TWI424010B - 薄膜及其製造方法以及用途 - Google Patents

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Description

薄膜及其製造方法以及用途
本發明是有關於一種使用結晶性烯烴(共)聚合物得到的薄膜及其製造方法以及其用途。
關於含有結晶性聚烯烴系聚合物的薄膜(flim)，人們有效利用其高熔點、良好的離型性、高透明性等特長，將其用於離型薄膜等。
日本專利特開平5－302068號公報中公開了一種表面保護薄膜，該薄膜中含有聚4－甲基－1－戊烯，不會引起起泡、收縮、白濁等不理想的變化，可實現合成樹脂的圓滑成形，並且成形後可以小心地自成形品表面剝離。
日本專利特開平4－284402號公報中公開了一種擴大視野角的相位差補償薄片(sheat)，該薄片具有與液晶的光學特性的溫度變化類似的性質，在薄片平面方向均勻多軸配向，而僅改變薄片厚度方向的折射率。
日本專利特開2000－275433號公報中公開了一種偏光板保護薄膜，該薄膜的雙折射率的變化少，熔融成形中不易產生碳化劣化物，而且在用作液晶顯示器之偏光膜之保護薄膜時不存在顏色不均，且對比度優異。
然而，近年來在透明光學薄膜的用途中要求進一步提高透明性，作為達到這一目的的一種解決方法，要求開發一種表面凹凸少、霧度(haze)低的薄膜。從這個角度考慮，透明性高的含有4－甲基－1－戊烯的(共)聚合物等結晶性烯烴 (共)聚合物的薄膜通常玻璃化轉變溫度(Tg)低、熔融溫度與Tg之差大。因此，成形後的薄膜表面上容易產生凹凸。另外，含有結晶性烯烴(共)聚合物的薄膜存在結晶與非晶的界面，由於此界面上的光散射而使霧度值變大。
不能說上述所有專利文獻中均公開了這種實現高透明性之觀點的薄膜，即使是上述薄膜也難以用作透明光學薄膜。
因此，本發明之目的在於提供一種適合用作透明光學薄膜的、含有結晶性烯烴(共)聚合物的薄膜及其製造方法、以及該薄膜的用途。
本發明提供：(1)一種薄膜，其中含有結晶性烯烴(共)聚合物，該薄膜的特徵在於：其表面粗糙度Ra小於等於5 nm，並且霧度小於等於1%。
下述(2)~(16)分別為本發明之較佳實施方案之一。
(2)如上述(1)所記載之薄膜，其特徵在於：其中結晶性烯烴(共)聚合物是使用選自4－甲基－1－戊烯、3－甲基－1－戊烯、3－甲基－1－丁烯的至少一種烯烴作為(共)聚合成分而得到的薄膜。
(3)如上述(1)或(2)所記載之薄膜，其特徵在於：其內部霧度小於等於0.5%。
(4)如上述(1)~(3)中任一項所記載之薄膜，其特徵在於：按照JIS K7209法測定的吸水率小於等於0.1%。
(5)如上述(1)~(4)中任一項所記載之薄膜，其特徵在於：按照JIS Z0208法測定的水蒸氣透過率大於等於25g/m2 /天。
(6)如上述(1)~(5)中任一項所記載之薄膜，其特徵在於：其折射率小於等於1.5。
(7)如上述(1)~(6)中任一項所記載之薄膜，其特徵在於：以該薄膜面內的折射率達到最大的方向為X軸、以面內垂直於X軸的方向為Y軸、且各自在波長590 nm的折射率為nx、ny、薄膜的膜厚為d時，波長590 nm的面內延遲值Re＝(nx－ny)．d小於等於5 nm。
(8)如上述(1)~(7)中任一項所記載之薄膜，其特徵在於：以該薄膜面內的折射率達到最大的方向為X軸、以面內垂直於X軸的方向為Y軸、以薄膜的厚度方向為Z軸、且各自在波長590 nm的折射率為nx、ny、nz、薄膜的膜厚為d時，波長590 nm的厚度方向的延遲值Rth＝|(nx＋ny)/2－nz|·d小於等於10 nm。
(9)一種薄膜的製造方法，該方法製造如上述(1)~(8)中任一項所記載之薄膜，其特徵在於：將含有結晶性烯烴(共)聚合物的薄膜在大於等於上述結晶性烯烴(共)聚合物的玻璃化轉變溫度(Tg)且小於120℃的溫度下進行拉伸。
(10)如上述(9)所記載之薄膜的製造方法，其特徵在於：將熔融樹脂形成薄膜時在小於等於(Tg＋50℃)下進行驟冷。
(11)如上述(9)所記載之薄膜的製造方法，其特徵在 於：在藉由熔融擠出法形成含有結晶性烯烴(共)聚合物的薄膜的同時或者隨後對該薄膜進行加壓壓縮。
(12)一種偏光板保護薄膜，該保護薄膜使用如上述(1)~(8)中任一項所記載之薄膜。
(13)一種光學補償薄膜，該補償薄膜使用如上述(1)~(8)中任一項所記載之薄膜。
(14)一種剝離薄膜，該剝離薄膜使用如上述(1)~(8)中任一項所記載之薄膜。
(15)一種保護薄膜，該保護薄膜使用如上述(1)~(8)中任一項所記載之薄膜。
(16)一種顯示元件，該元件使用如上述(1)~(8)以及(12)~(15)中任一項所記載之薄膜。
根據本發明，提供一種適合用作透明光學薄膜的、含有結晶性烯烴(共)聚合物的薄膜及其製造方法、以及該薄膜的用途。
為讓本發明之上述和其他目的、特徵和優點能更明顯易懂，下文特舉較佳實施例，並配合所附圖式，作詳細說明如下。
以下，對本發明之實施方案進行說明。
本實施方案之薄膜含有結晶性烯烴(共)聚合物，該薄膜的特徵在於：其表面粗糙度Ra小於等於5 nm，且霧度小於等於1%。
本實施方案之薄膜含有結晶性烯烴(共)聚合物。其 中，「含有」的意思包括：薄膜全部是由結晶性烯烴(共)聚合物構成以及薄膜的一部分是由結晶性烯烴(共)聚合物構成這兩種情況。因此，薄膜可以包含也可以不包含除結晶性烯烴(共)聚合物以外的成分。從有效實現本發明之效果的角度考慮，希望薄膜中結晶性烯烴(共)聚合物的含量為20~100重量百分比(wt%)，更佳的是50~100 wt%。
結晶性烯烴(共)聚合物具結晶性且可以具有透明性，可以使用各種結晶性烯烴(共)聚合物，但較佳的是使用：例如含有以選自4－甲基－1－戊烯、3－甲基－1－戊烯、3－甲基－1－丁烯中的至少一種烯烴作為聚合物成分或使用上述烯烴作為共聚物成分而得到的(共)聚合物(α)的薄膜。
((共)聚合物(α))
本發明之薄膜中較佳使用的特定(共)聚合物(α)是使用選自4－甲基－1－戊烯、3－甲基－1－戊烯以及3－甲基－1－丁烯中的至少一種烯烴作為(共)聚合成分而得之。此特定烯烴(共)聚合物(α)可以例示：3－甲基－1－丁烯、3－甲基－1－戊烯或4－甲基－1－戊烯的單獨聚合物或它們相互的共聚物；以及它們與其他可共聚的單體例如苯乙烯、丙烯腈、氯乙烯、醋酸乙烯基酯、丙烯酸酯、甲基丙烯酸酯等的共聚物；此外，還有上述成分之間或上述成分與其他熱塑性樹脂或合成橡膠的調和物、嵌段共聚物、接枝共聚物等。在(共)聚合物(α)的構成單元中，來源於4－甲基－1－戊烯、3－甲基－1－戊烯或3－甲基－1－丁烯的構成單元通常總計為20~100莫耳百分比(mol%)，較佳的是50~100 mol%，進一步較佳的是80~ 100 mol%。來源於4－甲基－1－戊烯、3甲基－1－戊烯或3－甲基－1－丁烯的構成單元的含量在上述範圍內時，可得到透明性、耐熱性等各種特性之均衡優異的樹脂，從這個角度考慮較佳。
(共)聚合物(α)中，從透明性、剝離性等優異、適合與光學元件組合使用的角度考慮，較佳的是4－甲基－1－戊烯(共)聚合物。而從耐熱性優異、製程自由度或使用條件的自由度等角度考慮，較佳的是3－甲基－1－戊烯(共)聚合物以及3－甲基－1－丁烯(共)聚合物。
(4－甲基－1－戊烯(共)聚合物)
本發明中較佳使用的、作為(共)聚合物(α)特別佳使用的4－甲基－1－戊烯(共)聚合物具體有：4－甲基－1－戊烯的單獨聚合物或4－甲基－1－戊烯與乙烯或碳原子數為3~20的其他α－烯烴例如乙烯、丙烯、1－丁烯、1－己烯、1－辛烯、1－癸烯、1－十二碳烯、1－十四碳烯、1－十六碳烯、1－十八碳烯、1－二十碳烯等的共聚物。本發明中較佳使用的4－甲基－1－戊烯(共)聚合物，通常含有大於等於85 mol%、較佳的是大於等於90 mol%的量的來源於4－甲基－1－戊烯的構成單元。構成4－甲基－1－戊烯(共)聚合物的、除來源於4－甲基－1－戊烯以外的構成成分沒有特別限定，可以適當使用可與4－甲基－1－戊烯共聚的各種單體，從容易獲取、共聚特性等角度考慮，較佳的是使用乙烯或碳原子數為3~20的α－烯烴。其中，較佳的是碳原子數為7~20的α－烯烴，特別佳的是1－癸烯、1－十二碳烯、1－十四碳烯、1－十六碳烯以及1－十八碳 烯。
本發明中較佳使用的4－甲基－1－戊烯(共)聚合物的、按照ASTM D1238在負載為5 kg且溫度為260℃的條件下測定的熔體流動速率(molt－flow rate，MFR)根據用途而作各種決定，通常為1~50 g/10分鐘，較佳的是2~40 g/10分鐘，進－步較佳的是5~30 g/10分鐘的範圍。4－甲基－1－戊烯(共)聚合物的熔體流動速率在上述範圍內時，薄膜成形性以及所得薄膜的外觀良好。另外，希望熔點為100~240℃、較佳的是150~240℃的範圍。
上述4－甲基－1－戊烯(共)聚合物可以利用以往習知的方法進行製造，例如可以如日本專利特開昭59－206418號公報所記載，藉由在催化劑的存在下將4－甲基－1－戊烯和上述乙烯或α－烯烴聚合而得之。
(3－甲基－1－戊烯(共)聚合物)
本發明中較佳使用的、作為(共)聚合物(α)特別佳使用的3－甲基－1－戊烯(共)聚合物之較佳的共聚單體種類、共聚單體含量、MFR、熔點等與上述4－甲基－1－戊烯(共)聚合物的情況相同。本發明中較佳使用的3－甲基－1－戊烯(共)聚合物可以利用以往習知的方法適當製造，例如可以利用日本專利特開平06－145248號公報所記載之方法進行製造。
(3－甲基－1－丁烯(共)聚合物)
本發明中較佳使用的、作為(共)聚合物(α)特別佳使用的3－甲基－1－丁烯(共)聚合物之較佳的共聚單體種類、共聚單體含量、MFR、熔點等與上述4－甲基－1－戊烯(共)聚合物 的情況相同。本發明中較佳使用的3－甲基－1－丁烯(共)聚合物可以利用以往習知的方法適當製造，例如可以利用日本專利特開平06－145248號公報所記載之方法進行製造。
其中，「結晶性」是指該烯烴(共)聚合物的結晶度大於等於10%。結晶度可以由利用X射線衍射透過法得到的非晶質部分和結晶質部分的衍射峰之積分強度使用下式算出。
結晶度＝(結晶質部分的積分強度/非晶質與結晶質部分的積分強度之和)×100(%)
薄膜的表面粗糙度Ra小於等於5 nm，較佳的是小於等於3 nm；霧度小於等於1%，較佳的是小於等於0.5%。霧度可以按照JIS K7105法進行測定。其中，認為霧度為由薄膜表面及內面的凹凸引起的光散射(外部霧度)與由薄膜中的折射率的變化或異物、瑕疵等引起的光散射(內部霧度)之和。因此，內部霧度可以藉由將薄膜浸在折射率與測定薄膜大致相同的溶劑中，事實上將薄膜表面及內面的反射率作為零來進行測定而求得。
此薄膜的內部霧度小於等於0.5%，較佳的是小於等於0.2%。
其中，薄膜的表面粗糙度Ra(中心線平均粗糙度)使用－定區域內的三維Ra值。作為Ra值的測定方法，可以使用三維表面結構解析顯微鏡、掃描型雷射顯微鏡、電子射線表面形態解析裝置、掃描型探針顯微鏡、非接觸型三維光干涉式表面粗糙度計等，其中從容易測定的角度考慮， 使用非接觸型三維光干涉式表面粗糙度計－美國Veeco Instruments公司製WYCO NT－2000。Ra值由下述式(1)算出。即，藉由對求出的各測定點j k的高度Zjk (以高度的平均值作為基準表面(高度＝0)時的高度)的絕對值進行算術平均而算出Ra。
其中，M和N為試樣平面中與高度方向垂直的各個方向的資料個數，當檢測器為CCD時M和N相當於縱及橫的像素數。
具備上述表面粗糙度及霧度的薄膜，其透明性優異，特別適合於下述那樣的透明光學薄膜的用途。
另外，薄膜的折射率較佳的是小於等於1.5。折射率低時表面反射率降低，因此從降低表面的光學損耗的角度考慮也較佳。
薄膜的膜厚較佳的是10 μm~300 μm，更佳的是20 μm~200 μm。藉由使膜厚大於等於10 μm，卷成筒狀時不易起皺，同時機械強度變大，可以抑制斷裂，故較佳。另外，藉由使膜厚小於等於300 μm，薄膜容易卷成筒狀。當用於偏光板保護薄膜、光學補償薄膜等時，還可以實現輕量化、薄膜化。
並且，當以該薄膜面內的折射率達到最大的方向為X軸、以面內垂直於X軸的方向為Y軸、且各自在波長590 nm的折射率為nx、ny、薄膜的膜厚為d時，希望波長590 nm的面內延遲值Re＝(nx－ny)·d小於等於5 nm，較佳的是小於等於3 nm。
當以該薄膜面內的折射率達到最大的方向為X軸、以面內垂直於X軸的方向為Y軸、以薄膜的厚度方向為Z軸、且各自在波長590 nm的折射率為nx、ny、nz、薄膜的膜厚為d時，希望波長590 nm的厚度方向的延遲值Rth＝|(nx＋ny)/2－nz|．d小於等於10 nm，較佳的是小於等於3 nmo
藉由使延遲值Re、Rth的值在上述範圍，當將使用該薄膜的偏光板、光學補償薄膜用於液晶顯示裝置時，可以抑制從垂直方向觀察液晶顯示面時和從斜向觀察液晶顯示面時的對比度或色調的變化。
按照JIS K7209法測定的薄膜的吸水率較佳的是小於等於0.1%，更佳的是小於等於0.05%。吸水率小於等於0.1%時，因吸水而引起的尺寸變化變小，例如將薄膜用作偏光板保護薄膜、光學補償薄膜基板時不易發生彎曲。還可以防止自薄膜中放出的水蒸氣產生的結霜。
現有的等方性薄膜－環狀聚烯烴系薄膜中也存在具有上述吸水率、因吸水而引起的尺寸變化或光學特性的變化小的薄膜。但是，這種環狀聚烯烴系薄膜通常不易透過水蒸氣，相對於此，本實施方案之薄膜例如可以容易地使水蒸氣透過率達到大於等於25 g/m2 /天，較佳的是大於等於45g/m2 /天。由於可具有容易透過水蒸氣的性質，因此例如在與其他材料的粘合中使用環境負荷小的水系粘合劑的用 途中例如偏光板保護薄膜中有用。水蒸氣透過率按照JIS Z0208法進行測定。
即，本實施方案之薄膜更適合用於現有的各種等方性薄膜的各種用途。
本實施方案之薄膜中，在不損及本發明之目的的範圍內還可以含有可塑劑。可塑劑可以列舉出：石蠟系、環烷烴系、芳香族烴系等礦物油類、α－烯烴類的低聚物、共低聚物、酯系可塑劑、各種植物油、動物油等。上述可塑劑使拉伸時的成形加工性更良好。
本實施方案之薄膜中還可以含有其他樹脂，例如聚烯烴類、聚醯胺類、聚酯類等。
本實施方案之薄膜中，在不損及本發明之目的的範圍內還可以添加耐候穩定劑、耐熱穩定劑、增滑劑、核劑、顏料、染料等通常在聚烯烴中添加使用的各種添加劑。
用於製造上述薄膜的特別佳的方法包括以下製程：將藉由熔融擠出法、溶液流延法等形成的含有結晶性烯烴(共)聚合物的薄膜在大於等於該結晶性烯烴(共)聚合物的玻璃化轉變溫度(Tg)且小於120℃的溫度下進行拉伸的製程。拉伸溫度更佳的是大於等於(Tg＋10℃)且小於等於100℃。
拉伸溫度大於等於Tg時，薄膜不會發生斷裂等，可以比較均勻地進行拉伸，因此較佳。拉伸溫度小於120℃時，能夠特別有效地降低薄膜的霧度，因此較佳。雖然尚未確認拉伸溫度小於120℃對降低霧度特別有效之原理，但由於聚4－甲基－1－戊烯等烯烴(共)聚合物的再結晶化溫度 為120~170℃左右，因此推測其與在低於上述再結晶化溫度的溫度下進行加熱、拉伸、冷卻的過程中實質上抑制了使霧度上升的結晶度或結晶大小的增加存在某種關係。若舉例的話，例如以來源於4－甲基－1－戊烯的構成單元為主要成分的烯烴(共)聚合物，認為其在200℃下拉伸時結晶度、結晶大小與拉伸前相比變為約2倍，而在40℃下拉伸時結晶度、結晶大小幾乎沒有發生變化或者減少。
進行熔融擠出成形的情形具體如下：使用單軸擠出機在預定的汽缸溫度以及預定的鑄造輥溫度下進行成形，之後使用拉伸機在大於等於玻璃化轉變溫度(Tg)且小於等於120℃、較佳的是小於等於100℃的溫度下以預定的拉伸速度僅進行預定倍率(較佳的是小於等於5倍，特別佳的是小於等於3倍)的拉伸成形。從不增加結晶度·結晶大小的意義上考慮，較佳的是拉伸倍率小而拉伸速度大。另外，拉伸可以是單軸拉伸，也可以是雙軸拉伸等。從不增加結晶度、結晶大小的角度考慮，與單軸拉伸相比，更佳的是使用雙軸拉伸。
應說明的是，此時可以在熔融擠出成形時暫且先製造好原反薄片狀薄膜，之後重新將原反薄片供給拉伸成形裝置，也可以連續進行熔融擠出成形及拉伸成形。
從減小結晶度以及減少結晶大小的角度考慮，使熔融樹脂形成薄膜時可以在鑄造輥上在小於等於(Tg＋50℃)、較佳的是小於等於(Tg＋30℃)下進行驟冷。其中，「驟冷」(急速冷卻)是指在短時間內將溫度從結晶化進行的溫度降至 結晶化事實上沒有進行的溫度。由於難以準確測定成膜過程的樹脂溫度，因此難以將溫度數值化，但較佳的是，例如以大於等於100℃/秒、更佳的是大於等於200℃/秒的速度進行急速冷卻。
如此操作所得之薄膜的表面粗糙度低、霧度低。其原因尚不清楚，例如認為如下。
藉由將採用預定方法例如熔融擠出法、溶液流延法等成形的薄膜在預定的溫度範圍內進行拉伸成形，使引起凹凸的在薄膜成形時發生的薄膜的熱應變在拉伸成形中在高分子鏈再配向的同時得到緩和、修正，從而減少了上述凹凸。並且，認為藉由將成形的薄膜在拉伸成形前於鑄造輥上進行驟冷，結晶度降低、結晶粒徑減小，認為其結果是霧度進一步減少。
應說明的是，在藉由熔融擠出成形得到薄膜時，更可以在成形的同時或成形之後繼續在擠出機的輥間進行加壓壓縮，藉此可以進一步提高所得薄膜的透明性。
另外，本實施方案之薄膜，其表面粗糙度以及霧度在預定範圍內、透明性高，故可以適用於透明光學薄膜、特別是偏光板保護薄膜、剝離薄膜、保護薄膜、光學補償薄膜等用途，本發明提供上述透明光學薄膜。應說明的是，光學補償薄膜既可以是使用本實施方案之薄膜的單層結構的薄膜，也可以是像下述那樣組合有多個薄膜等的多層結構的薄膜。
圖1顯示將本實施方案之薄膜應用於偏光板的例子。
在此偏光板中，保護表面的保護薄膜1、賦予偏光板耐擦傷性等的硬鍍層2、第二偏光板保護薄膜3、偏光鏡4、第一偏光板保護薄膜5、對其他元件起到粘合作用的粘合層6、保護粘合層6的剝離薄膜7依序層合。
其中，就保護薄膜1而言，由於安裝有偏光板的顯示元件例如液晶顯示元件的檢查操作在帶有保護薄膜的狀態下進行，因此保護薄膜1可適合使用像本實施方案那樣的光學特性優異的薄膜。第一以及第二偏光板保護薄膜5、3在保護偏光鏡4的同時要求高透明性，因此可適合使用像本實施方案那樣的光學特性優異的薄膜。剝離薄膜7是用於覆蓋粘合層6而設置，而上述粘合層6用於在顯示元件的形成時於該偏光板上進一步層合光學補償薄膜、相位差薄膜(板)等，由於此偏光板的檢查操作在帶有剝離薄膜7的狀態下進行，因此上述剝離薄膜7可適合使用像本實施方案那樣的光學特性優異的薄膜。
圖2顯示將本實施方案之薄膜應用於多層結構的光學補償薄膜的例子。
在此光學補償薄膜中，保護表面的保護薄膜8、賦予光學補償薄膜耐擦傷性等的硬鍍層9、具有預定的光學補償功能的液晶層10、用於層合液晶層10的基板11、對其他元件起到粘合作用的粘合層12、保護粘合層12的剝離薄膜13依序層合。
在圖2的例子中，作為保護薄膜8以及剝離薄膜13，從上述角度考慮，可適合使用本實施方案之薄膜。
本發明還可以將上述薄膜、該薄膜所適用的透明光學薄膜適用於顯示元件例如液晶顯示元件、有機EL元件等，本發明提供上述顯示元件。
圖3顯示作為上述顯示元件的液晶顯示裝置的構成之一例。
在此液晶顯示裝置中，偏光板14、相位差板15、光學補償薄膜16、液晶面板17、相位差板18、偏光板19、背光單元20依序層合。
其中，偏光板14、19適合使用如圖1所示之本實施方案所適用的偏光板。光學補償薄膜16可適合使用如圖2所示之多層結構的光學補償薄膜，但也可適合使用直接應用本實施方案之薄膜的單層結構的光學補償薄膜。
利用上述構成，來自背光單元20的入射光經偏光板19偏光，僅直線偏光光透過，利用相位差板18使偏光光的相位一致，並入射到液晶面板17上。經液晶面板17形成輸出圖像，生成用於再現此圖像的光並出射，此出射光利用光學補償薄膜16來補償視野角，利用相位差板15使相位差一致，並經偏光板14偏光，來調整對比度。
以下，－邊參照實施例/比較例－邊具體說明本發明之較佳方案。應說明的是，本發明在任何意義上都不受限於下述實施例。
在實施例/比較例中，所得薄膜之諸特性按照以下方法進行測定。
(膜厚)
以使用Mitutoyo製數位式指示儀錶(型式：ID－F125)的觸針式膜厚計進行測定。
(表面粗糙度Ra)
使用非接觸型三維光干涉式表面粗糙度計一美國Veeco Instruments公司製WYCO NT－2000，按照測定倍率20倍、計算面積300 μm×230 μm算出Ra值。尚需說明的是，本測定器的最大測定像素為736×480，垂直方向的分辨率小於等於0.1 nm。
(霧度)
按照JIS K7105法，使用(有)東京電色社制全自動霧度儀(型式：TC－HIIIDPK型)進行測定。
(內部霧度)
在上述霧度測定中，於樣品支架上設置石英盒，其中裝滿矽油(信越Silicone社製，產品名KF－96－100CS，折射率為1.043)作為折射率與薄膜相近的液體，將樣品浸在矽油中進行測定。
(水蒸氣透過率)
按照JIS Z0208法，使用60 mmψ的透濕杯，在40℃×90%RH的條件下進行測定。吸濕劑使用氯化鈣，以24小時為間隔進行稱量，根據兩次連續稱量求出各單位時間的重量增加，使用重量增加在5%以內且達到恆定時的值“單位為g/m2 /天。
(實施例1)
結晶性烯烴(共)聚合物使用由4－甲基－1－戊烯得到的共 聚物即三井化學社製TPX樹脂(品名：MX020，MFR：23~30 g/10分鐘，折射率為1.46，熔點：230℃，玻璃化轉變溫度：15℃，吸水率：小於等於0.01%)，使用單軸擠出機(直徑40 mm)在汽缸溫度300℃、鑄造輥溫度30℃的條件下進行熔融擠出成形，製作膜厚為120 μm的薄膜。隨後，使用拉伸機在溫度60℃下將此薄膜沿薄膜的縱向(MD方向)拉伸約3倍，製作膜厚為40 μm的單軸拉伸薄膜。
所得單軸拉伸薄膜的表面粗糙度Ra、霧度如表1所示。應說明的是，薄膜的吸水率與所用樹脂的吸水率相同。
(實施例2)
結晶性烯烴(共)聚合物使用由4－甲基－1－戊烯得到的共聚物即三井化學社製TPX樹脂(品名：MX020，MFR：23~30 g/10分鐘，折射率為1.46，熔點:230℃，玻璃化轉變溫度：15℃，吸水率：小於等於0.01%)，使用單軸擠出機(直徑40 mm)在汽缸溫度300℃、鑄造輥溫度80℃的條件下進行熔融擠出成形，製作膜厚為120 μm的薄膜。隨後，使用拉伸機在溫度80℃下將此薄膜沿薄膜的縱向(MD方向)拉伸約2倍，製作膜厚為60 μm的單軸拉伸薄膜。
所得單軸拉伸薄膜的表面粗糙度Ra、霧度如表1所示。應說明的是，薄膜的吸水率與所用樹脂的吸水率相同。
(實施例3)
結晶性烯烴(共)聚合物使用由4－甲基－1－戊烯得到的共聚物即三井化學社製TPX樹脂(品名：RT18，MFR：23~30 g/10分鐘，折射率為1.46，熔點：239℃，玻璃化轉變 溫度：22℃，吸水率二小於等於0.01%)，在汽缸溫度300℃、鑄造輥溫度30℃的條件下進行熔融擠出成形，製作膜厚為120 μm的薄膜。此時以鑄造輥和對置的接觸輥狹壓該薄膜。隨後，使用拉伸機在溫度60℃下將此薄膜沿薄膜的縱向(MD方向)拉伸約3倍，製作膜厚為40 μm的單軸拉伸薄膜。
所得單軸拉伸薄膜的表面粗糙度Ra、霧度如表1所示。應說明的是，薄膜的吸水率與所用樹脂的吸水率相同。
(比較例1)
結晶性烯烴(共)聚合物使用由4－甲基－1－戊烯得到的共聚物即三井化學社製TPX樹脂(品名：MX020，MFR：23~30g/10分鐘，折射率為1.46，熔點：230℃，玻璃化轉變溫度：15℃，吸水率：小於等於0.01%)，使用單軸擠出機(直徑40 mm)在汽缸溫度300℃、鑄造輥溫度80℃的條件下進行熔融擠出成形，製作膜厚為40 μm的薄膜。
所得薄膜的表面粗糙度Ra、霧度如表1所示。應說明的是，薄膜的吸水率與所用樹脂的吸水率相同。
(比較例2)
結晶性烯烴(共)聚合物使用由4－甲基－1－戊烯得到的共聚物即三井化學社製TPX樹脂(品名：MX020，MFR：23~30g/10分鐘，折射率為1.46，熔點：230℃，玻璃化轉變溫度：15℃，吸水率：小於等於0.01%)，使用單軸擠出機(直徑40 mm)在汽缸溫度300℃、鑄造輥溫度80℃的條件下進行熔融擠出成形，製作膜厚為50 μm的薄膜。
所得薄膜的表面粗糙度Ra、霧度如表1所示。應說明的是，薄膜的吸水率與所用樹脂的吸水率相同。
(比較例3)
結晶性烯烴(共)聚合物使用由4－甲基－1－戊烯得到的共聚物即三井化學社製TPX樹脂(品名：MX020，MFR：23~30 g/10分鐘，折射率為1.46，熔點:230℃，玻璃化轉變溫度：15℃，吸水率：小於等於0.01%)，使用單軸擠出機(直徑40 mm)在汽缸溫度300℃、鑄造輥溫度80℃的條件下進行熔融擠出成形，製作膜厚為120 μm的薄膜。
所得薄膜的表面粗糙度Ra、霧度如表1所示。應說明的是，薄膜的吸水率與所用樹脂的吸水率相同。
(比較例4)
結晶性聚烯烴系(共)聚合物使用由4－甲基－1－戊烯得到的共聚物即三井化學社製TPX樹脂(品名：MX020，MFR：23~30 g/10分鐘，折射率為1.46，熔點：230℃，玻璃化轉變溫度：15℃，吸水率：小於等於0.01%)，使用單軸擠出機(直徑40 mm)在汽缸溫度300℃、鑄造輥溫度80℃的條件下進行熔融擠出成形，製作膜厚為120 μm的薄膜。隨後，使用拉伸機在溫度160℃下將此薄膜沿薄膜的縱向(MD方向)拉伸約3倍，製作膜厚為40 μm的單軸拉伸薄膜。
所得單軸拉伸薄膜的表面粗糙度Ra、霧度如表1所示。應說明的是，薄膜的吸水率與所用樹脂的吸水率相同。
(比較例5)
結晶性聚烯烴系(共)聚合物使用由4－甲基－1－戊烯得到的共聚物即三井化學社製TPX樹脂(品名：MX002O，MFR：18~25 g/10分鐘，折射率為1.46，熔點：230℃，玻璃化轉變溫度：10℃，吸水率：小於等於0.01%)，使用單軸擠出機(直徑40 mm)在汽缸溫度300℃、鑄造輥溫度80℃的條件下進行熔融擠出成形，製作膜厚為120 μm的薄膜。隨後，使用拉伸機在溫度190℃下將此薄膜沿薄膜的縱向(MD方向)拉伸約2倍，製作膜厚為60 μm的單軸拉伸薄膜。
所得單軸拉伸薄膜的表面粗糙度Ra、霧度如表1所示。應說明的是，薄膜的吸水率與所用樹脂的吸水率相同。
雖然本發明已以較佳實施例揭露如上，然其並非用以限定本發明，任何熟習此技藝者，在不脫離本發明之精神和範圍內，當可作些許之更動與潤飾，因此本發明之保護範圍當視後附之申請專利範圍所界定者為準。
1‧‧‧保護薄膜
2‧‧‧硬鍍層
3‧‧‧保護薄膜
4‧‧‧偏光鏡
5‧‧‧保護薄膜
6‧‧‧粘合層
7‧‧‧剝離薄膜
8‧‧‧保護薄膜
9‧‧‧硬鍍層
10‧‧‧液晶層
11‧‧‧基板
12‧‧‧粘合層
13‧‧‧剝離薄膜
14‧‧‧偏光板
15‧‧‧相位差板
16‧‧‧光學補償薄膜
17‧‧‧液晶面板
18‧‧‧相位差板
19‧‧‧偏光板
20‧‧‧背光單元
圖1表示將本實施方案之薄膜應用於偏光板的例子。
圖2表示將本實施方案之薄膜應用於多層結構的光學補償薄膜的例子。
圖3表示作為本實施方案之顯示裝置的液晶顯示裝置的構成之一例。
1‧‧‧保護薄膜
2‧‧‧硬鍍層
3‧‧‧保護薄膜
4‧‧‧偏光鏡
5‧‧‧保護薄膜
6‧‧‧粘合層
7‧‧‧剝離薄膜

Claims (19)

  1. 一種薄膜，包括結晶性烯烴(共)聚合物，該薄膜的特徵在於：其表面粗糙度Ra小於等於5 nm，且霧度小於等於1%。
  2. 如申請專利範圍第1項所述之薄膜，其中上述結晶性烯烴(共)聚合物是使用選自4－甲基－1－戊烯、3－甲基－1－戊烯、3－甲基－1－丁烯的至少－種烯烴作為(共)聚合成分而得到的薄膜。
  3. 如申請專利範圍第1項所述之薄膜，其中該薄膜的內部霧度小於等於0.5%。
  4. 如申請專利範圍第1項所述之薄膜，其中該薄膜按照JIS K7209法測定的吸水率小於等於0.1%。
  5. 如申請專利範圍第1項所述之薄膜，其中該薄膜按照JIS Z0208法測定的水蒸氣透過率大於等於25 g/m2 /天。
  6. 如申請專利範圍第1項所述之薄膜，其中該薄膜的折射率小於等於1.5。
  7. 如申請專利範圍第1項所述之薄膜，其中以該薄膜面內的折射率達到最大的方向為X軸、以面內垂直於X軸的方向為Y軸、且各自在波長590 nm的折射率為nx、ny、薄膜的膜厚為d時，波長590 nm的面內延遲值Re＝(nx－ny)·d小於等於5 nm。
  8. 如申請專利範圍第1項所述之薄膜，其中以該薄膜面內的折射率達到最大的方向為X軸、以面內垂直於X軸的方向為Y軸、以薄膜的厚度方向為Z軸、且各自在波長 590 nm的折射率為nx、ny、nz、薄膜的膜厚為d時，波長590 nm的厚度方向的延遲值Rth＝|(nx＋ny)/2－nz|．d小於等於10 nm。
  9. 一種薄膜的製造方法，該方法製造如申請專利範圍第1項至第8項中任－項所述之薄膜，其中該薄膜的製造方法製造包括：將包括結晶性烯烴(共)聚合物的薄膜在大於等於上述結晶性烯烴(共)聚合物的玻璃化轉變溫度(Tg)且小於120℃的溫度下進行拉伸。
  10. 如申請專利範圍第9項所述之薄膜的製造方法，更包括將熔融樹脂形成薄膜時在小於等於(Tg＋50℃)下進行驟冷“
  11. 如申請專利範圍第9項所述之薄膜的製造方法，在藉由熔融擠出法形成包括結晶性烯烴(共)聚合物的薄膜的同時或者隨後，對該薄膜進行加壓壓縮。
  12. 一種偏光板保護薄膜，該偏光板保護薄膜使用如申請專利範圍第1項至第8項中任－項所述之薄膜。
  13. 一種光學補償薄膜，該光學補償薄膜使用如申請專利範圍第1項至第8項中任－項所述之薄膜。
  14. 一種剝離薄膜，該剝離薄膜使用如申請專利範圍第1項至第8項中任一項所述之薄膜。
  15. 一種保護薄膜，該保護薄膜使用如申請專利範圍第1項至第8項中任一項所述之薄膜。
  16. 一種顯示元件，該顯示元件使用如申請專利範圍第1項至第8項以及申請專利範圍第12項中任一項所述之薄 膜。
  17. 一種顯示元件，該顯示元件使用如申請專利範圍第1項至第8項以及申請專利範圍第13項中任一項所述之薄膜。
  18. 一種顯示元件，該顯示元件使用如申請專利範圍第1項至第8項以及申請專利範圍第14項中任一項所述之薄膜。
  19. 一種顯示元件，該顯示元件使用如申請專利範圍第1項至第8項以及申請專利範圍第15項中任一項所述之薄膜。
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Families Citing this family (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP5548376B2 (ja) * 2009-03-25 2014-07-16 三井化学株式会社 ４−メチルペンテン−１（共）重合体を含む横延伸用樹脂フィルム、およびその製造方法
KR101073020B1 (ko) 2009-04-27 2011-10-12 황천남 광확산판의 제조방법
JP5760396B2 (ja) * 2010-11-10 2015-08-12 三菱瓦斯化学株式会社 フラットパネルディスプレイ用偏光板保護フィルム及びフラットパネルディスプレイ用位相差フィルム、並びに、これらの使用方法
JP2019020718A (ja) * 2017-07-20 2019-02-07 住友化学株式会社 光学シート
KR20220080081A (ko) * 2019-10-10 2022-06-14 도레이 카부시키가이샤 폴리올레핀 필름
CN115044087A (zh) * 2022-08-15 2022-09-13 江苏康辉新材料科技有限公司 一种低雾度光学膜及其制备方法和应用

Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0825460A (ja) * 1994-07-18 1996-01-30 Nippon Petrochem Co Ltd 表面保護用フィルムおよびその製造方法
JPH08207119A (ja) * 1994-10-19 1996-08-13 Diafoil Co Ltd 熱可塑性樹脂シート又はフイルムの製造方法
JP2000275433A (ja) * 1999-03-23 2000-10-06 Sekisui Chem Co Ltd 偏光板保護フィルム

Family Cites Families (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS58185226A (ja) * 1982-04-24 1983-10-28 Unitika Ltd 熱可塑性フイルムの製造方法
JPS61228931A (ja) * 1985-04-03 1986-10-13 Toray Ind Inc ポリ４−メチルペンテン−１フイルムの二軸延伸方法
JP2790330B2 (ja) * 1989-08-15 1998-08-27 三井化学株式会社 プリント配線板製造用の離型フィルムおよびその製造方法
JPH04284402A (ja) * 1991-03-14 1992-10-09 Asahi Chem Ind Co Ltd 新規なる位相差補償シート
JPH10253827A (ja) * 1997-03-10 1998-09-25 Nippon Petrochem Co Ltd 光学素子およびその光学検査方法

Patent Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0825460A (ja) * 1994-07-18 1996-01-30 Nippon Petrochem Co Ltd 表面保護用フィルムおよびその製造方法
JPH08207119A (ja) * 1994-10-19 1996-08-13 Diafoil Co Ltd 熱可塑性樹脂シート又はフイルムの製造方法
JP2000275433A (ja) * 1999-03-23 2000-10-06 Sekisui Chem Co Ltd 偏光板保護フィルム

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