JP4602962B2 - 多重露光プロセスに用いられるモデルベースのジオメトリ分解のための方法、プログラム製品及び装置 - Google Patents
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Description
本出願は、2005年12月29日に出願された米国特許出願第60/754,312号と、2006年2月24日に出願された米国特許出願第60/776,199号とに対する優先権を主張し、これら両者は、その全体が参照により本書に組み込まれる。
− 放射の投影ビームPBを供給するための放射システムEx,IL。この場合、放射システムは放射源LAも含む;
− マスクMA(例えば、レチクル)を保持するためのマスクホルダーを備え、該マスクをアイテムPLに関して正確に位置決めするための第1位置決め手段に結合された第1オブジェクトテーブル(マスクテーブル)MT;
− 基板W(例えば、レジストコーティングされたシリコンウェーハ)を保持するための基板ホルダーを備え、該基板をアイテムPLに関して正確に位置決めするための第2位置決め手段に結合された第2オブジェクトテーブル(基板テーブル)WT;
− マスクMAの照射された部分を基板Wのターゲット部分C(例えば、1つ以上のダイを含む)に結像させるための投影システム(“レンズ”)PL(例えば、屈折、反射又は反射屈折光学システム)。
− すなわち、ステップモードでは、マスクテーブルMTは本質的に不動に保たれ、マスク像全体が1操作で(例えば、1“フラッシュ(flash)”で)ターゲット部分C上に投影される。基板テーブルWTは、その後、ビームPBによって異なるターゲット部分Cが照射され得るように、x及び/又はy方向にシフトされる;
− スキャンモードでは、所与のターゲット部分Cが単一の“フラッシュ”では露光されないことを除いて、ほぼ同じシナリオが当てはまる。マスクテーブルMTは所与の方向(いわゆる“スキャン方向、例えばy方向)に速度νで移動可能であり、投影ビームPBはマスク像上をスキャンさせられる。同時に、基板テーブルWTは同じ又は反対の方向に速度V=Mνで動かされ、このMはレンズPLの倍率である(通常、M=1/4又は1/5)。この様にして、解像度に関して妥協をせずに、割合に大きなターゲット部分Cを露光することができる。
Claims (25)
- 基板上に結像されるべき特徴を有するターゲットパターンを、前記特徴が多重露光プロセスで結像され得るように分解する方法であって:
(a)複数の前記特徴を複数の多角形に分割するステップと;
(b)前記複数の多角形の各々についてイメージログスロープ(ILS)値を決定するステップと;
(c)最小のILS値を有する多角形を判定し、前記最小のILS値を有する多角形を含むマスクを定めるステップと;
(d)第1干渉マップを生成するために、ステップ(c)で定められた前記マスクを伝送交差係数の固有関数とコンボルブするステップであって、前記伝送交差係数が照明システムを定めるステップと;
(e)前記多角形に各々対応する場所における前記第1干渉マップの値に基いて前記多角形に位相を割り当てるステップであって、前記多重露光プロセス中のどの露光が前記多角形に割り当てられるかを前記位相が定めるステップと;を含む、方法。 - 更に:
(f)別の多角形を選択し、前記多角形を含むマスクを定めるステップと;
(g)第2干渉マップを生成するように、ステップ(f)で定められた前記マスクを前記伝送交差係数の前記固有関数とコンボルブするステップと;
(h)前記第1干渉マップと前記第2干渉マップとを組み合わせることによって全体干渉マップを生成するステップと;
(i)前記多角形に各々対応する場所における前記全体干渉マップの値に基いて前記多角形に位相を割り当てるステップであって、前記多重露光プロセス中のどの露光が前記多角形に割り当てられるかを前記位相が定めるステップと;を含んでおり、
全ての多角形が処理されるまで前記ステップ(f)−(i)が反復される、請求項1に記載のターゲットパターンを分解する方法。 - ステップ(f)は、費用関数を利用して前記多角形を格付けすることを含み、最も高いの費用関数を有する多角形が処理される次の多角形として選択される、請求項2に記載のターゲットパターンを分解する方法。
- 前記多角形に第1位相又は第2位相のいずれかが割り当てられ、前記第1位相が割り当てられた前記多角形は第1露光プロセスで結像され、前記第2位相が割り当てられた前記多角形は第2露光プロセスで結像される、請求項2に記載のターゲットパターンを分解する方法。
- 前記全体干渉マップの対応する場所において正の値を有する各多角形には前記第1位相が割り当てられ、前記全体干渉マップの対応する場所において負の値を有する各多角形には前記第2位相が割り当てられる、請求項4に記載のターゲットパターンを分解する方法。
- 前記ターゲットパターンに含まれる単一の特徴は、異なる位相を割り当てられ、異なる露光プロセスで結像されるべき複数のセグメントに分解され得る、請求項2に記載のターゲットパターンを分解する方法。
- コンピュータによって読取可能な記録媒体と、基板上に結像されるべき特徴を有するターゲットパターンを、前記特徴が多重露光プロセスで結像され得るように分解するべく前記コンピュータに指令するために前記記録媒体に記録された手段とを含むコンピュータを制御するためのコンピュータプログラムであって、前記プロセスは:
(a)複数の前記特徴を複数の多角形に分割するステップと;
(b)前記複数の多角形の各々についてイメージログスロープ(ILS)値を決定するステップと;
(c)最小のILS値を有する多角形を判定し、前記最小のILS値を有する多角形を含むマスクを定めるステップと;
(d)第1干渉マップを生成するために、ステップ(c)で定められた前記マスクを伝送交差係数の固有関数とコンボルブするステップであって、前記伝送交差係数が照明システムを定めるステップと;
(e)前記多角形に各々対応する場所における前記第1干渉マップの値に基いて前記多角形に位相を割り当てるステップであって、前記多重露光プロセス中のどの露光が前記多角形に割り当てられるかを前記位相が定めるステップと;を含む、コンピュータプログラム。 - 前記プロセスは、更に:
(f)別の多角形を選択し、前記多角形を含むマスクを定めるステップと;
(g)第2干渉マップを生成するように、ステップ(f)で定められた前記マスクを前記伝送交差係数の前記固有関数とコンボルブするステップと;
(h)前記第1干渉マップと前記第2干渉マップとを組み合わせることによって全体干渉マップを生成するステップと;
(i)前記多角形に各々対応する場所における前記全体干渉マップの値に基いて前記多角形に位相を割り当てるステップであって、前記多重露光プロセス中のどの露光が前記多角形に割り当てられるかを前記位相が定めるステップと;を含んでおり、
全ての多角形が処理されるまで前記ステップ(f)−(i)が反復される、請求項7に記載のコンピュータプログラム。 - ステップ(f)は、費用関数を利用して前記多角形を格付けすることを含み、最も高い費用関数を有する多角形が処理される次の多角形として選択される、請求項8に記載のコンピュータプログラム。
- 前記多角形に第1位相又は第2位相のいずれかが割り当てられ、前記第1位相が割り当てられた前記多角形は第1露光プロセスで結像され、前記第2位相が割り当てられた前記多角形は第2露光プロセスで結像される、請求項8に記載のコンピュータプログラム。
- 前記全体干渉マップの対応する場所において正の値を有する各多角形には前記第1位相が割り当てられ、前記全体干渉マップの対応する場所において負の値を有する各多角形には前記第2位相が割り当てられる、請求項10に記載のコンピュータプログラム。
- 前記ターゲットパターンに含まれる単一の特徴は、異なる位相を割り当てられ、異なる露光プロセスで結像されるべき複数のセグメントに分解され得る、請求項8に記載のコンピュータプログラム。
- 装置製造方法であって、この方法は:
(a)放射感応性材料の層によって少なくとも部分的に覆われている基板を設けるステップと;
(b)結像システムを用いて放射の投影ビームを供給するステップと;
(c)マスク上のパターンを用いて、前記投影ビームの断面にパターンを付与するステップと;
(d)前記パターンが付与された放射ビームを前記放射感応性材料層のターゲット部分に投影するステップと;を含んでおり、
ここでステップ(c)において、前記マスクが:
(e)複数の前記特徴を複数の多角形に分割するステップと;
(f)前記複数の多角形の各々についてイメージログスロープ(ILS)値を決定するステップと;
(g)最小のILS値を有する多角形を判定し、前記最小のILS値を有する多角形を含むマスクを定めるステップと;
(h)第1干渉マップを生成するために、ステップ(g)で定められた前記マスクを伝送交差係数の固有関数とコンボルブするステップであって、前記伝送交差係数が照明システムを定めるステップと;
(i)前記多角形に各々対応する場所における前記第1干渉マップの値に基いて前記多角形に位相を割り当てるステップであって、前記多重露光プロセス中のどの露光が前記多角形に割り当てられるかを前記位相が定めるステップと;を含む方法によって形成される、装置製造方法。 - 基板上に結像されるべき特徴を有するターゲットパターンを、前記特徴が多重露光プロセスで結像され得るように分解する方法であって、前記方法は:
(a)複数の前記特徴を複数の多角形に分割するステップと;
(b)前記多角形に各々対応する場所における干渉マップの値に基いて前記多角形に位相又は色を割り当てるステップとを含み、前記多重露光プロセス中のどの露光が前記多角形に割り当てられるかを前記位相又は色が定める、方法。 - 前記干渉マップは、前記多角形を表すマスクを伝送交差係数の固有関数とコンボルブすることによって生成され、前記伝送交差係数が照明システムを定める、請求項14に記載の方法。
- 基板上に結像されるべき特徴を有するターゲットパターンを、前記特徴が多重露光プロセスで結像され得るように分解する方法であって、前記方法は:
(a)複数の前記特徴を複数の多角形に分割するステップと;
(b)前記多角形を表すマスクの、伝送交差係数の固有関数とのコンボリューションの結果に基いて前記多角形に位相又は色を割り当てるステップとを含み、前記伝送交差係数が照明システムを定める、方法。 - 請求項1の方法を利用して形成されたマスク。
- 請求項14の方法を利用して形成されたマスク。
- 請求項16の方法を利用して形成されたマスク。
- ウェーハを結像する方法であって、この方法は:
(a)結像されるべき複数の特徴を複数の多角形に分割するステップと;
(b)前記多角形に各々対応する場所における干渉マップの値に基いて前記多角形に位相又は色を割り当てるステップとを含み、前記多重露光プロセス中のどの露光が前記多角形に割り当てられるかを前記位相又は色が定める、方法。 - 前記干渉マップは、前記多角形を表すマスクを伝送交差係数の固有関数とコンボルブすることによって生成され、前記伝送交差係数が照明システムを定める、請求項20に記載の方法。
- ウェーハを結像する方法であって、この方法は:
(a)結像されるべき複数の特徴を複数の多角形に分割するステップと;
(b)前記多角形を表すマスクの、伝送交差係数の固有関数とのコンボルブの結果に基いて前記多角形に位相又は色を割り当てるステップとを含み、前記伝送交差係数が照明システムを定める、方法。 - コンピュータによって読取可能な記録媒体と、基板上に結像されるべき特徴を有するターゲットパターンを、前記特徴が多重露光プロセスで結像され得るように分解するべく前記コンピュータに指令するために前記記録媒体に記録された手段とを含むコンピュータを制御するためのコンピュータプログラムであって、前記プロセスは:
(a)複数の前記特徴を複数の多角形に分割するステップと;
(b)前記多角形に各々対応する場所における干渉マップの値に基いて前記多角形に位相又は色を割り当てるステップとを含み、前記多重露光プロセス中のどの露光が前記多角形に割り当てられるかを前記位相又は色が定める、コンピュータプログラム。 - 前記干渉マップは、前記多角形を表すマスクを伝送交差係数の固有関数とコンボルブすることによって生成され、前記伝送交差係数が照明システムを定める、請求項23に記載のコンピュータプログラム。
- コンピュータによって読み取られ得る記録媒体と、基板上に結像されるべき特徴を有するターゲットパターンを、前記特徴が多重露光プロセスで結像され得るように分解するべく前記コンピュータに指令するために前記記録媒体に記録された手段とを含むコンピュータを制御するためのコンピュータプログラムであって、前記プロセスは:
(a)複数の前記特徴を複数の多角形に分割するステップと;
(b)前記多角形を表すマスクの、伝送交差係数の固有関数とのコンボリューションの結果に基いて前記多角形に位相又は色を割り当てるステップとを含み、前記伝送交差係数が照明システムを定める、コンピュータプログラム。
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