TWI423988B - 膜片及其製造方法 - Google Patents
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Description
本發明是關於一種使用聚烯烴(共)聚合物而獲得的膜片、以及該膜片的製造方法。
包含由4-甲基-1-戊烯等所獲得的聚烯烴系聚合物的膜片,具有高光線透射率、高光學各向同性(optical isotropy)、低吸水性等特長,有望作為液晶顯示元件中所使用的偏光板保護膜片、剝離膜片、保護膜片、光學補償膜片等的透明光學膜片等的材料。
於日本專利特開平4-284402號公報中揭示了一種相位差補償片材,其具有與液晶的光學特性的溫度變化相類似的性質,在片材面方向上均勻多軸地配向,僅使片材厚度方向的折射率改變且擴大視角。
於日本專利特開平10-253827號公報中揭示了一種光學元件,其黏貼著使用了具有光學各向同性的膜片的剝離膜片及/或保護膜片,且其中記載了如下內容:該光學元件可於直接黏貼著該些膜片的狀態下,檢查偏光度不均、相位差不均、各種缺陷、瑕疵等。
於日本專利特開2000-275433號公報中揭示了一種偏光板保護膜片,其雙折射率(birefringence)的變化小,熔融成形時不易產生碳化劣化物,進而用作液晶顯示器的偏光膜的保護膜片時無顏色不均,且對比度(contrast)優異。
於日本專利特開平5-302068號公報中揭示了一種表
面保護膜片,其包含聚4-甲基-1-戊烯,不會引起發泡、收縮、白濁等欠佳的變化,可順利地使合成樹脂板成形,進而成形後可容易自成形品表面剝離。
然而,在使用例如包含4-甲基-1-戊烯等聚合物的膜片作為偏光板保護膜片的情況下,發現了如下不良現象:在使用該膜片來製造偏光板的工程中產生了捲曲。並且,在應用於作為形成液晶層的基板的光學補償膜片用基板的情況下,亦發現了如下不良現象:形成於基板上的液晶層出現裂痕。這樣一來,積層工程中產生不良現象較多,從而業者期望該些不良現象得到解決。本發明者等人查明了該些不良現象的原因後,知道了原因在於:包含4-甲基-1-戊烯等聚合物的膜片,在用以製造各元件的製程溫度,例如80℃的環境下會收縮或膨脹。
日本專利特開平4-284402號公報中揭示了一種以大於等於60℃開始加熱收縮的片材,於日本專利特開平10-253827號公報中並未提及由加熱收縮所引起的問題,從而兩個專利文獻均無法解決上述不良現象的原因。
於日本專利特開2000-275433號公報中對90℃時的偏光度進行了評價,但未對膜片的熱收縮進行評價,至此尚未解決上述不良現象的原因。並且,於日本專利特開平5-302068號公報中記載了如下內容:利用200℃加熱使尺寸變化約小於等於3%,但該物性於光學用途中尚不充分。
本發明者等人對包含4-甲基-1-戊烯等烯烴系聚合物
的膜片在高溫環境下的收縮及膨脹進行了潛心研究,結果發現在將上述膜片應用於光學用途之前,以固定溫度或固定溫度以上來對膜片施加熱處理,藉此可抑制膜片的收縮及膨脹,從而完成了本發明。
即,本發明提供(1)一種膜片,其使用以鈉D線(波長為589.3nm)所測定的折射率小於等於1.5的烯烴(共)聚合物而形成,該膜片於空氣中120℃下進行1小時熱處理的熱收縮率以絕對值計小於等於0.5%。
(2)如第(1)項所述之膜片,其中上述膜片是由熔融擠壓法而形成。
(3)如第(1)項或第(2)項所述之膜片,其中上述烯烴(共)聚合物是將選自4-甲基-1-戊烯、3-甲基-1-戊烯、3-甲基-1-丁烯中的至少一種烯羥用作共聚成分。
(4)如第(1)項至第(3)項中任一項所述之膜片,其中波長為550nm的相位差小於等於8nm。
(5)如第(1)項至第(4)項中任一項所述之膜片,其中膜片成形後以大於等於120℃且小於等於該膜片熔點的溫度實施加熱處理。
(6)一種膜片的製造方法,其是在將使用以鈉D線(波長為589.3nm)所測定的折射率小於等於1.5的烯烴(共)聚合物而形成的膜片成形後,以大於等於120℃且小於等於該膜片熔點的溫度實施加熱處理。
(7)如第(6)項所述之膜片的製造方法,其中將上
述膜片成形為輥狀,上述加熱處理是藉由展開輥狀膜片並使該膜片連續通過乾燥爐中而進行的。
(8)一種偏光板保護膜片,其使用第(1)項至第(5)項中任一項所述之膜片。
(9)一種剝離膜片,其使用第(1)項至第(5)項中任一項所述之膜片。
(10)一種保護膜片,其使用第(1)項至第(5)項中任一項所述之膜片;
(11)一種光學補償膜片,其使用第(1)項至第(3)項及第(5)項中任一項所述之膜片;
(12)一種光學補償膜片的基板,其使用(1)項至第(5)項中任一項所述之膜片;
(13)一種顯示元件,其使用第(1)項至第(5)項中任一項所述之膜片、及/或第(8)項至第(12)項中任一項所述之膜片。
根據本發明,可提供一種加熱時的收縮率的絕對值低的膜片。此種膜片適合用於透明光學膜片。
上述目的及其他目的、特徵及優點,根據以上所述的較佳實施形態、及該實施形態所附的圖式而進一步明確。
以下,對本發明的實施形態加以說明。
本實施形態的膜片是如下膜片,其使用以鈉D線(波長為589.3nm)所測定的折射率小於等於1.5的烯烴(共)聚合物而形成,該膜片於空氣中120℃下進行1小時熱處
理的熱收縮率以絕對值計小於等於0.5%。
對於本實施形態中可使用的烯烴(共)聚合物而言,使用鈉D線(波長為589.3nm)且藉由阿貝折射計(Abbe refractometer)測定所獲得的折射率小於等於1.5,較好的是小於等於1.49。並且,總光線透射率大於等於90%,較好的是大於等於91%,霧度(haze)小於等於2%,較好的是小於等於1%。此種烯烴(共)聚合物可適合用作光學用途的膜片的材料。
作為此種烯烴(共)聚合物,可較好地使用例如以選自4-甲基-1-戊烯、3-甲基-1-戊烯、及3-甲基-1-丁烯中的至少一種烯烴為聚合物成分的烯烴(共)聚合物,或者以該些烯烴為共聚物成分的烯烴(共)聚合物((共)聚合物(α))。
本發明的膜片中較好使用的特定(共)聚合物(α),是使用選自4-甲基-1-戊烯、3-甲基-1-戊烯、及3-甲基-1-丁烯中的至少一種烯烴作為(共)聚合成分而獲得的。該特定烯烴系(共)聚合物(α)可列舉有:3-甲基-1-丁烯、3-甲基-1-戊烯或4-甲基-1-戊烯的均聚物;或該些的交替共聚物;進而與其他可共聚的單體的共聚物,該單體例如為苯乙烯、丙烯腈、氯乙烯、乙酸乙烯酯、丙烯酸酯、甲基丙烯酸酯等;以及其他上述彼此或與其他熱可塑性樹脂或合成橡膠的摻合物(blend)、嵌段共聚物(block copolymer)、接枝共聚物(graft copolymer)等。(共)聚合物(α)的結構單元中,源自4-甲基-1-戊烯、3-甲基-1-戊烯、或3-甲基
-1-丁烯的結構單元,總計通常為20~100mol%(莫耳百分比),較好的是50~100mol%,更好的是80~100mol%。若源自4-甲基-1-戊烯、3-甲基-1-戊烯、或3-甲基-1-丁烯的結構單元的含量在上述範圍內,則獲得透明性、耐熱性等的各種特性的均衡性優異的樹脂,因此較好。
(共)聚合物(α)之中,4-甲基-1-戊烯(共)聚合物的透明性、剝離性等優異,適合與光學元件組合使用,因此較好。並且,一般而言,4-甲基-1-戊烯(共)聚合物的吸水性小於等於0.1%,且吸水性低於先前用作各向同性膜片的三乙醯纖維素(triacetyl cellulose)膜片、聚碳酸酯膜片的吸水性,適合用於因吸水(吸濕)而導致的尺寸變化或光學特性變化成為問題的用途。另一方面,尺寸變化或光學特性變化小的環狀聚烯烴膜片一般難以透過水蒸氣,與此相對,4-甲基-1-戊烯(共)聚合物具有易於透過水蒸氣的性質,例如可適合用於使用有水系黏接劑的用途,例如偏光板保護膜片。並且,3-甲基-1-戊烯(共)聚合物、及3-甲基-1-丁烯(共)聚合物的耐熱性優異,從製程的自由度、或使用條件的自由度等觀點考慮較好。
作為本發明中較好地使用的(共)聚合物(α)中特別好的4-甲基-1-戊烯(共)聚合物,具體而言,是4-甲基-1-戊烯的均聚物或4-甲基-1-戊烯與乙烯或碳原子數為3~20的其他α-烯烴的共聚物,該α-烯烴例如為丙烯、1-丁烯、1-己烯、1-辛烯、1-癸烯、1-十二烯、1-十四烯、1-十六烯、
1-十八烯、1-二十烯等。本發明中較好地使用的4-甲基-1-戊烯(共)聚合物通常以大於等於85mol%、較好的是大於等於90mol%的量含有源自4-甲基-1-戊烯的結構單元。對構成4-甲基-1-戊烯(共)聚合物的、源自4-甲基-1-戊烯以外的構成成分並無特別限制,可適當使用可與4-甲基-1-戊烯共聚的各種單體,而自獲取容易度、共聚特性等觀點考慮,可較好地使用乙烯或碳數為3~20的α-烯烴。其中,較好的是碳數為7~20的α-烯烴,特別好的是1-癸烯、1-十二烯、1-十四烯、1-十六烯、及1-十八烯。
本發明中較好地使用的4-甲基-1-戊烯(共)聚合物的、依據ASTM D1238且以負載為5kg、溫度為260℃的條件所測定出的熔體流動速率(MFR,Melt Flow Rate),是根據各種用途而決定的,通常是1~50g/10分鐘,較好的是2~40g/10分鐘,更好的是5~30g/10分鐘的範圍。若4-甲基-1-戊烯(共)聚合物的熔體流動速率處於上述範圍內,則膜片成形性及所獲得的膜片的外觀良好。並且,較理想的是熔點處於100~240℃、較好的是150~240℃的範圍。
並且,此種4-甲基-1-戊烯(共)聚合物可利用先前眾所周知的方法來製造,例如日本專利特開昭59-206418號公報所記載般,可藉由在存在觸媒的條件下將4-甲基-1-戊烯與上述乙烯或α-烯烴聚合而獲得。
作為本發明中較好地使用的(共)聚合物(α)中的特別好的3-甲基-1-戊烯(共)聚合物,較好的是其共聚單體種
類、共聚單體含量、MFR、熔點等,與上述4-甲基-1-戊烯(共)聚合物的情況相同。本發明中較好地使用的3-甲基-1-戊烯(共)聚合物可利用先前眾所周知的方法而適當製造,例如可利用日本專利特開平06-145248號公報中記載的方法來製造。
作為本發明中較好地使用的(共)聚合物(α)中的特別好的3-甲基-1-丁烯(共)聚合物,較好的是其共聚單體種類、共聚單體含量、MFR、熔點等,與上述4-甲基-1-戊烯(共)聚合物的情況相同。本發明中較好地使用的3-甲基-1-丁烯(共)聚合物可利用先前眾所周知的方法而適當製造,例如可利用日本專利特開平06-145248號公報記載的方法來製造。
並且,膜片的熱收縮性低,高於用以使用膜片的製程溫度、即120℃時的熱收縮率以絕對值計小於等於0.5%,較好的是小於等於0.3%。因此,可抑制於實際製程溫度、例如80℃的環境下,因收縮或膨脹等而引起的尺寸變化,亦可降低因該尺寸變化而引起的光學特性的變化。因此,該膜片可適合用於要求更高尺寸穩定性的先前各種各向同性膜片的各種用途,特別是光學用途,例如相位板保護膜片、剝離膜片、保護膜片、光學補償膜片或其基板等的各種光學用途。
並且,自應用於偏光板保護膜片、剝離膜片、保護膜片、光學補償膜片的基板等的觀點考慮,本實施形態的膜
片中,較好的是利用了旋轉檢偏板法(rotating analyzer)的波長為550nm的相位差小於等於8nm,較好的是小於等於7nm。
不過,本實施形態的膜片並不限定於相位差小於等於8nm的膜片,相位差更大的膜片,例如相位差為20nm或大於等於20nm的膜片亦可較好地用於光學補償膜片等用途。
並且,於不損害本發明目的之範圍內,本實施形態的膜片中可含有塑化劑(plasticizer)。作為塑化劑,可列舉:石蠟系、環烷系、芳香系等礦物油類,α-烯烴類的寡聚物、共寡聚物,酯系塑化劑,各種植物油,動物油等。此種塑化劑可使延伸時的成形加工性更優良。
並且,本實施形態的膜片中可含有其他樹脂,例如聚烯烴類、聚醯胺類、聚酯類等。
並且,於不損害本發明目的之範圍內,本實施形態的膜片中可添加耐候穩定劑、耐熱穩定劑、光滑劑(slip additive)、成核劑(nucleating agent)、顏料、染料等通常添加於聚烯羥中使用的各種調配劑。
此種膜片可藉由使用上述烯烴(共)聚合物,對包含例如以熔融擠壓法、熔融流鑄法而形成的結晶性烯烴(共)聚合物的膜片進行加熱處理而獲得。
加熱處理前的膜片例如可利用先前眾所周知的方法而適當製作,例如以利用V型攪拌機、帶型攪拌機、亨舍爾混合機(Henschel mixer)、滾動攪拌機(tumbler blender)
將烯烴(共)聚合物與其以外的成分加以混合的方法;或利用上述攪拌機混合後,利用單軸擠壓機(extruder)、雙軸擠壓機、捏合機(kneader)、班伯里混煉機(Banbury mixer)等熔融混煉進行造粒或粉碎,接著,以壓製成形、擠壓成形、充氣成形(inflation molding)等方法、或溶液流鑄法等眾所周知的方法使膜片成形。為了高效地生產,較好的是溶液流鑄法、充氣成形法或擠壓成形法等。
對所獲得的膜片進行加熱處理之前可進行延伸,亦可不進行延伸。在不進行延伸的情況下,可獲得適用於上述偏光板保護膜片、剝離膜片、保護膜片、光學補償膜片的基板等的相位差小的膜片。在進行延伸的情況下,可成為如下膜片:光學雙折射、其角度依存性、其溫度依存性等物性可調整為預期值,進而賦予了機械強度。延伸的倍率可根據預期的光學性質等來加以適當選擇,例如能夠以1.5~10倍、較好的是2~5倍的倍率進行延伸。
該加熱處理較好的是將溫度設為大於等於120℃且小於等於膜片熔點的溫度。更好的是大於等於140℃且小於等於膜片的熔點。加熱處理溫度高則可縮短加熱時間。例如,若溫度為180℃則加熱時間為10分鐘左右,便可獲得溫度為120℃加熱時間為60分鐘所獲得的效果。然而,一般認為加熱時間過短則無法充分提高膜片的溫度,因此加熱時間較好的是大於等於30秒,更好的是大於等於1分鐘。可藉由以此種條件進行加熱處理,而獲得加熱時(例如120℃)的收縮率的絕對值小於等於0.5%的膜片。並且,
該加熱處理可藉由如下而進行:使膜片成形為輥狀,將該輥狀膜片展開,並使該膜片連續通過乾燥爐中,並視需要以捲繞的方式自乾燥爐中取出。本發明提供一種此種膜片的製造方法。
並且,上述膜片應用於各種光學透明膜片的用途,尤其適合用於偏光板保護膜片、剝離膜片、保護膜片、光學補償膜片或其基板。因此,本發明提供該些光學透明膜片,即偏光板保護膜片、剝離膜片、保護膜片、光學補償膜片或其基板。而且,光學補償膜片可以是使用了本實施形態的膜片的單層結構,亦可以是將下述多個膜片等加以組合而成的多層結構。
圖1表示將本實施形態的膜片應用於偏光板的示例。
於該偏光板中,依序積層著保護表面的保護膜片1、對偏光板賦予耐擦傷性等的硬塗層2、第2偏光板保護膜片3、偏光元件4、第1偏光板保護膜片5、作為對其他元件的黏接層而發揮作用的黏著層6、以及保護黏著層6的剝離膜片7。
此處,對於保護膜片1而言,在附有保護膜片的狀態下進行安裝著偏光板的顯示元件、例如液晶顯示元件的檢查作業,因此可較好地使用本實施形態的光學特性優異的膜片。要求第1及第2偏光板保護膜片5、3保護偏光元件4且具有高透明性,因此可較好地使用本實施形態的光學特性優異的膜片。剝離膜片7是在形成顯示元件時為了進一步覆蓋用以積層光學補償膜片、相位差膜片(板)等的
黏著層6而設置在該偏光板上的,該偏光板的檢查作業是在附有剝離膜片7的狀態下進行,因此可較好地使用本實施形態的光學特性優異的膜片。
並且,圖2表示將本實施形態的膜片應用於多層結構的光學補償膜片的示例。
於該光學補償膜片中,依序積層著保護表面的保護膜片8、對光學補償膜片賦予耐擦傷性等的硬塗層9、僅使具有規定性質的光透射而進行光學補償的液晶層10、用以使液晶層10積層的基板11、作為對其他元件的黏接層而發揮作用的黏著層12、以及保護黏著層12的剝離膜片13。
此處,基板11可較好地使用本實施形態的光學特性優異的膜片。而且,更好的是膜片具有光學補償功能。並且,圖2的示例中,自上述觀點考慮,可較好地使用本實施形態的膜片來作為保護膜片8及剝離膜片13。
並且,本發明可較好地將上述膜片、應用有該膜片的透明光學膜片,例如偏光板保護膜片、剝離膜片、保護膜片、光學補償膜片等用於顯示元件,例如液晶顯示元件、有機電致發光(electroluminescence,EL)元件等,本發明提供此種顯示元件。
圖3是表示作為此種顯示裝置的液晶顯示裝置構成的一例的圖。
於該液晶顯示裝置中,依序積層著偏光板14、相位差板15、光學補償膜片16、液晶面板17、相位差板18、偏光板19、背光單元20。
此處,作為偏光板14、19,較好地使用應用了圖1所示的本實施形態的偏光板。作為光學補償膜片16,可較好地使用如圖2所示的多層結構,亦可較好地使用將本實施形態的膜片直接應用的單層結構。
根據此種構成,利用偏光板19使來自背光單元20的入射光偏光,僅使直線偏光光透過,並利用相位差板18使偏光光的相位一致後,入射至液晶面板17。液晶面板17中,形成有輸出圖像,生成用以使該圖像再現的光後將該光射出,利用光學補償膜片16使該射出光得到視角補償,並利用相位差板15使相位差一致,經偏光板14偏光後,調整對比度。
而且,本發明並不限定於上述實施形態及具體例,於不脫離本發明目的之範圍內可進行適當變更。
以下,使用實施例對本發明加以說明,但本發明並不限定於該些實施例。
對在各實施例中評價出的物性的測定方法加以說明。
波長為550nm的相位差是藉由如下方法來求出的,即,使用大塚電子股份有限公司製造的延遲測定裝置(型號為RETS-100),並利用旋轉檢偏板法,以入射角為0∘使測定光入射至樣品平面而進行測定。
熱收縮率是藉由如下方法而求出的,即,於聚烯烴膜
片的MD方向(膜片成形時的流動方向)及TD方向(膜片成形時的寬度方向)上分別放置寬度為100mm的標線,測定於空氣中120℃下進行1小時加熱處理前後的上述標線間距離的變化率。
使用4-甲基-1-戊烯與碳數為12及14的單體(莫耳比為碳數12:碳數14=50:50)的共聚物(莫耳比=95:5,MFR:27g/10分鐘,熔點為230℃,玻璃轉移溫度為15℃,平均折射率為1.46,吸水率小於等於0.01%),利用單軸擠壓機(直徑為40mm),以圓筒溫度為300℃、澆鑄輥溫度為30℃的條件進行熔融擠壓成形,製作膜厚為120μm的膜片。繼而,利用180℃的乾燥爐進行5分鐘加熱處理。
該膜片的相位差及空氣中120℃下加熱1小時後的收縮率示於表1。
使用4-甲基-1-戊烯與碳數為16及18的單體(莫耳比為碳數16:碳數18=50:50)的無規共聚物(莫耳比=94:6,MFR:22g/10分鐘,熔點為230℃,玻璃轉移溫度為10℃,平均折射率為1.46,吸水率小於等於0.01%),利用單軸擠壓機(直徑為40mm),以圓筒溫度為300℃、撓鑄輥溫度為30℃的條件進行熔融擠壓成形,製作膜厚為80μm的膜片。繼而,利用200℃的乾燥爐進行3分鐘加熱處理。
該膜片的相位差及空氣中120℃下加熱1小時後的收縮率示於表1。
使用4-甲基-1-戊烯與碳數為12及14的單體(莫耳比為碳數12:碳數14=50:50)的共聚物(莫耳比=95:5,MFR:27g/10分鐘,熔點為230℃,玻璃轉移溫度為15℃,平均折射率為1.46,吸水率小於等於0.01%),利用單軸擠壓機(直徑為40mm),以圓筒溫度為300℃、澆鑄輥溫度為30℃的條件進行熔融擠壓成形,製作膜厚為120μm的膜片。繼而,利用200℃的乾燥爐進行10分鐘加熱處理。
該膜片的相位差及空氣中120℃下加熱1小時後的收縮率示於表1。
而且,該膜片200℃下加熱1小時後的收縮率於MD方向為+0.2%,於TD方向為-0.1%。
使用4-甲基-1-戊烯與碳數為12及14的單體(莫耳比為碳數12:碳數14=50:50)的共聚物(莫耳比=95:5,MFR:27g/10分鐘,熔點為230℃,玻璃轉移溫度為15℃,平均折射率為1.46,吸水率小於等於0.01%),利用單軸擠壓機(直徑為40mm),以圓筒溫度為300℃、澆鑄輥溫度為30℃的條件進行熔融擠壓成形,製作膜厚為120μm的薄膜。
該膜片的相位差及空氣中120℃下加熱1小時後的收
縮率示於表1。
而且,該膜片於200℃下加熱1小時後的收縮率於MD方向為+5.1%,於TD方向為-5.1%。
使用4-甲基-1-戊烯與碳數為16及18的單體(莫耳比為碳數16:碳數18=50:50)的無規共聚物(莫耳比=94:6,MFR:22g/10分鐘,熔點為230℃,玻璃轉移溫度為10℃,平均折射率為1.46,吸水率小於等於0.01%),利用單軸擠壓機(直徑為40mm),以圓筒溫度為300℃、澆鑄輥溫度為30℃的條件進行熔融擠壓成形,製作膜厚為80μm的膜片。
該膜片的相位差及空氣中120℃下加熱1小時後的收縮率示於表1。
實施例1至3中所獲得的膜片的熱收縮率的絕對值低、且相位差亦低,因此可特別適合用於偏光板保護膜片、剝離膜片、保護膜片的用途。
1、8‧‧‧保護膜片
2、9‧‧‧硬塗層
3‧‧‧偏光板保護膜片
4‧‧‧偏光元件
5‧‧‧第1偏光板保護膜片
6、12‧‧‧黏著層
7、13‧‧‧剝離膜片
10‧‧‧液晶層
11‧‧‧基板
14、19‧‧‧偏光板
15、18‧‧‧相位差板
16‧‧‧光學補償膜片
17‧‧‧液晶面板
20‧‧‧背光單元
圖1是表示將本實施形態的膜片應用於偏光板的示例。
圖2是表示將本實施形態的膜片應用於多層結構的光學補償膜片的示例。
圖3是表示作為本實施形態的顯示裝置的液晶顯示裝置的構成的一例的圖。
1‧‧‧保護膜片
2‧‧‧硬塗層
3‧‧‧偏光板保護膜片
4‧‧‧偏光元件
5‧‧‧第1偏光板保護膜片
6‧‧‧黏著層
7‧‧‧剝離膜片
Claims (16)
- 一種透明光學膜片,其使用以鈉D線(波長為589.3nm)所測定的折射率小於等於1.5的烯烴(共)聚合物而形成,該膜片於空氣中120℃下進行1小時熱處理的熱收縮率以絕對值計小於等於0.5%,上述烯烴(共)聚合物是將選自4-甲基-1-戊烯、3-甲基-1-戊烯、3-甲基-1-丁烯中的至少一種烯烴用作共聚成分,上述共聚成分的結構單元總計20~100mol%。
- 如申請專利範圍第1項所述之透明光學膜片,其中上述膜片由熔融擠壓法而形成。
- 如申請專利範圍第1項所述之透明光學膜片,其中波長為550nm的相位差小於等於8nm。
- 如申請專利範圍第1項所述之透明光學膜片,其中膜片成形後以大於等於120℃且小於等於該膜片的熔點的溫度實施加熱處理。
- 一種透明光學膜片的製造方法,是在使用以鈉D線(波長為589.3nm)所測定的折射率小於等於1.5的烯烴(共)聚合物且藉由熔融擠壓法而形成膜片後,以大於等於120℃且小於等於該膜片熔點的溫度實施加熱處理,上述烯烴(共)聚合物是將選自4-甲基-1-戊烯、3-甲基-1-戊烯、3-甲基-1-丁烯中的至少一種烯烴用作共聚成分,上述共聚成分的結構單元總計20~100mol%。
- 如申請專利範圍第5項所述之透明光學膜片的製造方法,其中 使上述膜片成形為輥狀,上述加熱處理是藉由將輥狀膜片展開,並使該膜片連續通過乾燥爐中而進行的。
- 一種偏光板保護膜片,其使用申請專利範圍第1項至第4項中任一項所述之透明光學膜片。
- 一種剝離膜片,其使用申請專利範圍第1項至第4項中任一項所述之透明光學膜片。
- 一種保護膜片,其使用申請專利範圍第1項至第4項中任一項所述之透明光學膜片。
- 一種光學補償膜片,其使用申請專利範圍第1項、第2項及第4項中任一項所述之透明光學膜片。
- 一種光學補償膜片的基板,其使用申請專利範圍第1項至第4項中任一項所述之透明光學膜片。
- 一種顯示元件,其使用申請專利範圍第1項至第4項中任一項所述之透明光學膜片、及/或申請專利範圍第7項所述之偏光板保護膜片。
- 一種顯示元件,其使用申請專利範圍第1項至第4項中任一項所述之透明光學膜片、及/或申請專利範圍第8項所述之剝離膜片。
- 一種顯示元件,其使用申請專利範圍第1項至第4項中任一項所述之透明光學膜片、及/或申請專利範圍第9項所述之保護膜片。
- 一種顯示元件,其使用申請專利範圍第1項至第4項中任一項所述之透明光學膜片、及/或申請專利範圍第 10項所述之光學補償膜片。
- 一種顯示元件,其使用申請專利範圍第1項至第4項中任一項所述之透明光學膜片、及/或請專利範圍第11項所述之光學補償膜片的基板。
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