TWI380439B - Tiled electroluminescent device with filled gaps - Google Patents

Description

1380439 六、發明說明： 【發明所屬之技術領域】 曰本發明涉及包括多個拼接的面發射LED平板褒置。尤其，本發明涉 及提高EL平板顯示系統的光發射均勻性，且減少環境光線的反射。 【先前技術】 電子顯示系統通常用於顯示資訊，尤其包含動態的資訊或提供互動。 典型顯示系統的尺寸範圍從用於移動裝置中的小顯示器到供上千觀眾觀看 的^尺寸顯不器。通常，較大的顯示器比較小的顯示器更加昂貴。另外， φ 大的平板顯示器（如，對角線約大於3公尺）無法在單 >；基板上製作。 這種非常大_㈤典型地_立點婦光二極體置社背㈣或將較小 的顯示器-起拼接而成。例如，使用多個視頻顯示器的電視牆在電子媒體 中廣泛使用。另外’產生大、拼接、高清晰度顯示器的多個投影系統也為 可=。包括複數個液晶顯示器的拼接的平板顯示器也已知。然而，這種顯 不器典型地在拼接之間具有視覺魏，從而導致不能滿足的影像品質。 本技術領域中描述了各種解決拼接接縫問題的方法。美國專利第 5,838,405號’標題為並排堆彻式顯示裝置，，描述了在大基板和柔性塗層 之間黏接多個、相鄰LCD顯示器。黏合劑位於顯示器和大基板和柔性塗層 之間’該黏合劑理想地具有與大基板、柔性塗層、以及LCD面板匹配的光 _學性質，從而防止結構中光的捕獲。再者，大基板和柔性塗層與LCD連接， 填塞相鄰的LDC⑽嶋齡合劑，防止絲此結構巾的反射或散射。在 具有正交線偏極的層廢LCD結構的兩側上提供偏光鏡。整個結構的後面提 供單片背光。在這個結構中，LCD面板之間存在黏合劑，炎在大基板和柔 I"生塗層之間’限制大基板和柔性塗層之間的光面反射或折射光。因此，這 個黏合獅於防止背光的光反射或折射，當光在^個賊鏡之間通過時以 防止偏極損失。然而，這個黏合劑必須適當地夾在柔性塗層和大基板之間 2獲得所述作用。在這個配置中，因為光經第一偏光鏡偏光並在通過這個 、.’。構的時候不受影響，所以第二偏光鏡將有效地吸收從背光出來然後通過 =鄰LCD面板之間間隙的光，從而沒有光在LCD面板之間的區域發出。 這個材料的透明度不需要討論因為其最初的目的是確保沒有任何從拼接之 3 1380439 ，附近區域内的背光發出的光通過裝置，並因此，這個材料可不透明。又， 這個、構的填塞體為uy固化並因此必須可使光進入裝置以便固化位於 LCD拼接之間的兩側上的黏合劑β 美國專利第6,097,455號’標題為“具有拼接的平板顯示以及在接縫 之間視覺上無法察覺的間隙”也描述了 LCD拼接結構。黏合層和lcd拼 接和其他光學耕位於背部基板和前蓋板之間，本專射所述，遮蓋元 件位於拼接間隙上面，從而防止背光出來的光進入LCD面板之間的間隙。 再次，這個配置防止背光出來的光在LCD面板拼接之間出現。 OLED顯讀置也變紐行並麟拼脑示彡統。包含發光材料薄膜 的發光二極體（LED)形成發光元件在於平板顯示裝置中具優勢並可有益 光子，，° Tang等之美國專利第6 384 529號顯示了有機led (〇led) 心色顯不H ’包括有機LED發光元件陣列n可採用無機材料並可以 =㈣晶體或多Μ半導體矩陣中的量子點。有機或無機材料的其他薄膜 還可以用於控制電荷注人、遷移、或阻擋發光薄膜材料，以上都為習知技 :。^料置於電極之間板上，具有職⑽或板。#電舰過發光材 料，時候像素發光光的頻率基於所用材料的自然屬性。在這種顯 不器中，光通過基板（底部發射）或通過封裝蓋（頂部發射）發出 過以上兩者發出。 'LCD難顯示线的光學結構典型地無絲好_麟面發射電致 發fL)裝置的光學結構，如錢發光二賴（⑽⑴裝置，因為限制光 2使用交叉偏光鏡和液晶調變器基本上不同於從肛顯示器 直=變和發射。在拼接LCD中，縣發出的光在面板之間發出而不需要 2接内LCD _變。細，在EL裝置中，光於每個拼接中發出而不是 區域内發出。再者’在LCD卜背光發出的光在其通過LCD ，板時與基板，直。然而’進入EL裝置_的光角度典型地具有朗伯 2靠近基板表面。EL裝»接喊㈣職方_光從崎人〇led = ^因為EL裝置輙用两先係數發射材料，其根據近朗 ，光’由攸全内部反射大分數（如，烟。％)的光通常會陷=置基中板 並從而減〉、了裝置效率。尤其，與裝置發㈣光幾乎相_光量陷入裝置 4 1380439 基板。此光穿過基板並從基板邊緣發出。 採用EL裝置的拼接顯示系統，尤其〇LED顯示器，也為已知。美國 ^第，498,592號，標題為“使用有機發光材料的顯示拼接結構，描述了 在早-基板上製造的拼接齡結構，其也用魏路板。細，這個設 要像素間距料同於拼接之_接縫^腿等在美國 200W)晴7财描述了顯示器中的交疊拼接元件，其可以延展明縮= 折疊和捲ϋ這種交疊區需要拼接基板為柔性和非平面的。觸 2006/027727描述了拼接電子互連方法。然而，這些說明書沒有一個解說了 拼接之間光洩漏的問題。

美國專利第6,873,380號’標題為“在發射顯示器中提供光學元件” 描述了由複數個緊靠的拼接形成的EL顯示器，每個拼接當作整體 的一部分。在這個專利中，光學元件選擇地位於像素之間，用於提高顯示 器的光學性能並易於較厚的玻璃蓋位於顯示器上β該發明描述了黑帶用於 吸收拼接之間的光。這個黑帶的存在防止每個拼接邊緣透過發出的光被查 見。可惜的疋，當顯示器裝配這種屏障然後以一定角度觀看的時候，吸收 體可隱藏黑帶兩侧上的像素，在那些角度產生可感知的接縫。 因此需要一提高EL平板顯示系統的光發射均勻性的拼接EL系統.， 使EL裝置的顯示在拼接内和之間都一致。理想地，這種裝置還將減少環境 光線的反射。 【發明内容】 為滿足上述需求，提出一種提高了光發射均勻性並減少環境光線的反 射的拼接電致發光裝置，包括： 一第一和一第二電致發光裝置拼接，該第一電致發光裝置拼接的邊緣 之一部分緊靠該第二電致發光裝置拼接的邊緣之一部分，在該第一和第二 電致發光裝置邊緣之間留有一間隙，每個電致發光裝置拼接包含一基板， 具有一光學係數和一透明度，以及用於發光的一電致發光二極體，該電致 發光二極體根據基本上為朗伯之一分佈發光，藉以光受引導沿一傾斜角至 第一拼接的該基板表面並通過該第一電致發光裝置拼接的邊緣；以及 一填塞體，位於該第一和第二電致發光裝置拼接的緊靠邊緣之間之該 5 1380439 間隙，該填塞體具有一光學係數和一透明度，與該第一和第二電致發光裝 置拼接的該基板的該光學係數和該透明度匹配，藉以該第一電致發光裝置 拼接的該電致發光二極體在傾斜角第一範圍内產生的光穿過該第_電致發 光裝置拼接的該基板邊緣，通過該填塞體，然後在光經吸收或穿過該第二 電致發光裝置拼接的該基板邊緣之前進入該第二電致發光裝置拼接的該基 板内，並且該第一電致發光裝置拼接的該電致發光二極體在第二範圍傾斜 角產生的光穿過該第一電致發光裝置拼接的該基板邊緣，通過該填塞體， 在光經該第二電致發光裝置拼接的該基板前表面發出之前進入該第二電致 發光裝置拼接的該基板。 本發明的有益效果是當在大範圍視角觀看的時候，相鄰el裝置之間 ® 的邊界很少可見。根據本發明的EL裝置有益於黑暗的觀看環境，其_顯示 主要受到裝置發出的光的影響’而在具有光室内亮度的環境中，顯示額外 地受到反射％^見光線的影響’且在此狀況中本發明減少了反射。本發明可 以多個較小的EL裝置的拼接成為具有增強發光均勻性的單一、大EL裝 置，使拼接之間的EL裝置的外表與拼接内的外表看起來一致。這實現了適 應市場的高品質，大EL裝置，如用於市場行銷和大型場合的溝通。 【實施方式】 參考第1圖，本發明提供一種並排堆彻式電致發光（EL)裝置2，其 •具有提高的光發射的均勻性和減少的環境光線反射。並排堆砌式電致發光 裝置2包括至少第一和第二電致發光裝置拼接4、6。第一裝置拼接4的邊 緣8部分緊#第一裝置拼接6的邊緣1〇 —部分，在第一和第二裝置拼接邊 緣8'10之間留有一個或多個間隙12。每個裝置拼接4、6分別包括基板 14 ’ 16 ’並且至少:個電致發光二極體與基板14、16職光接觸，從而根 據朗伯分佈發光。“光接觸，，的意思是兩個材料不以空氣間隙隔離。如此， 光允許從電致發光二㈣進入基板並由於相對電致發光二極體的基板的表 面以及低係數·之間的完全㈣反射而被該基板職，該低係數媒介如 與形成電致發光二極體職表面相對的基板表面獅的空氣。基板14、16 每-個具有光學係數和透賊。如第丨圖所示，電致發光二極體通常包括 第-電極30a、3〇b，如先前技術中的IT〇電極，塗層發光層似、奶，以 6 1380439 每絲板上不能w—二财，通常在每個 ^ hrf. 體。因為每個二極體發出的光具有近似朗伯 (Lamb她an)分雜⑽輕轉近基板14的表面 16，從而其受引導沿寬範_指向，包括向量ΐδ、2〇、^進土板14 内產i在第H電極3〇a、3%之間的塗層發光層32a -穿置拼接二i: :/第—和第二範圍角4〇、42指向’該角度傾斜於第 的的基板的前表面44並通過第一裝置拼接4的邊緣8。該光 表面紅其腿斜肖度發κ物，絲第1圖的向 里^ 2〇 ^日向並穿過第-EL裝置拼接4的基板前表面 =沿邊緣8 ' W緊靠在一起並固定於單一最上層基板％上。最上= 板26位於裝置拼接的複數個基板（ 定複數個基板的表面。板（如基板14和16)上面，並為提供固 門隙】ίΪ體24位於第—和第二裝置拼接4、6的緊靠的邊緣8、10之間的 填塞體24具有光學健和透明度，與第—和第二裝置拼接4、 # ^科!·4②16的光學係數和透明度匹配，裝置拼接4的電致發 細4G傾斜角產生的紋過第—裝置拼接4的基板14的 通，塞體24.’然後在被吸收或穿過第二裝置拼接的基板16的邊 置拼接6的基板16内，並且第一裝置拼接4的電致發光 在紅誠傾斜㈣内產生的光穿過第—裝置拼接4的基板Μ的 通過填塞體24 ’在通過第二裝置拼接6 _板16的前表面44發 出之刖進入第二裝置拼接6的基板16。 填塞體24的透明度與基板14、16的透明度“匹配，，，填塞體24 並伽要約等於基板14、16的透明度。儘管基板通常由玻璃形成，其 有大於9〇%的透明度，基板可以由彩色玻璃或其他具有較低透明 形成’但仍然允許光通過其中。在本發明的内容中，填塞體24的 10。/。私約等於基板14、16的透明度並最好與基板的透明度相差不超過 内舌佳地’填塞體24具有的透明度在基板14、16的透明度的4%範圍 的是’填塞體24的透明度幾乎等於基板14、16的透明度。然而， 搶定掷，的透明度不需要與最上層基板26的透明度相匹配。需要的是， 、4的透明度與基板14、16的透明度酿，因為當發光的時候，一 7 1380439 個EI^裝置拼接產生的光需要盡量在第二範圍角42中並發出從而可以穿 入緊靠的EL裝置拼接，以穿過固體基板相同的比例穿過填塞體％。填塞 體24的透明度與基板14、16的透明度匹配允許一個乩裝置拼接發出的光 在進入緊靠裝置拼接並通過這個緊靠裝置拼接的前表面44發出之前，具有 與第-裝置拼接4以相同角度發出而沒有翻第—裝置拼接4的邊緣8的 光相同的錢。因此’這個需要提高了穿過並排軸式裝置拼接的前表面 的發出光的均勻性》 又本發明的重要事實為因為基板14、16的光學係數與填塞體24的 匹配’則接觸第-基板14的邊緣8的傾斜光的角度，該第一基板14的邊 緣8與填塞體24接觸，當穿過第一基板14的邊緣6、填塞體24和第二基 彎板16 #邊緣1〇 ’該第二基板16的邊緣1〇也接觸填塞體24，時保持相對 不變。除了允許可能從第—基板14漏出的光從第二基板16漏出之外，這 個^係也由於其他原因變得重要。第2圖中顯示出額外的原因，其示出第 一範圍角40，於該第一範圍角4〇中光形成於第一裝置拼接4的基板14， 該第裝置拼接4上开>成有EL二極體。在此第-範圍角4〇内產生的光線 以低角進入基板14並因此穿過第一裝置拼接4的邊緣8。因為填塞體％的 光學係數科H置拼接4的基板14的光學雜，職線沒有折射而沒 有干擾地進入填塞體24並穿過填塞體24。相似地，因為填塞體24的光學 係數與第二拼接6的基板16的光學係數匹配，則當光線接觸第二裝置拼接 _的基，邊緣10的時候沒有折射然後進入基板10，不受干擾。這個光線進而 進入最上層基板26 ’該最上層基板26提供光學係數與基板16的光學係數 匹最上層基板26具有頂面26a，其在最上層基板26和相鄰材料26b， 如空氣’之間的界面。相鄰材料26b的光學係數低於最上層基板％的光學 糸數最上層基板26因此相對於最上層基板26的法線具有臨界角。當光 、♦、這個臨界角以上（比臨界角遠離法線）的角度接觸最上層基板％的頂 :26a的時候’其反射回入裝置並在從並排堆彻S EL裝置6的邊緣發出之 月’J經過裝置的長度，從而使用者不會看到這個光線。因此，具有最上層基 的頂面263的臨界角以上之入射角的光被第二基板16捕獲，並無法 從鄰近間隙12位置的第一或第二EL裝置拼接4、6兩者的基板14、16中 發A 〇 8 1380439 捕獲的光’該光以姆於第-EL難4的基板14的表φ的低角發出， 該第EL拼接4上EL —極體开>成在不同於先前技術的並排堆石切式eL裝 置内，該先前技術中隱以空氣填塞^參考第3 ，其顯示先前技術該 先前技術中的P· 12中填塞有如空氣的㈣，其光學係數與基板14，16 的光學係數不匹配。如第3圖所示，當光線48從這個裝置的電致發光層似 在第一電極30a和第二電極34a^間發出的時候，發光方式以及發射角與前 面圖式中描述的第-範圍角4G内的光線—樣，傾斜光的角度在其經過第一 基板14的邊緣8時受變化。角度的變化足夠大以至於光線不會接觸所示的 第二基板的邊緣而是接觸最上層基板26。在這個實例中，光線48進入最上 層基板26時再-次折射’並以允許光線能從最上層基板26漏出的角度接 鬱觸最上層基板26的頂® 26a。因此，使用者可以察覺到光線在靠近間隙12 位置的裝置内產生。即使光線的角度使其進入第二基板16，當其穿入穿出 間隙12 B夺仍然改變。因此，光線48很可能漏出第二基板16並被使用者認 為是產生於間隙12的區域内。 在本發明的EL裝置中，EL二極體發出的光的大部分由於完全内部反 射而在基板内捕獲。因此，由於基板邊緣處光學係數的改變而造成從並排 堆石切式EL裝置漏出響應光的角度的變化遠遠大於在並排堆彻式EL裝置内 其他位置發出的光。此光學係數的變化導致顯示影像内亮線出現 ^通過在 間隙12内放置填塞體24 ’該填塞體的光學係數匹配基板的光學係數，裝置 φ 的基板内捕獲的光可從裝置漏出如同間隙不存在。 並排堆砌式EL裝置2還可以包括最上層基板26，其設置在並黏接於 第一和第二裝置拼接4、ό的基板14、16上，從而形成並排堆砌式電致發 光裝置2。最上層基板6最好由柔性材料形成並黏接於基板14、16的頂部， 使用具有與最上層基板的光學係數以及基板的光學係數匹配的光學係數的 樹脂或黏合劑。這個最上層基板26可阻擋紫外線（UV)光進入裝置。在 一些實施例中，這個最上層基板26由柔性基板形成，其吸收或反射波長小 於380nm的光。例如’最上層基板26可以由如聚乙烯2,6_萘（PEN)製成。 這個UV阻撞層最好也用於減少自並排堆砌式EL裝置2反射的環境光線。 最上層基板26需能夠阻擋UV的需求來自兩個分別的必要條件。第 一 ’很多EL材料’包括有機發光二極體（〇LED)材料對uv光敏感。這 9 1380439 個光可能導致材料的光致發光’當並排堆彻式EL裝置為顯示器的時候 其不可取，裝置中每個EL二鋪可產生光致發光，増加了二極體的黑色等 級’並減少顯示對比度。這些EL材料的uv曝光也不可取，可能導=這些 裝置的材料衰退，減少了材料的有效使用壽命。第二，並為本發明最重^ 的，填塞體24典型地由聚合材料形成，並且這些聚合材料典型地在w光 下衰退’從而UV光導致材料開始反射可見光譜中綠至紅部分的光。由於 這個衰退導致這些材料“變黃，，，損失了透明度，變得更加不透光。這個 “變黃”因此降低了本中請案中的填塞體24的有效性並#離_時候觀看 並排堆彻式EL裝置時可能引起可視暗帶，因為第二範圍幻傾斜角内的光 經此填塞體24過濾，遠比經基板過濾的多，從而降低了在第二範圍的 • 傾斜角發出的光的強度。 在一具體實例中，EL二極體可以包括反射第二電極34a，3扑，從而 形成相對基板的電致發光二極體設置的反射元件。在這個實施例中，最上 層基板26為圓形偏光鏡。已知的圓形偏光鏡提供uV阻擋功能並額外地減 少環〗兄光線的反射。在具有偏光鏡和反射元件的結構中，從周圍環境進入 並排堆砌式EL裝置2的光在其進入基板時受圓形偏光。進而可以通過基板 14、16而進入EL二極體並在穿出EL二極體之前從第二電極34a、34b反 射，通過基板14、16並第二次接觸最上層基板26，此處光經圓形偏光鏡吸 收。在本發明的實施例中，環境光線可以交替地穿過圓形偏光鏡，環境光 •線於此處進行偏光，通過第一裝置拼接4的邊緣8，通過填塞體12，並在 進入EL二極體之前進入第二裝置拼接6並從第二裝置拼接6的第二電極 34b反射或反射然後穿過第一裝置拼接8的邊緣，通過填塞體24 ，並進入 第二裝置拼接6。在兩者情況下，因為反射，所以光的偏極無法在通過裝置 的時候修正，且當接觸圓形偏光鏡的時候被吸收。在這種裝置中，在填塞 體24上面形成反射元件28，與並排堆砌sEL裝置上EL:極體相同側面 上的填塞體24光學接觸為最佳，如此反射元件28可以反射通過填塞體24 的光，如第1圖所示。 在本發明實施例中’最上層基板26的光學係數與基板14，16的光學 係’數以及填塞體24的光學係數匹配為最佳，從而防止在最上層基板26和 基板14、16以及填塞體24之間的交接處捕獲光。最上層基板26的透明度 10 1380439 不需要與基板14、16或填塞體24的翻度匹配。 在發明中，術語“傾斜角，，為不垂直相對 該基板與一個或多個EL _描栌炷鉬.〜取田耵仕葸角度， 板表面。在目前的發明中個表面典型的為具有最大面積的基 基板表面以低角發出，從二意的是光相對於形成乱二極體的 =1=緣Γ的基板邊緣。具有這個屬性的傾斜角的=: 具有〇 r 為了使其有用’本發_基板應具有限定厚度並通常 明中齡 =目了、厚度，但通常具有〇.5和iGmm之間的厚度’儘管本發 月中的裝置具有大於l.〇mm厚度的基板。

而一

在本發明中’術語“緊靠”定義為具體實龜念上定位兩個基板，從 田個基板的邊緣部分靠近第二基板邊緣部分。每個基板的至少一個表面 取好在同-共解面心這些兩健板可沿緊靠設置邊緣部分在一些位置 實體接觸’然而’這只必要的。實際上，在設置的邊緣部分: 要至少存在一些間隙。 在本發明中，術語“不受干擾”用於描述通過基板邊緣的光通路。在 本發明中，可以理解的是，當在緊靠拼接之間沉積填塞體的時候很難自間 隙去除空氣空洞，且很難精確地使填塞體的光學係數和基板的光學係數匹 配。因此，可能發生小量的折射。在本發明中，術語“不受干擾，，將以平 均定義，光接觸基板邊緣的時候角度不會改變超過1〇。。如目前發明所用 的，當填塞體的光學係數“匹配，，基板的光學係數的時候，穿過兩個材料 之間父接的光線不會出現大量的折射而在兩個材料之間不受干擾地通過。 為了說明本發明的效用，第4圖顯示了顯示器的代表圖片，該顯示器 包括兩個緊靠在一起的基板’在兩個基板之間的間隙内填塞了空氣。如此 影像所示’在空氣間隙區域中有可視垂直線50。當觀看這個並排堆彻式EL 顯示器的時候，於不同的視角，此亮垂直線可能顯現為單一亮線或一對亮 線’而且儘管從幾乎任何角度為可見的，亮線從一些角度看的比其他角度 明顯。第5圖顯示了相同顯示器以液體苯甲醇填塞基板間間隙之影像。苯 甲醇具有1.54的光學係數，其接近玻璃基板的光學係數（如，1.5)。值的 注意的是，這個實例中的基板的透明度接近1〇〇〇/0,苯甲醇的透明度亦為如 此。儘管液體並無全部填塞間隙，但其限制此亮線的可見度，如標示的間 11 1380439 52所不。如故個影像所示’第5圖中間隙之位置52中亮線現在 見。倾情_在—㈣度躲可完全齡 鏡使其減板頂部光學接觸。在這個結構中，第4 C 上放置_偏田光ΐ並之空氣間隙的時候仍然清晰可見。然而，在基板 任何拼接缺陷的單個顯示器。值得注意的是，根據本發明2 以提供__益效果’即使填塞黯法填滿基板之間的間隙或者 填塞體的表面不完全平坦。 一

儘管前面實例中的間隙内填塞苯甲醇，通過在間隙中填塞各種 與透明度與紐的光㈣數和透明度匹_材料也可以獲得相似的好 果。合適的材料對於熟知該項技術人Μ而言是_易見的。 在EL發射層32a、32b後面採用反射面的EL裝置拼接中（第i圖）， 圓形偏光鏡的使用對當從EL二極體通過填塞體24的光線的方向影響不 大。但圓形偏光鏡’當光通過基板14、16回來而沒有經過折射的時候，藉 由防止光從環境進入顯示器，穿過基板14、16，然後進入EL二極體自^ 板反射’而減少了來自周圍環境的反射光之可見度。當環境光自於乩二^ 體内或後面之反射面反射的時候，其可以經過基板14、16返回並第二次接 觸圓形偏光鏡，此時被吸收。當基板14、15之間的_ 12中不存在填塞 體24的時候’光在其經過基板14、16之間的間隙12時折射，此環境光線 的偏極受改變。因此，降低了圓形偏光鏡與反射面在一起消除環境光線的 有效性。根據本發明實施例，圓形偏光鏡與EL發光層後面的反射面結合在 一起，以及基板之間具有與基板的光學係數匹配的填塞體，防止大量的環 境光線自並排堆砌式EL裝置反射。 在一些實施例中’基板14、16之間的間隙12相對大（即，具有實體 寬度大於EL二極體其中之一的最小尺寸）的特殊實施例中，在填塞體μ 上面放置反射元件28有些時候為有益的，可以防止光從顯示器的後面通過 間隙12穿過至顯示器的前面’反射在顯示器前面接觸這個區域的EL拼接 側面所產生的光，及與EL二極體後面的反射面類似方式反射環境光線。然 而，不需要安置任何層與設置在相對於最上層基板26之並排堆砌式EL裝 置側面上的填塞體24接觸。 12 1380439 在採用玻璃或透明丙烯酸做為基板14、16裝置中，有益形成的填塞 體24的材料通常包括在基板14 ' 16之間間隙内沉積之後固化的液體。這 個液體通常具有1和1000泊的黏度，從容允許其填裳第一知笛__步署姐垃 4 ’ 6的邊緣的緊靠部分8、10之間的間隙12。這個液體最好為黏^劑其 利用光學曝光固化’包括UV或可見光曝光和加熱。此材料可以可見光或 加熱固化係為有益的，因為光或熱可以直接由EL裝置拼接和曝露在外界熱 量提供’且UV :¾線已知將導致某些EL材料的衰退，尤其是有機發光材料。 固化後的材料的光學係數應近似於基板的光學係數，在14和16之間以及 尤其在1.48和1.55之間為最佳。用於形成這個填塞體24的已知材料包括 多固化OP-24RevB光學黏合劑、超光焊接ΟΡ·29ν系列光學黏合劑和超光 # 焊接0Ρ_4_20632系列UV/可見光固化光學黏合劑，由Dymax製造。其他可 用的材料由其他廠商製造，包括Master Bond，生產了 UV 17-7LRI，其為光 學/月潔UV固化聚合物，不會變黃的黏合劑。這些材料全部具有1 和1 55 之間的折射係數。 回來參考第4圖，可見垂直線5〇的寬度取決於基板14、16的厚度。 因此，填塞體24的使用尤其有益於增厚基板及具有小EL二極體的並排堆 砌式EL裝置。第7圖顯示了本發明的兩個基板14、16。這些基板14、16 具有厚度76。通常這些基板14、16的厚度76在〇 5和丨〇mm之間，但這 些基板14、16於某些實施例中遠遠厚於此厚度。當這些基板14、16的厚 φ 度76增加時，可見垂直線50厚度可增加，從而當從近距離觀看的時候更 加β晰可見。當裝置中形成的EL二極體很小的時候，並排堆彻式el裝置 中不存在缺陷也尤其重要。例如，在第6圖所示的過程中，el二極體72 陣列形成在每個基板上’從而形成EL顯示裝置。這些EL二極體具有尺寸， 例如74 ’其由電極（即’第1圖内的30a、30b、34a和34b)的分割來定義。 第7圖通過EL二極體72的最小尺寸顯示了 EL裝置拼接的剖面圖，使尺 . 寸74為每一個EL裝置拼接上的EL二極體72的最小尺寸並在所產生之拼 接EL裝置中。當基板厚度76與£]^二極體72的最小尺寸的比相對大的時 =，本發明的實施例尤其有用。具體地，當電致發光二極體具有小於基板 厚度5倍的最小尺寸的時候，可在基板14、16之間放置填塞體％尤其為 最佳。 13 1380439 形成本發明的並排堆砌式電致發光裝置的方法可以包括第6圖所示的 步驟。如圖所示，這個方法可以包括提供複數個EL裝置拼接(步驟6〇)，每 個裝置拼接包括具有光學係數的基板和根據基本朗伯分佈發光的電致發光 —極體’藉以光受引導沿第一 EL拼接的基板表面的傾斜角並通過第一裝置 拼接的邊緣。提供最上層基板(步驟62)，其大於£1^裝置拼接的任何一個。 將EL裝置拼接黏合於最上層基板(步驟64)，從而第一裝置拼接的邊緣部分 緊罪第二裝置拼接的邊緣部分，從而第一和第二拼接邊緣之間形成間隙。 在EL裝置拼接的緊靠邊緣之間放置填塞體(步驟66)，填塞體的光學係數與 每個裝置拼接内的基板的光學係數匹配並固化填塞體(步驟68)。提供可選 的連接(步驟7〇h " _ 在這個方法中，最上層基板在一些實施例令為圓形偏光鏡。在一些實 施例中，EL裝置拼接安裝於透明片上，固化液體放置於EL裝置拼接緊靠 邊緣之間並在將最上層基板層壓至裝置拼接上面之前固化形成填塞體。在 另外的實施射，EL裝置拼接層壓至圓形偏光鏡，接著可固化的液體被放 置在裝置拼接緊#邊緣m並接著in化可ιυ化的液體以提供填塞體。 包含於根擄本發明實施例之形成並排堆砌式EL裝置的方法，在每個 裝置拼接和合適的驅動電子產品之間提供電連接(步驟7〇)。因為EL二極體 不是必須地被保護片覆蓋，每個EL裝置拼接上的電連接在EL裝置拼接與 最上層基板黏結、以及填塞體形成在基板之間之後為可達到的。因此，這 籲些連接通常在封裝本發明的並排堆喊EL t置之後形成。在一些實施例 中’尤其OLED裝置，必織供額外的保護屏障保護電連接或對el裝置提 供額外的實體保護。從而在並排堆彻< EL裝置上面提供蓋，設置於相對最 上層基板義面。這健财麟雜卿喊EL裝置㈣緣或與並排堆 石切式EL裝置於數點接觸，如在EL裝置拼接的角落或在裝置拼接之間的整 個接縫上’並連接以提供額外的實體保護。在這些裝置中，反射元件28將 在兩個基板之間提供密閉密封並且這個額外的保護屏障最好在整體並排堆 石切式EL裝置上面提供近乎密閉的密封。這個近密閉的密封可以通過，例 如’在並排堆彻式EL裝置的EL二極體上面設置不錄鋼蓋而獲得和在並排 堆石切式EL裝置的邊緣的基板的基板邊緣提供密封，提供與外部連接的電連 接。材料，包括乾燥劑，經常放置在蓋和並排柄式EL裝置之間以進一步 14 1380439 隔絕EL二極體内的EL材料與濕氣。 本發明特定參考其優選實施例進行詳細描述，但可以理解的是可在 本發明的精神和範圍内產生變換和修改。 【圖式簡單說明】 第1圖為根據本發明實施例中並排堆彻式顯示器的剖面圖； 第2圖為根據本發明一實施例中相對於基板表面以低角度發出光線的 路徑的圖式； 第3圖為先前技術中相對於基板表面以低角度發出光線的路徑的圖 式； 第4圖為並排堆石切式el裝置的代表圖片，顯示出靠近由空氣分離的 兩個基板之間間隙發出的光的亮線； 第5圖為本發明實施例並排堆砌式£]^裝置的代表圖片，顯示出在兩 個基板之間間隙的區域内均勻光發射； 第6圖為流程圖，描繪了形成本發明並排堆砌式EL裝置的方法；以 及 第7圖為本發明裝置拼接的實施例示意圖。 产繪製因為圖式中的各種層和元件具有相當不同的尺寸，則圖式不會按照尺 【主要元件符號說明】 2 並排堆砌式EL裝置 4 第一 EL裝置拼接 6 苐二EL裝置拼接 第一裝置拼接邊緣 10 第二裝置拼接邊緣 12 緊靠裝置拼接之間間隙 14 苐一裝置拼接基板 16 第二裝置拼接基板 18 向量 15 1380439

20、22 斜向量 24 填塞體 26 最上層基板 26a 頂面 26b 相鄰材料 28 反射元件 30a、30b第一電極 32a、32b塗覆EL發光層 34a、34b第二電極 36 基板表面 40 傾斜角的第一範圍 42 傾斜角的第二範圍 44 基板前表面 48 光線 50 可視垂直線 52 間隙位置 60、62、 64、66、68、70 步驟 72 EL二極體 74 尺寸 76 基板厚度 16

Claims (1)

1380439 .. IhTTvTT? i !午月/日修正本I 七、申請專利範圍： 1---~——1 1· 一種改進光發射均勻性並減少環境光線的反射之並排堆砌式電致發光裝 置，包括： . 一第一和一第二電致發光裝置拼接，該第一電致發光裝置拼接的邊緣 之一部分緊靠該第二電致發光裝置拼接的邊緣之一部分，在該第一和第二 電致發光裝置拼接邊緣之間留有一間隙，每個電致發光裝置拼接包含一基 板，具有一光學係數和一透明度，以及用於發光的一電致發光二極體，該 電致發光一極體根據基本上為朗伯(Lambertian)之一分佈發光，藉以光受引 導沿一傾斜角至該第一電致發光裝置拼接的該基板表面並通過該第一電致 發光裝置拼接的邊緣； • 一填塞體，位於該第一和第二電致發光裝置拼接的緊靠邊緣之間之該 間隙，該填塞體具有一光學係數和一透明度，與該第一和第二電致發光裝 置拼接的該基板的該光學係數和該透明度匹配，藉以該第一電致發光裝置 拼接的該電致發光二極體在傾斜角第一範圍内產生的光穿過該第一電致發 光裝置拼接的該基板邊緣，通過該填塞體，然後在光被吸收或穿過該第二 電致發光裝置拼接的該基板邊緣之前進入該第二電致發光裝置拼接的該基 板内，並且該第一電致發光裝置拼接的該電致發光二極體在傾斜角第二範 圍產生的光穿過該第一電致發光裝置拼接的該基板邊緣，通過該填塞體， 在光通過5亥第一電致發光裝置拼接的該基板前表面發出之前進入該第二電 ^ 致發光裝置拼接的該基板； 一最上層基板，設置在該第一和第二電致發光裝置拼接上面，且固定 於該些電致發光裝置拼接的該等基板，其中該最上層基板為一圓形偏光 鏡，被選擇來減少環境光線的反射；以及 一反射元件，位於與該電致發光二極體相同側的並排堆砌式電致發光 裝置之一側上且位在該第一和第二電致發光裝置拼接之該等緊靠邊緣之間 之該間隙内，該反射元件反射通過該填塞體的光。 2·如申請專利範圍第1項所述之並排堆砌式電致發光裝置，其中，該最上 層基板阻擋了紫外線光進入該並排堆砌式電致發光裝置。 3.如申請專利範圍第1項所述之並排堆彻式電致發光裝置，其中，每個電 致發光裝置拼接的該基板具有一厚度，並且其中每個面發射電致二極體裝 17 1380439 ' 置拼接包括電致發光二極體，每個電致發光二極體具有小於該基板厚度五 倍的一最小尺寸。 4.如申請專利範圍第1項所述之並排堆砌式電致發光裝置，其中，該反射 元件設置在該等電致發光二極體之間。 . 5.如申請專利範圍第1項所述之並排堆砌式電致發光裝置，其中，該填塞 體的該光學係數在該基板之該光學係數的10%内。 6. 如申請專利範圍第1項所述之並排堆砌式電致發光裝置，其中，該基板 ’為透明的並且該填塞體當固化的時候為透明的。 7. 如申請專利範圍第1項所述之並排堆砌式電致發光裝置，其中’該填塞 體由一加熱或輻射固化液體黏合劑形成。 赫 8.如申請專利範圍第1項所述之並排堆砌式電致發光裝置，其中，該等電 ' 致發光二極體每一個由有機材料形成。 9. 如申請專利範圍第1項所述之並排堆砌式電致發光裝置，其中，該等電 致發光裝置拼接為完全相同。 10. 如申請專利範圍第i項所述之並排堆砌式電致發光裝置，其中，該反射 元件與在該間隙内之該填塞體直接接觸。 11. 如申請專利範圍第i項所述之並排堆砌式電致發光裝置，其中，該間隙 具有大於該等電致發光二極體中之一者之最小尺寸的一物理寬度。