TWI377185B - Alkali-free glasses containing iron and tin as fining agents - Google Patents
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Description
1377185 六、發明說明: 、 【發明所屬之技術領域】 w 本發明係關於無鹼金屬硼鋁矽酸鹽玻璃,其呈現出所 • 需要之物理及化學特性以使用作為平板顯示器裝置例如 主動陣列液晶顯示器(AMLCD)中之基板。依據特定項 . 目,本發明係關於該玻璃之澄清(在業界亦表示為"再澄 清")。 【先前技術】 顯示器廣泛地可分類為兩種:發射性(例如陰極射線管 - 以及電漿顯示板(PDP))或非發射性。後者系列屬於依靠 外部光源之液晶顯示器(LCD),該顯示器只作為光線調變 器。在液晶顯示器情況中,該外部光源可為外界光線(使 用於反射性顯不|§)或靈敏的光源(例如可發現於直接觀 看之顯示器)。 液BB顯示器依靠液晶(LC)材料之三種固有特性以調變 光線。第一為液晶材料促使偏極光線光學旋轉之能力。 第一為該旋轉依據液晶之機械指向。以及第三液晶藉由 施加外部電場產生機械性指向之能力。在製造單純扭轉 向列液晶顯示器中’兩個基板圍繞著一層液晶材料。在 h 已知為正吊白色型式顯示器中,施加對準層於基扳内側 '表面上使液晶導引器產生90度旋轉。此表示進入液晶格 一個面之線性偏極光線的偏極性將被液晶材料旋轉9〇 3 1377185 度。彼此相對旋轉9〇度之偏極薄膜放置於基板外側表面 上。 由於進入偏極薄臈之光線變為線性偏極。通過液晶格 之光線偏極旋轉90度以及能夠通過第二偏極薄膜離 開。橫越液晶層施加電場使液晶導引器對準該電場,中 斷旋轉光線之能力°通過該液晶格之線性偏極光線並不 會使其偏極性旋轉以及因而被第二偏極薄膜阻隔。因 而,最為簡單認知中,液晶材料變為光閥,其能夠使光 線透射或阻隔之能力可藉由施加電場加以控制。 上述說明屬於液晶顯示器中單一圖素之操作。高資訊 型式顯不器需要組裝數百萬個該圖素,在業界中其稱為 次圖素,為陣列格式。定址全部這些次圖素,即對全部 这些次圖素施加電場,同時使定址速度最大化以及使串 音為最小化存在多項挑戰。一項定址次圖素之優先方式 為利用位於每一次圖素處之薄膜電晶體控制電場,其將 形成主動陣列液晶顯示器裝置(AMLCD)之基礎-。 製造這些顯示器為非常複雜,以及基板玻璃之特性非 吊地重要。首先以及最為重要地’使用於製造Amlcd 裝置之玻璃基板之實際尺寸必需嚴格地控制。向下片狀 物抽拉製程以及特別是說明於Dockerty之美國第 3338696及3682609號專利中融合製程為少數能夠產生 使用作為基板玻璃片之製程而並不需要例如研光及拋光 之昂貴後級成形修飾之操作。非常不幸地,融合製程對 玻璃特性作相當嚴格之限制,其需要相當高液相線黏滯 4 1377185 係數’優先地大於100000泊,更優先地大於15〇〇〇〇泊β 通予’構成平板顯示器之兩個板分別地製造。之一, 彩色濾波板具有系列紅色,藍色,綠色,以及褐色以及 染料/儿積在其上面。這些每一種主要色彩必需精確地對 應於相對主動板之次圖素。為了去除兩個板製造過程中 所遭遇外界熱學條件間差異之影響,有需要使用尺寸與 熱學條件無關之玻璃基板(即具有較低熱膨脹係數之玻 璃)°不過,該特性需要藉由在沉積薄膜(例如矽薄膜)以 及基板之間由於膨脹不匹配產生應力加以平衡。估計熱 膨脹係數最佳係數在28-3 5x1〇-7 /°C (0-300Τ:),優先地 28-34xl〇-7 /°c ’ 更優先地 28-33x1 0_7 /。(:(0-300°C )。 由於含有主動薄膜半導體之主動板使用一般半導體形 式製程製造出《這些製程包含喷塗、CVD、光微影,以 及蝕刻。在這些製程中玻璃保持未改變為高度需要的。 因而’玻璃需要呈現出熱穩定性以及化學耐久性。 熱穩定(已知為熱.密實或收縮)決定於特定玻璃組成份 固有黏著性(由應變點表示)及製造製程決定之玻璃片經 歷熱學過程。Dumbaugh等人之美國第5374595號專利以 及Chacon等人之美國第6319867號專利揭示出應變點超 過650 °C之玻璃,其經歷融合處理熱學歷程之主動板具 有可接受之熱穩定性,該主動板建立於a-矽薄膜電晶體 (T F T)以及超低溫度p-碎TFT上。較尚溫度製程(例如低 溫p-矽TFT所需要)需要對玻璃基板作額外退火步驟以 確保熱穩定性。 5 1377185 化學耐久性係指對製造製程中所使用各種蝕刻劑侵钱 之抵抗性。特別優點為抵抗侵蝕避免蝕刻矽層所使用乾 燥钱刻條件。為了檢查乾燥蝕刻條件,基板試樣暴露於 已知為110BHF蝕刻溶液中。該測試包含浸潰玻璃試樣 於體積比50%重量比HF以及40%重量比NH4F溶 液中歷時5分鐘。試樣對重量損失以及外觀作分級。除 了 110BHF測試’玻璃基板亦對酸條件抵抗性作測試。 在該情況中’蝕刻溶液為5% HC1以及玻璃試樣為浸潰於 95°C測試溶液中歷時24小時。 除了這些規定,AMLCD製造商發現較大顯示器尺寸以 及規模經濟之兩者需求驅使處理較大尺寸之玻璃。目前 業界標準為第VI代(1 500mmxl 850mm)以及第VII代 (187〇mmx22〇〇mm) ’但是以更進一步嘗試每一邊超過2 米之更大尺寸。此產生放項令人關切的問題。 第一是玻璃的重量。一代至下一代玻璃重量增加將顯 著地:牽涉·到機械人處理器以運载玻璃至以及經歷整個.製 程。除此,決定於玻璃密度以及楊氏彈性模數之彈性下 垂對於較大尺寸玻璃片將變為特別重要的問題,影響運 送玻璃於不同處理工作台之間匣子中裝載,擷取,以及 間隔玻璃之能力。 除了重量以及下垂問題,基板尺寸增加在製造不含缺 陷玻璃片中導致更大挑戰。由於次圖素尺寸很小,使用 作為顯示器應用之基板必需實質上完全無缺陷。 項缺陷主要來源為氣態雜質(亦已知為晶種),其由 6 於整批原料熔融空氣陷縮於在熔融玻璃中所致。過去, 該氣態雜質藉由使用_作為澄清劑加m除n砂 會造成環境及健康問題,因而業界已連續性地嘗試製造 較低神含里之玻璃,以及優先地實質上不含_之玻璃。 D〇rfeld等人之美國第578S726號專利、Bange等人之美 國第6U8924號專利以及等人之美國第 2006/0242996號公告專利揭示出製造不含砷玻璃之製 程。 已作嘗試以銻澄清劑替代砷澄清劑。不過,銻具有其 本身之環境及健康問題。同時,與砷比較,銻為效果較 差之澄清劑。 定量上,在商業化製造玻璃片中氣態雜質數量需要小 於或等於0.10氣態雜質/立方公分玻璃以及對於體積小 於5 00立方公分之玻璃片優先地小於或等於〇 〇5氣態雜 質/立方公分。除此,在一片或一些玻璃片中達成低數量 氣態雜質-並非足夠.的’然而為了價格更具競爭性,.玻璃 製造商需要一致性地達成上述低雜質數量。該一致性量 測為檢視連續性地製造出某一數量玻璃片例如5〇片連 續製造玻璃片中氣態雜質數量。因而,為了具有商業可 行性,預期使用作為顯示器應用中基板,至少50連續性 地製造玻墙片平均值需要達成上述(或更佳)氣態雜質數 量。 基於先前說明,需要提供顯示器裝置之玻璃組成份, 其具有低密度以減輕較大片狀物尺寸相關之問題,優先 1377185 地小於或等於2·45公克/立方公分以及液相線黏滯係數 大於或等於100000泊以允許藉由融合製程進行製造。除 此,0-3 00°C溫度範圍内之玻璃熱膨脹係數在28-35X10·7 / °C範圍内,優先地在28-34xl0·7 /。(:,及更優先地在 28-3 3xl0·7厂C之間。除此,玻璃應變點大於650°C為有 益的’以及玻璃能夠避免蝕刻溶液侵蝕。玻璃當商業化 而不使用砷及/或銻作為澄清劑製造時亦需要為低氣態 雜質含量。 使用作為製造LCD基板中玻璃之鐵及錫含量說明於底 下一些參考文獻中。 美國第2005/0096209號公告專利係關於使用銨鹽作為 LCD玻璃之澄清劑。在玻璃中銨(NH4+)數量在〇 〇〇〇1至 0.01重量百分比’優先地〇 〇〇〇4至〇 〇〇1重量百分比。 對於該銨鹽為有效的’玻璃需要具有該文獻所謂高"還原 度"。還原度因而能夠藉由量測pe2+與Fe2 +及Fe3 +總和之 比值決定出。為了量-測該比值,文獻說明—以Fe2〇3計算 之Fe含量需要至少為0·0015%重量比(15ρριη)。以Fe2〇3 計算之Fe含量上限最之為〇.3%重量比(3〇〇〇ppm)以及使 用作為顯示器應用之玻璃情況中最多為〇.2%重量比 (2〇00PPm)’優先地最多為〇.1%重量比(1〇〇〇ppm),以及 更優先地最多為0.05%重量比(500ppm)。關於錫,文獻 說明玻璃不能含有Sn〇2,假如含有,其含量最多為玻璃 質量之0.03百分單位(300ppm),優先地為2〇〇ppm。該 文獻範例並未含有錫。 8 1377185 曰本第07-202208公告專利係關於藉由保持Fe+3濃度 小於或等於0.005%重量比(50ppm)減少LCD基板在 3 00nm下之吸收。該文獻並未揭示出特定玻璃組成份以 及並未提及Sn02。 曰本第2〇01-;26 1366公告專利係關於在3〇〇nm以及更 長波長下光線透射°其揭示出以Fe2〇3表示Fe3+含量為 0.008-0.05%重量比(80-500ppm),以Fe2〇3表示之總氧化 鐵含量為0009-0.055%重量比(90-550ppm)。一些範例使 用錫為0.5%重量比(5000ppm)或1.0%重量比(i〇〇〇〇ppm) 含量。所有範例包含神及/或録。 曰本第2004-189535號公告專利係關於含鐵之[CD基 板透射。其限制以Fe2〇3表不之Fe含量在〇·〇〇5_〇 〇3% 重量比(50-300ppm)(優先地0.007-0.03%重量比; 7〇_3〇Oppm)以及將Sn〇2加入至玻璃(0 〇1_〇 3%重量比; 100-3000ppm)使Fe3 +轉變為Fe2+。依據該文獻,砷抑制 錫效.果以及因而其濃度不·.超過0.1 %重量.比,優先地不赶^ 過0 · 0 5 %重量比。為了利用低含量坤達到澄清作用,該 文獻使用銻以及氯,銻含量不超過1.0%重量比,因為類 似砷’銻之吸收尖峰在紫外線範圍内。所有範例使用至 少一種神,銻,及氯。只具有氣情況之Fe2〇3含量為 200ppm或更小。 一些文獻已揭示出不含神,錄’或鋇。如上述所說明 美國第2005/0096209號公告專利包含該型式之範例美 國第6169047號專利亦是如此》後者專利說明Zn〇、 9 1377185 SO3、F、Cl及Sn〇2加入總量為最多5莫耳百分比。該 專利並未提及鐵,以及並未具有鐵或錫之範例。美國第 5908703號專利含有一個範例,該範例不含砷銻,或 鋇(範例3)。該範例含有! 〇%重量比Sn〇2 (1〇〇〇ppm)& 及並未提及鐵。 【發明内容】 依據本發明第一項,本發明提供實質上不含鹼金屬之 玻璃,其以氧化物莫耳百分比表示包含:64 〇71 〇% Si02'9.0-12.0% Al2〇3' 7.0-12.0% β2〇3 ' 1.0-3.0% MgO ' 6.0-11.5% Ca〇、0_2.3%(優先地 〇_1〇%)Sr〇、〇 2 3%(優 先地 0-0.1%)Ba〇、0_0.05%(優先地 〇_〇 〇2%)As2〇3、 〇-〇.5%(優先地0-〇.〇2%)Sb2〇3 ;其中:⑷玻璃具有以 FhO3表示之Fe含量在0.010_0·033莫耳百分比;以及(b) 玻璃具有以Sn〇2表示之Sn含量在〇·017_〇 112莫耳百分 比。 依據第二項,本發明提供實質上不含鹼金屬,鋇,砷 及銻之玻璃,以及包含:(a)Si〇2、Αι2〇3、Β2〇3、Mg〇、
CaO及SrO; (b)以Fe203表示之Fe含量在〇〇1〇_〇 〇33莫 耳百分比;及(c)以Sn02表示之Sn含量在〇 〇17 〇 112 莫耳百分比。 依據第三項,本發明提供藉由向下抽拉製程(例如融合 製程)包含選擇’熔融,以及澄清原料製造不含鹼金屬玻 填片之方法’使得構成玻璃片之玻璃包含Si〇2、Al2〇3、 B2〇3、MgO、CaO及SrO以及具有:(i)以Fe2〇3表示之 含量在0.010-0.033莫耳百分比範圍内;及(⑴以Sn〇2 表示之Sn含量在0.017-0.112莫耳百分比範圍内;其中: (a)進行澄清作用而不使用砷或銻;以及(b)數量5〇片連 續性地藉由向下抽拉製程由熔融及澄清原料製造出玻璃 片之平均氣態雜質含量為小於0.05氣態雜質/立方公 分’其中每一片體積至少為500立方公分。 依據第四項,本發明提供藉由向下抽拉製程(例如融合 製程)製造不含鹼金屬玻璃片之方法,該方法包含選擇 原料’使得構成片狀物玻璃包含Si02、Α12〇3、β2〇3、 MgO、CaO及SrO ; (b)熔融以及澄清步驟(a)中選擇之原 料;(c)使用步驟(b)熔融以及澄清之原料產生玻璃片(優 先地並不使用砷或銻);(d)量測玻璃以Fe2〇3表示之以 含量,該玻璃構成步驟(C)之玻璃片;以及(e)假如步驟(d) 中量測鐵含量在0.010-0.03:3莫耳百分比範圍外,重複步 驟(a)至(d)’持續到在步驟(d)中鐵含量在.010-0.ο]]莫耳 百分比範圍内。 優先地,在步驟(e)後,50片連續性地由熔融及澄清原 料蛙由向下抽拉製程製造出玻璃片之平均氣態雜質數量 為小於0.05氣態鉍質/立方公分,其中每一片體積至少為 500立方公分。 在本發明該項特定實施例中,在步驟(e)中構成玻璃片 之玻璃以Sn〇2表示之錫含量亦加以量測以及假如在 1377185 0-017-0.112莫耳百分比範圍外,重複步帮(a)至(d),持續 到在步驟(d)中錫含量在0.017-0.112莫耳百分比範圍内。 依據本發明先前每一項目,玻璃優先地具有一些以及 優先地全部下列特性:(a)以Fe2〇3表示之Fe含量在 〇·〇12-〇.〇24莫耳百分比範圍内;以Sn〇2表示之Sll含 量在0.021-0.107莫耳百分比範圍内;(c)Ba〇含量為小於 或等於0.05莫耳百分比(即,玻璃實質上不含Ba〇);⑷ 以元素硫表示硫含量為小於或等於0 02莫耳百分比(本 發明玻璃大約為1 〇ppm) ; (e)鹵化物含量為小於或等於 〇·4莫耳百分比(本發明玻璃氯相當於22〇〇ppm);及/或 (f)Fe2 +與Fe3 +比值為大於或等於〇.5。 依據本發明先前每一項目,玻璃優先地具有一些以及 優先地全部下列特性:(a)密度為小於或等於2.41公克/ 立方公分;(b)液相線黏滯係數為為大於或等於looooo 泊;(c)應變點為大於或等於65(TC ;及/或(d)0-300°C範 圍内線性熱膨-脹係-數(CTE)滿足下列關係:2_8χ10_7/°(:.^-CTEg 35xl〇-7 /〇C。 依據本發明先前每一項目,玻璃優先地滿足一項以及 最優先地滿足全部下列關係:(a)S[R0]/[Al203]g 1.00(優 先地 Σ[ΚΌ]/[Α1203] g 1.03);及/ 或(b)Z[R0]/[Al203] $ 1.25(優先地 E[RO]/[Al2〇3]S 1.12),其中[Al2〇3]為 Al2〇3 莫耳百分比以及Z[R0]等於MgO、CaO、SrO以及BaO 莫耳百分比之總和。 對於本發明玻璃,Fe203在0.010-0.033莫耳百分比範 12 1377185 圍内相當於250-800ppm重量百分比範圍内,同時 0.012-0.024莫耳百分比相當於3〇〇_6〇〇ρρπι重量百分 比》在錫情況中’對於本發明玻璃,Sn〇2在〇 〇17_〇 112 莫耳百分th相當於400-2600ppm重量百分比,同時 0.02卜0.107莫耳百分比相當於5〇〇_25〇〇ρριη重量百分 比。 人們了解上述限定範圍包含範圍之端點值。例如,當 Si〇2限定濃度以氧化物為基準為64.0-71.0莫耳百分 比’其中64.0及71.0數值包含於允許之si〇2濃度值。 同樣地’當濃度或其他參數表示為”界於X及γ之間”, X及Y值為包含於範圍之部份。 本發明其他特性以及優點將揭示於下列詳細說明中, 業界熟知此技術者可由說明書立即地了解部份,藉由實 施在此所說明之本發明而明瞭。所含之附圖在於提供更 進一步了解本發明’以及加以併入以及構成說明書之一 部份。 人們了解揭示於說明書以及附圖之本發明各種特性能 夠以任何及全部之組合加以使用。一般情況,上述說明 之概要以及下列詳細說明只作為本發明之範例以及預期 提供概念或架構以了解本發明之原理及特徵。 【實施方式】 如上述所說明,本發明係關於改良玻璃以使用作為平 13 1377185 板顯示器例如AMLCD中基板。特別地,玻璃符合該基 板不同特性規格。玻璃主要成份為Si02、Al2〇3、B203 以及至少兩種鹼土金屬氧化物,即至少MgO及CaO。 * si〇2作為本發明玻璃之主要玻璃形成劑。其濃度應該 . 大於64莫耳百分比以提供玻璃之密度以及化學耐久性 . 適合作為平板顯示器玻璃,例如AMLCD玻璃,以及液 相線溫度(液相線黏滯係數)能夠藉由向下抽拉製程(例如 _ 融合製程)形成。 特別地’為了適合使用於平板顯示器應用中,特別是 AMLCD玻璃,本發明玻璃密度優先地為小於或等於2.45 公克/立方公分(更優先地,小於或等於2 43公克/立方公 分,最優先地小於或等於2.41公克/立方公分),當拋光 試樣暴露於95。(:之5%HC1溶液歷時24小時時,重量損 失為小於或等於0.8毫克/平方公分;以及當暴露於3〇艺 之1:10體積比50%重量比HF以及40%重量比Nh4f溶 • 液歷時5分鐘時,重量―損失為小於或等於0.8毫克/平方 公分。 為了藉由向下抽拉製程形成,玻璃液相線優先地為大 於或等於_〇〇〇泊,更優先地為大於或等於i5〇〇〇〇泊, 以及最優先地為大於或等於200000泊。 關於上限’ Si〇2濃度應該為小於或等於71莫耳百分比 ,使整披原料能夠使用傳統高體積熔融技術例如We熔 融在耐火炫融器中加以位點 ^ c ^ T 熔嘁。當Sl〇2濃度高於η莫耳 百分比時,200泊溫度j炫:β 木a 、 、俗融/jnL度)通吊局於165〇〇c,盆 14 1377185 通常為傳統熔融製程之上限。 優先地’ Si〇2濃度在66_0及70.5莫耳百分比之間, 更優先地在66·5及70.0莫耳百分比之間,以及最優先地 在67.0及69·5莫耳百分比之間。由於Si〇2含量所致, 本發明玻璃熔融溫度通常為大於或等於16〇(rc及小於或 等於165〇t。 如業界所熟知,Si〇2通常以壓碎英所構成砂加 入,其可由鬆散砂沉積物或砂岩或石英岩開採出。雖然 廷些可由市場以低價提供,其他Si〇2結晶或非晶質形式
SiCh能夠部份或全部地替代而對熔融特性產生最小影 響由於熔融SiCh為非常黏滯性以及緩慢地溶解為無鹼 金屬玻璃,通常砂加以碾碎使得至少85%通過美國 號尺寸篩為有益的,該篩相當於15〇微米開孔尺寸篩。 在製造中,微細顆粒藉由原料轉移製程或藉由空氣處理 裝置加以吹除,以及防止該健康有害物存在,亦需要去 徐少量壓碎之砂。
Ah〇3為本發明玻璃另一種玻璃形成劑。大於或等於 9.0莫耳百分比Abo3濃度提供玻璃具有低液相線溫度以 及相對高的液相線黏滞係數。使用最小9 〇莫耳百分比 AhO3亦改善玻璃應變點以及模數。為了達成 Σ[ΙΙΟ]/[Α12〇3]比值為大於或等於丨〇〇(參閱底下),A丨 濃度需要保持或最多等於12〇莫耳百分比。優先地, AU〇3濃度在9.5及11.5莫耳百分比之間。 B2〇3為輔助溶融以及降低熔融溫度之玻璃形成劑以及 15 1377185 助熔劑。為了達成這些效果,本發明玻璃之b2〇3濃度為 為大於或等於7·〇莫耳百分比。不過大量 應f高於7.0莫耳百分比時每一莫耳百分二 C ),模數,以及化學耐久性。 對於使用於平板(例如AMLCD)應用中,本發明玻璃應 變點優先地為大於或等於65〇<t (更優先地,大於或等於 660C,最優先地為大於或等於66〇(>c ),楊式模數為大於 或等於lO.OxlO6 psi(最優先地大於或等於1〇 3χΐ〇6 psi, 最優先地大於或等於10.6χ1 06 psi),以及化學耐久性如 上述對玻璃Si〇2含量所說明。高應變點為需要的以有助 於防止由於在玻璃製造後隨即作熱製程中密實/收縮導 致之平板扭曲。高揚氏模數為需要的,因為其在運送以 及製程中減少大塊玻璃呈現出之下垂數量。 為了達成上述特性,本發明玻璃具有ΙΟ;濃度小於或 等於120.0莫耳百分比。優先地,B2〇3濃度在8 〇及12〇 〇 莫耳百分比,更優先地在8.5及11.5莫耳百分比,以及 最優先地在9.0及11.0莫耳百分比之間。
Al2〇3及B2〇3濃度優先地加以選擇以提高應變點,增 加模數,改善耐久性,減小密度’以及減小熱膨脹係數, 同時保持玻璃之溶融以及形成特性。例如,提高B 2 〇 3以 及相對地減少Al2〇3能夠有用於達成較低密度以及熱膨 脹係數,然而提高Αΐ2〇3以及相對減少β2〇3有助於提高 應變點,模數’以及埘久性,只要八丨2〇3增加並不會減 小Z[RO]/[Ah〇3]比值低於1.00。作為參考,如上述所說 16 1377185 明,使用於AMLCD應用之0-300°C玻璃熱膨脹係數在 28-35xlO_7 /°C 範圍内。 除了玻璃形成劑(si〇2、ai2o3及b2o3),本發明玻璃包 含至少兩種鹼土金屬氧化物,即至少MgO及CaO以及 附加上SrO及/或BaO。如業界所熟知,鹼土金屬通常以 氧化物(特別是MgO),碳酸鹽(CaO、SrO及BaO),硝酸 鹽(CaO、SrO及BaO),及/或氫氧化物(全部)加入。在 MgO及CaO情況中’能夠作為材料來源之天然產生礦物 包含白雲石(Cax、Mg丨·X)C03、碳酸鎂(MgC03)、氫氧鎂 石(Mg(〇H)2)、滑石(Mg3Si4O10(OH)2)、撖欖石(Mg2Si04) 以及石灰石(CaC〇3)。這些天然來源包含鐵,以及因而亦 能夠以另一種方式加入該成份内。 驗土金屬氧化物提供玻璃具有不同的特性,其對溶 融’澄清,形成,以及最終用途為重要的。例如,在玻 璃中Mg〇濃度以及玻璃之Σ[κ〇]/[Α12〇3]比值對玻璃性 能為重要的,特別是對於熔融以及澄清作用為重要的, 其中[八丨2〇3]為Α1ζ〇3之莫耳百分比以及Σ[κ〇]等於 MgO、CaO、SrO及BaO莫耳百分比之總和。 雖然並不預期受到任何特定操作理論之限制,人們相 信下列玻璃化學反應物各項與本發明破璃中Mg〇及 Σ[ΚΌ]/[Α12〇3]之作用相關。 如業界所熟知,在鋁矽酸鹽玻璃中,Al3 +離子朝向被 四個氧離子(02-)包圍著。其發生一項機制 電價平衡交互作用。與四個。2·鍵…離子傳(= 17 Ϊ377185
視為對每一 ο2-鍵結需求提供ι/4* (+4)或+ 1增加電荷。 假如這些氧離子因而鍵結至4_重配位A1h,因而對〇2-離子鍵結需要額外提供1/4χ(+3 )=+3/4價,總共為+1.75。 剩餘+ 1Μ能夠藉由附近+2陽離子例如鹼土金屬離子例如 1/8χ(+2)=+1/4達成。由正電荷離子產生之總電荷確實地 與氧離子之負電荷確實地平衡,以及鋁能夠保持為4_重 配位。扮演該角色+2陽離子稱為電荷平衡陽離子。假設 Σ[Κ_〇]/[Α12〇3]比值為1或更大,所有在鋁矽酸鈣玻璃中 銘為以氧 4-重配位。參閱 Tayi〇r,ge Brown,Structure of mineral glasses: I.長石玻璃 NaAlSi308、KAlSi308、 CaAl2Si208。Geochim. Cosmochim Acta 43:61-75 (1979);
P. McMillan, B. Piriou, A Navrotsky 之 Raman spectroscopic study of glasses along the joins silica-calcium aluminate, silica-sodium aluminate, and silica-potassium aluminate,Geochim Cosmochim Acta 4.6:..2.0.21-2.03 7 (19忌2);以.及 A N-av.rotsky,G Peraudeau,P McMillan, JP Coutures 之 A thermochemical study of glasses and crystals along the joins silica-calcium aluminate and silica-sodium aluminate, Geochim Cosmochim Acta 46:203 9-2047 (1982)。由於為業界所熟 知,由+2陽離子電荷平衡之效果隨著尺寸成反比。該情 況一般解釋為小的+2陽離子使氧離子偏極以及使其與其 他陽離子鍵結失去穩定。參閱KL Geisinger,GV Gibbs, A Navrotsky 之 A molecular orbital study of bond length and 18 1377185 angle variations in framework silicates, Phys Chem
Minerals 11: 266-285 (1985);以及 A Navrotsky, KL Geisinger,P McMillan, GV Gibbs 之 The tetrahedral framework in glasses and melts-inferences from molecular orbital calculations and physical properties, Phys Chem Minerals ll:284 298 (1985)。在本發明玻璃中+2陽離子 最大濃度依序為CaO、MgO、SrO及BaO。Ca2 +離子較佳 地穩定在4-重配位鋁中而優於Mg2+離子,但是並不如 Sr離子有效。在本發明玻璃中,在電荷平衡交互作用中 Ba2 +及Sr2+接續Ca2+後將被完全地被消耗,持續到幾乎 所有Al3 +離子以Ca2+、&2+或Ba2 +穩定於4_重配位中。 假如ai3+離子維持仍然需要電荷平衡,Μ^+離子將使用 作為該用途持續到剩餘Μ3 —離子被穩定於4重配位中。 並不使用來穩定紹於4_重配位中之驗土金屬離子將傾 向與相鄰铸子共用氧離子。在該情況巾,驗土金屬稱 , s._〇 ai 鍵叩之四面體網狀結構。本發明玻璃可接受組成份範圍 需要全部S〜a2+被消耗於電荷平衡作用中,能夠可 ^作柄狀結構改㈣離子之檢土金屬離子為^+及 g 。在分裂玻璃網狀結構中+ > μ ^ 又吾險離子在高溫下提 供降低黏耗數,因而使基本 降低裔令珞蛐裝程變為容易。其亦 味低乳體在破璃中之这Μ 及在-… 而減少氣泡形成來源以 及在间/皿成長之可能。除此, t矽石顆妞又吾陽離子侵蝕整批原料 顆粗’促使其快速地加入至 加八至均勻的熔融物内。最 19 1377185 終,本發明玻璃最重要為能夠減少晶質矽石(例如方矽石) 之穩定性以及因而増加由於冷卻最先呈現出晶體溫度下 之黏滯係數。此為為何S[R0]/[A1203]比值必需g 1之關 鍵理由。 為了了解該功能,即減少晶質矽石穩定性之功能,考 慮CaO-Al2〇3_Si〇2系統液相線相圖如第一圖所示為有用 的(使用來繪製該圖之數據來自於EM Levin,CR Robbins, HF Mc-Murdie, Phase Diagrams for Ceramists, The
American Ceramic Society, Inc.,Columbus,OH (1964),p. 219,其轉變為莫耳百分比)。通過曲線圖中間之曲線代表 組成份範圍之邊界’通過該邊界與液體平衡之晶體將改 變其一致性。在圖頂部為方矽石si〇2結晶之同素異形 體。下右邊為莫來石,大約為3A1203 · 2Si02為含有4-,5-及6-重配位鋁之铭石夕酸鹽。在圖下方中間為辦鋁石夕酸鹽 鈣長石CaAl2Si208,其中Ca〇/Al2〇3比值為1以及全部 A1離子為以氧之4-重配位。在左下方相為.梦灰石,其 中Si離子為以氧之4-重配位,所有Ca2+離子為以氧之 6-重配位,以及至少一些氧離子共用於c^+及 si4+離子 之間。通過三角形中間之垂直線代表Ca〇/Al2〇3比值等 於1.0之組成份。在每一這些區域中,公式中晶體與熔 融玻璃平衡,以及液體與特定晶體間之平衡區域表示為 晶體液相線相位場。 其中兩個液相線相位場相交,所顯示相交之曲線稱為 反應線,以及其中三相位場相交,場會集之點稱為共晶 20 1377185 點/、曰曰點位於二種晶相同時與液體共同存在 結晶共生礦物之熔融溫度局部最小值處,以及因而 對於三種晶相任何一種或組 ’一 σ狀體為最穩定的組成份。
兩個共晶可在第-圖看到。第_,在方硬石,舞長石以 及莫來石(右側)為向下降低至134代單一熔融物,在該 點三種結晶相同時地進入液體平衡狀態。第二在矽灰 石,純石及方以間為降低至117代單—溶融物,二 該點三種結晶相同時地進入液體平衡狀態。 假如矽灰石’轉長石及方矽石之結晶共生礦物由室溫 加熱,最先出«體》117(rc,α及液體組成份相當於 相對共晶組成份情況。同樣地,鈣長石,莫來石,及方 矽石之結晶共生礦物由室溫加熱,最先出現液體為1345 c,以及液體之組成份為這些相間之相對共晶組情況。 在兩個共晶之間,溫度單調地增加至代表CaO/Ahhy 〇 之線。該線代表R〇-Al2〇3_Si〇2系統中熱能最大值
R=Ca、Sr 及 Ba。換言之,朝(Ca、:Sr、如)〇/八12〇3 = 1.線 之富 Al2〇3 侧(Ca、Sr、Ba)0-Al203-Si02 組成份將於[驗 土金屬铭梦酸鹽]-莫來石-方矽石共晶組成份處熔融,以 及相圖[驗土金屬石夕酸鹽]-[驗土金屬铭碎酸鹽]_方石夕石 側處被熱動力地阻礙熔融。 第二圖顯示出MgO-Al2〇3-Si〇2系統之液相線相圖(用 來繪製該圖之數據來自於EM Levin, CR Robbins, HF McMurdie, Phase Diagrams for Ceramists, The American Ceramic Society,Inc.,Columbus,OH (1964),p. 246,其 21 1377185 轉變為莫耳百分比)。該系統在R〇 Al2〇3_si〇2系統中為 獨特的,其中鎂鋁矽酸鹽(堇青石)_莫來石_方矽石共晶組 成份之Z[RO]/[Al2〇3]比值為些微地大於工。不像其他 R〇-Al2〇3_Si〇2系統,在鎂為主系統中高矽石組成份之最 初熔融將傾向發生於〇〇共晶處。相當 重要之另外一,點為所考慮#晶為在非常低石夕石濃度下而 低於任何其他RO_A12〇3_Si〇2系統。因而,與其他 R〇-Al2〇3-Sl〇2 系統比較,Mg〇_A12〇3_Si〇2 系統中最低 液相線溫度發現於相當低石夕石濃度處。 作為本發明玻璃目的,早期階段熔融物組成份最重要 結果係關於玻璃中氣態雜f之外觀及氣體溶解度。在富 鋁玻璃中破璃之溶解度相當高以及當s[RO]/[A1203]比值 增加超過1.00時快速地降低。除此,在溶融過程中發石 為最後冷解之成份,以及由於該因素氣體之溶解度相當 程度地降低’因而更進—步抑制初始之玻璃溶解度。其 影響自RO玻璃具有低的初始..氣..體:溶解度,會熔融進行 時溶解度實質地增加,因而富A12o3玻璃具有非常高之 初始冷解度,但是當進行熔融時降低。由於溶解度減小, 氣體被強迫離開玻璃以及成為氣泡。部份減小碎石顆粒 之表面作為适些氣泡之有效成核位址以及有助於使其 保持於玻璃物體中β 本發明玻璃另—項關鍵成份為硼氧化物Βζ〇3。其並不 顯著地加入於任何二相或三相鋁矽酸鹽晶體中或Si〇2 中因而其主要影響為經由簡單稀釋以降低液相線溫 22 1377185 度。主要結果為對於在例如Ca〇_A12〇3_Si〇2系統液相線 表面上已知點’液相線溫度將隨著添加β2〇3而較小。經 驗地發現在尚石夕石液態中Β2〇3對液相線溫度影響約為 20 C每莫耳百分比。作為範例,鈣長石,莫來石,及方 石夕石之結晶(在圖i富Α12〇3側)之溫度當以莫耳百分 比Β2〇3稀释時將由1345°C降低至1145t。稀釋作用對 液相線溫度影響一般稱為凝固點降低。 在AMLCD型式玻璃組成份中組成份研究之令人驚奇 的結果為CaO-AhCVSiO2系統中1-3莫耳百分比Mg〇替 代CaO促使鈣長石-莫來石-及方矽石液相線之位置突然 偏移至與MgO-Al2〇3-Si〇2系統中堇青石-莫來石_方石夕石 液相線大約相同位置處。因而’添加MgO不但迫使全部 初始熔融至相圖富RO側,同時在液相線溫度中產生局 部最小值低於單獨MgO-或CaO-為主系統預期情況。前 者依循上述關於MgO-AhCh-SiO2系統之說明。後者將出 現,由於添加適當少量任何氧化物藉由凝固,點降低而初 始地減小液相線溫度《因而,雖然人們直覺地預期液相 線溫度降低係由於三相系統中高溫所致,該系統即只具 有MgO或CaO之系統,實際上人們藉由提高液相線溫 度達成降低1-3莫耳百分比。由於黏滯性並未受到Mg〇 替代CaO而產生顯著地影響,降低液相線溫度之淨結果 為增加液相線黏滯係數。高液相線黏滯係數為將溶融玻 璃轉變為適合於AMLCD應用精確片狀物之向下抽拉製 程所必需的。 23 1377185 先則人們認為MgO濃度為大於或等於1莫耳百分比將 提高液相線溫度(降低液相線黏滯係數).,因而損及高黏 滞性成形製程例如向下抽拉製程例如融合製程。不過, 如先别所說明以及底下範例所顯示,人們已發現能夠使 用較高數量MgO,只要S[R〇]/[Al2〇3]比值以及Si〇2濃 度同時地小心地加以控制如上述所說明。 因而,先前考慮顯示出鹼土金屬氧化物Mg〇對於熔融 及澄清為特別地重要。除此,相對於其他驗土氧化物, 存在MgO導致降低密度及熱膨脹係數,以及較高化學耐 久性,應變點以及模數。 關於濃度,MgO應該為大於或等於莫耳百分比以 達成上述所說明有關MgO各種優點。在濃度大於3 〇莫 耳百分比,甚至於控制Σ[ΙΙΟ]/[Α12〇3]比值以及3丨〇2濃 度,液相線溫度提局以及液相線黏滞係數降低,因而犧 牲玻璃之成形’其使用高黏滯係數成形製程。優先地, MgO濃度在1.2與2.8莫耳百分比之間.,更優先地在14 及2.6莫耳百分比之間以及最優先地在16及2.4莫耳百 分比之間。 在本發明玻璃中鹼土金屬氧化之CaO濃度為最大。 CaO主要使用來產生低液相線溫度(高液相線黏滯係 數)’ 應變點以及模數’以及熱膨服係數在平板特別是 AMLCD應用最需要範圍内。亦有益地提供化學耐久性, 以及與其他驗土金屬氧化物比較’其相當便宜地作為整 批原料。因而,CaO濃度需要為大於或等於6.〇莫耳百 24 1377185 分比。不過,在高濃度情況下,Ca〇增加密度以及熱膨 脹係數。因而,本發明玻璃之Ca0濃度為小於或等於115 莫耳百分比。優先地,Ca0濃度在6.5及1〇 5莫耳芎分 比之間。
其餘鹼土金屬氧化物_Sr0及83〇兩者能夠提供低液相 線溫度(高液相線黏滯係數)以及因而本發明玻璃一般將 3有至少一種該氧化物。不過’該兩者氧化物與MgO及 CaO比較將提高熱膨脹係數以及密度以及降低模數以及 應變點。在SrO及BaO之間,BaO —般對玻璃特性產生 較為負面效果勝於SrO同時對於環境友善"綠色,,產物, 將鋇減為最低或消除視為優先的,因為鋇為一種資源保 育與回收法(RCRA)所列之金屬以及因而被美國環保署 列為一種有害物質。
因而優先地儘可能地保持低含量鋇作為製造對環境友 善之玻璃。不過,當氧化鋇(BaO)包含於玻璃整體濃 度之.部份時,相同的澄清特性需要―:達成。即當 (Mg0 + Ca0+Sr0 + Ba0)/Al203數值<1時,氣泡將在較晚階 段在熔融物中形成以及在玻璃中保持被捕獲狀態,然而 當(MgO+CaO + SrO+BaO)/Al2〇321時,氣泡將在早期階 段消除,產生較少雜質。因而,雖然優先地實施例實質 上不含鋇,本發明一般實施例中包含鋇以及其他鹼土金 屬陽離子。 當使用時,鋇通常能夠有助於降低液相線溫度,儘管 一般將損及密度以及熱膨脹係數。假如鋇濃度替代破璃 25 中其他驗土金屬特別是Sr,有可能得到特性在優先實施 例相當狹窄範圍内’儘管含有>01莫耳百分比Ba0e物 理特性W及所需要澄清特性在所關切範圍内低漠度鎖 (即濃度小於或算;^ 9 q ·ϋ· 〇 、 ' ·3莫耳百分比,優先地小於或等於 1.5莫耳百分比,更優先地小於或等於〇1莫耳百分比) 並不會產生無法接受之不利結果,以及因而並不需要理 由地將鋇由玻璃排除。
總之,雖然本發明破璃中㈣濃度可高達2 3莫耳百 分比,優先地小於或等# 15 #耳百分比,更優先地小 於或等於0·1莫耳百分比,以及最優先地小於或等於〇 〇5 莫耳百分比(此稱為實質上不含鋇)。
锶並未遭遇鋇毒性之問題以及因而AMLCD玻璃含有 鋰,但是不含鋇,坤,或銻視為超級綠色環保的。本發 明玻璃之SrO濃度為小於或等於2 3莫耳百分比,優先 地小於或等於2.0莫耳百分比,以及最優先地小於或等 於1.0莫耳百分比。Sr〇濃度通常大於-Ba〇濃度。通常, SrO及BaO濃度總和為大於或等於〇 4莫耳百分比主 要提供相當高液相線黏滯係數,使得玻璃能夠由向下抽 拉製程形成。 除了上述成份’本發明玻璃能夠包含各種其他氧化物 以調整玻璃之各種物理,熔融,澄清,以及成形特性。 該其他氧化物之範例包含非限制性、Mn〇、Zn〇、
Nb205、Mo203、Ta2〇5、W03、La203 及 Ce02。每一種這 些氧化物數量應該小於或等於2·〇莫耳百分比,及合併 26 .濃度應該小於或等於5.0莫耳百分比。本發明玻璃亦包 . 含原料相關及/或由於使用來製造破璃之熔融,澄清,及 /或成形裝置而加入之各種污染物(例如Zr〇2)。 本發明玻璃通常亦含有一些鹼金屬污染物,特別是 ' U、Ν&' K。不過,作為AMLCD應用,鹼金屬含量必需 . 保持低於或最多等於〇·ι莫耳百分比之R2〇(R=Li、Na、 κ)以避免由於鹼金屬離子由玻璃擴散進入tft之矽而對 • 薄臈電晶體(TFT)性能產生負面影響。在此所使用"實質 上不含驗金屬之玻璃"(亦稱為無驗金屬玻璃)為以⑽表 示之全部鹼金屬濃度小於或等於〇]莫耳百分比,其中 總鹼金屬濃度為Na2〇、K2〇及Li2〇濃度之總和。優先 地,總鹼金屬濃度為小於或等於〇 〇7莫耳百分比。 如上述所說明,S[RO]/[Al2〇3]tt值大於或等於i 〇〇已 發現將改善澄清作用,即由炫融原料去除氣態雜質。該 改善能夠使用更環境友善之澄清組成份。例如,以氧化 ♦料鱗,本發㈣魏夠具有—種形種下列組成份 =性以及優先地具有兩項下料性:⑴A说濃度最多 =莫耳百分比(稱為實質上不含坤);及/或⑼%〇3 濃又最多為0.05莫耳百分比(稱為實質上不含録)。 如業界所熟知,As2〇3為魏⑶玻場最有效之高溫澄 凊劑,以及在—些本發明音始μ 士 澄清特性而使用;為4Γ 3由於極良好的 田品,“ 劑。不過,AS2〇3為有毒的以及 實施例中,進行登、生作用特別的處理。因而,在優先 月作用而並不使用實質數量之As2〇3, 27 1377185 即最终玻璃具有最多0.05莫耳百分比As203。最優先地, 在玻璃澄清中刻意地並不使用As203。在這些情況中, 最終玻璃通常具有最多0.005莫耳百分比As203,其由於 原料及/或熔融原料之裝置中存在污染物所致。 雖然不像AszO3毒性’ Sb203亦為有毒的以及需要特別 處理。與使用AszO3或Sn02作為澄清劑玻璃比較,組成 份中Sb2〇3將提高密度,提高熱膨脹係數,以及降低應 變點。因而,在優先實施例中,進行澄清作用而並不使 用實質數量St>2〇3,即最终玻璃具有最多〇〇5莫耳百分 比Sb2〇3。最優先地,在澄清中並不刻意地使用sb2〇3。 在該情況中’最終玻璃通常具有最多0.005莫耳百分比
St>2〇3 ’其由於原料及/或熔融原料之裝置中存在污染物 所致。 除了考慮上述所說明熔融物早期階段相關澄清作用, 假如在溶融裝置一些階段中熔融玻璃接觸鉑或鉑合金, 因而氫氣經—由.组離開玻璃-為可能的-,遺留了氨體缺-陷。 缺陷為兩種形式。 第一 ’假如與鉑接觸之玻璃溶解硫酸鹽,而後硫酸鹽 能夠經由氫氣滲透減小以遺留下以S〇3(或s〇2)以及氧填 充之缺陷。一種或多種這些種類以S〇2+x (PCM)表示, 硫酸鹽參與鼓氣滲透中反應作用方便地視為硫酸之還 原,即 H2S04->S02+x+(i_i/2)〇2+h2 在該情況中,S〇2+x為主要反應產物,以及其在任何玻 璃中為非常低溶解性,其分離為氣態雜質,經由其餘熔 28 1377185 融製程殘留為缺陷》除非發生後續氧化產生可溶解硫酸 . # ’或更進一步還原產生可溶解s2-、so2+x殘留成為永 . 久性缺陷。因^度需要使玻璃原料中保持硫含量低至 ο理可達成數值》以元素硫表示之玻璃總硫含量優先地 小於或等於G.GG2莫耳百分比,以及更優先地小於或等 . 於〇·001莫耳百分比以保持缺陷為可接受數值。 第一在實質上不含硫酸鹽玻璃中,缺陷最先主要由 • 氧所構成。當玻璃移動朝向裝置出口時,氧部份地或完 全地被玻财多價部份吸收,但是溶解於玻璃中其他氣 體會移動而成為缺陷,特別是N^C02。這些氣體轉變 為氣泡受限於相當低溫度溶融物令擴散作用。因而,假 如玻璃具有低濃度之多價部份,則氧再吸收將為緩慢 的,以及氣泡將保持相當大,在製品中呈現出為無法接 Μ缺m存在充份多價部份,由於在氣體交換一 段時間之前氧被隸,氣㈣縮為料小尺寸,以及在 ♦ 最終製品中將不會呈現為缺陷。麵,多價部份藉由立 即地吸收Pt/玻璃界面處產生之氧氣而抑制缺陷初始形 成以及集結作用。 過去’該氧氣再吸收功能藉由—般顯示器玻璃中钟氧 化物或録氧化物達成。假如這些钟或録被排除,則盆他 >價部份w儘可能地存在為可切達成之高含量Γ _項多價兀素為^與A叫及Sb2Q3澄清作用比較, 錫澄清作用(即Sn〇2澄清劑)為較小效用,但是_為 普遍存在無危害性之材料。同時,許多年來,經由在該 29 1377185 玻璃原料Joule熔融物中使用錫氧化物電極,Sn〇2為 AMLCD玻璃一項成份(例如熔融本公司編號7059、1737 以及EAGLE 2000玻璃)。在AMLCD玻璃中存在Sn〇2 並不會在製造液晶顯示器中使用這些玻璃而產生任何負 面影響。不過,Sn〇2當高濃度使用時會在aMLCD玻璃 中形成結晶缺陷。特別地,使用於融合製程中高黏滞係 數及因而低抽拉溫度將限制熔融玻璃中Sn4+之溶解度。 因而,在最終玻璃中Sn〇2濃度優先地小於或等於〇 112 莫耳百分比。玻璃之錫濃度能夠經由含錫材料例如 Sn02、SnO、SnC03、SnC204等之配料加以調整。 依據本發明,已發現除了錫,鐵為另一種多價元素, 其為有效之澄清劑,特別是當與錫共同使用時。 過去,在AMLCD玻璃中鐵含量保持相當低,即可高 達大約lOOppm(—般AMLCD玻璃大約0.004莫耳百分比) 以製造出基板具有充份透明性以作為LCD應用。顯著 地’這些玻璃包含坤.録及/或ώ化物_。_雖然並不預..期受. 限於任何特定操作理論’人們相信鐵優先地為玻璃中與 銻及/或砷之複合物,能夠允許作為電荷轉移交互作用, 其能夠將吸收邊緣轉移至可見光範圍。此可完全地在單 純掺雜珅或錄玻璃中,其中鐵之ppm值足以產生強烈黃 色。同樣地,雖然兩者濃度非常低,業界熟知此技術者 了解摻雜函化物玻璃通常具有色彩,其由於複合物形成 於過渡金屬及/或_化物之間所致。由於鐵為各處常見成 份以及該成份具有相當高的濃度’通常為該複合物最大 30 ^/7185 提供者,以及由於這些交互作用因而產生黃色之主要原 ' 因。甚至於當這些不同成份不存在時,人們相信低鐵將 - 有益於達成適當接近紫外線透明性以作為LCD應用,特 別是經由基板本身經歷TFT光微影之情況。 令人驚奇地以及直接與先前技術比較,本發明發現鐵 含量並不需要保持低的以達成適當透射性,只要玻璃實 質上不含神,銻,及鹵化物。該發現顯示於第三圖中, _ 其為百分比透射度與nm為單位波長之曲線圖,其包含: (0利用砷進行澄清本公司編號Eagle 2000 LCD玻璃(曲 線11);以及(ii)依據本公司美國第11/478493號專利利 用錫進行澄清製造出之玻璃(曲線13)。(美國第11/478493 號專利在此加入作為參考之用p兩種玻璃含有不確定相 同數量之鐵。如第三圖所示,藉由去除砷,透射性將得 到改善。特別是,其改善在300nm及350nm情況,其為 LCD基板UV透射一般使用之基準波長。 _ 人們了解·存在·錫-特別是Sn2+情況下,鐵將轉變至Fe3 + 而強烈地吸收紫外線。因而’由於形成結晶缺陷,錫存 在上限值(即〇. 112莫耳百分比),對於在整個[CD基板 進行紫外線光微影應用中,由於透射性而異於缺陷形成 因素’鐵存在上限值(即〇.033莫耳百分比)。看到另一清 • 況’依據本發明特定優先實施例,選擇玻璃鐵及錫含量 使得至少50%之鐵為+2狀態,優先地至少60%,以及最 優先地至少70。/^為+2狀態全部鐵之百分比藉由電子順 磁共振或比色滴定而測定出。 31 同時,為了防止具有齒化物之複合物形成,玻璃之鹵 化物含里’即70素Br、C1及F之莫耳百分比優先地小於 或等於0.4莫耳百分比,更優先地小於或等於〇2莫耳百 刀比,以及最優先地小於或等於〇丨莫耳百分比。 玻璃之鐵含量能夠藉由調配為氧化物(Fe〇、Fe3〇4或 Fe2〇3)、有機金屬化合物(例如草酸鐵FeC2〇4)、自化物 (FeCh · 6H2〇或FeCU · όΗ2〇)形式之鐵,及/或藉由使用 (選擇)含有適量鐵其他氧化物原料之材料加以調整。例 如,砂以及石灰,一般Si〇2及Ca〇來源能夠具有不同數 里鐵/亏染物,以及滑石,在一些工業應用中Mg〇之共同 來源亦含有顯著數量鐵。依據本發明發現使用更純之砂 及/或石灰來源(即,具有較少雜質之砂或石灰)會產生更 多氣態雜質而多於較不純來源所達成情況,由於較不純 來源通常具有較多鐵多於較純之來源。此利用較純與較 不純砂來源為特別令人驚奇的,由於較不純來源具有較 高含水量,其本身在不存在鐵作用情況下將導致更多而 非較少之氣態雜質。 當選擇原料或加入鐵以提高總鐵濃度高於污染值,人 們立即地得到數項優點。第一,在一定程度上,原料中 鐵以Fe2〇3存在,在熔融早期階段過程中還原為Fe〇而 促使早期階段氣泡提供氧,有助於氣泡藉由浮力浮出玻 璃。 第一,三價鐵有助於吸收紅外線,特別在16〇〇£>c黑體 溫度,本發明優先實施例玻璃之一般熔融溫度。其改善 32 1377185 炫融效率以及提昇處理穩定性。 該效果顯示於第四及五圖,其中第四圖顯示出在丨6〇〇 °C黑體計算能量與波長關係以及第五圖顯示出第四圖之 5 00nm至25 00nm波長範圍的放大部份(參閱右邊垂直軸 及曲線15)以及0.009莫耳百分比及〇〇12莫耳百分比(為 Fe2〇3)在鋁矽酸鹽玻璃中之透射曲線圖(分別地參閱左邊 垂直軸以及曲線17及19),該玻璃在LCD基板玻璃一般 條件下熔融。如第五圖所示,在這些條件下,鐵引起黑 體能量分佈之尖峰以及累積影響(由1〇〇〇nm向上面積) 為玻璃含鐵量之陡函數。除此,由於黑體能量分佈之尖 峰當溫度增加時朝較長波長移動,對於其他玻璃溫度鐵 產生較大影響。對於相關紅外線吸收,Fe3 +吸收面積約 為Fe2 +之10倍,此為在原料中為何鐵以Fe2〇3存在較有 益地之另一項理由。 第二,為+2狀態之鐵部份(通常為jpe〇)能夠吸收在ρ^/ 玻璃界-面處產生-之氧氣或由於氫氣滲透經過鉑或鉑合金 產生新形成富氧氣泡。 非常不幸地,高含量鐵使玻璃產生強烈色彩以及非常 兩數量將導致在溶融器中紅外線非常大地被吸收,其干 擾熱量轉移至整個玻璃。在玻璃中總鐵數量因而在〇 〇1〇 至0.033莫耳百分比範圍内’優先地在o.olo至〇.〇2〇莫 耳百分比範圍内,最優先地在〇·〇12至0.024莫耳百分比 範圍内作為更加還原之玻璃,或在0.011至莫耳百 分比範圍内作為更加氧化之玻璃。 33 1377185 總之,使用鐵作為澄清劑之優點包含:⑴不像録或 砷,鐵並不會造成健康或環境問題。 ⑺不㈣化物-可能替代钟或録之化學澄清方法,鐵並 不會產生π染大氣問題及產生有害廢棄物及需要處置。 (3)不像提高數量之錫氧化物’鐵任何情況並不會損及 LCD基板4L液相線溫度’以及因而並不會影響玻璃之液 相線黏滯係數。 ⑷不像其他過渡金屬多價元素,低含量鐵只微弱使 LCD基板產生顏色’以及在本發明方法數量下任何情況 並不會影響透明度而損及目前之應用。 (5)不像標準(或低鐵)原料中由於雜質產生不確定數 值,刻意地加入鐵為所建議之數量,其呈現出抑制由於 玻璃中氫氣滲透所導致之氧氣泡形成,降低lcd玻璃之 輻照度以及因而改善熱平衡管理,以及當以Fe2〇3加入 其時,在早期熔融階段可產生額外的澄清作用-同時少量 地提昇消-除-炫融引起之氣態雜質。 鐵/錫澄清劑能夠單獨地使用或假如需要情況下混合 其他澄清技術使用。例如,鐵/錫澄清劑能夠混合函化物 澄清劑例如溴澄清劑。不過,由減少污染觀點來看,齒 化物澄清劑存在挑戰,如先前所說明,鹵化物會與鐵複 合使玻璃產生無法接受之透射特性。因而,其並非優先 的。其他可能的組合包含非限制性之鐵/錫澄清劑加上硫 酸鹽,硫化物,鈽氧化物,機械氣泡作用,及/或真空澄 清作用。不過,如先前所說明,玻璃之硫含量需要加以 34 1377185 控制以防止產生含有s〇2+x氣體缺陷。在所有這些情況 中,維持E[R〇]/[Al2〇3]比值以及Mg〇濃度在先前所提 及範圍内將使澄清製程更為容易進行以及更為有效。
本發明玻璃能夠使用業界熟知各種技術製造出。優先 地,玻璃使用向下抽拉製程以及最優先地藉由融合向下 製程製造出。與其他成形製程例如浮式製程比較,融合 製程基於數項理由為優先的。第一由融合製程製造出玻 璃基板並不需要拋光。目前玻璃基板拋光製造出玻璃基 板之平均表面粗糙度為大於〇.5mm(Ra),其為藉由原子 力顯微鏡量測出。依據本發明以及使用融合製程製造出 玻璃基板以原子力顯微鏡量測之平均表面粗糙度為小於 0 · 5 nm。基板以光學遲滯量測之平均内部應力為小於或等 於 1 50psi 〇
本發明玻璃組成份使用業界熟知之定量分析技術測 定。適當的技術為原子序高於8元素之X-光螢光頻譜儀 (XRF) ’其包含電感搞·合電漿光學發射頻譜儀 (ICP-OES)、電感耦合電漿質譜儀(ICP-MS)以及電子微探 測分析。參閲例如 J. Nolte 之 ICP Emission Spectrometry: A Practical Guide, Wiley-VCH (2003), Η. E. Taylor, Inductively Coupled Plasma Mass Spectroscopy: Practices and Techniques, Academic Press (2000), and S. J. B. Reed, Electron Microprobe Analysis, Cambridge University Press; 2nd edition (1997)。每一元素分析時間約為i〇分 鐘,對於感測極限F約為200ppm以及Cl、Br、Fe及Sn 35 約為20ppm能夠使用電子微探測分析立即地達成。對於 硫,分析設備能夠使用LECO公司(St. Joseph,MI)製造 之燃燒紅外線頻譜儀,對於本發明玻璃一般感測極限為 4ppm或大約為0.0008莫耳百分比。對於微量元素優 先地採用ICP-MS。 本發明可藉由下列範例更進一步顯示出,其只作為列 舉性,以及任何情況並非作為限制本發明申請專利範圍。 範例1-57 :表1列出以莫耳百分比表示之本發明以及 比較性玻璃範例,坩堝熔融物情況中其計算係依據玻璃 原料之氧化物為基準或由使用連續性熔融物配製組成份 之最終玻璃量測而測定出(參閱底下)。表i亦列出這些 玻璃各種物理特性,這些特性之單位列出如下: 密度 公克/立方公分 熱膨脹係數 xl0~7/〇C(0-300〇C) 應變點 °c 楊氏係數 xl0*~6psi
熔融溫度 °C 液相線溫度 °c 液相線黏滯係數泊 由於本發明各別組成份總和非常接近100,作為實際 操作用途,這些數值視為代表莫耳百分比。實際原料: 份可包含任何材料,包含氧化物,或其他化合物當與 其他原料成份溶融在-起時將轉變為所需要適t比例^ 36 1377185 氧化物。例如,SrC〇3及CaC〇3能夠分別地提供作為Sr〇 及CaO之來源。 使用來配製表1玻璃之特定原料成份為細秒,蓉土, 棚酸’氧化鎂’石灰,礙酸錯或硝酸錯,以及錫氧化物。 範例U'9-U、29-3^ 33-34 ^-42之玻璃藉由溶 融3000公克每一玻璃組成份原料配製出,其溫度以及時 間足以產生相當均勻玻璃組成份,例如在16〇(rc鉑掛蜗 中歷時16小時》特別地,原料在陶瓷研磨器中使用陶瓷 介質進行球磨歷時1小時。原料轉移至18〇〇(;(;鉑堆禍以 及裝載至16 0 0 °C高溫爐内。在16小時後,掛蜗由高、w 爐移出以及玻璃洗注至冷鐵板上。當黏滯性足以操作 時’玻璃轉移至725 C退火咼溫爐,在該溫度下保持工 小時,而後以0 · 5 °C /分鐘速率冷卻至室溫。 在範例7-8、12-28、32、35及43-45中,熔融在實驗 室規模連續性地焦耳加熱熔融器中進行。稱重45 5公斤 整批原料置入機械攪拌器内以及混合5分'鐘。在混合最 後60秒鐘内·相當於〇.25kg水份加入混合物内以減少灰 塵產生。混合物使用螺旋供料器裝入陶瓷襯裡之高溫 爐’其具有氧化錫電極以及相對燃燒器煆燒於熔融物表 面。藉由電極供應功率及保持玻璃為接近固定電阻而作 控制’其對應至1590。(:及1610°C間之溫度。玻璃由炼融 器移動至鉑為主調節系統内’其包含高溫澄清器接續於 授拌槽之後。澄清器以及攪拌溫度在整個試驗過程中保 持為固定的,因而陶瓷觀裡熔融器之熔融溫度能夠隨著 37 1377185 組成份改變。玻璃排出攪拌槽經由加熱開孔以及捲繞為 厚度為5mm以及寬度為30mm之帶狀物。由帶狀物產生 之玻璃週期性地作缺陷分析,其加以辨識,計數,以及 轉變為缺陷數每磅。組成份由帶狀物經由標準化學方法 得到(參閱上述所說明之分析方法),以及物理特性由下 列方法得到。 範例57使用全規模融合製程配製出,其採用揭示於美 國第2006/0242996號公告專利所揭示形式之器皿。 揭示於表1之玻璃特性依據玻璃業界傳統技術測定 出。因而在〇_30(TC溫度範圍内線性熱膨脹係數以χ1〇-7/ C表示以及應變點以。◦表示。這些由光纖拉伸技術(分別 為ASTM文獻Ε228-85及C336)測定出。以公克/立方公 分表示之密度藉由阿基米德法(ASTM C693)量測。以。C 表示之熔融溫度(定義為熔融物呈現出黏滞係數為200泊 之溫度)使用Fulcher公式對旋轉圓筒黏滯儀(ASΤΜ C965-81)量測出高.溫黏_滯係數數據標-定雨計算出。玻璃 液相線溫度以。C表示使用ASTM C829-81標準梯度舟皿 液相線法量測出。其包含放置壓碎玻璃顆粒於鉑舟孤 中’放置舟皿於具有梯度溫度區域之高溫爐,在適當溫 度區域中加熱舟孤歷時24小時,藉由顯微鏡檢視在玻璃 内部中呈現出結晶之最高溫度測定出。以泊為單位液相 線黏滞係數由液相線溫度以及Fulcher公式係數測定 出。以Mpsi表示之楊氏模數使用ASTME1875-00el揭示 出一般形式共振超音波光譜儀測定出。 38 1377185
範例1-43以及53-57具有密度,熱膨脹係數,應變點, 以及揚氏模數值,其使玻璃適合使用於顯示器應用例如 AMLCD應用中。玻璃亦具有化學对久性適合作為這些應 用。特別地’範例12、13、23、28及57發現110BHF 數值界於1.25以及1.35毫克/平方公分之間以及HC1耐 久性在0.5及0.8毫克/平方公分之間。範例1-43及53-57 之玻璃亦使用向下抽拉技術例如融合技術形成。因而, 其液相線溫度為小於或等於11701以及液相線黏滞係數 為大於或等於150000。表1玻璃鐵含量在0.010至〇.〇13 莫耳百分比範圍内》 具有顯示於範例57中組成份以及特性之玻璃目前視 為代表本發明之優先實施例,即目前提供作為本發明用 途之最佳特性組合。
範例44及45顯示出液相線黏滯係數小於1 〇〇〇〇〇泊之 玻璃。範例44發現由於結晶產生莫來石,其為向下抽拉 製程不想要液相線相。存在該相.能夠藉由少量增加 Σ[ΙΙΟ]/[Α1203]比值而消除。通常,在本發明組成份範圍 中,局部區域存在液相線相為莫來石。熟知此技術者可 由目前揭示容易地辨識出這些區域以及藉由少量改變 E[R0]/[A1203]比值而避免。 範例45之MgO濃度接近3.0莫耳百分比上限。如上 述說明,當MgO增加時,液相線溫度初始地下降而後再 增加。範例45顯示出該後者效應。 範例46-48之2[R0]/[A1203]比值為小於或等於1.00以 39 及因而具有低液相線黏滯係數(範例46)或高熔融溫度 (範例47及48)。範例48-52具有Mg〇濃度為小於或等 於1.0莫耳百分比以及因而具有高或邊緣熔融溫度(範例 48-50)或高熱膨脹係數(範例51及52)。 範例58:第六圖顯示出缺陷數量非常大地改善,其能 夠藉由將玻璃之StROVtAhO3]比值由低於i 〇〇改變至 阿於1.00而達成。該曲線圖顯示出30天期間試驗研究 之結果,其中Σ[Κ_〇]/[Α12〇3]比值藉由提高CaO及/或Mg〇 減少Α1ζ〇3及/或SiCh而加以調整。三角形數據顯示出不 同的試驗天數之StROyCAlA3]比值,以及實心圓顯示出 雜質/磅之數目。如圖所示,當£[R〇]/[A12〇3]比值超過 i.OO數值時,甚至於CaO及/或Mg〇改變時,雜質數值 下降2個數量級及保持為低數值。 範例59:第七囪顯示出缺陷值非常大的改善,其藉由 增加玻璃之鐵含量由低於0.01莫耳百分比增加至〇〇1 莫耳百分比而違成。該.曲線.顯示.出在多天期間内·試驗研 究達成之結果,其中玻璃含鐵量經由選擇不同數量鐵之 原料達成。"+ "數據點顯示出試驗不同天之鐵含量,以及 "。"數據點為缺陷(氣態雜質)/磅之數值。如圖所示,只 要鐵含量超過0.010莫耳數值時,雜質數值顯著地下降 以及一致性地保持為低數值。 範例60:第八圖顯示出缺陷數量實質上一致地改善, 其能夠藉由提高玻璃之含鐵量而達成。該曲線顯示出⑴ 表1範例57組成份藉由融合製程產生玻璃片例行檢驗過 1377185 程中發現之平均氣泡數目,(11)由x_光瑩光頻譜儀測定出 • 玻璃之總含鐵量。如圖所示,增加Fe含量導致氣泡非常 • 大地減少。並無其他製程或組成份變數為如此緊密地與 該結果相關。 . 依據該結果,對於使用於該試驗中玻璃最需要Fe含量 • 為〇.013莫耳百分比或更大,其相當於3 3Oppm或更大。 不同的鐵含量藉由使用具有不同的數量鐵污染物之不同 • 原料而達成。由於鐵初始價數無法控制地由一個極值㈠列 如石灰大部份Fe2+)改變至另一種類(例如砂,大部份 Fe3 + ) ’初始的價數狀態對結果並不重要。 範例61 :依據表!範例57具有Si〇2、Al2〇3、BA、 MgO、CaO、SrO及Sn〇2含量之玻璃片使用向下抽拉製 程特別是全規模融合製程製造出,該製程參閱美國第 2006/042996號公告專利所揭示之器皿。玻璃片實質上不 含鹼金屬,砷,及銻。玻璃之鐵,錫,鹵化物以及硫含 _ 里藉—由先前'所說明技術測定出。鹵化物以及琉含量優先 地為發明内容中所限定範圍内。玻璃之鐵及錫含量經由 選擇原料以減少氣態雜質而加以調整。在鐵含量為〇 〇丄〇 莫耳百分比或更多以及錫含量為〇〇17莫耳百分比或更 多’製程連續性地製造ώ 50玻璃片之平均雜質為小於 ’ 0.05氣態雜質/立方公分’每-片體積至少$ 500立方公 • 分。特別地’對於鐵含量為0.013莫耳百分比及錫含量 為0.07莫耳百分比將發現該雜質值。 雖然本發明已對列舉目的詳細加以說明,人們該詳細 41 1377185 說明只作為該目的以及熟知此技術者將由其中作許多變 化而並不會脫離下列申請專利範圍界定出本發明之精神 及範圍。 【圖式簡單說明】 第—圖為CaO-Al203-Si02系統之液相線相圖。 第二圖為Mg0-Al203-Si02系統之液相線相圖。 第二圖為下列玻璃透射百分比與nm為單位之波長兩 者關係曲線圖:⑴本公司編號Eagle 2000 LCD玻璃,其 利用砷進行澄清(曲線丨丨);以及(ii)以及本公司美國第 11/478493號專利製造出玻璃,其利用錫進行澄清(曲線 13)。 第四圖為黑體在丨600«>C下所計算能量與波長之關係曲 線圖。 第五圖為第四圖5〇〇至25〇〇nm波長範圍之擴展圖(參 間右邊垂直軸以及曲線15)以及在鋁矽酸鹽中22〇ppm及 3〇〇ppm鐵透射曲線圖(參閱左邊垂直轴以及曲線17及 19)。 第六圖顯示出s[RO]/[A12〇3]對雜質/磅數值之多天試 驗的影響。 第七圖顯不出鐵含量對雜質/磅缺陷數值之多天試驗 的影響。 第圖顯示出鐵含量對在歷行檢驗融合製程產生玻璃 42 1377185 片過程中發現氣泡/磅缺陷數值的影響。
43 1377185 減份 (mol%) S»2 AljQj BrOs MgO CaO SrO SnOj 2|ft〇WAIAI4m 密度irnmA 應1 m 液相雜料表 .ll9.90100i s i10.49.9ol.oo9.]0§ii.01 獅r_oo§3i.ol 4^19,1 Θ0ΟΟ1 ID.49§加§[>.50&.〇7.〇1 n Λν ·· 〇\ cp CD 祕 l.99„02J8^o.07.ol 2 521 97i8 ο o 1 ^ 5 l 3 o 7. 1 丨 llo9.942.0g.t§o,ol.o 2J78 2.378 2385 313 3\5 310 677 670 691 10*6 10.6 - 1629 1641 1649 1165 1150 1165 I5S000 235000 214000 2381 一 - 30.5 - - 688 一 — mm ]&\5 丨640 - 1140 Π45 1150 370000 262000 - (lR〇l%> Si〇2 AljOj BA MgO CaO SiO Sn〇x aROWWJ4m .密度-
!2:isls^§i§sfli^麵 =illsi:si-E toii9.94t2l9.l40.50il.o3l32.0E 1279000 IOJ60汫 331.07^^5802628135細 "965— 9 1 9 ο o -n*· <Sj 3 6 1112 m^^4e$5^0 w βΛ 531201^s^-^-^^^3^5^^^1^=37 7 liiB7,98s§l.a2l30.7l,l64]ll45麟 44 1377185 组成份 (mdiVc) SiO; ΒΛ MgO CaO StO SnQ: ^ROI/IAIAI 密度 應狄 播氏換數 液相«LjL% 液相触料表 13 (4 15 16 17 18 68^4 6S.1S 69.16 67^9 67*65 69^2 10.42 I〇j69 1028 11.06 11.06 10.17 9.94 着004 9.88 9M 9.74 9勒 1.98 \A9 l_K) 225 226 233 7.42 8.84 830 &65 8.67 7.74 (-33 0.69 031 0-54 0_55 051 αοτ 0.07 0.0? α〇7 0.07 0.07 1.03 1.03 1.03 1.03 1.04 \m 2J9i 2J79 2J68 2384 2385 2365 32J 3ZS 3U 31-5 31^ 30.4 664 663 猫 66S 665 666 1622 1^1 1632 1612 1606 1635 1105 H25 1125 H40 1135 1150 530000 305000 376000 195000 224000 217000 (mol%) S〇! AljQj BjQi
SrO SfiOj ZjROMAhOJ 密度 热膨JStfttt 應變ϋ 揚氏供教 mkSJSt 液相 液相邮料A
Lisi is,il a 119.7938341 i!.052J6931'.tl;644H45I S ll9.99-1.84s§^666_i;sr^si^^SJa 20li9.90B55^664一 li_w ||證||二3|2665-||層 45 1377185 组成fer <mol%)sxh AljQj BACaOSrO SbQi£|R〇WAIiQ>| 密度鱗&触 應妙 格氏棋數 二iss §si: Β §ι9,9533§^·23803ι.8§ιο.7ι1150ιLisisrs'E 售300 表27g10.410:0sg 11.05237322665,16271111 s iiis^i§^,;ri JQ li9.79i.96sl.052J753L8668J§_
减份 (dm>J%> so,A»A
MgOCaO SrO SnQi URO^AlAi雜密度應妙 揚氏棋數imsjSi 液相雜 36119.852988.0530.071 §3l.o66sI0.7l626il22000 3siils8.93mlsf,l§3n 34il9.901.709,09§0.07l.08§gfliil770oos ilHS ni_ 32|隨隨§|0.540.07§ |32.766176101|35纖3liis?9.58l§1.06'lsf:i_ 46 1377185 ( •H 表
组成份(mol%) SKhAl^$ 秘 MgO CaO SiO Sn〇2 ΣΙ 卿 AIAI 密度 熱雜係Jt 應變》 揚氏棋數 液相 液相触雜教 7.95i.90.oo.09JO.07.lo.385ggOJ6i6l55l 61938001 2361111 Ί!0.109.90ί.οο9.700300.07ι.Η $68.7310.1I 18-700-50il.n 40 7 ott 6315201 ϋ 1« 631150™ )8.65i.90.lo.6950.07.l239033585644I4s ¢519 19 0 012 3^111 蜮汾 (mol%)SiQzΑΪΑ BA MgO CaO SiO Sn〇i UROklAIAI躲密度 热細雜 應妙 揚氏模數 液相 液相雜雜教 丨7.751.90120¾^0.07J2.39033R0.7611I457300 4 6 1 9 i 9 ο ο I 2 3 6 1111 42 9^4 95^7 293ι 3 71540401 67-10.9.842.19:010-01.1Z333.668l0.t6l-I4(2<>« □^aci^^ssl* Λ4 ό- n I— ft— 0Q ο Αν I. 2373266617620 47 1377185 表ι(纊)
减份 (mol%) 44 45 46 47 48 SiO, 68.79 68.09 6925 6925 6925 AhO, 10.41 iO.S6 10.79 10.79 10.79 BA 9,¾ 9.80 9.90 9.90 9.90 MgD 1.97 2.88 2.00 1.00 0.00 CaO 7.81 177 7.49 8.49 9.49 SiO 1.03 0*53 0^0 0.50 0SQ SnOj 0.07 0-07 0.07 0.07 0.07 ΣΙΚΟ^ΑΙΑΙ #l± 1.04 \m 0.93 0.93 0.93 密度 2J85 2380 - 2364 2J85 熱雜係教 31.9 30.4 - 29.6 3P 應變點 666 669 - - — 播氏棋教 — - — - — 1622 1615 1645 I68S 1671 1210 1200 1220 1200 1160 液相棘μ灰 52000 59000 58000 137000 294000
份 49 SO Si SI (mol%) SiOs 68.98 6S.73 68.45 68.45 AIA 10.45 KUO 10.19 10.09 9.90 9.90 9.90 9.90 MgO 0,00 0.00 0.30 030 CaO 10.10 10.70 1059 10.69 SrG 0^0 賴 050 0·» Sn〇! 0.07 0.07 0.07 0.07 aR〇f/i 卿 1.01 tJI 1.12 U4 雜 密度 2394 2J75 2397 1395 33.4 33.4 35.6 34.7 應奴 — - 686 685 揚氏棋數 — - — — im 1650 1637 液相 U60 1160 1170 1160 液相雜糾教 246000 173000 143000 172000 48 1377185 组成份 (mol%) St〇2 A1!OjBA MgO CaO StO BaO SnQ>ZJROMAbO,! m- 密度 應變κ 揚氏棋數 S3 67.62 11.13 9.00 2.74 8.18 0.75 051 0.07 1.09 液相 二 3Γ1 麵 5667.1019.921.758.030.51-2.191120......IOS0540OOO % 111.029.881.418.050.513 11.04: , : 1720000 >47.765.0025.6319S.023.07.14 S· 6 18 3 7 0 10— I I I 一 l—f 【主要元件符號說明】: 49
Claims (1)
- 公告本 ^、申請¥利範圍:(a)選擇原料, 造不含驗金屬氧化物之玻璃參至〇 〇5的Sb2〇3 ; 的 使得構成玻璃片之玻璃以氧化物莫耳百 的 Si〇2、9.0 至 12.0 的 Al2〇3、 〇 的 MgO、6.0 至 11.5 的 Ca〇、 的 Ba〇、0 至 〇·005 的 As2〇3、〇 (b)藉由溶融並澄清步驟⑷中所選擇之原料來產生溶 融玻璃’該澄相藉由使用至少-種澄清劑來進行; (C)使用步驟(b)之熔融玻璃來產生玻璃片; (d) 1測構成步驟(c)之玻璃片的玻璃中以Fe2〇3表示之 鐵3里以及以Sn〇2表示之錫含量;以及 (e) 若步帮(d)中量測的鐵含量在〇 〇1〇至〇 〇33莫耳百 分比的範圍外,或若步驟(d)中量測的錫含量在〇 〇17至 〇·112莫耳百分比的範圍外,則重複步驟(a)至(d),直到步 驟(d)中量測的鐵含量在〇.〇1〇至〇 〇33莫耳百分比的範圍 内’且步驟(d)中量測的錫含量在0.017至〇_112莫耳百分 比的範圍内為止; 其中: (〇 藉由使用錫及鐵的組合作為一澄清劑,而在不使 用砷或綈的情形下進行步踢(b)的澄清; (Η) 構成玻璃片的玻璃具有小於或等於0.2莫耳百分 50 1377185 比的南化物含量;以及 生(Ui)在步驟(e)之後,藉由向下柚拉製程自經熔融並澄 清之原料所製造出來數量為50片之連續玻璃片之平均氣 態雜質含量為小於0.05氣態雜質/立方公分其中每一片玻 璃片之體積至少為500立方公分。 2. 如申請專利範圍第i項所述之方法,其中WFhOs表示 之鐵含量在0.012至0.024莫耳百分比的範圍内。 3. 如申請專利範圍第i項所述之方法,其中以Sn〇2表示 之锡含量在0.〇21至0.107莫耳百分比的範圍内。 4. 如申請專利範圍第i項所述之方法,其中以Fe2〇3表示 之鐵含量在0.012至0.024莫耳百分比的範圍内,且以Sn〇2 表示之錫含量在o.on至0107莫耳百分比的範圍内。 5. 如申請專利範圍第1項所述之方法,其中該玻璃之 S[R〇]/[Al2〇3;m〇〇,其中[Al2〇3]$ Al2〇3 莫耳百分比, 且S[R〇]等於Mg〇、Ca〇、Sr〇以及Β&〇的莫耳百分比之 總和。 6·如申請專利範圍第丨項所述之方法,其中該玻璃具有以 元素硫表示為小於或等於〇 〇〇2莫耳百分比的硫含量。 51 1377185 7.如申請專利範圍第1項所述之方法,其中該玻璃具有一 項或多項下列特性: (a) 社、度為小於或等於2.·41公克/立方公分; (b) 液相線黏滯係數為大於或等於ι〇〇 〇〇〇泊; (c) 應變點為大於或等於65〇t ;及/或 (d) 在〇至300°c的溫度範圍内之線性熱膨脹係數 (coefficient of thermal expansion ; CTE)滿足下列關係: 28χ10_7 /°C 彡 CTE S 35xl〇·7 /。〇。 8·如申請專利範圍帛i項所述之方法,其中該麵之 對Fe比值為等於或大於〇.5。 52 1377185 四、指定代表圖: (一) 本案指定代表圖為:第(一)圖。 (二) 本代表圖之元件符號簡單說明: 五、本案若有化學式時,請揭示最能顯示發明特徵的化學式:
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