TWI352877B - A method , program product and apparatus for gener - Google Patents

Description

九、發明說明： 【發明所屬之技術領域】 本發明之技術領域大體涉及到一種用於產生根據影像場 映像之辅助特徵的微_方法、程式產品及裝置。 【先前技術】 微影裝i可用於（例如）積體電路（1C)製&中。在該狀況 下，光罩可含有對應於10單層之電路圖案，且該圖案可成 像於塗覆有層輻射敏感材料（抗蝕劑）的基板（矽晶圓）上 之目標部分上面（如，包含一或多個晶粒）。大體而言，單個 晶圓包含整個網路之相鄰目標部分，經由投影系統一次一 個地連續照射該等目標部分。在一種類型的微影投影裝置 中，藉由一次性將整個光罩圖案曝光至目標部分上來照射 每一目標部分，通常將該裝置稱為晶圓步進器。在一替代 裝置中，通常稱為步進掃描裝置，藉由在一給定參考方向 (”掃描"方向）的投影射束下漸進地掃描光罩圖案，同時平行 於或逆平行於該方向同步掃描基板台來照射每一目標部 分。一般而言，由於投影系統有一放大因數!^(通常 <”，掃 描基板台之速度V為因數Μ乘以掃描光罩台之速度。例如， 自美國專利申請案第6,046,792號（其以參考的方式倂入本 文）可收集關於如本文所述之微影設備之更多資訊。 在使用微影投影裝置的製造過程中，在基板上成像光罩 圖案’該基板至少部分覆蓋有一層輻射敏感村料（抗钮劑）。 在該成像步驟之前，基板可經受多種程序，諸如塗底漆、 抗蝕劑塗布及軟烘焙。曝光之後，基板可經受其他程序， 94427.doc δ// 諸如曝光後烘焙（ΡΕΒ)、顯影 仏杰难β π Μ 4及成像特徵之量測/ 展。矽垒仆思社奸 土噁來圖案化設備（如1C)之單 層該圖案化層接著可經受容磁，试< 又夕種過程，諸如蝕刻、離子注 入（摻入）、金屬化、氧化、化風嫵ρ 化予機械研磨等，所有該等 皆用來完成單層。若需要多禺寻迺耘 則每一新層必須重複整個 釭序，或其變化方法。最级 取、、5又備之陣列將呈現在基板（晶 圓）上。接著藉由諸如切割 戎鋸割將該等設備彼此分離，由 此各個設備可安裝至載體上，連接至引腳等。 為簡易起見’下文可將投影系統稱為"透鏡"，然而，库 該將該術語寬泛地理解為包涵諸如折射光學、反射光學及 反折㈣統的多種投影系統類型。輕射系統亦可包括根據 引導、成形或控制輻射之投影射束的任一該等設計類型來 件’㈣等組件亦在下文中共同地或單獨地可被 稱為"透鏡”。另外，微寻）驴s π & 一 裝置可為有兩個或兩個以上基板 台（及/或兩個或兩個以上光罩台）之類型。在該等”多平臺” 設備中平行使用額外之台，或在一或多個其他台用於曝光 時，在-或多個臺上執行準備步驟。舉例而言，在以引用 方式倂人本文之美國專利案第5,969,441，號中描述了雙平 臺微影裝置。 上述之光㈣鮮包含對應於梦晶圓上集成之電路組件 的幾何圖案。利用CAD(計算機辅助設計）程式產生用於製作 該等光罩之圖案，通常該過程稱為贏（電子設計自動化）。 為了製作功能光罩，大多數CAD程式遵循—組預定設計規 則。由處理及設計限制來置定該等規則。舉例而言，設計 94427.doc 1^52877 規則界定電路設備（諸如閘極、電容器等）之間或互連線路之 門的二間各差，以破保電路設備或線路不會以一種不希望 的方式互相影響。設計規則限制通常稱作”臨界尺寸"（CD)。 可將电路之臨界尺寸界定成線路或通孔之最小寬度或兩條 線路或兩個通孔間最小空間。因此，CD決定所設計電路之 總尺寸及密度。 光罩中之"辅助特徵"可用於改善投影於抗蝕劑上之影像 且最終改善所顯影之設備。辅助特徵為不欲其出現在抗蝕 劑中所顯影之圖案内的特徵但提供給光罩以利用繞射效 果，使得所顯影之影像與所需電路圖案更接近相似。辅助 特徵大體為"亞分辨"或"深度亞分辨"，意即在至少一尺寸上 該等特徵比晶圓上實際分辨之光罩的最小特徵要小。輔助 特徵可具有界定成臨界尺寸分數之尺寸。意即，因為光罩 圖案通常以小於1之放大率投影，如1/4或1/5，所以光罩上 之辅助特徵有大於晶圓上最小特徵之外形尺寸。 至少可使用兩種類型之輔助特徵。散射栅攔為置放於隔 離特徵之一侧或兩側之有亞分辨寬度之線路以模擬發生在 圖案之密集填塞區域之鄰近效果。襯線為置放在特徵之拐 角及末端，或矩形特徵之拐角的多種形狀額外區，其使得 線路之末端或者拐角更接近所需之i方形或圓形（注意本 文中通常所稱之為”錘頭"之輔助特徵被視為觀線形式）。舉 例而言’在以引用方式倂入本文之美國專利案第5,242,77〇 號及第5,707,765號可發現關於散射栅攔及襯線之使用的更 多資訊。 94427.doc 1352877 々备然，積體電路構造之一目標為真實地再現藉由輔助特 徵改善了的晶圓上之原始電路設計（經由光罩該等辅助特 徵之置放通常遵循一組預定規則。按照該方法，例如，設 计者判疋如何偏置線路，且根據一組預定規則判定輔助特 徵之置放。在製作規則組時，將測試光罩曝光於不同的重 複的照明設定及NA設定。基於該測試光罩組，製作一組用 於輔助特徵置放的規則。 ’ 然而，該等規則係基於一維分析或h5維分析而產生。利 用一維分析產生之規則係基於平行線路之分析。利用1.5維 分析產生之規則考慮兩條平行線路間之間隔、線路寬度及 平行線路附近之線路。L5維途徑一般適用於平行線路=非 相等間距。顯然，考慮越多的因數，規則就越複雜。 基於規則之途徑自身不適用於較佳實施二維分析的複雜 设汁。二維分析係基於一維分析及15維分析中所考慮的所 有因數，但進一步基於環境之全面分析，即全面設=佈局 或其任一部分之分析。結果，基於二維分析之規則十分難 以公式化及表達，且通常導致十分複雜之多維矩陣。通常 設計者青睞使用一維或1.5維途徑。 不同於基於規則的二維分析，存在一種用於藉由考慮對 於環境的全面分析產生輔助特徵之方法，其中該全面分析 較不複雜且易於施行。 【發明内容】 本文所揭示概念包括一種用於產生形成於基板表面之圖 案的輔助特徵之方法及程式產品。步驟包括：產生對應於 94427.doc -9- 1352877 在另一技術態樣令，所揭示概念包括用於利用一光罩在 基板表面成像圖案之裝置。裝置包括供應輕射投影光束的 輻射系統，接收輻射投影光束且將經調整之輻射光束投臀 到光罩之-部分的照明器，及將相應之光罩經照射部分:· 像於基板之目；^部分上的投影系統。利用根據對應於圖案 之影像場映像的非基於規則二維分析而產生之辅助特徵來 形成光罩。 裝置甚至進一步包括組態成藉由產生對應於圖案之影像 場映像、提取影料映像㈣並產生至少―根據所提取特 % 性的圖案輔助特徵而產生輔助特徵的電腦系統。電腦系统 組態成於預定臨限值產生對應於影像場映像輪靡及該輪廓 軸線的辅助特徵。電腦系統進一步組態成產生對應於 - 影像場映像極值賴助特徵。該等特性可用於產生、㈣ 尺寸及置放辅助特徵。 自下文之詳細描述連同隨附圖式，本揭示内容之上述及 其他特徵、態樣及優勢將變得更加顯而易見。 【實施方式】 · 旦，本發明人設計出藉由考慮基板表面上所形成的圖案二維 影像場3來判定輔助特徵之置放及尺寸的新賴技術。 圖1疋考慮形成於基板表面的整個圖案或其任何部分之 、:維影像場，優化光罩上之辅助特徵置放的方法的示例性 矛圖下文中，術語”圖案”包括整個圖案或其任一部分。· 美板矣驟1⑼中（以下，將術語「步驟」省略成”s”），對應於 " 面上待形成之圖案產生影像場映像。可藉由模擬器 94427.doc •11· 1352877 產生或藉由照亮形成於基板表面之圖案捕捉影像場映像。 術語"影像場映像"包括任一類型的影像映像，其展示強度 特性、干涉特性、電場特性大小及/或訊號上之變化，或下 文將描述的考慮微影裝置之偏差或任何其他特性或限制的 強度映像。另外，影像場映像可包括該等特性之任一衍生 或任一組合。舉例而言，可產生影像場映像來展示強度衍 生之大小變化。一般熟習微影技術者已知該等多種類型的 影像場映像。例如，以下專利申請案說明該等多種類型的 影像場映像： (1) 2004年1月14曰申請之美國專利申請案第10/756,829 號，其標題為"Method of Optical Proximity Correction Design for Contact Hole Mask” ；及 (2) 亦在2004年1月14日申請之美國專利申請案第10/756,830 號，其標題為”Method And Apparatus For Providing Optical

Proximity Features To A Reticle Pattern For Deep Sub-Wavelength Optical Lithography” ° 圖2說明可產生影像場映像的包含複數個接觸通孔22之 示例性接觸通孔圖案20。然而，不應將本申請案限制於諸 如所說明之接觸通孔圖案，而應包括其他圖案，如，包括 線路特徵及接觸通孔等。為便於說明及解釋本文所揭示之 新穎概念已選擇接觸通孔圖案20。 圖3說明利用圖2之示例性接觸通孔圖案20產生的影像場 映像30，且圖3對應於自S100產生之影像場映像。基於複數 個接觸通孔22之每一個之影響及相互作用利用輪廓線（輪 94427.doc •12- 1352877 廓32)描述影像場映像3〇。同時，該特定影像場映像3〇為一 強度映像，且輪廓34對應於在基板表面之影像強度的一定 大小。 下文所述之每一實施例提供基於圖2的圖案2〇及自圖1之 S100所製作的圖3之對應影像場映像3〇的樣本。為後續解釋 選用影像場映像30之部分36。該部分36是貫穿所有圖式共 同都有標示的部分。並未將實施例限制於所說明之影像場 映像30、影像場映像3〇之類型或對應圖案2〇。 .在下文所述之貫施例1-5中詳細猫述圖1之及S104。 舉例而言，S102對應實施例1之S200及S202(圖4)、實施例2 之S300(圖9)、實施例3之S400(圖14)、實施例4之8500(圖17) 及實施例5之S600及S602(圖18)。S1(M對應實施例i之 S2〇4(圖4)、實施例2之S302(圖9)、實施例3之S4〇2(圖U)、 貫施例4之S504(圖17)及實施例5之S604-S608(圖18)。 實施例1 再次參照圖1，在S102中，提取影像場映像30之特性。轉 至圖4 ’其說明本實施例之示例性流程圖，在⑻中，該等 特性對應在預定臨限值所提取的輪廊34(複數個輪廟34)。圖 5忒明影像場映像30之衍生50,其中已提取在預定臨限值的 輪廓34。為便於說明，用實線展示輪廓34。 再次參照圖4，在S202中，判定每一輪廓34之主軸線。此 項技術中之普通技術者已知判定任一形狀之主軸線的技 術。一種方法要求根據複數個軸線判定主軸線。舉例而言， 圖6 s尤明形狀6〇及安置在形狀6〇之矩心64上或附近的複數 94427.doc •13- 丄叫δ77 個軸線62。當然，可利用任何數 夕^ 双S爻釉線62。利用的軸線 Μ越夕，準確度越高、然而’亦會增加處理時間。主轴線 對應與形狀60有最大重疊的軸線。因此，圖岬，複數個轴 線62之轴線66對應主轴線。 參看圖4及7,在S204中，預定尺寸的辅助特制可對應 每一輪廊34置放，並關於其相關㈣&主轴線（未示）定 向。或者，可相對於置放有輔助特徵72的相關輪廊^設定 輔助特徵72尺寸。如前所述’經設定尺寸之辅助特徵_ 於其相關輪廓34之主軸線（未示）定向。 辅助特徵7G可根據相應輪廓34設定尺寸，或輔助特徵乃 可對應預定尺寸。或輔助特徵7〇或72之預定尺寸在大小上 可相對於相應輪廓34之主軸線（未示）長度而變化。 再次參看圖4’在S206中，若對圖案已做了足夠之輔助特 徵處理，可停止產生辅助特徵。可藉由設計者檢查、製作 測試影像或甚至藉由模擬來判定輔助特徵處理。然而，若 辅助特徵處理不夠，則可如S2〇8將預定臨限值改變成不同 臨限值。舉例而言，若輪廓，諸如圖7之輪廓76太小以至於 不能準確地產生辅助特徵，則可選擇一較低或較高預定臨 限值來擴展輪廓76之區域。再次參看圖2,如S208可提取不 同預定臨限值之輪廓38。圖8說明該經提取之輪廓80。因 此’在S210中，判定輪廓8〇之主軸線。重複S2〇4用於產生 相應輔助特徵82。 可重複步驟S204-S210直至完成足夠之輔助特徵處理。同 樣’可重複步驟S204-S210以選擇用於足夠輔助特徵處理之 94427.doc -14- 1352877 臨限值範圍。 因此’實施例1有利地藉由將整個圖案特性作為因素計入 來產生影像場映像之輔助特徵並防止基於二維規則途徑之 複雜計算特性。 實施例2 圖9 β兒明用於根據實施例2產生輔助特徵的示例性流程 圖。S300對應圖4之S200 »為簡明起見，不重複相似描述。 根據實施例2之輔助特徵之設定尺寸不同於實施例丨。對 應於每一相應輪廓34之區域形成多邊形輔助特徵7〇-75，而 非如實施例1判定輪廓3 4之主轴線。 實施例2以及下文論述之實施例3利用八邊形輔助特徵 7〇·75(見圖1G)。發明者發現八邊形輔助特徵7()·75較佳因 為八邊形輔助特徵70·75之每一角頂的角度皆為“度之倍 數因此，45度倍數之角度更易於幾何學及數學分析。當 <、、、可使用夕邊形的任意數目的邊。多邊形輔助特徵之較 大數目的邊將更加匹配輪廓3[然而，大大增加了計算。 再次參看圖9,在S繼中每—輪㈣由多邊形輔助特徵 (八邊形輔助特徵70_75)包圍。因此，如圖1〇說明，每一輔 助^徵70·75被設定尺寸以緊密環繞或包圍其相應輪廟34。 土 安置正八邊形辅助特徵（未示）來包圍相庫輪 廟-接著，調整正八邊形辅助特徵(未示)一邊直至心 乎相交於其相應輪廓34之邊緣。錢料作 :::八邊形輪輪示)之所有邊，並形成-諸如由7。_75 不規則八邊形輔助特徵。因此，在S3G2中，每—八 94427.doc 1352877 形成之多邊形輔助特徵124。由於輪靡⑶之内部突出126, 使得環繞輪廓i2G㈣的多邊形輔助特徵124不同於形成於 輪廓120内部的多邊形輔助特徵124，其可更緊密匹配豆形 狀。相反，圖13說明示例性輪廓13〇、根據實施例2環繞輪 廟130所形成之多邊形辅助特徵⑴及根據實施例3在輪廓 no内部所形成之多邊形輔助特徵⑴。自於輪廓⑽之外部 突出⑴，形成於輪卯〇内部之多邊形辅助特徵134不同於 環繞輪廓"。形成之多邊形辅助特徵132，其可更緊密匹配 輪廓130之形狀。 圖14說明用於根據實施例3產生辅助特徵之示例性 圖。剛對應圖9之讓。為簡明起見，不重複相似描述 在S402中’每-八邊形輔助特徵15()_155(圖⑸形成… 應之輪廊34内。因此，如圖15所說明，每—辅助特徵⑼小 被設定尺寸以緊密對應於其相應輪廓34之區域。 基本上’正八邊形輔助特徵（未示）相對於其相應輪彰 而安置，整正八邊形輔助特徵（未示）之邊緣直至邊緣幻 相交於或近乎相交於其相應輪廊34邊緣。重複該操作直 已調整正八邊形輪廓（未示）之所有邊且不規則八邊形如 特徵150]55在其相應輪廟内部形成。若八邊形輔助特彳 15(M55之所有肖了1觸及相應輪廓34，則人邊形輔助特. 150-155 内切。 再參看圖14,在_中，若已對圓案做了足夠之_ 徵處理，則停止辅助特徵之產生及判定 '然而 則如_中預定臨限值可改變成不同臨限值。舉例而丄 94427.doc -17· 1352877 若諸如圖15之輪廟76的輪廓太小以至於無法準確產生八邊 形辅助特徵’則可選擇較低或較高的預定臨限值來擴展輪 廓76區域。再次參看圖2,如在S406中，可提取不同預定臨 限值之輪廓38。圖16說明該經提取之輪廓16〇β因此，返回 至S402，八邊形輔助特徵162對應於輪廓16〇而產生。 可重複步驟S402-S406直至完成足夠辅助特徵處理。同樣 可重複步驟S402-S406用於預定臨限值範圍。 因此，實施例3有利地藉由將整個圖案特性作為因素計入 而自影像場映像產生緊密類似其相應輪廓之多邊形辅助特 徵並防止基於二維規則途徑之複雜計算特性。 實施例4 輪廓34可更適合於環繞其相應輪廊之多邊形輔助特徵， 而另-多邊形輔助特徵可更適合於在其相應輪廓内部形 ^。如繫圓12及13描述該區別。實施例4為實施例2及3之組 :藉此對於母—輪廓判定多邊㈣助特徵是否環繞輪廊 抑或在輪廓内部形成。 s:n17說明實施例4之示例性流程圖。S500對應圖14之 因此為簡明起見不重複描述。在S502中，判定多 特:是否環繞在_中提取之輪廓抑或在該輪廓 說明之任 分析圖12說明之輪廊之任一突入126或圖13 ⑶及突7；^ 136來完成該步驟。若輪廓同時包含突入 判定多邊分析可判定主要特性。基於該分析，可 該輪㈣特徵是否環繞S4GG中所提取之輪廊抑或在 94427.doc 1352877 在S504中’可.對應輪靡設定尺寸並置放多邊形輔助特 徵。步驟S506友S508分別對應步驟S404及S406，且為簡明 起見不重複相似描述。然而，在S5〇8中，提取不同臨限值 的輪廓後，在S502中分析該新提取之輪廓來判定多邊形辅 助特徵是否環繞S508中所提取之輪廓抑或在該輪廓内部形 成。 因此，實施例4有利地藉由將整個圖案特性作為因素計入 而自影像場映像產生緊密類似其相應輪廓之輔助特徵並防 止基於二維規則途徑之複雜計算特性。 實施例5 實施例1-4有一個共同的重複步驟是調整預定臨限值以 準確產生對應複數個臨限值之輪廓輔助特徵。實施例5克服 該重禝例程並根據圖3之影像場映像3〇中識別之極值產生 辅助特徵。極值可包括最大值、最小值或任一其組合。參 看圖3’每一極值對應於影像場映像内之局部最大值點或局 圖18說明根據實施例5產生輔助特徵之示例性流程圖。在 S600中，自影像場映像3〇識別極值。此項技術中之普通技 術者已知識别影像場映像3〇中極值之數學（或幾何學）分 析。舉例而言，圖19說明部分36,其中已識別局部最 180-180。注意：部分36包括最小值及最大值。然而， 於說明及解釋，僅說明最小值18〇_186。 ‘、’、，.-、便 在S602中，為每一極值判定最小曲率之轴線方向。^ -極值之任一其他方向相比，最小曲率之軸線方向對應： 94427.doc •19· 最小傾斜量的方向。此項技術中之普通技術者已 又取小曲率之軸線方向的數學(或幾何學)分析。 在咖中，對應於每—極值在軸線方向上定向輔助特 '輔助特徵可具有一預定尺寸或可相對於一預定臨限值 之㈣設定尺寸。在_中，可相對於每—極值180186置 放預疋尺寸之輔助特徵。圖20說明S606結果，其分別說明 ，刀及77別相對於極值18()_186置放之預定尺寸的辅助 特f 0 196 &佳，輔助特徵19G_196之矩心分別與極值 180-186對準。 或者在S608中，可基於自影像場映像3〇之預定臨限值 =別判定辅助特徵·_2{)6(圖21)之長度及寬度。具體而 °在S6〇8中，基於預定臨限值之相應輪廓209-214之長度 判定辅助特徵200-206長度。相似地，在S6〇8中，可基於預 定臨限值之相應輪廓209_2丨4之寬度判定輔助特徵2〇〇_2〇6 寬度。然而，如其所說明輔助特徵之寬度係預定。 因此，實施例5有利地藉由將整個圖案特性計算在内而自 衫像％映像產生輔助特徵並防止基於二維規則途徑之複雜 計算特性。 在實施例1-5中，可根據所識別之極值或輪廓判定不同相 位之辅助特徵。舉例而言’對最小值而言，可置放丨8〇。相 位轉換、100%透射率之輔助特徵。且對最大值而言，可置 放〇相位轉換、100%透射率之辅助特徵。 圖22圖解描述適用於本發明輔助設計之光罩的微影投影 裝置。該裝置包括： 94427.doc -20- 13^2877 輻射系、-先Ex IL ’其用於供應輻射投影光束pB。在該具 體情況中，统亦包含輻射源la; 八 第载物台（光罩台）Μτ，其具有用於固持光罩MA(如主 光罩）之光罩固持器’並連接至第—定位構件用於關於項目 PL準確定位光罩。 第-載物台（基板台）WT，其具有用於固持基板w(如抗钱 劑塗覆碎晶圓）之基板固持器’且連接至第二^位構件用於 關於項目PL準確定位基板； 投影系統（”透鏡"）PL(如，折射、反射、反折射光學系統）， 其用於使光罩MA之經照射部分成像於基板w之目標部分 C(如包括一或多個晶粒）上。 如本文所述，裝置為一透射類型（即，具有一透射光罩 然而’通常，其亦可為一反射類型，如（具有一反射光罩）。 或者’裝置可運用另一種圖案化構件代替使用光罩；實例 包括可程式化鏡面陣列或LCD矩陣。 轄射源LA(如’汞燈或准分子雷射器）產生輻射光束。該 光束直接或在穿過諸如光束放大器Εχ之調節構件後饋入照 明系統（照明器）IL。照明器IL可包含用於設定光束強度分佈 之外部及/或内部徑向範圍（通常分別被稱為σ外部及心内部） 之調整構件AM。另外，其通常包含諸如積光器^及聚光器 C0之多種其他缸件。以此方式，照射光罩]^人之光束PB在 其橫截面上具有所需均一性及強度分佈。 關於圖22，應注意：源LA可在微影投影裝置之外殼内（當 源LA為汞燈通常即如此），但其亦可遠離微影投影裝置，其 94427.doc •21· 1352877 生產之輻射光束被引入該裝置（如，藉由適合的導向鏡面）； 當源LA為准分子雷射器（如，基於KrF、ArF或F2雷射）時通 常為後一種狀況。本發明包涵該等兩種狀況。 光束PB隨後相交於光罩台MT上所固持的光罩MA。穿過 光罩MA後’光束PB通過透鏡pl，該透鏡pl將光束PB聚焦 於基板W之目標部分C上。在第二定位構件（及干擾量測構 件IF)之辅助下，可準確移動基板台WT，如，以在光束？3之 路徑上安置不同目標部分〇相似地，可關於光束pB之路 徑使用第一定位構件準確安置光罩MA，如自光罩庫機械擷 取光罩MA之後或在掃描期間❶通常，藉由圖u中未明確描 述之長衝程模組（粗定位）及短衝程模組（精細定位）之辅助 實現載物台MT、WT之移動。然而，在晶圓步進器（不同於 步進掃描工具）中，可將光罩台MT連接至短衝程致動器或 被固定。 在兩種不同模式下使用所描述之工具： 在步進楔式下，光罩SMT基本上保持固定，且整個光罩 影像一次性（即單個"快閃"）投影於目標部分〇接著在又及/ 或Y方向基板台WT轉換使得可藉由光束PB照射不同目標 部分C ; ^ ，M = 在掃拖核式下，基本上應用相同狀況，除了不以單個”快 閃，’曝光所給定目標部分〇以外。替代地，光罩台奶在給定 =向（即所謂的”掃描方向"，如γ方向）以速度v移動，使得 技I光束ΡΒ掃描光罩影像；基板台wt同時在相同或相反方 向以速度v = Mv移動，其中M為透鏡pL放大率（通常 94427.doc -22- 1352877 1/4或1/5)。以此方式’可曝光相對較大部分c，而無需損失 分辨率。 另外’軟體可實施或幫助施行所揭示概念。涉及包括可 執行碼之程式的電腦系統軟體功能可用於實施上述成像模 式。藉由通用電腦執行軟體編碼。運作中，編碼及可能相 關之育料記錄儲存於通用電腦平臺内。然而，其他情況下， 軟體可儲存在其他位置及/或經傳輸以載入適當通用電腦 系統。因此’上述實施例涉及一或多個藉由至少一機器可 頃媒介運載之編碼模塊的一或多個軟體產品。藉由電腦系 統之處理器執行該編碼使得平臺能夠基本上以本文描述及 說明之實施例中所施行之方式實施目錄及/或軟體下載功 能。 如本文所用，諸如電腦或機器"可讀媒介"之術語是係指 任一參與提供指令至處理器供執行之媒介。該媒介可為多 種形式，其包括（但不限於）非揮發性介質、揮發性介質及傳 輸介質。例如，非揮發性介質包括諸如作為上述服務器平 臺運作的任一電腦中的任一儲存設備的光碟或磁碟。揮發 !生"貝包括諸如該電腦平臺之主記憶體之動態記憶體。實 體傳輸媒介包括同軸電纜、銅導線及光導纖維，其中包括 包含電腦系統内匯流排之配線。載波傳輸媒介可有多種形 式：諸如彼等在射頻（RF)及紅外線（IR)資料通訊中產生之電 或電磁訊號或者聲或光波。因此電腦可讀媒介之一般形式 包括’例如：軟碟、軟磁碟、硬碟、磁帶、任—其他磁二 介、CD-R〇M、DVD、任一其他光學媒介、諸如穿孔卡之 94427.doc -23· 1352877 較不普遍使用之媒介、紙帶、帶孔圖案之任一其他實體媒 介、RAM、PROM ' EPROM、FLASH-EPROM、任一其他“己 憶體晶片或盒、傳輸資料或指令之載波、傳輸該載波之電 覆或鏈路、或自其電腦可讀取程式編碼及/或資料之任一其 他媒介。電腦可讀媒介之該等形式中的大多數可用於運载 一或多個指令之一或多個序列至處理器供執行。 儘管已詳細描述及說明本發明，應清楚理解對本發明的 此描述及說明僅僅是說明性及例示性的，而非對本發明進 行限制，本發明之範疇僅由隨附申請專利範圍之條款限制。 【圖式簡單說明】 圖1說明執行所揭示實施例之示例性流程圖。 圖2 s兑明形成於基板表面之示例性圖案。 圖3說明對應於圖2之圖案之影像場映像。 圖4說明根據實施例1之示例性流程圖。 圖5說明圖3之影像場映像之衍生。 圖6說明判定主軸線之示例性輪廓形狀。 圖7說明根據實施例1之圖5—部分及辅助特徵處理。 圖8說明根據實施例丨之圖5一部分及進一步辅助特徵處 理。 圖9說明根據實施例2之示例性流程圖。 圖10說明根據貫施例2之圖5 —部分及輔助特徵處理。 圖11說明根據實施例2之圖5—部分及進一步輔助特徵處 理。 圖12說明根據實施例2及實施例3之示例性輪廓及辅助特 94427.doc -24· 1352877 徵處理。 圖13說明根據實施例2及實施例3之另一示例性輪廓及輔 助特徵處理。 圖14說明根據實施例3之示例性流程圖。 圖15說明根據實施例3之圖5—部分及辅助特徵處理。 圖16說明根據實施例3之圖5—部分及進一步辅助特徵處 理。 圖17說明根據實施例4之示例性流程圖。 圖18說明根據實施例5之示例性流程圖。 圖19說明根據實施例5包括極值的圖5之一部分。 圖2 0 a兒明根據貫施例5之圖5 —部分及輔助特徵處理。 圖21說明根據實施例5之圖5 一部分及辅助特徵處理。 圖22圖解描述適用於以所揭示概念辅助光罩設計之示例 性微影投影裝置。 【主要元件符號說明】 20 接觸通孔圖案 22 接觸通孔 30 影像場映像 32 輪扉 34 輪磨 36 影像場映像一部分 38 輪廓 50 衍生 60 形狀 94427.doc •25· 1352877 64 矩心 66 軸線‘ 62 軸線 70 輔助特徵 71 輔助特徵 72 輔助特徵 73 輔助特徵 74 輔助特徵 75 輔助特徵 76 輪廓 80 輪廓 82 輔助特徵 110 輪廓 112 輔助特徵 120 輪廓 122 輔助特徵 124 輔助特徵 126 内部突出 130 輪摩 132 輔助特徵 134 辅助特徵 136 外部突出 155 輔助特徵 150 輔助特徵 94427.doc -26· 輔助特徵 輔助特徵 輔助特徵 輔助特徵 輪廓 輔助特徵 最小值 最小值 最小值 最小值 最小值 最小值 最小值 輔助特徵 輔助特徵 輔助特徵 輔助特徵 輔助特徵 輔助特徵 輔助特徵 輔助特徵 輔助特徵 輔助特徵 輔助特徵 -27- 1352877 204 輔助特徵 205 輔助特徵 206 輔助特徵 209 輪廓 210 輪廓 212 輪廓 211 輪廓 213 輪廓 214 輪廓 94427.doc -28-

Claims (1)

1. 本I 第093119594號專利申請案 專利範圍·· 中文申請專利範圍替換本_年9月) U —種用於產生—待形成於一基板之一表面上之圖案的輔 助特徵的方法，其包含以下步驟： (a) 產生一對應於該圖案之影像場映像； (b) 提取在該影像場映像之一預定臨限值之一輪 特性； * (e)判定該輪廓之一主軸線； (d)根據步驟（b)所提取之該等特性產生該冑案之至少 一輔助特徵；及 J根據§亥主軸線定向一輔助特徵。 ^ =請求項k產生㈣㈣之方法’其中，該影像場映 對應於-映像，該映像展示強度特性、干涉特性 特性或者將-微影裝置之一特性或一限制作為因素叶 =度、干涉或電場特性…變化，用以在該基板 3亥表面上形成該圖案。 3. 其中在步驟（b)中，於 像％映像的複數個輪 如請求項1之產生辅助特徵之方法， 該預定臨限值處之特性對應於該影 廓0 4.如請求項1之產生辅助特徵之方法， 驟： 、延一步包含以下步 (0 分析於 不同預定臨限值處之一不 ⑼判定該輪廓及該不同輪靡之一主^輪靡； (出）根據該輪廓之該主軸線定向― ，及 不同輪廓之兮娃待徵並根據該 个丨J褙郿之該主軸線疋向另—輔助特徵。 94427-1000920.doc 。月求項1之產生輔助特徵之方法其進一步包含以下步 驟y艮據複數個軸財之—軸線判定該輪廟之該主抽線。 請求項5之產生輔助特徵之方法其進—步包含以下步 驟：將該等複數個軸線之一原點安置在該輪廓之一矩心 上或附近。 月求項1之產生輔助特徵之方法’其中該輔助特徵具有 預定尺寸。 月长項1之產生辅助特徵之方法，其進一步包含以下步 驟.根據該輪廓判定該輔助特徵之 9.:種電腦程式產品，其包含藉由至少—機器=記憶體 存之可執行碼’其中藉由至少—可程式化電腦對該碼 之執仃使得該至少—可程式化電腦執行—序列步驟來產 待形成於基板之一表面上之圖案的輔助特徵，其 步騾包含·· (a) (b) 特性： 產生一對應於該圖案之影像場映像； 提取於該影像場映像之—職臨限值之—輪廊的 (c)判定該輪廓之一主軸線； ⑷根據步驟（b)中提取之該等特性產生該圖案之至少 一輔助特徵；及 (e)根據該主軸線定向一輔助特徵。 10.如請求項9之電腦程式產品，苴中 八甲该〜像％映像對應一映 像’該映像展示強度特性、干涉牡 一 卞"特性、電場特性或者將 -微影裝置之一特性或一限制作為因素計入之強度、干 94427-1000920.doc •2- 1352877 :或電場待性大小變化，用以在該基 該圖案。 仅田上形成 11, 12 13. 14. 15. 16. .如請求項9之電腦程式產品，其中在步驟(b)中， 臨限值之特性對應該影像場映像之複數個輪廓。X •如請求項9之電腦程式產品’其進一步包含以下步驟： ⑴分析於一不同預定臨限值處之一不同輪廓； (11)判定該輪廓及該不同輪廓之一主軸線；及 ⑽根據該輪廊之該主軸線定向-辅助特徵並根據該 不同輪廓之主軸線定向另一辅助特徵。 .如請求項9之電腦程式產品，其進一 ^ Μ ^匕3以下步驟：根 據複數個轴線之一軸線判定該輪廓之主軸線。 如_13之電腦程式產品，其進一步包含以下步驟： 將該等複數個轴線之-原點安置在該輪廟之—矩 附近。 “或 如請求項9之電腦程式產品，其中該辅助特徵具有預 寸0 如請求項9之電腦程式產品，其進—步包含以下步羯··根 據δ亥輪廟判定該辅助特徵之—長度或寬卢。 94427-1000920.doc