TWI422961B - 光罩及其製造方法、圖案轉印方法、以及顯示裝置之製造方法 - Google Patents

光罩及其製造方法、圖案轉印方法、以及顯示裝置之製造方法 Download PDF

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    • G03F1/00—Originals for photomechanical production of textured or patterned surfaces, e.g., masks, photo-masks, reticles; Mask blanks or pellicles therefor; Containers specially adapted therefor; Preparation thereof
    • G03F1/26—Phase shift masks [PSM]; PSM blanks; Preparation thereof
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