)的推算法所表示的該多官能單體(B)的溶解度參數(solubility parameter，sp)值為20~23。
另外，本發明是包含上述活性能量線硬化性樹脂組成物的硬化物的成形品、作為該硬化物且表面具有微細凹凸構造的微細凹凸構造體、具備該微細凹凸構造體的撥水性物品、具備該微細凹凸構造體的模具。
另外，本發明是一種微細凹凸構造體的製造方法，該微細凹凸構造體具有基材、及表面具有微細凹凸構造的硬化物，
上述微細凹凸構造體的製造方法是在形成有微細凹凸構造的反轉構造的模具與基材之間，配置上述活性能量線硬化性樹脂組成物，照射活性能量線而使上述活性能量線 硬化性樹脂組成物硬化，剝離模具，形成表面具有微細凹凸構造的硬化物。
另外，本發明是一種微細凹凸構造體的製造方法，該微細凹凸構造體具有基材、及表面具有微細凹凸構造的熱塑性樹脂層， 上述微細凹凸構造體的製造方法是在基材上配置熱塑性樹脂，將上述模具一邊加熱一邊按壓，加以冷卻，剝離該模具，在該熱塑性樹脂的層的表面形成該模具的微細凹凸構造的反轉構造。
此外，本發明是一種微細凹凸構造體的製造方法，該微細凹凸構造體具有基材、及表面具有微細凹凸構造的硬化物， 上述微細凹凸構造體的製造方法是在上述模具與基材之間配置活性能量線硬化性樹脂組成物，照射活性能量線而使上述活性能量線硬化性樹脂組成物硬化，剝離模具，形成表面具有該模具的微細凹凸構造的反轉構造的硬化物。
本發明的活性能量線硬化性樹脂組成物藉由具有碳數12以上的烷基的(甲基)丙烯酸烷基酯(A)，而表現出撥水性，並且藉由多官能單體(B)而表現出適度的硬度，包含該活性能量線硬化性樹脂組成物的硬化物的成形體的機械特性優異，適合於製造表面具有微細凹凸構造的微細凹凸構造體。另外，由於多官能單體(B)具有特定的物性 及構造，故而當使用具有碳數12以上的烷基的(甲基)丙烯酸烷基酯(A)時，可確保上述樹脂組成物的操作性，而且硬化物可表現出良好的撥水性。其結果為，本發明的微細凹凸構造體的耐擦傷性優異，且撥水效果優異。
[(甲基)丙烯酸烷基酯(A)]
本發明所使用的(甲基)丙烯酸烷基酯(A)是分子內具有1個以上(較佳為1個)(甲基)丙烯醯氧基作為自由基聚合性官能基，且具有碳數12以上的烷基的化合物。
(甲基)丙烯酸烷基酯(A)的碳數12以上的烷基是構成(甲基)丙烯酸酯的酯構造的部分。藉由該烷基的碳數為12以上，可對硬化物賦予良好的撥水性，難以在具有微細凹凸構造的表面附著水滴，並且可使附著的水滴容易滾落。烷基可具有分支，但就撥水性方面而言，較佳為直鏈狀。烷基的碳數為12以上，較佳為12~22，更佳為12~18，特佳為16~18。藉由將烷基的碳數設為22以下，直鏈狀烷基的情況的操作性特別優異，例如容易藉由加熱而成為液狀，在室溫下亦難以成為蠟狀。在直鏈狀烷基的情況下，其碳數最佳為16。
(甲基)丙烯酸烷基酯(A)較佳為分子內具有1個(甲基)丙烯醯氧基作為自由基聚合性官能基。藉此，與多官能單體(B)一起形成聚合物而獲得的硬化物中，存在抑制滲出的傾向。另外，藉由自由基聚合性官能基為1個，烷基鏈變得容易凝集，容易對硬化物賦予撥水性。
(甲基)丙烯酸烷基酯(A)藉由與多官能單體(B)的組合，加熱時相容而形成透明清澄的硬化性樹脂組成物，但亦存在若冷卻至室溫，則產生白濁、或者分離的情況。另外，亦存在硬化物產生渾濁或模糊的情況。但是，若(甲基)丙烯酸烷基酯(A)與多官能單體(B)為充分相容的組合，則難以表現出撥水性。考慮到上述方面，較佳為設為在將硬化性樹脂組成物進行處理的方面並無不便，且硬化物表現出撥水性的組合。
(甲基)丙烯酸烷基酯(A)的具體例可列舉：(甲基)丙烯酸月桂酯(lauryl(meth)acrylate)、(甲基)丙烯酸肉豆蔻酯(myristyl(meth)acrylate)、(甲基)丙烯酸鯨蠟酯(cetyl (meth)acrylate)、(甲基)丙烯酸硬脂酯(stearyl (meth)acrylate)、(甲基)丙烯酸山萮酯(behenyl (meth)acrylate)。該些可單獨使用1種，亦可併用2種以上。此外，(甲基)丙烯酸酯是指甲基丙烯酸酯或者丙烯酸酯。市售品有：日油製造的「Blemmer LA」、「Blemmer CA」、「Blemmer SA」、「Blemmer VA」、「Blemmer LMA」、「Blemmer CMA」、「Blemmer SMA」、「Blemmer VMA」；新中村化學製造的「NK Ester S-1800A」、「NK Ester S-1800M」等(以上全部為商品名)。
以組成物中所含的全部單體的含量的合計100質量份為基準，(甲基)丙烯酸烷基酯(A)的含量為3質量份~18質量份，較佳為3質量份~12質量份，更佳為3質量份~10質量份，特佳為5質量份~8質量份。藉由將(甲基)丙 烯酸烷基酯(A)的含量設為3質量份以上，則獲得良好的撥水性。藉由將(甲基)丙烯酸烷基酯(A)的含量設為18質量份以下，則抑制交聯密度下降，可使硬化物的耐擦傷性維持良好。
[多官能單體(B)]
本發明所使用的多官能單體(B)是樹脂組成物的主成分，不僅使硬化物的機械特性、特別是耐擦傷性維持良好，而且發揮引發與硬化相伴的相分離的作用。多官能單體(B)在分子內具有3個以上的自由基聚合性官能基。藉此，硬化物的交聯點間分子量減小，提高交聯密度，提高硬化物的彈性模數或硬度，可形成耐擦傷性優異者。代表性的該自由基聚合性官能基為(甲基)丙烯醯基。
多官能單體(B)表示費多的推算法所表示的特定的sp值。所謂sp值，是指溶解性參數或者溶解度參數，是成為判斷溶質是否溶解於溶劑中，或不同種的液體是否混雜等溶解性時的指標的值。通常，導出sp值的方法有根據液體的蒸發熱來計算的方法、或藉由將基於各化學構造的值累計而算出的方法等多種方法，例如已知有：希爾德布蘭德(Hildebrand)的sp值、漢森(Hansen)的sp值、克里弗倫(Krevelen)的推算法、費多的推算法。該些方法在資訊機構發刊的「SP值基礎、應用與計算方法」中有詳細說明。本發明中使用將根據化學構造的值累計的費多的推算法。
本發明中，sp值成為單體彼此的溶解性的指標。多官 能單體(B)的藉由費多的推算法而導出的sp值為20~23，較佳為20.5~23，更佳為20.5~22.5。藉由將上述sp值設為20以上，多官能單體(B)與(甲基)丙烯酸烷基酯(A)不會過度相容，可表現出硬化物的撥水性。另外，不需要為了與(甲基)丙烯酸烷基酯(A)適度相容來獲得透明、清澄的硬化性樹脂組成物而進行過度的加熱等，因此操作性優異。
另外，作為進一步的溶解性的指標，較佳為將多官能單體(B)95質量份與丙烯酸硬脂酯5質量份混合，加熱而使其溶解後，冷卻至25℃時產生白濁或沈澱，或者在靜置一晚時兩成分會分離。
多官能單體(B)例如可使用環氧(甲基)丙烯酸酯、聚酯(甲基)丙烯酸酯、聚醚(甲基)丙烯酸酯等3官能以上的(甲基)丙烯酸酯。其具體例可列舉：甘油三(甲基)丙烯酸酯、季戊四醇三(甲基)丙烯酸酯、季戊四醇四(甲基)丙烯酸酯、二季戊四醇五(甲基)丙烯酸酯、二季戊四醇六(甲基)丙烯酸酯、以及它們的乙氧基改質物。該些可單獨使用1種，亦可併用2種以上。另外，市售品例如可列舉：新中村化學工業公司製造的「NK Ester」系列的ATM-4E，日本化藥製造的「KAYARAD」系列的DPEA-12，東亞合成製造的「Aronix」系列的M-305、M-450、M-400、M-405，Daicel Cytec公司製造的「EBECRYL 40」(以上全部為商品名)。
將多官能單體(B)的分子量除以自由基聚合性官能基的數量而得的值(分子量/自由基聚合性官能基的數量) 較佳為200以下，更佳為180以下，特佳為110~150。該些各範圍在硬化物的彈性模數或硬度以及形成微細凹凸構造的硬化物的耐擦傷性方面有意義。例如，在三羥甲基丙烷三丙烯酸酯的情況下，其分子量為296，自由基聚合性官能基的數量為3。因此，分子量/自由基聚合性官能基的數量=98.7。
以組成物中所含的全部單體的含量的合計100質量份為基準，多官能單體(B)的含量為82質量份~97質量份，較佳為85質量份~97質量份，更佳為90質量份~95質量份。藉由將多官能單體(B)的含量設為82質量份以上，則獲得良好的硬化物的彈性模數、硬度、耐擦傷性。藉由將多官能單體(B)的含量設為97質量份以下，則硬化物的耐擦傷性提高，可抑制變得脆弱，且可抑制在剝離用以形成凹凸構造的模具時產生裂紋。此外，在形成微細凹凸構造的情況下，表面形成的突起的形狀越細長，高度越高，則越難以維持其形狀，因此要求高硬度的樹脂。但是，例如即便是突起高度超過180nm的情況，只要多官能單體(B)的含量為上述範圍內，則亦可使微細凹凸構造維持良好。
[單體(C)]
活性能量線硬化性樹脂組成物還可包含具有1個以上自由基聚合性官能基的單體(C)。該單體(C)是可與(甲基)丙烯酸烷基酯(A)以及多官能單體(B)共聚合的單體，較佳為不僅使作為樹脂組成物整體的聚合反應性維持 良好，而且進一步提高操作性或與基材的密著性的單體。
單體(C)較佳為分子內不含氟原子以及聚矽氧，但亦可以不損及撥水性的程度在分子內包含氟原子及/或聚矽氧。其原因在於：不會對(甲基)丙烯酸烷基酯(A)與多官能單體(B)的相容狀態造成影響，不太會損及耐擦傷性或與基材的密著性。另外，作為單體(C)，就不會對(甲基)丙烯酸烷基酯(A)與多官能單體(B)的相容狀態造成影響，且不會損及撥水性的方面而言，較佳為不大量使用的以費多的推算法所表示的sp值為20以上的單體。
單體(C)的具體例可列舉：(甲基)丙烯酸甲酯、(甲基)丙烯酸乙酯、(甲基)丙烯酸正丁酯、(甲基)丙烯酸異丁酯、(甲基)丙烯酸第三丁酯、(甲基)丙烯酸2-乙基己酯等(甲基)丙烯酸烷基酯；(甲基)丙烯酸苄酯；(甲基)丙烯酸四氫糠酯；(甲基)丙烯酸二甲胺基乙酯、(甲基)丙烯酸二甲胺基丙酯等具有胺基的(甲基)丙烯酸酯；(甲基)丙烯酸2-羥乙酯、(甲基)丙烯酸羥丙酯等具有羥基的(甲基)丙烯酸酯；(甲基)丙烯醯基嗎啉、N,N-二甲基(甲基)丙烯醯胺等(甲基)丙烯醯胺衍生物；2-乙烯基吡啶；4-乙烯基吡啶；N-乙烯基吡咯啶酮；N-乙烯基甲醯胺；乙酸乙烯酯。該些可單獨使用1種，亦可併用2種以上。其中，(甲基)丙烯醯基嗎啉、(甲基)丙烯酸2-羥乙酯、N,N-二甲基(甲基)丙烯醯胺、N-乙烯基吡咯啶酮、N-乙烯基甲醯胺、(甲基)丙烯酸甲酯、(甲基)丙烯酸乙酯由於體積不大，能夠促進樹脂組成物的聚合反應性，故而較佳。另外，在使用丙烯酸系膜作為後述基 材的情況下，特佳為(甲基)丙烯酸甲酯、(甲基)丙烯酸乙酯。
以組成物中所含的全部單體的含量的合計100質量份為基準，單體(C)的含量較佳為0質量份~15質量份，更佳為0質量份~10質量份，特佳為1質量份~10質量份，最佳為3質量份~8質量份。藉由將單體(C)的含量設為15質量份以下，可使樹脂組成物效率良好地硬化，能夠抑制殘存單體發揮作為塑化劑的作用而對硬化物的彈性模數或耐擦傷性造成不良影響。在包含氟原子及/或聚矽氧的情況下，較佳為以組成物中所含的全部單體的含量的合計100質量份為基準，單體(C)的含量為10質量份以下。
(甲基)丙烯酸烷基酯(A)、多官能單體(B)以及單體(C)只要分別在上述各範圍內適當調整其含有比例即可。尤其單體(C)的含量較佳為藉由調整(甲基)丙烯酸烷基酯(A)的含量來決定。
[助滑劑(D)]
活性能量線硬化性樹脂組成物較佳為包含助滑劑(D)。助滑劑(D)是存在於樹脂硬化物的表面，減少表面的摩擦，提高耐擦傷性的化合物。助滑劑(D)的市售品例如可列舉：Toray Dow Corning製造的「SH3746FLUID」、「FZ-77」，信越化學工業製造的「KF-355A」、「KF-6011」(以上全部為商品名)。該些可單獨使用1種，亦可併用2種以上。
相對於組成物中所含的全部單體的含量的合計100質量份，助滑劑(D)的含量較佳為0.01質量份~5質量份， 更佳為0.1質量份~2質量份。藉由將助滑劑(D)的含量設為0.01質量份以上，樹脂組成物的硬化性優異，硬化物的機械特性、尤其是耐擦傷性變得良好。藉由將助滑劑(D)的含量設為5質量份以下，能夠抑制由殘存於硬化物內的助滑劑引起的彈性模數以及耐擦傷性的降低或著色。
[其他含有物]
活性能量線硬化性樹脂組成物較佳為包含活性能量線聚合起始劑。該活性能量線聚合起始劑是藉由活性能量線的照射而開裂，產生引發聚合反應的自由基的化合物。所謂活性能量線，例如是指電子束、紫外線、可見光線、電漿、紅外線等熱射線等。尤其就裝置成本或生產性的觀點而言，較佳為使用紫外線。
活性能量線聚合起始劑的具體例可列舉：二苯甲酮(benzophenone)、4,4-雙(二乙胺基)二苯甲酮(4,4-bis(diethylamino)benzophenone)、2,4,6-三甲基二苯甲酮(2,4,6-trimethyl benzophenone)、鄰苯甲醯基苯甲酸甲酯(methyl orthobenzoyl benzoate)、4-苯基二苯甲酮(4-phenyl benzophenone)、第三丁基蒽醌(t-butyl anthraquinone)、2-乙基蒽醌(2-ethyl anthraquinone)；2,4-二乙基噻噸酮(2,4-diethyl thioxanthone)、異丙基噻噸酮(isopropyl thioxanthone)、2,4-二氯噻噸酮(2,4-dichloro thioxanthone)等噻噸酮類；二乙氧基苯乙酮(diethoxy acetophenone)、2-羥基-2-甲基-1-苯基丙烷-1-酮(2-hydroxy-2-methyl-1-phenylpropane-1-one)、苄基二甲基縮酮(benzyl dimethyl ketal)、1-羥基環己基-苯基酮(1-hydroxycyclo hexyl-phenylketone)、2-甲基-2-嗎啉基(4-硫甲基苯基)丙烷-1-酮(2-methyl-2-morpholino(4-thiomethyl phenyl)propane-1-one)、2-苄基-2-二甲胺基-1-(4-嗎啉基苯基)-丁酮(2-benzyl-2-dimethylamino-1-(4-morpholinophenyl)-butan one)等苯乙酮類；安息香甲醚(benzoin methylether)、安息香乙醚(benzoin ethylether)、安息香異丙醚(benzoin isopropyl ether)、安息香異丁醚(benzoin isobutylether)等安息香醚類；2,4,6-三甲基苯甲醯基二苯基氧化膦(2,4,6-trimethylbenzoyl diphenyl phosphine oxide)、雙(2,6-二甲氧基苯甲醯基)-2,4,4-三甲基戊基氧化膦(bis(2,6-dimethoxy benzoyl)-2,4,4-trimethylpentyl phosphine oxide)、雙(2,4,6-三甲基苯甲醯基)-苯基氧化膦(bis(2,4,6-trimethylbenzoyl)-phenyl phosphine oxide)等醯基氧化膦類；苯甲醯基甲酸甲酯(methyl benzoyl formate)、1,7-雙吖啶基庚烷(1,7-bisacridinylheptane)、9-苯基吖啶(9-phenylacridine)。該些可單獨使用1種，亦可併用2種以上。特佳為將吸收波長不同的2種以上併用。另外，視需要，亦可將過硫酸鉀、過硫酸銨等過硫酸鹽，過氧化苯甲醯等過氧化物，偶氮系起始劑等熱聚合起始劑併用。
相對於組成物中所含的全部單體的含量的合計100質量份，活性能量線聚合起始劑的含量較佳為0.01質量份~10質量份，更佳為0.1質量份~5質量份，特佳為0.2質量份~3質量份。藉由將活性能量線聚合起始劑的含量設 為0.01質量份以上，則樹脂組成物的硬化性優異，硬化物的機械特性、尤其是耐擦傷性變得良好。藉由將活性能量線聚合起始劑的含量設為10質量份以下，能夠抑制由殘存於硬化物內的聚合起始劑引起的彈性模數以及耐擦傷性的降低或著色。
活性能量線硬化性樹脂組成物可包含活性能量線吸收劑及/或抗氧化劑。活性能量線吸收劑較佳為吸收樹脂組成物硬化時所照射的活性能量線，能夠抑制樹脂的劣化者。活性能量線吸收劑例如可列舉：二苯甲酮系紫外線吸收劑、苯并三唑(benzotriazole)系紫外線吸收劑、苯甲酸酯系紫外線吸收劑。其市售品例如可列舉：Ciba Specialty Chemicals公司製造的「Tinuvin(註冊商標)」系列的400或479、共同藥品公司製造的「Viosorb(註冊商標)」系列的110。抗氧化劑例如可列舉：酚系抗氧化劑、磷系抗氧化劑、硫系抗氧化劑、受阻胺系抗氧化劑。其市售品例如可列舉：Ciba Specialty Chemicals公司製造的「IRGANOX(註冊商標)」系列。該些活性能量線吸收劑、抗氧化劑可單獨使用1種，亦可併用2種以上。
相對於組成物中所含的全部單體的含量的合計100質量份，活性能量線吸收劑及/或抗氧化劑的含量較佳為0.01質量份~5質量份，更佳為0.01質量份~1質量份，特佳為0.01質量份~0.5質量份。藉由將活性能量線吸收劑及/或抗氧化劑的含量設為0.01以上，可抑制硬化物的黃色化或霧度上升，提高耐候性。藉由將活性能量線吸收劑及/ 或抗氧化劑的含量設為5質量份以下，可使樹脂組成物的硬化性、硬化物的耐擦傷性、硬化物與基材的密著性良好。
活性能量線硬化性樹脂組成物可視需要在不阻礙單(甲基)丙烯酸酯(A)以及多官能單體(B)的功能的範圍內，含有：脫模劑、潤滑劑、塑化劑、抗靜電劑、光穩定劑、阻燃劑、阻燃助劑、聚合抑制劑、填充劑、矽烷偶合劑、著色劑、強化劑、無機填料、耐衝擊性改質劑等添加劑。
活性能量線硬化性樹脂組成物可包含溶劑，但較佳為不含溶劑。在不含溶劑的情況下，例如，於在將樹脂組成物流入至鑄模中的狀態下藉由活性能量線照射而使其聚合、硬化，然後脫模的製程中，不存在溶劑殘留於硬化物中的擔憂。另外，在考慮到製造步驟的情況下，不需要用於去除溶劑的設備投資，就成本而言亦較佳。
[樹脂組成物的物性]
關於活性能量線硬化性樹脂組成物的黏度，在利用模具形成微細凹凸構造並使其硬化的情況下，該樹脂組成物的25℃下的以旋轉式B型黏度計測定的黏度較佳為10000mPa．s以下，更佳為5000mPa．s以下，特佳為2000mPa．s以下。另外，即便是該黏度超過10000mPa．s的情況，只要使用藉由加溫而達到上述範圍內的黏度的樹脂組成物，則亦不會損及作業性。該樹脂組成物的70℃下的以旋轉式B型黏度計測定的黏度較佳為5000mPa．s以下，更佳為2000mPa．s以下。
樹脂組成物的黏度可藉由調節單體的種類或含量來調整。具體而言，若大量使用包含氫鍵等具有分子間相互作用的官能基或化學構造的單體，則樹脂組成物的黏度提高。另外，若大量使用不具有分子間相互作用的低分子量單體，則樹脂組成物的黏度降低。
[成形品：微細凹凸構造體]
以上所說明的活性能量線硬化性樹脂組成物可進行聚合及硬化而形成成形品。作為其成形品，尤其是表面具有微細凹凸構造的微細凹凸構造體極其有用。微細凹凸構造體例如可列舉具有基材、及表面具有微細凹凸構造的硬化物者。
圖1是表示本發明的微細凹凸構造體的實施形態的示意性剖面圖。圖1(a)所示的微細凹凸構造體在基材11上積層有作為本發明活性能量線硬化性樹脂組成物的硬化物的層(表層)12。層12的表面具有微細凹凸構造。微細凹凸構造是以等間隔w1形成圓錐狀的凸部13與凹部14。就可使折射率連續增大，可抑制由波長引起的反射率的變動(波長依存性)，可抑制可見光的散射而成為低反射率的方面而言，凸部的形狀較佳為垂直面的剖面積從頂點側向基材側連續增大的形狀。
另外，凸部的間隔w1(或者凹部的間隔)設為可見光的波長(380nm~780nm)以下的距離。若凸部的間隔w1為380nm以下，則可抑制可見光的散射，可作為抗反射膜而適宜用於光學用途。
另外，凸部的高度或者凹部的深度、即凹部的底點14a與凸部的頂部13a的垂直距離d1較佳為設為可抑制反射率由於波長而變動的深度。具體而言，較佳為60nm以上，更佳為90nm以上，特佳為150nm以上，最佳為180nm以上。若垂直距離d1為150nm附近，則可使人類最容易識別的550nm的波長區域光的反射率最低。若凸部的高度達到150nm以上，則凸部的高度越高，可見光區域的最高反射率與最低反射率的差變得越小。因此，若凸部的高度達到150nm以上，則反射光的波長依存性減小，藉由目視識別不到色調差異。
此處，凸部的間隔及高度是採用利用場發射型掃描電子顯微鏡(JSM-7400F：日本電子公司製造)，藉由加速電壓3.00kV的圖像中的測定而獲得的測定值的算術平均值。
凸部可為如圖1(b)所示的凸部的頂部13b為曲面的吊鐘狀，除此以外，可採用垂直面的剖面積從頂點側向基材側連續增大的形狀。
微細凹凸構造並不限定於圖1所示的實施形態，可形成於基材的單面或者全面、或者整體或一部分。另外，為了有效地表現出撥水性能，較佳為凸部的突起的前端細，且較佳為微細凹凸構造體與水滴的接觸面中硬化物所佔有的面積儘量少。
另外，可在基材11與表層12之間設置用以提高耐擦傷性或黏接性等諸多物性的中間層。
作為基材，只要是可支持具有微細凹凸構造的硬化物 的基材，則可為任一種，但在將微細構造體應用於顯示器構件的情況下，較佳為透明基材，即穿透光的成形體。構成透明基材的材料例如可列舉：甲基丙烯酸甲酯(共)聚合物、聚碳酸酯、苯乙烯(共)聚合物、甲基丙烯酸甲酯-苯乙烯共聚物等合成高分子，二乙酸纖維素(cellulose diacetate)、三乙酸纖維素、乙酸丁酸纖維素等半合成高分子，聚對苯二甲酸乙二酯、聚乳酸等聚酯，聚醯胺、聚醯亞胺、聚醚碸、聚碸、聚乙烯、聚丙烯、聚甲基戊烯、聚氯乙烯、聚乙烯基縮醛、聚醚酮、聚胺基甲酸酯、該些高分子的複合物(聚甲基丙烯酸甲酯與聚乳酸的複合物、聚甲基丙烯酸甲酯與聚氯乙烯的複合物等)、玻璃。
基材的形狀可為片狀、膜狀等任一種，其製造方法亦可使用例如利用射出成形、擠出成形、澆鑄成形等任一種製法來製造者。進而，以密著性、抗靜電性、耐擦傷性、耐候性等特性的改良為目的，可對透明基材的表面實施塗佈或電暈處理。
此種微細凹凸構造體可作為抗反射膜來應用，獲得高耐擦傷性、及優異的指紋去除性等污染物的去除效果。
[微細凹凸構造體的製造方法]
微細凹凸構造體的製造方法例如可列舉：(1)在形成有微細凹凸構造的反轉構造的模具與基材之間配置上述樹脂組成物，藉由活性能量線的照射而使樹脂組成物硬化，轉印模具的凹凸形狀，然後剝離模具的方法；(2)對樹脂組成物轉印模具的凹凸形狀後剝離模具，然後照射活性能 量線而使樹脂組成物硬化的方法等。該些方法中，就微細凹凸構造的轉印性、表面組成的自由度方面而言，特佳為(1)的方法。該方法特別適合於可連續生產的使用帶狀或輥狀模具的情況，是生產性優異的方法。
使模具形成微細凹凸構造的反轉構造的方法並無特別限定，其具體例可列舉電子束微影法、雷射光干擾法。例如，可藉由在適當的支持基板上塗佈適當的光阻膜，以紫外線雷射、電子束、X射線等光進行曝光、顯影而獲得形成有微細凹凸構造的模型，將該模型直接用作模具。另外，亦可經由光阻層而藉由乾式蝕刻對支持基板選擇性地進行蝕刻，去除抗蝕層，藉此可在支持基板其本身直接形成微細凹凸構造。
另外，亦可利用陽極氧化多孔氧化鋁作為模具。例如亦可將20nm~200nm的細孔構造用作模具，該細孔構造是藉由以乙二酸、硫酸、磷酸等作為電解液，利用規定的電壓將鋁進行陽極氧化而形成。依據該方法，以定電壓將高純度鋁長時間進行陽極氧化後，暫時去除氧化皮膜，再次進行陽極氧化，藉此能夠自組織化地形成非常高規則性的細孔。進而，在第二次進行陽極氧化的步驟中，藉由將陽極氧化處理與孔徑擴大處理加以組合，亦可形成剖面不是矩形而是三角形或吊鐘型的微細凹凸構造。另外，亦可藉由適當調節陽極氧化處理與孔徑擴大處理的時間或條件，使細孔最內部的角度變尖銳。
進而，亦可利用電鑄法等由具有微細凹凸構造的模型 來製作複製模型，將其用作模具。
模具其本身的形狀並無特別限定，例如可為平板狀、帶狀、輥狀的任一種。尤其若設為帶狀或輥狀，則可連續地轉印微細凹凸構造，能夠進一步提高生產性。
在此種模具與基材間配置上述樹脂組成物。作為在模具與基材間配置樹脂組成物的方法，可利用如下方法等：於在模具與基材間配置有樹脂組成物的狀態下將模具與基材按壓，藉此向成型模穴中注入樹脂組成物。
對基材與模具間的樹脂組成物照射活性能量線來進行聚合硬化的方法較佳為藉由紫外線照射的聚合硬化。照射紫外線的燈例如可使用高壓水銀燈、金屬鹵化物燈、熔合燈。
紫外線的照射量只要根據聚合起始劑的吸收波長或含量來決定即可。通常，其累計光量較佳為400mJ/cm2 ~4000mJ/cm2 ，更佳為400mJ/cm2 ~2000mJ/cm2 。若累計光量為400mJ/cm2 以上，則能夠使樹脂組成物充分硬化來抑制由硬化不足引起的耐擦傷性降低。另外，若累計光量為4000mJ/cm2 以下，則在防止硬化物的著色或基材的劣化方面有意義。照射強度亦並無特別限制，較佳為抑制為不會導致基材劣化等的程度的功率。
聚合、硬化後，剝離模具而獲得具有微細凹凸構造的硬化物，獲得微細凹凸構造體。
另外，在上述基材為立體形狀的成形體等情況下，亦可將所形成的微細凹凸構造體貼附於另行成形的立體形狀 的成形體上。
以上述方式獲得的微細凹凸構造體在其表面以鑰匙與鑰匙孔的關係轉印模具的微細凹凸構造，具備高耐擦傷性，且兼具撥水性，並且可藉由連續的折射率變化而表現出優異的抗反射性能，適合作為膜、或立體形狀的成形品的抗反射膜。
[撥水性物品]
本發明的撥水性物品可為具備微細凹凸構造體的物品，該微細凹凸構造體在表面具有將本發明的樹脂組成物聚合及硬化而成的微細凹凸構造，亦可為使本發明的樹脂組成物聚合及硬化而成的物品。本發明的撥水性物品的水接觸角較佳為130°以上，尤佳為140°以上。另外，水滴的滾落性良好。尤其，具備微細凹凸構造體的撥水性物品具有高耐擦傷性及良好的撥水性，而且表現出優異的抗反射性能。例如可在窗材料、屋瓦材料、屋外照明、曲面鏡、車輛用窗、車輛用鏡的表面貼附微細凹凸構造體來使用。
另外，在使用本發明的微細凹凸構造體作為抗反射膜的情況下，成為不僅具有抗反射性能，而且具有高耐擦傷性及良好撥水性能的抗反射膜。例如可在電腦、電視、行動電話等的液晶顯示裝置，如電漿顯示器面板、電激發光顯示器、陰極管顯示裝置之類的圖像顯示裝置，透鏡、陳列櫥窗、眼鏡鏡片等對象物的表面，貼附微細凹凸構造體來使用。
在上述各對象物品的貼附有微細凹凸構造體的部分為 立體形狀的情況下，只要預先使用與其對應的形狀的基材，在該基材上形成包含本發明的樹脂組成物的硬化物的層而獲得微細凹凸構造體，將其貼附於對象物品的規定部分即可。另外，在對象物品為圖像顯示裝置的情況下，並不限定於其表面，可對其前面板貼附，亦可由微細凹凸構造體構成前面板其本身。
另外，本發明的微細凹凸構造體除了能夠應用於上述用途以外，亦可應用於例如光波導、浮雕全息圖、透鏡、偏光分離元件等光學用途，或細胞培養片的用途。
[壓印用原料等]
本發明的活性能量線硬化性樹脂組成物亦可用於壓印用原料。壓印用原料只要是包含該樹脂組成物的原料，則並無特別限制。能夠將樹脂組成物直接使用，亦可根據目標成形品而含有各種添加劑。
壓印用原料亦可使用模具來用於藉由UV硬化或者加熱硬化的硬化物成形。亦可使用如下方法：對藉由加熱等而半硬化的狀態的樹脂組成物按壓模具來轉印形狀後，從模具上剝離，藉由熱或UV而完全硬化。
除此以外，本發明的活性能量線硬化性樹脂組成物可作為在各種基材上形成硬化被膜的原料來使用，亦可作為塗佈材料來形成塗膜，照射活性能量線而形成硬化物。
[模具]
本發明的模具是具備微細凹凸構造體的模具(成形用模型)，該微細凹凸構造體為本發明樹脂組成物的硬化物且 表面具有微細凹凸構造。具體而言，本發明的模具可為包含微細凹凸構造體與其他構件(基材等)的模具，亦可為僅包含微細凹凸構造體的模具。本發明的模具表現出良好的脫模性。模具的形狀可以膜狀使用，亦可為片狀。亦可將膜狀的模具捲繞於輥上來使用。
如下方法已眾所周知：重複進行多次的轉印，由貴重的母模具來製作複製模具，轉印與母模具相同形狀的微細凹凸構造。例如日本專利特開2010-719號公報中，將陽極氧化鋁作為母模具來製作複製模具。此處，當作為模具來使用時，必需進行氟處理。其原因在於：若不降低模具樹脂的表面自由能量，則無法進行良好的脫模。
另一方面，本發明的模具不僅藉由具有碳數12以上的烷基的(甲基)丙烯酸烷基酯(A)而表現出脫模性，並且藉由多官能單體(B)而表現出適度的硬度，能夠防止硬化性樹脂組成物滲透至模具中。其結果為，本發明的模具不需要氟處理等高價的後加工，即成為脫模性優異的模具。
若模具為膜狀，則對於如玻璃之類的剛性材料的轉印亦變得容易。另外，若模具為透明，則亦可藉由光硬化對不透明的基材形成微細凹凸構造。
[微細凹凸構造體的製造方法]
微細凹凸構造體的製造方法中可使用本發明的模具。例如可列舉：(1)在基材上配置熱塑性樹脂(例如塗佈熱塑性樹脂而形成層)，將模具一邊加熱一邊按壓，加以冷卻，然後剝離模具的方法；(2)在模具與基材之間配置活 性能量線硬化性樹脂組成物，照射活性能量線而使樹脂組成物硬化，然後剝離模具的方法；以及(3)對活性能量線硬化性樹脂組成物轉印模具的凹凸形狀後剝離模具，然後照射活性能量線而使樹脂組成物硬化的方法。該些方法中，在熱塑性樹脂層的表面或者活性能量線硬化性樹脂組成物的硬化物的表面形成模具的微細凹凸構造的反轉構造。
模具的形狀並無特別限定，例如可為平板狀、帶狀、輥狀的任一種。尤其若設為帶狀或輥狀，則可連續地轉印微細凹凸構造，可進一步提高生產性。
當在模具與基材間配置有樹脂組成物的狀態下將模具與基材按壓的情況下，藉由其擠壓力而向成型模穴(模具的微細凹凸構造等)中填充樹脂組成物。
對基材與模具間的樹脂組成物照射活性能量線而進行聚合硬化的方法較佳為藉由紫外線照射的聚合硬化。照射紫外線的燈例如可使用高壓水銀燈、金屬鹵化物燈、熔合燈。
紫外線的照射量只要根據聚合起始劑的吸收波長或含量來決定即可。通常，其累計光量較佳為400mJ/cm2 ~4000mJ/cm2 ，更佳為400mJ/cm2 ~2000mJ/cm2 。若累計光量為400mJ/cm2 以上，則可使樹脂組成物充分硬化來抑制由硬化不足引起的耐擦傷性降低。另外，若累計光量為4000mJ/cm2 以下，則在防止硬化物的著色或基材的劣化方面有意義。照射強度亦並無特別限制，較佳為抑制為不會導致 基材劣化等的程度的功率。
聚合、硬化後，剝離模具而獲得具有微細凹凸構造的硬化物，獲得微細凹凸構造體。
對活性能量線硬化性樹脂組成物轉印模具的凹凸形狀後剝離模具，然後照射活性能量線而使樹脂組成物硬化的方法中，由於樹脂組成物在未硬化的狀態下剝離，故而微細凹凸構造體的表面難以受傷。另外，亦不會在樹脂組成物與模具之間進入有氣泡的狀態下硬化而成為缺陷。進而，由於可不經由基材膜而照射紫外線，故而微細凹凸構造體的硬化效率良好，亦難以導致基材膜或模具的劣化。
對活性能量線硬化性樹脂組成物轉印模具的凹凸形狀後剝離模具，然後照射活性能量線而使樹脂組成物硬化的方法中使用的樹脂組成物，較佳為超高黏度且室溫下的動態儲藏彈性模數達到1×107 Pa以上的樹脂組成物。若動態儲藏彈性模數為1×107 Pa以上，則在剝離模具後直至使樹脂組成物硬化為止之間亦不會產生圖案崩塌或拉絲，可良好地賦型。
另外，在基材為立體形狀的成形體的情況下，亦可將所形成的微細凹凸構造體貼附於另行成形的立體形狀的成形體上。
以上述方式獲得的微細凹凸構造體在其表面以鑰匙與鑰匙孔的關係轉印模具的微細凹凸構造，可藉由連續的折射率變化而表現出優異的抗反射性能，適合作為膜、或立體形狀的成形品的抗反射膜。
[實例]
以下表示本發明的實例，進行具體說明。以下記載中，只要無特別說明，則「份」是指「質量份」。另外，各種測定以及評價方法如下所述。
(1)模具的細孔的測定：
對包含陽極氧化多孔氧化鋁的模具的一部分縱剖面蒸鍍1分鐘的Pt，利用場發射型掃描電子顯微鏡(日本電子公司製造，商品名JSM-7400F)以加速電壓3.00kV進行觀察，測定相鄰細孔的間隔(週期)以及細孔的深度。具體而言，分別各測定10點，將其平均值作為測定值。
(2)微細凹凸構造體的凹凸的測定：
對微細凹凸構造體的縱剖面蒸鍍10分鐘的Pt，利用與上述(1)的情況相同的裝置以及條件，測定相鄰凸部或者凹部的間隔以及凸部的高度。具體而言，分別各測定10點，將其平均值作為測定值。
(3)樹脂組成物的狀態的評價：
將活性能量線硬化性樹脂組成物加熱至60℃後加以冷卻，觀察25℃時的狀態。
(4)耐擦傷性的評價
在磨耗試驗機(新東科學公司製造的HEIDON)上安裝1cm見方的帆布，施加100g的負重，以往返距離為50mm、磨頭速度為60mm/s的條件，將微細凹凸構造體的表面擦傷1000次。然後，對外觀以目視觀察，根據以下評價基準進行評價。
「○」：確認到0根~2根的傷痕。
「△」：確認到3根~5根的傷痕。
「×」：確認到6根以上的傷痕。
(5)撥水性的評價(接觸角的測定)：
向微細凹凸構造體上滴下1μL的離子交換水，使用自動接觸角測定器(KRUSS公司製造)，利用θ/2法來算出接觸角。
(6)撥水性的評價(水滴滾落性的評價)：
向微細凹凸構造體上滴下20μL及50μL的離子交換水，根據傾斜至20°時的水滴的滾落情況進行評價。
「○」：滾落。
「△」：若施加衝擊，則滾落。
「×」：不滾落。滾落後殘留水滴。
[模具的製作]
依據圖2所示的步驟，以如下方式製作模具(深度為180nm)。
首先，將純度為99.99%的鋁板30進行織布研磨(fabric polishing)以及在過氯酸/乙醇混合溶液(1/4體積比)中進行電解研磨而鏡面化。
(a)步驟
在0.3M乙二酸水溶液中，以直流為40V、溫度為16℃的條件對鋁板30進行30分鐘陽極氧化，使氧化皮膜32產生龜裂31。
(b)步驟
將鋁板30在6質量%磷酸/1.8質量%鉻酸混合水溶液中浸漬6小時，去除氧化皮膜32，使與細孔31對應的週期性凹坑33露出。
(c)步驟
對於該鋁板，在0.3M乙二酸水溶液中，以直流為40V、溫度為16℃的條件進行30秒陽極氧化，形成氧化皮膜34。沿著鋁表面形成氧化皮膜，藉此具有細孔35。
(d)步驟
將形成有氧化皮膜34的鋁板在32℃的5質量%磷酸中浸漬8分鐘，進行細孔35的直徑擴大處理。
(e)步驟
將上述(c)步驟及(d)步驟重複進行合計5次，獲得具有週期為100nm、深度為180nm的大致圓錐形狀的細孔35的陽極氧化多孔氧化鋁。將所得的陽極氧化多孔氧化鋁以去離子水進行清洗，以鼓風來去除表面的水分，在以固體成分達到0.1質量%的方式將表面防污塗佈劑(Daikin公司製造，商品名Optool DSX)以稀釋劑(Harves公司製造，商品名HD-ZV)稀釋而成的溶液中浸漬10分鐘，風乾20小時而獲得模具20。
[聚合反應性單體成分]
將實例及比較例中使用的各單體的物性等示於表1中。
〈實例1〉
[樹脂組成物的製備]
將作為(甲基)丙烯酸烷基酯(A)的丙烯酸月桂酯(新中村化學公司製造，商品名Blemmer LA)10份、作為多官能單體(B)的「ATM-4E」：乙氧基化季戊四醇四丙烯酸酯(新中村化學工業公司製造，商品名NK Ester ATM-4E)90份、作為活性能量線聚合起始劑的2,4,6-三甲基苯甲醯基-二苯基-氧化膦(日本Ciba-Geigy公司製造，商品名DAROCURE TPO)0.5份、內部脫模劑(Axel公司製造，商品名Mold Wiz INT AM-121)0.1份進行混合，來製備活性能量線硬化性樹脂組成物。
[微細凹凸構造體的製造]
將該活性能量線硬化性樹脂組成物調溫至50℃，流入到經調溫至50℃的模具的形成有細孔的表面上，在其上將厚度為38μm的聚對苯二甲酸乙二酯膜(三菱樹脂製造，商品名WE97A)一邊鋪開一邊覆蓋。然後，從膜側使用熔 合燈，以帶速度6.0m/min照射紫外線，使累計光量達到1000mJ/cm2 ，使樹脂組成物硬化。繼而，將膜與模具剝離，獲得微細凹凸構造體。
在微細凹凸構造體的表面轉印有模具的微細凹凸構造，形成如圖1(a)所示的相鄰凸部13的間隔w1為100nm、凸部13的高度d1為180nm的大致圓錐形狀的微細凹凸構造。另外，對該微細凹凸構造體實施評價。將結果示於表2中。
[實例2~實例18、比較例1~比較例11]
除了將單體變更為表2及表3所示者以外，以與實例1相同的方式製造相同尺寸的微細凹凸構造體，進行評價。將結果示於表2及表3中。此外，各表中的調配量的單位為「份」。
表1~表3中的簡稱如下所述。
．「LA」：丙烯酸月桂酯(新中村化學公司製造，商品名Blemmer LA，烷基的碳數為12)
．「CA」：丙烯酸鯨蠟酯(新中村化學公司製造，商品名Blemmer CA，烷基的碳數為16)
．「SA」：丙烯酸硬脂酯(新中村化學公司製造，商品名Blemmer SA，烷基的碳數為18)
．「VA」：丙烯酸山萮酯(新中村化學公司製造，商品名Blemmer VA，烷基的碳數為22)
．「ATM-4E」：乙氧基化季戊四醇四丙烯酸酯(新中村化學工業公司製造，商品名NK Ester ATM-4E)
．「DPHA-6EO」：乙氧基化二季戊四醇六丙烯酸酯(第一工業製藥公司製造，商品名New Frontier DPEA-6)
．「PET-3」：季戊四醇三丙烯酸酯(第一工業製藥製造，商品名New Frontier PET-3)
．「TMPT-3EO」：乙氧基化三羥甲基丙烷三丙烯酸酯(新中村化學公司製造，商品名NK Ester TMPT-3EO)
．「U-4HA」：4官能胺基甲酸酯丙烯酸酯(新中村化學公司製造，商品名NK Oligo U-4HA)
．「MA」：丙烯酸甲酯(sp值為18.3)
．「C6DA」：1,6-己二醇二丙烯酸酯(大阪有機化學工業公司製造，商品名Viscoat 230)(sp值為19.6)
．「X-22-1602」：改質聚二甲基矽氧烷二丙烯酸酯(信越化學製造的聚矽氧二丙烯酸酯X-22-1602，sp值為19.5 ~19.9)
．「INT AM121」：內部脫模劑(Axel公司製造，商品名Mold Wiz INT AM-121)
．「DAR TPO」：2,4,6-三甲基苯甲醯基-二苯基-氧化膦(日本Ciba-Geigy公司製造，商品名DAROCURE TPO)
如表2所示的結果所明示，各實例的微細凹凸構造體兼具良好的撥水性及耐擦傷性。
比較例1、比較例4、比較例5、比較例7中由於多官能單體(B)不適當，故而與(甲基)丙烯酸烷基酯(A)過度相容而不表現出撥水性。比較例2、比較例6中由於(甲基)丙烯酸烷基酯(A)的量過少，故而不表現出良好的撥水性。比較例3中由於(甲基)丙烯酸烷基酯(A)的量過多，且多官能單體(B)的量過少，故而雖表現出良好的撥水性，但耐擦傷性差。比較例8中由於多官能單體(B)不適當，故而即便加熱，單體成分亦不會混合。比較例9、比較例10中由於(甲基)丙烯酸烷基酯(A)以及多官能單體(B)的量不適當，故而撥水性差，交聯度低，且耐擦傷性差。比較例11中亦同樣，雖撥水性差，但交聯度高，因此耐擦傷性良好。
〈實例19〉
使用實例7中獲得的微細凹凸構造體作為膜狀的模具，以如下方式製造微細凹凸構造體。
[樹脂組成物的製備]
將乙氧基化二季戊四醇六丙烯酸酯(第一工業製藥公 司製造，商品名New Frontier DPEA-6)50份、1,6-己二醇二丙烯酸酯50份、作為活性能量線聚合起始劑的2,4,6-三甲基苯甲醯基-二苯基-氧化膦(日本Ciba-Geigy公司製造，商品名DAROCURE TPO)0.5份進行混合，製備活性能量線硬化性樹脂組成物。
[微細凹凸構造體的製造]
將該活性能量線硬化性樹脂組成物滴下至實例7中所得的微細凹凸構造體上，在其上重疊厚度為500μm的聚碳酸酯板(帝人化成製造，商品名PC1151)，自聚碳酸酯板上按壓輥，將硬化性樹脂組成物塗抹開。然後，從聚碳酸酯板側使用熔合燈，以帶速度6.0m/min照射紫外線，使累計光量達到1000mJ/cm2 ，使樹脂組成物硬化。繼而，剝離模具，獲得形成有與陽極氧化多孔氧化鋁相同形狀的微細凹凸構造體的聚碳酸酯板。
[產業上之可利用性]
將本發明的活性能量線硬化性樹脂組成物硬化而獲得的微細凹凸構造體不僅維持作為微細凹凸構造體的優異光學性能，而且兼具高耐擦傷性與良好的撥水性，因此可用於例如牆壁或屋頂等的建材用途、房屋或汽車、電車、船舶等的窗材料或鏡等，在工業上極其有用。另外，亦可用於要求抗反射性能的顯示器等用途。
10‧‧‧微細凹凸構造體
11‧‧‧基材
12‧‧‧表層(硬化物)
13‧‧‧凸部
13a‧‧‧凸部的頂部
13b‧‧‧凸部的頂部
14‧‧‧凹部
14a‧‧‧凹部的底點
20‧‧‧模具
30‧‧‧鋁板
31‧‧‧龜裂
32‧‧‧氧化皮膜
33‧‧‧凹坑
34‧‧‧氧化皮膜
35‧‧‧細孔
d1‧‧‧垂直距離
w1‧‧‧間隔
圖1是表示本發明的微細凹凸構造體的實施形態的示意性剖面圖。
圖2是表示用於形成微細凹凸構造的模具的製造步驟的一例的示意性剖面圖。
10‧‧‧微細凹凸構造體
11‧‧‧基材
12‧‧‧表層(硬化物)
13‧‧‧凸部
13a、13b‧‧‧凸部的頂部
14‧‧‧凹部
14a‧‧‧凹部的底點
d1‧‧‧垂直距離
w1‧‧‧間隔

Claims (12)

  1. 一種活性能量線硬化性樹脂組成物，其以全部單體的含量的合計100質量份為基準，包括：具有碳數16~22的烷基的(甲基)丙烯酸烷基酯(A)3質量份~18質量份；以及分子內具有3個以上自由基聚合性官能基的多官能單體(B)82質量份~97質量份，以費多的推算法所表示的該多官能單體(B)的sp值為20~23。
  2. 如申請專利範圍第1項所述之活性能量線硬化性樹脂組成物，其中不含溶劑。
  3. 如申請專利範圍第1項所述之活性能量線硬化性樹脂組成物，其中以全部單體的含量的合計100質量份為基準，更包括具有1個以上自由基聚合性官能基的單體(C)0質量份~15質量份，該單體(C)是所述(甲基)丙烯酸烷基酯(A)以外和所述多官能單體(B)以外的單體。
  4. 如申請專利範圍第1項所述之活性能量線硬化性樹脂組成物，更包含助滑劑(D)。
  5. 一種具備微細凹凸構造之成形品，包含由如申請專利範圍第1項所述之活性能量線硬化性樹脂組成物組成的硬化物。
  6. 一種微細凹凸構造體，是如申請專利範圍第1項所述之活性能量線硬化性樹脂組成物的硬化物，且表面具有微細凹凸構造。
  7. 一種撥水性物品，其具備如申請專利範圍第6項所述之微細凹凸構造體。
  8. 一種微細凹凸構造體的製造方法，該微細凹凸構造體具有基材、及表面具有微細凹凸構造的硬化物，所述微細凹凸構造體的製造方法包括：在形成有所述微細凹凸構造的反轉構造的模具與所述基材之間，配置如申請專利範圍第1項所述之活性能量線硬化性樹脂組成物；照射活性能量線而使所述活性能量線硬化性樹脂組成物硬化；剝離所述模具，以形成表面具有微細凹凸構造的所述硬化物。
  9. 一種具備微細凹凸構造之模具，具備如申請專利範圍第6項所述之微細凹凸構造體。
  10. 一種微細凹凸構造體的製造方法，該微細凹凸構造體具有基材、及表面具有微細凹凸構造的熱塑性樹脂層，所述微細凹凸構造體的製造方法包括：在所述基材上配置熱塑性樹脂；將如申請專利範圍第9項所述之模具一邊加熱一邊按壓，加以冷卻；剝離所述模具，以在所述熱塑性樹脂層的表面形成所述模具的微細凹凸構造的反轉構造。
  11. 一種微細凹凸構造體的製造方法，該微細凹凸構造體具有基材、及表面具有微細凹凸構造的硬化物，所述微細凹凸構造體的製造方法包括：在如申請專利範圍第9項所述之模具與所述基材之間，配置活性能量線硬化性樹脂組成物；照射活性能量線而使所述活性能量線硬化性樹脂組成物硬化；剝離模具，以形成表面具有所述模具的微細凹凸構造的反轉構造的所述硬化物。
  12. 一種微細凹凸構造體的製造方法，該微細凹凸構造體具有基材、及表面具有微細凹凸構造的硬化物，所述微細凹凸構造體的製造方法包括：將如申請專利範圍第9項所述之模具的微細凹凸構造轉印至活性能量線硬化性樹脂組成物上後，剝離所述模具；將所述活性能量線硬化性樹脂組成物硬化而形成表面具有所述模具的所述微細凹凸構造的反轉構造的所述硬化物。
TW101113261A 2011-04-15 2012-04-13 活性能量線硬化性樹脂組成物、成形品、微細凹凸構造體、撥水性物品、模具以及微細凹凸構造體的製造方法 TWI474111B (zh)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2011091118 2011-04-15
JP2012058587 2012-03-15

Publications (2)

Publication Number Publication Date
TW201248320A TW201248320A (en) 2012-12-01
TWI474111B true TWI474111B (zh) 2015-02-21

Family

ID=47009405

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
TW101113261A TWI474111B (zh) 2011-04-15 2012-04-13 活性能量線硬化性樹脂組成物、成形品、微細凹凸構造體、撥水性物品、模具以及微細凹凸構造體的製造方法

Country Status (6)

Country Link
US (1) US20140037900A1 (zh)
JP (1) JP5958338B2 (zh)
KR (1) KR101529418B1 (zh)
CN (1) CN103476804B (zh)
TW (1) TWI474111B (zh)
WO (1) WO2012141238A1 (zh)

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
TWI740867B (zh) * 2015-12-25 2021-10-01 日商東麗股份有限公司 構造體
TWI879596B (zh) * 2023-08-03 2025-04-01 日商內藤工程技術股份有限公司 圖案形成物體、注射成型物體和製造注射成型物體的方法

Families Citing this family (11)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CA2588717C (en) * 2004-11-24 2013-11-12 Qualcomm Incorporated Systems and methods for digital data transmission rate control
JP6338657B2 (ja) 2013-06-19 2018-06-06 エーファウ・グループ・エー・タルナー・ゲーエムベーハー インプリントリソグラフィーのためのインプリント材料
JP6460672B2 (ja) 2013-09-18 2019-01-30 キヤノン株式会社 膜の製造方法、光学部品の製造方法、回路基板の製造方法及び電子部品の製造方法
JP6357006B2 (ja) 2014-04-18 2018-07-11 東京応化工業株式会社 細胞培養基材形成用の感光性樹脂組成物
DE102014207900A1 (de) * 2014-04-28 2015-10-29 Aesculap Ag Maulteil für ein chirurgisches Rohrschaft-Instrument
WO2016024566A1 (ja) * 2014-08-13 2016-02-18 三井化学株式会社 医療器具、細胞培養方法、フッ素含有環状オレフィンポリマー、フッ素含有環状オレフィンポリマー組成物、および培養細胞
JP6480285B2 (ja) * 2015-08-04 2019-03-06 豊田合成株式会社 細胞培養器具およびその製造方法
WO2017104520A1 (ja) * 2015-12-15 2017-06-22 シャープ株式会社 光学部材、及び、重合体層
CN109195999B (zh) * 2016-05-11 2021-04-16 Dic株式会社 光压印用固化性组合物及使用其的图案形成方法
WO2018173867A1 (ja) * 2017-03-21 2018-09-27 シャープ株式会社 防汚性フィルム
JP7136831B2 (ja) * 2020-04-08 2022-09-13 エーファウ・グループ・エー・タルナー・ゲーエムベーハー スタンパ構造を備えたスタンパ並びにその製造方法

Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
TW201038615A (en) * 2009-02-27 2010-11-01 Mitsui Chemicals Inc Imprinted matter and its processing method
JP2010275525A (ja) * 2009-04-28 2010-12-09 Mitsubishi Rayon Co Ltd 活性エネルギー線硬化性樹脂組成物、及びそれを用いたナノ凹凸構造体とその製造方法、及びナノ凹凸構造体を備えた撥水性物品

Family Cites Families (18)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH05230322A (ja) * 1992-02-17 1993-09-07 Sumitomo Bakelite Co Ltd 水添ブロック共重合体組成物
JPH09255866A (ja) * 1996-03-26 1997-09-30 Sanyo Chem Ind Ltd 接着性付与剤及びプラスチゾル組成物
DE10160054A1 (de) * 2001-12-06 2003-06-18 Degussa Lichtstreuende Werkstoffe die selbstreinigende Oberflächen aufweisen
JP2003190876A (ja) * 2001-12-27 2003-07-08 Fuji Photo Film Co Ltd パターンシートの製造方法および微細パターン形成方法
CN101389726A (zh) * 2006-02-28 2009-03-18 琳得科株式会社 涂膜的保护片
JP2007231233A (ja) * 2006-03-03 2007-09-13 Fujifilm Corp インク組成物、インクジェット記録方法、平版印刷版の製造方法、及び、平版印刷版
TWI504500B (zh) * 2007-10-25 2015-10-21 三菱麗陽股份有限公司 壓模及其製造方法、成形體的製造方法以及壓模的鋁原型
JP5435879B2 (ja) * 2008-02-14 2014-03-05 株式会社ダイセル ナノインプリント用硬化性樹脂組成物
KR101553079B1 (ko) * 2008-04-28 2015-09-14 미쓰비시 가가꾸 가부시키가이샤 활성 에너지선 경화성 수지 조성물, 경화막, 적층체, 광 기록 매체 및 경화막의 제조 방법
JP2009287017A (ja) * 2008-04-28 2009-12-10 Mitsubishi Chemicals Corp 活性エネルギー線硬化性樹脂組成物、硬化物及び物品
JP2010026309A (ja) * 2008-07-22 2010-02-04 Kyocera Mita Corp 液体現像剤、および液体現像剤を用いた画像形成装置
JP5230322B2 (ja) * 2008-09-26 2013-07-10 三菱レイヨン株式会社 硬化性組成物、積層樹脂板及びその製造方法、並びにディスプレイ前面板
US20130004718A1 (en) * 2010-03-17 2013-01-03 Tsuyoshi Takihara Active energy ray curable resin composition and article having fine concave-convex structure on surface
JP4846867B2 (ja) * 2010-03-31 2011-12-28 三菱レイヨン株式会社 積層体及びその製造方法
TWI433882B (zh) * 2010-04-05 2014-04-11 三菱麗陽股份有限公司 活性能量線硬化性樹脂組成物與使用該組成物之奈米凹凸構造體及其製造方法、以及具備奈米凹凸構造體的撥水性物品
EP2404739A1 (en) * 2010-07-09 2012-01-11 3M Innovative Properties Co. Durable hyrophobic structured surface
JP2012133079A (ja) * 2010-12-21 2012-07-12 Konica Minolta Advanced Layers Inc ハードコートフィルム、その製造方法、反射防止フィルム、偏光板、及び画像表示装置
JP5128719B1 (ja) * 2011-01-31 2013-01-23 三菱レイヨン株式会社 活性エネルギー線硬化性組成物、および微細凹凸構造を表面に有する透明フィルムの製造方法

Patent Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
TW201038615A (en) * 2009-02-27 2010-11-01 Mitsui Chemicals Inc Imprinted matter and its processing method
JP2010275525A (ja) * 2009-04-28 2010-12-09 Mitsubishi Rayon Co Ltd 活性エネルギー線硬化性樹脂組成物、及びそれを用いたナノ凹凸構造体とその製造方法、及びナノ凹凸構造体を備えた撥水性物品

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
TWI740867B (zh) * 2015-12-25 2021-10-01 日商東麗股份有限公司 構造體
TWI879596B (zh) * 2023-08-03 2025-04-01 日商內藤工程技術股份有限公司 圖案形成物體、注射成型物體和製造注射成型物體的方法

Also Published As

Publication number Publication date
KR20130140885A (ko) 2013-12-24
JP5958338B2 (ja) 2016-07-27
CN103476804B (zh) 2016-01-06
TW201248320A (en) 2012-12-01
CN103476804A (zh) 2013-12-25
KR101529418B1 (ko) 2015-06-16
JPWO2012141238A1 (ja) 2014-07-28
WO2012141238A1 (ja) 2012-10-18
US20140037900A1 (en) 2014-02-06

Similar Documents

Publication Publication Date Title
TWI474111B (zh) 活性能量線硬化性樹脂組成物、成形品、微細凹凸構造體、撥水性物品、模具以及微細凹凸構造體的製造方法
TWI446109B (zh) 活性能量線硬化性樹脂組成物、微細凹凸結構體及微細凹凸結構體的製造方法
TWI495955B (zh) 活性能量線硬化性樹脂組成物以及表面具有細微凹凸構造的物品
CN105377542B (zh) 层叠结构体及其制造方法以及物品
JP5648632B2 (ja) 活性エネルギー線硬化性樹脂組成物、及びそれを用いたナノ凹凸構造体とその製造方法、及びナノ凹凸構造体を備えた撥水性物品
CN104364677B (zh) 物品及活化能射线固化性树脂组合物
JP4990414B2 (ja) 微細凹凸構造を表面に有する物品の製造方法、金型の離型処理方法、および金型表面離型処理用活性エネルギー線硬化性樹脂組成物
CN104755259A (zh) 层积结构体以及其制造方法、制品
JP6686284B2 (ja) 活性エネルギー線硬化性樹脂組成物の硬化物を含む物品
JP2014005341A (ja) 微細凹凸構造を表面に有する物品
TW201305257A (zh) 表面具有微細凹凸結構的物品及具備該物品的視訊顯示裝置
JP5876977B2 (ja) 活性エネルギー線硬化性樹脂組成物、及びそれを用いたナノ凹凸構造体とその製造方法、及びナノ凹凸構造体を備えた撥水性物品
JP2012224709A (ja) 活性エネルギー線硬化性樹脂組成物、及びそれを用いたナノ凹凸構造体と撥水性物品
JP5810591B2 (ja) 積層体ならびに反射防止物品および撥水性物品
JP2014076557A (ja) 微細凹凸構造を有する物品の製造方法および微細凹凸構造を有するレプリカモールドの製造方法
JP5879939B2 (ja) 微細凹凸構造体、ディスプレイ及び微細凹凸構造体の製造方法
TW201641577A (zh) 活性能量線硬化性樹脂組成物及物品
JP2014076556A (ja) 微細凹凸構造を有する物品およびその製造方法
JP2017160295A (ja) 活性エネルギー線硬化性樹脂組成物、インプリント用原料、および成形品

Legal Events

Date Code Title Description
MM4A Annulment or lapse of patent due to non-payment of fees