TWI381471B - Liquid treatment device, liquid treatment method and memory medium - Google Patents

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TWI381471B
TWI381471B TW097151061A TW97151061A TWI381471B TW I381471 B TWI381471 B TW I381471B TW 097151061 A TW097151061 A TW 097151061A TW 97151061 A TW97151061 A TW 97151061A TW I381471 B TWI381471 B TW I381471B
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Yuji Kamikawa
Norihiro Ito
Jiro Higashijima
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Tokyo Electron Ltd
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Description

液處理裝置、液處理方法及記憶媒體
本發明係關於將洗淨液供給至旋轉驅動之被處理體，洗淨該被處理體之液處理裝置及液處理方法，以及用以實施該液處理方法之記憶媒體。
如專利文獻1所示般，自以往所知的液處理裝置具備保持屬於被處理體之半導體晶圓(以下也稱為晶圓)，並且成為中空之底板，和被固定連結於底板，藉由旋轉馬達被旋轉驅動之旋轉軸，和在旋轉軸內延伸存在，對被底板所保持之晶圓供給洗淨液之供給管路，和藉由上升可以自下方支撐晶圓之基板推昇銷。
[專利文獻1]日本特開平9-290197號公報
在以往之液處理裝置中，為了洗淨晶圓而所使用之藥液或沖洗液等之洗淨液經貫通孔而可能附著於基板推昇銷。因此，於晶圓之乾燥工程之後，藉由基板之推昇銷抬起晶圓而轉交至搬運機械手臂之時，則有附著於基板推昇銷之洗淨液之液滴附著於晶圓背面之情形。
當如此洗淨液附著於晶圓時，不僅在液滴附著之晶圓本體形成水印，載運晶圓之載體內之溼度上升，在被收容於載體內之其他晶圓也有形成水印之情形。
本發明係考慮該點而所研究出，其目的為提供藉由防止在抬起基板之構件殘留洗淨液，防止洗淨液附著於被處理體之背面，進一步防止在被處理體上形成水印的液處理裝置及液處理方法，以及用以實施該液處理方法之記憶媒體。
藉由本發明之液處理裝置係具備
保持被處理體，並且成為中空之保持板；被固定連結於上述保持板，成為中空之外方旋轉軸；使上述外方旋轉軸朝特定旋轉方向旋轉驅動之旋轉驅動部；被配置在上述保持板之中空內，並且具有支撐上述被處理體之頂出銷的頂出銷板；被配置在上述保持板之內部，將洗淨液供給至該保持板所保持之上述被處理體之洗淨液供給部；和使上述頂出銷板升降，並使配置於上方位置及下方位置的升降構件，上述頂出銷板位於下方位置之時，上述旋轉驅動部承受使上述外方旋轉軸旋轉驅動之力，而被旋轉驅動。
藉由如此之構成，可以防止洗淨液淤積於頂出銷板，或洗淨劑殘留於頂出銷，並且可以防止洗淨液附著於被處理體之背面。
在藉由本發明之液處理裝置中，又具備在上述外方旋轉軸之中空內延伸存在，被固定連結於上述頂出銷板之內方旋轉軸，該內方旋轉軸係藉由上述升降構件被配置在上方位置及下方位置，並且於位於下方位置之時，能夠在上述外方旋轉軸之旋轉方向中抵接於該外方旋轉軸為佳。
在藉由本發明之液處理裝置中，上述內方旋轉軸具有突出於周緣外方之內部突出部，上述外方旋轉軸具有收容上述內部突出部之外部凹部，上述內部突出部係在上述外部凹部內，能夠在上述外方旋轉軸之旋轉方向中抵接於該外方旋轉軸為佳。
在藉由本發明之液處理裝置中，上述外方旋轉軸具有突出於周緣內方之外部突出部，上述內方旋轉軸具有收容上述外部突出部之內部凹部，上述外部突出部係在上述內部凹部內，能夠在上述外方旋轉軸之旋轉方向中抵接於該內方旋轉軸為佳。
藉由本發明之液處理裝置中，上述頂出銷板位於下方位置之時，以能夠固定於上述保持板為佳。
在藉由本發明之液處理裝置中，係以藉由在上述頂出銷板內設置第一磁鐵，在上述保持板內設置第二磁鐵，上述頂出銷板位於下方位置之時，上述第一磁鐵固定於上述第二磁鐵，使得上述頂出銷板能夠固定於上述保持板為佳。
在藉由本發明之液處理裝置中，係在上述內方旋轉軸內設置第一磁鐵，在上述外方旋轉軸中之與上述第一磁鐵相向之位置設置第二磁鐵，上述頂出銷板位於下方位置之時，上述第一磁鐵以非接觸固定於上述第二磁鐵為佳。
藉由本發明之液處理裝置中，上述內方旋轉軸之至少一部分具有由金屬所構成之金屬部，設置對上述金屬部賦予磁力，將上述內方旋轉軸引到下方的磁鐵，於上述頂出銷板位於下方位置之時，藉由該頂出銷板之自重和被賦予至上述金屬部之磁力，該頂出銷板能夠在上述外方旋轉軸之旋轉方向固定於上述保持板為佳。
藉由本發明之液處理裝置中，上述第一磁鐵及上述第二磁鐵之各個由電磁鐵所構成為佳。
依據如此之構成，可以防止於頂出銷板自保持板離開之時，該頂出銷板突發性移動。
藉由本發明之液處理裝置中，上述頂出銷板和上述保持板之間設置有密封構件為佳。
藉由如此之構成，可以防止洗淨液等從頂出銷板和保持板之間進入至外方旋轉軸之中空內。
藉由本發明之液處理裝置中，上述頂出銷板位於下方位置之時，以上述頂出銷板之上述頂出銷之前端，和被保持於上述保持板之上述被處理體之下端之距離為5mm以下為佳。
依據如此之構成，藉由流到被處理體下面之洗淨液，可以洗淨頂出銷之前端，並且可以防止於頂出銷之前端抵接於被處理體之背面時，附著於頂出銷之前端的髒污移至被處理體之背面。
藉由本發明之液處理裝置中，上述頂出銷板之上述頂出銷被配置在上述保持板之周緣附近為佳。
依據如此之構成，於洗淨被處理體背面之後，可以洗淨頂出銷之前端，並可以更確實地防止於頂出銷之前端抵接於被處理體之背面時，附著於頂出銷之前端的髒污移至被處理體之背面。
藉由本發明之液處理方法係
屬於使用液處理裝置的液處理方法，該液處理裝置具有：成為中空之保持板；被固定連結於該保持板，成為中空之外方旋轉軸；使該外方旋轉軸朝特定旋轉方向旋轉驅動之旋轉驅動部；被配置在上述保持板之中空內，並且具有頂出銷的頂出銷板；被配置在上述保持板之內部的洗淨液供給部；和使上述頂出銷板升降，並使配置於上方位置及下方位置的升降構件，其特徵為：具備
藉由上述升降構件，使上述頂出銷板定位於上方位置之上方定位工程；藉由上述頂出銷板之上述頂出銷，支撐上述被處理體之支撐工程；藉由上述升降構件，使上述頂出銷板定位於下方位置之下方定位工程；藉由上述保持板，保持上述被處理體之保持工程；藉由上述旋轉驅動部旋轉驅動上述外方旋轉軸，使在上述保持板所保持之上述被處理體旋轉之旋轉工程；藉由上述洗淨液供給部將藥液供給至上述被處理體之藥液供給工程；和藉由上述洗淨液供給部將沖洗液供給至上述被處理體之沖洗工程；藉由上述旋轉驅動部旋轉驅動上述外方旋轉軸之力，使位於下方位置之上述頂出銷板旋轉。
藉由如此之構成，可以防止洗淨液淤積於頂出銷板，或洗淨劑殘留於頂出銷，並且可以防止洗淨液附著於被處理體之背面。
藉由本發明之記憶媒體係
屬於儲存有用以使電腦量行液處理方法之電腦程式的記憶媒體，其特徵為：該液處理方法係屬於使用液處理裝置的液處理方法，該液處理裝置具有：成為中空之保持板；被固定連結於該保持板，成為中空之外方旋轉軸；使該外方旋轉軸朝特定旋轉方向旋轉驅動之旋轉驅動部；被配置在上述保持板之中空內，並且具有頂出銷的頂出銷板；被配置在上述保持板之內部的洗淨液供給部；和使上述頂出銷板升降，並使配置於上方位置及下方位置的升降構件，其特徵為：具備
藉由上述升降構件，使上述頂出銷板定位於上方位置之上方定位工程；藉由上述頂出銷板之上述頂出銷，支撐上述被處理體之支撐工程；藉由上述升降構件，使上述頂出銷板定位於下方位置之下方定位工程；藉由上述保持板，保持上述被處理體之保持工程；藉由上述旋轉驅動部旋轉驅動上述外方旋轉軸，使在上述保持板所保持之上述被處理體旋轉之旋轉工程；藉由上述洗淨液供給部將薬液供給至上述被處理體之藥液供給工程；和藉由上述洗淨液供給部將沖洗液供給至上述被處理體之沖洗工程；藉由上述旋轉驅動部旋轉驅動上述外方旋轉軸之力，使位於下方位置之上述頂出銷板旋轉。
藉由如此之構成，可以防止洗淨液淤積於頂出銷板，或洗淨劑殘留於頂出銷，並且可以防止洗淨液附著於被處理體之背面。
若藉由本發明，可以因承受藉由旋轉驅動部而旋轉驅動外方旋轉軸之力，使頂出銷被旋轉驅動，故可以防止洗淨液淤積於頂出銷板，在頂出銷殘留洗淨液。因此，可以防止洗淨液附著於被處理體之背面，進而可以防止在被處理體形成水印。
 [第1實施型態]
以下，針對本發明所涉及之液處理裝置及液處理方法之第1實施型態，參照圖面予以說明。在此，第1圖(a)、(b)至第6圖為表示本發明之第1實施型態之圖式。
如第1圖(a)、(b)及第2圖(a)所示般，液處理裝置10具備保持屬於被處理體之半導體晶圓W(以下也稱為晶圓W)，並且成為中空之保持板1，和被固定連結於保持板1，成為中空之外方旋轉軸2(參照第2圖(b))，和將外方旋轉軸2朝特定旋轉方向旋轉驅動之旋轉驅動部3。並且，如第2圖(a)所示般，保持板1藉由保持構件60保持晶圓W。再者，第2圖(b)為在B-B直線切斷第2圖(a)之橫剖面圖。
再者，如第1圖(a)、(b)所示般，在外方旋轉軸2之周緣外方配置有軸承31。再者，旋轉驅動部3具有被配置在外方旋轉軸2之周緣外方的帶輪62，和經驅動皮帶63對該帶輪62賦予驅動力之馬達61。
再者，如第1圖(a)、(b)及第2圖(a)所示般，在保持板1之中空內配置具有頂出銷21之頂出銷板20。再者，在外方旋轉軸2之中空內，被固定連結於頂出銷板20之內方旋轉軸22延伸存在於上下方向。
再者，如第1圖(a)、(b)以及第2圖(a)、(b)所示般，內方旋轉軸22和頂出銷板20成為中空形狀，在該些內方旋轉軸22和頂出銷板20之內部(中空空間內)，於上下方向延伸存在有將洗淨液供給至保持板1所保持之晶圓W之背面側的背面側洗淨液供給部(洗淨液供給部)30。再者，如第1圖(a)、(b)所示般，在內方旋轉軸22設置有使頂出銷板20及內方旋轉軸22升降，使配置於上方位置及下方位置之升降構件16。
並且，升降構件16藉由使內方旋轉軸22升降，使頂出銷板20升降。然後，在內方旋轉軸22之周緣外方設置有軸承32，如後述般，內方旋轉軸22成為可旋轉。
再者，如第2圖(a)所示般，在保持板1之上方配置有將洗淨液供給至藉由保持板1被保持之晶圓W表面側的表面側洗淨液供給部65。
再者，洗淨液係指薬液或沖洗液之意。然後，就以藥液而言，可以使用例如稀有氟酸、氨水過氧化氫混合溶液(SCI)、鹽酸過氧化氫水溶液等(SC2)。另外，沖洗液可以使用例如純水(DIW)等。
再者，自背面側洗淨液供給部30也供給由N2等所構成之乾燥氣體，自表面側洗淨液供給部65也供給由IPA(異丙醇)等所構成之乾燥液。
再者，內方旋轉軸22位於下方位置之時(參照第1圖(a))，則在外方旋轉軸2之旋轉方向可抵接於外方旋轉軸2。更具體而言，內方旋轉軸22具有突出於周緣外方之內部突出部11，外方旋轉軸2具有收容內部突出部11之外部凹部2a(參照第2圖(b))。然後，內部突出部11在外部凹部2a內，於外方旋轉軸2之旋轉方向可抵接於外方旋轉軸2。
因此，可以藉由旋轉驅動部3旋轉驅動外方旋轉軸2之力，使固定連結於內方旋轉軸22之頂出銷板20予以旋轉。
並且，於藉由升降構件16使內方旋轉軸22升降之時，內部突出部11導引外部凹部2a內(參照第1圖(b))。
然而，在第2圖(b)中，表示僅設置一個內部突出部11和對應於該內部突出部11之外部凹部2a的態樣，但是並不限定於此，即使多數設置內部突出部11和外部凹部2a亦可。
再者，如第1圖(a)、(b)及第2圖(a)所示般，在頂出銷板20和保持板1之間配置有由O型環等所構成之密封構件35。
接著，針對由如此構成所形成之本實施型態之作用予以敘述。
首先，藉由升降構件16，頂出銷板20被定位在上方位置(晶圓搬運機械手臂交接晶圓W之位置)(上方定位工程81，參照第1圖(b)及第3圖)。更具體而言，藉由升降構件16內方旋轉軸22被定位在上方位置，依此固定連結於內方旋轉軸22之頂出銷板20被定位在上方位置。
接著，藉由頂出銷板20之頂出銷21，自晶圓搬運機械手臂(無圖式)接取晶圓W，藉由該頂出銷21支撐晶圓W(支撐工程82，參照第1圖(b)及第3圖)。
接著，藉由升降構件16，頂出銷板20被定位在下方位置(藉由洗淨液處理晶圓W之位置)(下方定位工程83，參照第1圖(a)及第3圖)。更具體而言，藉由升降構件16內方旋轉軸22被定位在下方位置，依此固定連結於內方旋轉軸22之頂出銷板20被定位在下方位置。此時，內方旋轉軸22之內部突出部11被收容於外方旋轉軸2之外部凹部2a內。
於如此頂出銷板20被定位於下方位置之時，藉由保持板1之保持構件60，保持晶圓W(保持工程84，參照第2圖(a)及第3圖)。
接著，藉由旋轉驅動部3使得外方旋轉軸2被旋轉驅動，依此在保持板1被保持之晶圓W旋轉(旋轉工程，參照第3圖)。在此，內部突出部11因在外部凹部2a內，能夠於外方旋轉軸2之旋轉方向，抵接於外方旋轉軸2，故藉由旋轉驅動部3使外方旋轉軸2旋轉驅動，依此內方旋轉軸22則旋轉(參照第2圖(b))。因此，被固定連結於內方旋轉軸22之頂出銷板20也旋轉。
如此一來，被保持板1保持之晶圓W和頂出銷板20旋轉之期間執行以下之工程。
首先，藉由表面側洗淨液供給部65和背面側洗淨液供給部30，對晶圓W供給藥液(藥液供給工程91)(參照第2圖(a)及第3圖)。即是，藉由表面側洗淨液供給部65對晶圓W表面供給藥液，並且藉由背面側洗淨液供給部30對晶圓W背面供給藥液。
接著，藉由表面側洗淨液供給部65和背面側洗淨液供給部30，對晶圓W供給沖洗液(沖洗工程92)(參照第3圖)。即是，藉由表面側洗淨液供給部65對晶圓W表面供給沖洗液，並且藉由背面側洗淨液供給部30對晶圓W背面供給沖洗液。
在執行如此藥液供給工程91和沖洗工程92之期間，藉由旋轉驅動部3使外方旋轉軸2旋轉驅動，依此內方旋轉軸22旋轉驅動，頂出銷板20則旋轉。因此，可以防止為了洗淨晶圓W所使用之藥液或沖洗液等之洗淨液淤積在頂出銷板20，及洗淨液殘留在頂出銷21。
即是，在頂出銷板20所接受到之藥液或沖洗液等之洗淨液，由於頂出銷板20旋轉所產生之離心力，使得移動至頂出銷板20之周緣外方。因此，因可以隨時自頂出銷板20以及頂出銷21除去用以洗淨晶圓W之洗淨液，故可以防止洗淨液淤積在頂出銷板20，及洗淨液殘留在頂出銷21。
並且，在本實施型態中，頂出銷板20之頂出銷21之前端，和被保持板1所保持之晶圓W之下面之距離係頂出銷板20位於下方位置之時，則為5mm以下(參照第1圖(a)以及第2圖(a))。因此，藉由流到晶圓W下面之藥液或沖洗液，可洗淨頂出銷21之前端。
其結果，可以防止如上述支撐工程82或後述搬出工程96所示般，當頂出銷21之前端抵接於晶圓W之背面時，附著於頂出銷21前端之髒污移至晶圓W背面。
如上述般，當結束沖洗工程92時，則執行乾燥工程93。
即是，自表面側洗淨液供給部65供給由IPA(異丙醇)等所構成之乾燥液，自背面側洗淨液供給部30供給由N2 等所構成之乾燥氣體。然後，此時也藉由自旋轉驅動部3所施加之驅動力，頂出銷板20被旋轉。
因此，殘留在頂出銷板20及頂出銷21之洗淨液(尤其，沖洗液)藉由頂出銷板20旋轉所產生之離心力，使得移動至頂出銷板20之周緣外方。因此，可以確實防止頂出銷板20及頂出銷21殘留洗淨液(尤其沖洗液)。
當結束如此乾燥工程93時，藉由頂出銷板20之頂出銷21，晶圓W被抬起，而移動至晶圓搬運機械手臂(搬出工程96，參照第1圖(b)及第3圖)。在此，如上述般，因在藥液供給工程91、沖洗工程97以及乾燥工程93之間，頂出銷板20旋轉，故在頂出銷板20及頂出銷21不會殘留洗淨液。
因此，藉由頂出銷板20之頂出銷21抬起晶圓W之時，在晶圓W之背面不會附著淤積於頂出銷板20之洗淨液的液滴及殘留於頂出銷21之洗淨液的液滴。
其結果，可以防止在液滴附著之晶圓W本身形成水印，並且也可以防止在被收容於晶圓W被抬進之載體內的其他晶圓W形成水印。
再者，在本實施型態中，如第1圖(a)、(b)及第2圖(a)所示般，在頂出銷板20和保持板1之間配置有由O型環等所構成之密封構件35。因此，可以防止在上述藥液供給工程91、沖洗工程92及乾燥工程93中，藥液、沖洗液、乾燥液自頂出銷板20和保持板1之間，進入至外方旋轉軸2之中空內。
即是，若在以往，相對於保持板1旋轉頂出銷板20係被固定，在保持板1和頂出銷板20之間設置有間隙。因此，必須將N2等之氣體自該間隙朝上方吹，使藥液、沖洗液、乾燥液等不會自該間隙進入至外方旋轉軸2之中空內(必須沖洗)。
對此，若藉由本實施型態，因頂出銷板20與保持板1同時旋轉，可以使保持板1和頂出銷板20之間密接。因此，僅在保持板1和頂出銷板20之間設置密封構件35，即可防止藥液、沖洗液、乾燥液等進入至外方旋轉軸2之中空內。
再者，在上述中，內方旋轉軸22具有突出於周緣外方之內部突出部11，外方旋轉軸2具有收容內部突出部11之外部凹部2a，內部突出部11係在外部凹部2a內，使用可在外方旋轉軸2之旋轉方向抵接於外方旋轉軸2之態樣予以說明，但是並不限定於此，即使如第4圖及第5圖所示般，具有外方旋轉軸2突出於周緣內方之外部突出部12，內方旋轉軸23具有收容外部突出部12之內部凹部23a，外部突出部12在內部凹部23a內，能夠於外方旋轉軸2之旋轉方向抵接於內方旋轉軸23亦可。
並且，在外方旋軸軸2設置滾珠栓槽的栓槽螺帽，被設置在該栓槽螺帽內之滾珠構成外部突出部12。此時，構成內部凹部23a導引滾珠(參照第5圖)。如此在外方旋轉軸2設置滾珠栓槽之栓槽螺帽，自滾珠構成外部突出部12，依此可容易藉由升降構件16使內方旋轉軸23升降。
再者，在上述中，使用頂出銷板20之頂出銷21被配置在保持板1之中心附近之態樣予以說明，但是並不限定於此，如第6圖所示般，由頂出銷板20延伸至保持板1之周緣附近的圓形形狀所構成，頂出銷板20之頂出銷21即使被配置在保持板1之周緣附近亦可。
如此一來藉由頂出銷21被配置在保持板1之周緣附近，可以藉由洗淨晶圓W背面後之藥液或沖洗液，一邊將晶圓W背面之洗淨液之亂流抑制成較少，一邊洗淨頂出銷21之前端。
再者，在本實施型態中，關於上述液處理方法之各工程的資訊被記憶在記憶媒體52(參照第1圖(a)(b))。然後，液處理裝置10具備有受理記憶媒體52之電腦55，和接受來自該電腦55之訊號控制液處理裝置10之控制部50。因此，藉由將該記憶媒體52插入至電腦55，可以藉由控制部50使該液處理裝置10實行上述一連串之液處理方法(參照第1圖(a)、(b))。
[第2實施型態]
接著，藉由第7圖(a)、(b)，針對本發明之第2實施型態予以說明。如第7圖(a)、(b)所示般，在第2實施型態中，以頂出銷板20位於下方位置之時能夠固定於保持板1者，取代內方旋轉軸22位於下方位置時，能夠在外方旋轉軸2之旋轉方向抵接於外方旋轉軸2，其他構成則與第1圖至第6圖所示之第1實施型態大略相同。並且，在本實施型態中，後述之內方軸22’雖然為相當於第1實施型態之內方旋轉軸22之構件，但是因與第1實施型態不同不被旋轉驅動，故以內方軸22’表現。
在第7圖(a)、(b)所示之第2實施型態中，對於與第1圖至第6圖所示之第1實施型態相同部份賦予相同符號，省略詳細說明。
如第7圖(a)、(b)所示般，在頂出銷板20內設置第一磁鐵71，在保持板1內設置有第二磁鐵72。然後，當頂出銷板20位於下方位置時，藉由第一磁鐵71固定於第二磁鐵72，頂出銷板20則固定於保持板1。
再者，如第7圖(a)、(b)所示般，在頂出銷板20和保持板1之間，設置有於使頂出銷板20升降之時，自下方支撐該頂出銷板20之支撐構件40。並且，在第7圖(a)、(b)因簡化圖面，故不圖示背面側洗淨液供給部30。
再者，支撐構件40係被連結內方軸22’，於保持板1之旋轉時，不接觸於保持板1也不接觸於頂出銷板20。因此，即使藉由旋轉驅動部3使得外方旋轉軸2旋轉驅動之時，內方軸22’也不被旋轉驅動。
即使藉由本實施型態，亦可以達到與第1實施型態相同之效果，就以主要之點而言，可以達成下述效果。
即是，在執行藥液供給工程91和沖洗工程92之期間，藉由旋轉驅動部3使外方旋轉軸2旋轉驅動，依此保持板1旋轉。然後，藉由如此保持板1旋轉，依據產生於第一磁鐵71和第二磁鐵72之間的磁力，被固定於保持板1之頂出銷板20被旋轉。因此，可以隨時自頂出銷板20除去為了洗淨晶圓W所使用之藥液或沖洗液等之洗淨液，防止如此之洗淨液淤積在頂出銷板20，及洗淨液殘留在頂出銷21。
然後，即使在乾燥工程93，也藉由自旋轉驅動部3所施加之驅動力，頂出銷板20被旋轉。因此，殘留在頂出銷20之洗淨液(尤其，沖洗液)藉由頂出銷板20旋轉所產生之離心力，可以自頂出銷板20除去。其結果，可以確實防止在頂出銷板20淤積洗淨液(尤其係沖洗液)，及在頂出銷21殘留洗淨液。
如此一來，可以防止藉由頂出銷板20之頂出銷21抬起晶圓W之時，在晶圓W之背面附著淤積於頂出銷板20之洗淨液的液滴及殘留於頂出銷21之洗淨液的液滴。其結果，可以防止在液滴附著之晶圓W本身形成水印，並且也可以防止在被收容於晶圓W被抬進之載體內的其他晶圓W形成水印。
再者，在本實施型態中，即使由電磁鐵構成第一磁鐵71及第二磁鐵72之各個或是其中之任一方亦可。藉由如此自電磁鐵構成第一磁鐵71及第二磁鐵72之各個或其中之任一方，可以適當切換頂出銷板20對保持板1之固定狀態和自由狀態。
即是，藉由使電流流通於構成第一磁鐵71及第二磁鐵72之電磁鐵，可以將頂出銷板20固定至保持板1，另外藉由停止流動於構成第一磁鐵71及第二磁鐵72之電磁鐵的電流，則可以使頂出銷板20相對於保持板1自由移動。
更具體而言(當考慮第一磁鐵71及第二磁鐵72之各個由電磁鐵所構成之時)，藉由自旋轉驅動部3所施加之驅動力，使頂出銷板20旋轉之時。使電流流通於構成第一磁鐵71及第二磁鐵72之電磁鐵而使頂出銷板20固定至保持板1，另外藉由升降構件16，於使頂出銷板20鄉對於保持板1予以上升之時，停止流通於構成第一磁鐵71及第二磁鐵72之電磁鐵的電流，則可以使頂出銷板20相對於保持板1自由移動。
然後，如此一來，藉由升降構件16使頂出銷板20相對於保持板1予以上升之時，則可以使頂出銷板20相對於保持板1自由移動，依此於頂出銷板20自保持板1分離之時，則考以防止突發性移動。
[第3實施型態]
接著，藉由第8圖(a)、(b)，針對本發明之第3實施型態予以說明。如第8圖(a)、(b)所示之第3實施型態，係以頂出銷板20位於下方位置之時，該頂出銷板20能夠在外方旋轉軸2之旋轉方向以非接觸固定於保持板1者，取代內方旋轉軸22位於下方位置時，能夠在外方旋轉軸2之旋轉方向抵接於外方旋轉軸2。其他構成則與第1圖至第6圖所示之第1實施型態大略相同。
在第8圖(a)、(b)所示之第3實施型態中，對於與第1圖至第6圖所示之第1實施型態及第7圖(a)、(b)所示之第2實施型態相同部份賦予相同符號，省略詳細說明。再者，第8圖(b)係表示在B’-B’直線切斷第8圖(a)之剖面圖。
如第8圖(a)、(b)所示般，在內方旋轉軸22設置第一磁鐵71a，在外方旋轉軸2中與第一磁鐵71a對向之位置設置有第二磁鐵72a。因此，頂出銷板20位於下方位置之時，可以將外方旋轉軸2在外方旋轉軸2之旋轉方向固定於內方旋轉軸22。其結果，藉由旋轉驅動部3使外方旋轉軸2旋轉，依此可以使內方旋轉軸22和頂出銷板20旋轉。
並且，在本實施型態，如第8圖(b)所示般，在第一磁鐵71a及第二磁鐵72a之各個中，構成各具兩個N極和S極。然後，構成第一磁鐵71a之N極與第二磁鐵72a之S極對向，第一磁鐵71a之S極與第二磁鐵72a之N極對向。
即使依據由上述構成所形成之本實施型態，亦可以達成與第1實施型態相同之效果。
[第4實施型態]
接著，藉由第9圖，針對本發明之第4實施型態予以說明。第9圖所示之第4實施型態，係以頂出銷板20位於下方位置之時，該頂出銷板20能夠在外方旋轉軸2之旋轉方向固定於保持板1者，取代內方旋轉軸22位於下方位置時，能夠在外方旋轉軸2之旋轉方向抵接於外方旋轉軸2。其他構成則與第1圖至第6圖所示之第1實施型態大略相同。
在第9圖所示之第4實施型態中，對於與第1圖至第6圖所示之第1實施型態及第7圖(a)、(b)所示之第2實施型態以及第8圖(a)、(b)所示之第3實施型態相同部份賦予相同符號，省略詳細說明。
如第9圖所示般，內方旋轉軸22在其下端，具有延伸於水平方向由金屬製材料所構成之水平延伸部(金屬部)22a。
再者，如第9圖所示般，在水平延伸部22a下方，設置有對由金屬製材料所構成之水平延伸部22a賦予磁力，將內方旋轉軸22引至下方之磁鐵73。因此，若藉由本實施型態，藉由頂出銷板20之自重和賦與水平延伸部22a之磁力，則可以使頂出銷板20和保持板1之間產生大摩擦力。其結果，當頂出銷板20位於下方位置之時，則可以將該頂出銷板20在外方旋轉軸2之旋轉方向固定至保持板1，並藉由旋轉驅動部3使外方旋轉軸2旋轉，依此也可以使頂出銷板20旋轉。
即使依據由上述構成所形成之本實施型態，亦可以達成與第1實施型態相同之效果。
再者，在本實施型態中，即使由電磁鐵構成磁鐵73亦可。藉由如此自電磁鐵構成磁鐵73，可以適當切換頂出銷板20對保持板1之固定狀態和自由狀態。
1．．．保持板
2．．．外方旋轉軸
2a．．．外部凹部
3．．．旋轉驅動部
10．．．液處理裝置
11．．．內部突出部
12．．．外部突出部
16．．．升降構件
20．．．頂出銷板
21．．．頂出銷
22．．．內方旋轉軸
22’．．．內方軸
22a．．．水平延伸部(金屬部)
23．．．內方旋轉軸
23a．．．內部凹部
30．．．背面側洗淨液供給部(洗淨液供給部)
35．．．密封構件
50．．．控制部
52．．．記憶媒體
55．．．電腦
71．．．第一磁鐵
72．．．第二磁鐵
81．．．上方定位工程
82．．．支撐工程
83．．．下方定位工程
84．．．保持工程
91．．．藥液供給工程
92．．．沖洗工程
93．．．乾燥工程
96．．．搬出工程
第1圖為表示本發明之第1實施型態所涉及之液處理裝置之驅動態樣之側方剖面圖。
第2圖為表示本發明之第1實施型態所涉及之液處理裝置之側方剖面圖和橫剖面圖。
第3圖為表示本發明之第1實施型態所涉及之液處理裝置之液處理方法的流程圖。
第4圖為表示本發明之第1實施型態之另外型態所涉及之液處理裝置之側方剖面圖。
第5圖為表示本發明之第1實施型態之另外型態所涉及之液處理裝置使用的內方旋轉軸的斜視圖。
第6圖為表示本發明之第1實施型態之又另一型態所涉及之液處理裝置之側方剖面圖。
第7圖為表示本發明之第2實施型態所涉及之液處理裝置之驅動態樣之側方剖面圖。
第8圖為表示本發明之第3實施型態所涉及之液處理裝置之側方剖面圖和橫剖面圖。
第9圖為表示本發明之第4實施型態所涉及之液處理裝置之側方剖面圖。
1．．．保持板
2．．．外方旋轉軸
2a．．．外部凹部
3．．．旋轉驅動部
10．．．液處理裝置
11．．．內部突出部
16．．．升降構件
20．．．頂出銷板
21．．．頂出銷
22．．．內方旋轉軸
30．．．背面側洗淨液供給部(洗淨液供給部)
31．．．軸承
32．．．軸承
35．．．密封構件
50．．．控制部
52．．．記憶媒體
55．．．電腦
61．．．馬達
62．．．帶輪
63．．．驅動皮帶
W．．．晶圓

Claims (11)

  1. 一種液處理裝置，其特徵為：具備保持被處理體，並且成為中空之保持板；被固定連結於上述保持板，成為中空之外方旋轉軸；使上述外方旋轉軸朝特定旋轉方向旋轉驅動之旋轉驅動部；被配置在上述保持板所保持之上述被處理體和上述保持板之間，並且具有支撐上述被處理體之頂出銷的頂出銷板；被配置在上述頂出銷板之內部，將洗淨液供給至上述保持板所保持之上述被處理體之洗淨液供給部；和使上述頂出銷板升降，並使配置於上方位置及下方位置的升降構件，上述頂出銷板位於下方位置之時，上述旋轉驅動部承受使上述外方旋轉軸旋轉驅動之力，而被旋轉驅動。
  2. 如申請專利範圍第1項所記載之液處理裝置，其中，又具備在上述外方旋轉軸之中空內延伸存在，被固定連結於上述頂出銷板之內方旋轉軸，該內方旋轉軸係藉由上述升降構件被配置在上方位置及下方位置，並且於位於下方位置之時，能夠在上述外方旋轉軸之旋轉方向中抵接於該外方旋轉軸。
  3. 如申請專利範圍第2項所記載之液處理裝置，其中，上述內方旋轉軸具有突出於周緣外方之內部突出部，上述外方旋轉軸具有收容上述內部突出部之外部凹部，上述內部突出部係在上述外部凹部內，能夠在上述外方旋轉軸之旋轉方向中抵接於該外方旋轉軸。
  4. 如申請專利範圍第2項所記載之液處理裝置，其中，上述外方旋轉軸具有突出於周緣內方之外部突出部，上述內方旋轉軸具有收容上述外部突出部之內部凹部，上述外部突出部係在上述內部凹部內，能夠在上述外方旋轉軸之旋轉方向中抵接於該內方旋轉軸。
  5. 如申請專利範圍第1項所記載之液處理裝置，其中，上述頂出銷板位於下方位置之時，則可固定於上述保持板。
  6. 如申請專利範圍第5項所記載之液處理裝置，其中，在上述頂出銷板內設置第一磁鐵，在上述保持板內設置第二磁鐵，藉由上述頂出銷板位於下方位置之時，上述第一磁鐵被固定於上述第二磁鐵，上述頂出銷板則能夠固定於上述 保持板。
  7. 如申請專利範圍第2項所記載之液處理裝置，其中，在上述內方旋轉軸內設置第一磁鐵，在上述外方旋轉軸中與上述第一磁鐵對向之位置設置第二磁鐵，上述頂出銷板位於下方位置之時，上述第一磁鐵係以非接觸被固定於上述第二磁鐵。
  8. 如申請專利範圍第2項所記載之液處理裝置，其中，上述內方旋轉軸之至少一部分具有由金屬所構成之金屬部，設置對上述金屬部賦予磁力，將上述內方旋轉軸引到下方的磁鐵，於上述頂出銷板位於下方位置之時，藉由該頂出銷板之自重和被賦予至上述金屬部之磁力，該頂出銷板能夠在上述外方旋轉軸之旋轉方向固定於上述保持板。
  9. 如申請專利範圍第6至8項中之任一項所記載之液處理裝置，其中，上述第一磁鐵及上述第二磁鐵之各個由電磁鐵所構成。
  10. 一種液處理方法，屬於使用液處理裝置的液處理方法，該液處理裝置具有：成為中空之保持板；被固定連結於該保持板，成為中空之外方旋轉軸；使該外方旋轉軸 朝特定旋轉方向旋轉驅動之旋轉驅動部；被配置在上述保持板所保持之上述被處理體和上述保持板之間，並且具有頂出銷的頂出銷板；被配置在上述頂出銷板之內部的洗淨液供給部；和使上述頂出銷板升降，並使配置於上方位置及下方位置的升降構件，其特徵為：具備藉由上述升降構件，使上述頂出銷板定位於上方位置之上方定位工程；藉由上述頂出銷板之上述頂出銷，支撐上述被處理體之支撐工程；藉由上述升降構件，使上述頂出銷板定位於下方位置之下方定位工程；藉由上述保持板，保持上述被處理體之保持工程；藉由上述旋轉驅動部旋轉驅動上述外方旋轉軸，使在上述保持板所保持之上述被處理體旋轉之旋轉工程；藉由上述洗淨液供給部將薬液供給至上述被處理體之藥液供給工程；和藉由上述洗淨液供給部將沖洗液供給至上述被處理體之沖洗工程；藉由上述旋轉驅動部旋轉驅動上述外方旋轉軸之力，使位於下方位置之上述頂出銷板旋轉。
  11. 一種記憶媒體，屬於儲存有用以使電腦實行液處理方法之電腦程式的記憶媒體，其特徵為：該液處理方法係屬於使用液處理裝置的液處理方法，該液處理裝置具有：成為中空之保持板；被固定連結於該 保持板，成為中空之外方旋轉軸；使該外方旋轉軸朝特定旋轉方向旋轉驅動之旋轉驅動部；被配置在上述保持板所保持之上述被處理體和上述保持板之間，並且具有頂出銷的頂出銷板；被配置在上述頂出銷板之內部的洗淨液供給部；和使上述頂出銷板升降，並使配置於上方位置及下方位置的升降構件，具備藉由上述升降構件，使上述頂出銷板定位於上方位置之上方定位工程；藉由上述頂出銷板之上述頂出銷，支撐上述被處理體之支撐工程；藉由上述升降構件，使上述頂出銷板定位於下方位置之下方定位工程；藉由上述保持板，保持上述被處理體之保持工程；藉由上述旋轉驅動部旋轉驅動上述外方旋轉軸，使在上述保持板所保持之上述被處理體旋轉之旋轉工程；藉由上述洗淨液供給部將薬液供給至上述被處理體之藥液供給工程；和藉由上述洗淨液供給部將沖洗液供給至上述被處理體之沖洗工程；藉由上述旋轉驅動部旋轉驅動上述外方旋轉軸之力，使位於下方位置之上述頂出銷板旋轉。
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