TWI360021B - A method, program product and apparatus for model - Google Patents

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Description

1360021 ， 九、發明說明： 【發明所屬之技術領域】 本發明之技術領域一般而言係關於用於執行一目標圖案 之以模式為基礎之分解以允許目標圖案待於多重照明處理 中使用（例如）多個光罩而成像的方法、程式產品及裝置。 【先前技術】
微影裝置可用在（例如）積體電路（ic)之製造中。在-·此狀 況下，光罩可含有一對應於1C之個別層的電路圖案，且此 圖案可成像於已塗佈有一輻射敏感材料（光阻）層之基板（矽 晶圓）上的一目標部分（例如、包含一或多個晶粒）上。通 常’單一晶圓將含有_近目標部分之鲞個網路，該等目標 部分係經由投影系統接連地（一次一個）加以照射。在一種 類型之微影投影裝置中，藉由一次性地將整個光罩圖案曝 光於目標部分上來照射每一目標部分；此裝置通常被稱為 晶圓步進器。在一、替代裝置（通常稱為步進掃描裝置）中， 藉由在給定參考方向（"掃描"方向）上漸進地掃描在投影光 束之下的光罩圖案同時同步地在平行或不平行於此方向的 方向上掃描基板台而照射每一目標部分。因為投影系統通 常將具有一放大因素Μ(通常<1)，所以掃描基板台之速度 V將為掃描光罩台之速度的“倍。可（例如）自以引用方式併 入本文中的US 6,046,792收集到更多關於如本文中所描述 之微影設備的資訊。 ， 在使用微影投影裝置之製造過程中，光罩圖案成像於至 少部分地由一輻射敏感材料（光阻）層所覆蓋之基板上。在 117544.doc -6 - 1360021 此成像步驟之前，基板可經受各種程序諸如上底漆" 阻塗佈及軟烘I在曝光之後，基板可經受^_ ^
:後曝光供培(PEB)、顯影、硬供培及對所成像之特徵的 篁測/檢測。此程序陣列係用作㈣化設備（例如，⑹之個 別層的基礎。此圖案化層接著可經受各種製程，諸如蝕 刻、離子植入（摻雜）、金屬化、氧化、化學機械研磨等， 所有此等製程意在完成-個別層1需要若干層，則將必 須對每-新層重複整個程序，或其變體。最終，—哎備陣 列將出現於基板(晶4)上。接著，此等設備藉由諸如分割 或鋸割之技術而彼此分離，藉此該等個別設備可安裝於一 連接至插腳等之載體上。
為簡明起見，在下文中可將投影系統稱為，·透鏡"丨缺 而，應將此術語廣泛地理解為涵蓋各種類型之投影系統 例如，包括折射光學系統、反射光學系統及反射折射混合 系統。輻射系統亦可包括根據此等設計類型中之任一者而 操作以4於引導、成形或控制輻射之投影光束的組件，且 在下文中亦可將此等組件共同或單獨地稱為"透鏡"。另 外，微影裝置可為一具有兩個或兩個以上基、板台（及/或兩 個或兩個以上光罩台）的類型。在此等"多平臺"設備中，可 並列地使用額外台’或可在-或多個臺上進行預備步驟同 時將-或多個其它台用於曝光。舉例而言，在以引用方式 併入本文中之US 5,969,441中描述了雙平臺微影裝置。 上文涉及的光微影光罩包含野應於待整合於矽晶圓上之 電路組件之幾何圖案。使用CAD(電腦輔助設計）程式產生 117544.doc t 1360021 用於建立此等光罩之圖案，此處理通常被稱為EDA(電子 設計自動化）。多數CAD程式遵循一組預定設計規則，以 建立功能光罩。藉由處理及設計限制來設定此等規則。舉 例而s，設計規則界定電路設備（諸如閘極、電容器等）或 互連線之間的間隔容差，以確保電路設備或線不以不良方 式彼此相互作用。設計.規則限制通常被稱為”臨界尺寸" (CD)。可將電路之臨界尺寸界定為線或孔之最小寬度或兩 線或兩孔之間的最小間隔。因此，CD判定設計電路之總 的大小及密度。 當然，積體電路製造中之目標之一者為（經由光罩）在晶 圓上精確地複製原始電路設計。因為目標圖案之臨界尺寸 日益變小，所以在晶圓上複製目標圖案日益變得更加困 難。然而，存在允許可成像或複製於晶圓中之最小CD減 少的已知技術》此一技術為雙重曝光技術，其中在兩次單 獨曝光中成像目標圖案中之特徵。 舉例而言，一種通常已知之雙重曝光技術為偶極照明。 在此技術中，在第一次曝光期間，照明目標圖案之垂直邊 緣（亦即，特徵）且接著在第二次曝光期間，照明目標圖案 之水平邊緣。如所提及的’藉由使用兩次曝光，可獲得改 良之成像效能。 k 另-已知雙重曝光技術允許給定目標圖案之特徵被分成 兩個不肖光罩且接著獨立地被成像以形成所要的圖案。當 目標特徵間隔太近而不可能成像個別特徵時，通常使用此 技術。在此情況下，如所提及的’將目標特徵分成兩個光 117544.doc 罩，以致給定光罩上之所有特徵彼㈣充分 得可個別地成像每-特徵。接著，藉由以連續方式(二 適當遮蔽）成像兩個光罩，γ # 、式（使用 _尤罩，可能獲得具有使用單— 旎適當成像之密集間隔特徵的目標圖案。 因此’藉由將目標特徵分成兩個獨：光罩，以致給定光 罩上之特徵之每一者之間的間距超過成像系統之解析度 0—on capabilities)，可改良成像效能。當然，上文所 述之雙重曝光技術允机<().25 '然而，當前已知之雙重曝 光技術仍存在問題及限制。 舉例而言，當前分解演算法將目標設計/圖案^之每一 塊幾何形狀認為係一單元，且此等單元皆不會自動地被分 解成夕個區段。結果，對於某些目標圖案，即使使用雙重 曝光技術’亦不可獲得]^1<〇 25。 與S則为解说算法相關聯的另一問題為該等分解演算法 主要為基於規則之演算法，其需要過多數目的規則來處理 現今日益複雜的設計。此外，在尚未界定任何規則的設計 中通常存在情況/衝突，且此等情形可導致演算法不能得 到適當結果。 i 本發明之一目標為克服已知之雙重曝光技術中、的此等缺 陷 【發明内容】 鑒於前述内容，本發明之一目標為藉由提供一以模式為 基礎之處理以用於將目標圖案之特徵分解（亦即，著色）成 (例如）藉由使用多個光罩而獨立成像之各別區段來克服已 H7544.doc 知先前技術的缺陷 將目標圖案之單一 的多個區段。 。此外，以模式為基礎之著色處理允許 特徵分隔/劃分成可在單獨曝光中成像 總之，本發明提供一以模式為基礎之著色處S，其允許 將目標圖案分解成使用多重曝光而照明的多個主光罩。必 ，時’以模式為基礎之著色處理自動地提供將目標圖案之 幾何形狀分解成多個區段，可使用雙重（或多幻曝光 猎由單獨光罩冑其成冑。總轉為所有#光之組合（亦 即’藉由縫合由多重曝光建立的影像而建立原始目標設 計）。 更特定言之，本發明係關於一種分解一具有待成像於基 板上之特徵的目標圖案以允許特徵於多重曝光處理中成像 的方法。該方法包括以下步驟：（勾將複數個特徵分段成複 數個多邊形；（b)判定該複數個多邊形之每一者的影像對數 斜率（ILS)值；（c)判定具有最小ILS值之多邊形，且界定一 3有该多邊形之光罩；（d)以一透射交又係數之本徵函數卷 積步驟（c)中所界鏈之光罩，以產生一干涉圖，其中透射交 又係數界定待用以成像目標圖案之照明系統；及（e)基於干 涉圖之在對應於多邊形之位置處的值而指派一相位給該多 邊形’其中該相位界定在該多重曝光處理中哪一次曝光指 派給該多邊形。 本發明提供優於先前技術之重要優點？最重要地，本發 明提供一以模式為基礎之著色處理以用於將目標圖案之特 徵分解成（例如）藉由使用多個光罩可獨立成像的各別區 \ 117544.doc •10- 1360021 段。此外’本發明之以模式為基礎之著色處理允許目標圖 案之單一特徵被自動地分隔/劃分成亦可獨立成像的多個 區段。此外’本發明之方法可有利地達成〇195之h。 熟習此項技術者自本發明之例示性實施例的以下詳細描 述將易於瞭解本發明之額外優點。 ？
儘管在此本文中可特別參考本發明在1C之製造中的使 用，但是應明確瞭解，本發明可具有許多其它可能應用。 舉例而言，、本發明可用於在積體光學系統、用於磁域記憶 體之導引及伯測圖案、液离顯示面板、薄膜磁頭等之製 造。熟習此項技術者將瞭解到，在此等替代應用之情形 中，此本文中之術語”主光罩”、"晶圓"或”晶粒，，之任何使 用應被認為分別由更一般之術語"光罩”、"基板"及"目標部 分”替代。
V 參考以下詳細描述及隨附圖式可更好地瞭解本發明自身 以及另外的目標及優點。
【實施方式】 如下文更詳細地解、釋，以模式為基礎之著色處理將—目 標圖案分解成在多重曝光處理中經獨立照明的多個區段。 在一實施例中，多個區段經指派並包括於兩個單獨主光罩 之一者中’其隨後被照明。此外，如本文中所揭示之實例 中所示，必要時’以模式為基礎之著色處理自動提供將目 標圖案中之單一幾何形狀（亦即，特徵）分解成接著於單獨 照明處理中成像的多個區段。 參看圖1，其為以模式為基礎之著色處理之例示性流程 117544.doc 1360021 ' 圖，該處理中之第-步驟（步驟1())為界定目標圖案（亦即， 待成像於基板上之圖案）及將用以成像目標圖案之照明設 定。目標圖案較佳以諸如"gds"(其為一標準資料格式）之資 料格式來描述。然而，亦可使用任何其他適當資料格式。
在本文中所闡述之實例φ，L 貝例肀目私圖案由式〇(x，y)來表示， 其中X及y表示目標圖案内之位置。 圖2說明將用於說明以模式為基礎之著色處理的例示性 目t圖’ h所不’目標圖案包括複數個垂直特徵η及一 單長垂直特徵33。注意照明設定（例如）包括…不限於） 照明之類型（亦即，環形、正交、離轴等）、λ(源（so—之 波長）、NA(投影透鏡之:數值孔徑）等。在給定實例中，特 徵32、33之間距為如所示後“m或80.5 nm，kl=〇.2， λ= 193 nm，. ΝΑ= 1 7 η /* m ™ 且使用環形照明，其中σΙΝ=0.77直 ^^0111^0.970 處理中之下-步驟（步驟12)為應用分段點 =標圖峰，y)中之特徵32、33之邊緣。分二 特破3 2、3 3之邊緣闲固γ β ，.周圍間隔開且作用以（funfcti 複數個較小邊緣。在& 〇)界疋· 35經安置以使得盆tr 圖3中所示，分段點 '、在母一特徵之邊緣周圍被相等地間隔 開，然而’可使用用於置放分段點之不同.方案。 & >看圖4，一旦界定分段點35，便在下一+ 中將分絡八， < 下步驟（步驟14) 中將“又邊緣分組以形成複數個多邊形Μ。 ’ 圖案及其中所含有之、σ 標 有之特城由複數個較小多邊形34劃 即，表示)训明目標圖案之特徵3、2、33之每_ = U7544.doc 丄卿021 、 由複數個較小多邊形34來表示。注意相鄰多邊形可共用一 共同邊緣。該等多邊形由式P(xy)來表示，其中乂及y表示 目標圖案内之位置。最初，多邊形之每一者經指派為 透射率及0。相位。如下文更詳細地解釋，指派至給定多邊 形之相位（例如，0%llg0。）將用以指示給定多邊形p(xy)是 字於第人曝光或第一次曝光中成像。亦請注意指派了 相位僅為一種用於指定一給定多邊形將被指派給哪一次曝 * 光之技術。舉例而言，亦可指派一色彩指定（color designation)至給定多邊形之每一者，其中色彩指定指示多 邊形、ϋ曰派哪—次曝光。色彩亦可藉由將一非零臨限值應 : 用至本徵函數來指派，《色彩可藉由對本徵函數應用一線 • 性算子（諸如微分算子）來指派。 在處理之下一步驟（步驟16)中，使用步驟10中所界定之 照明叹疋來計算對於每一多邊形（較佳在非共用多邊形邊 ，之中央處）之影像對數斜率（ILS)。如吾人所知，可計 • 算為瓜注意在較佳實施例中，在此步 驟期間不同時考慮整個目標圖案。界定關注之第一,幾何區 j之相干半徑’且計算相干半徑内之所有多邊形的ILSe 一 |完成此操作’便計算㈣之下—幾何區域的相干半徑 内之所有多邊形的ILSe此處理繼續直至所有關注之區域 (其可為（例如）由光罩設計者認為臨界的區域或僅為整個目 標圖案）被處理且其中含有之专-多邊形的ILS被處理為 止。在較佳實施例中’相干半徑經界定為侧A。注意當 計算給定多邊形之ILS時，多邊形居於相干半徑内的中 117544.doc 13 1360021 央。 處理之下一步驟（步驟is)需要識別具有最小ILS之多邊 形及產生-含有該單一多邊形之光罩吨⑺。注意類似於 步驟16,當判定具有最小ILS之多邊形時，僅考亨在，給定 相干半徑内之多邊形。重複該處理直至所有關注之區域已 被處理為止。注意使用上文所提及之諸如，"gds”的標準資 料格式來界定光罩M(x，y)e圖5說明一由步驟18所產生的 例示性光罩。如所示，光罩僅含有一單一多邊形52。 注意可以若干方式選擇首先分析之圖案。在一實例中， 使用者可指定一最關，注之圖案。計算對於圖案中之每一分 段點之ILS，且相干半徑以具有最低ILS之分段點為中心。 作為另實例，對於全部晶片計算（run)，使用者可首先嘗 試使用圖案之基於規則的分解。然而，通常基於規則之方 法不能成功地分解全部晶片；且需要使用者干預以分解 (亦即，分開）此等失敗區域。可使用本發明之以模式為基 礎之方法而不需要使用者干預來處理失敗區域。若存在一 個以上之失敗區域，則首先評估具有最低ILS值之區域。 接下來評估具有第二最低ILS之下一失敗區域。接著圍繞 具有第二最低ILS之失敗區域置放相干半徑。 繼續，處理中之下一步驟（步驟2〇)為以界定照明系統之 透射父又係數（TCC)之第一本徵函數（亦即，最高值本徵函 數〇(x，y))卷積步驟18中所界定的光罩M(x，y)以產生一第一 (亦P初始）干'步圖。如吾人所知，透射交叉係數tcc為 (例如）由以引用方式併入本文中的1^ B〇rn及E w〇if2 117544.doc 1360021
Principles of 0ptics 530(Pergam〇n 出版社，第 6版）所描述 的”？、明光瞳與技影光瞳之自相關。換言之，丁匚匚表示光學 系統之影像轉移函數。TCC經正交成一組本徵函數，其亦 表示照明系統。如上文所提及，以具肴最高特徵值之本徵 函數卷積光罩M(x，y卜結果為初始干涉圖Fi(x,y)e因此， F】（x，y)可經界定為： 注意干涉圖已為吾人所熟知且(例如)在美國專利申請案 第10/75M30號（其以引用.方式併入本文中）中加以描述。 如其中所描述的〜’干涉圖對應於影像平面中之電場 (e-field)且能夠指示正能量與負能量。 圖6說明圖5之光罩M(x，y)與上文提及之用於照明系統的 最高本徵值Φ1(χ，3〇之前述卷積（亦即，干涉圖）的結果。參 看圖6及鄰近其的比例尺，干涉圖說明.光罩圖案之哪些部 分具有正值且哪些部分具有負值。存在，於正區域（亦即， 相長干涉之區域)中之任一多邊形區段34經指派一第一相 位（例如，0。）且存在於負區域（亦即，相消干涉之區域）中 之任彳邊形區段34經指派，一第二相位（钟如，18〇。）。如 下文更詳細地解釋，給定多邊形區段之相位值在著色處理 期間可改變。然'而’ 一旦處理完成，在處理完成時指派至 給定多邊形區段之相位便將用於界定給定多邊形區段將經 受多重照明之哪一者。舉例而言，若特徵正被分解到第一 第主光罩中’則指派至給定多邊形之相位將判定給定 117544.doc •15- 1360021 多邊形區段形成於哪一主光罩中。
藉由找到每一多邊形區段34(P(X，y)中之P/xj))之質心並 將此專點界定為（Xci，yci)而在著色處理中完成前述處理（步 驟22)。接著，若干涉圖'.之F(Xci，yci)為負，則多邊形區段 Pi(x，y)經指派一 180。之相位，且若干涉圖之F(Xci，yci)為正 或零’則多邊形區段Pi(X，y)經指派一 0。之相位。在給定實 施例中’相位用以識別給定多邊形是否在干涉圖之正或負 區域中，且隨後識別給定多邊形區段34在多重曝光處理期 間應經受哪一次曝光。 圖7說明在僅單次迭代（亦即，僅考慮圖5中所說明之單 一多邊形區段34)後的所得光罩布局P(x，y)e參肴圖7,較 亮區域36指示其中半涉圖Fl(x，y)為正的區域，而較暗區域 38指示其中干涉圖FKxj)為負的區域。因」此，根據本發明 之方法，較亮區域36將於赛一次曝光中成像，且較暗區域 38將於第一次曝光中成像。然而，初始干涉圖僅考慮單一
多邊形區段34。為了有效地考慮相干半徑内之所有多邊形 區段3 4，必須執行迭代處理。 換言之，前迷步驟（步驟10-22)產生初始干涉圖匕卜⑺及 初始多邊形光罩P(X，y)。在執行此等步驟後，著色處理之 剩餘部分需要執行以下迭代'處理：首先，pi(x，y)中之多邊 形區段首先藉由一價值函數來排列。注意可選擇許多光學 參數或物理參數以產生一適當價值函數，一例示性價值2 數為一高斯（Gaussian)函數，其為ILS之函數及距具有最小 ILS之點之距離（（）的函數。可將此實例中使用的此價值函 117544.doc 16 數界定為： 4^,/(F-F)]....................... 八值函數為將分段點自最重要至最不重要排序之數學表 不。演#法藉由評估最重要分段點（亦即，具有最高價值 函數之點)而開始。一個可能之價值函數g具有變量ILS及 離（r Γ。；）。此處所使用之價值函數為 [，㈣姊—(:·，其中i為分段點之指數。注意 ”里度亦可用於價值函數+，諸如（但不限於）光強梯 曝光寬令度（EL)、光罩誤差增琴因素（MEEF)、光強及 聚焦深度（DOF)。 （ _ h值函數為將分段點自最重要至最不重要排序之數學表 不。演算法藉由評估最重要分段點(亦即，具有最高價值 :數之點)開始。-個可能之價值函數8具有變量ILS及距 (r-r。）。此處所使用之價值函數為孓=多^ ，其中i 為分段點之指數。、’ 在下一步驟（步驟24)中，價值函數應用於相干半徑内之 多邊，PKx，y)之每-分段點，且排列該等分段點以指示具 有最高價值函數至最低價值函數之分段點。分段點之排列 越高意謂越難以印刷該點。注意若分段點之似小於零， 則分段點問題極大，亦即，在顯影期間將移除分段點或分 段點將橋接至另一分段點。具有負旧之此等分段點可經 指派一較高價值函數。具有較高價值函數之分段點將在旦 有最低價值缝之分段點之前被評估。此確保問題區域將 117544.doc 1360021 被分隔於多重曝光中且在多重曝光後將改良圖案保真度。 值函數，步驟2Q中所料之初始干涉 圖由價值函數來加權。因此，初始干涉圖變為： _;〇|....................... 繼續，在處理之下.翻^牛膝乂、丄 ^ ^驟（步驟26)中，選擇具有價值函
數最高之分段點的多邊職段34，且使用由於步驟（22)中 產生的初始干㈣*界定的此以形之相位來建立且有此 平-多邊形之光軍M(x，y)。注意在著色處理第—次執行此 步驟後，用於該步驟•惠+ l , z 7騍中之夕邊形之相位將由用先前迭代所 更新之總干涉圖（亦即’由如下文詳述之步驟⑽所產生的 干涉圖）來界定。圖8說明根據此步驟形成的用於例示性目 標圖案之光罩。
在處理之下一步驟（步驟28)中，類似於步驟2〇，以本徵 函數Φ(χ，)〇來卷積由步驟26所產生之光罩M(xy) ’以產生 一傘一干涉圖Fi + 1(x，y)。接著’在步驟30中，將步驟28中 所產生的干涉圖Fi+1(x，y)M至初始干涉圖Fi(x，y〉，乘以價 值函數反㈤’外Ό]，以建立總干涉圖： * > F,〇la> (x,y) = (^y) - fo)].................式⑷
S I 接著’在下—步驟（步驟31)中’如同步驟22—樣，判定 每一多邊形區段（P(x，y)中之Pi(x，y))之質心，且此等點被稱 為（xCi，yCi)。接著，如i步驟,22中一樣，若干涉圖之 Ft〇tal(xci，yci)為負’ ‘則給定多邊形區段匕⑺幻經指派一18〇。 117544.doc -18- 1360021 · 之相位，且若干涉圖之Ftotal(Xci，yci)為正或零，則給定多邊 形區段Pi(x，y)經指派一 0。之相位。圖9說明在第二次迭代後 的所得干涉圖，且圖10說明由圖9之干涉圖所界定之相應 光罩布局P(x,y)。 其後，自排列之分段點之清單中移除步驟26中所選擇之 分段點，且處理返回至步驟22且為新之選定分段點再次執 行步驟22-32。此反覆處理繼續直至考慮並處理完所有分 段點為止。 ^ 圖10說明自前述處理之兩次迭代而產生的光罩◊如自圖 7與圖10之間的比較可見，在兩個所得光罩圖案之間存在 ； 較小差異。然而，圖11說明在所有迭代完成後由本發明之 - 處理所產生的干涉圖。參看圖11，給定實例得到的干涉圖 • 清楚地指示哪些特徵及特徵之部分展示正值（見，_參考數 字110)且指示哪些特徵及特杈之部分展示負值（見，參考數 子112)。結果，著色處理可易於且自動地判定哪些特徵應 | 於第一次曝光十成像（彼等特徵展示正值）且哪些特徵應於 第二次曝光中成像（彼等特徵展示負值）。重要的是注意該 處理允許將單一特徵分解成多個區段。參看圖丨丨，顯然特 徵33之一部分將於一曝光中成像，而相同特徵之另一部分 將於第二次曝光中成像。圖12說明自圖丨丨之干涉圖產生的 光罩布局分配《如所示，在給定實例中，‘亮區域將被指派 給第—光罩並經受第一次曝光且暗區域將被指派給第二光 罩並經受第二次曝光。. ·
' I 注意為了印刷kl<0.25之特徵，至成像媒體中之非線性轉 117544d〇C -19- 1360021 ， 移係必需的。此可使用—非線性光阻而達成或此可在第一 次曝光後使用而達成。亦注意可使用兩個鮮來印 刷¥0.25之特徵。為了印刷⑽25之特徵，至成像媒體 中之非線性轉移係不必需的。在一實施例中，使用第一光 罩首先曝.光晶圓，且該晶圓留在晶圓央盤上。接著，主光 罩固持盗切換至第二光罩，且使用第二光罩曝光該晶圓。
圖13說明經受本發明之分解處理的另一例示性目標圖 案。圖14說明由處理所產生之目標圖案的最終干涉圖。.再 次，藉由基於，干涉圖中之相應區域之值而指派特徵或特徵 之部分給兩次曝光之一者，藉由本發明之處理易於將目標 圖案刀解成第一及第二曝光區域。在圖15申說明與圖14之 干涉圖案相關聯之光罩布局。. , 前述處理之變化亦係可能的。舉例而言，可將多邊形劃 分/指派成兩個以上之種類且使，用兩次以上之曝光來成像 所得光罩布局。亦注意本發明之技術可與暗區光罩或亮區 光罩一起使用》本發明之技術亦可用作以模式為基礎之著 色演算法以替代相移光罩。另外，亦注意本發明之技術可 結合ASML之先前揭示的照明最佳化技術或ASML之照明 及源最佳化技術一起使用。 如上文所提及，本發明提供優於先前技術之重要優點。 最重要的，本發明提供以模式為基礎之著色處理以用於將 目標圖案之畔徵分解成（例如）可藉由使用多個光罩獨立成 像之各別區段。此外，本發明之以模式為基礎之著色處理 允許目標圖案之單一特徵被自動地分隔/劃分成亦可獨立 ^7544.(101 • 20· 136002.1 成像的多個區段。此外，本發明之方法可有利地將 kfO.177之2D圖案分解到兩次曝光中。若使用兩次以上之 曝光’則丰發明可分Wkl<0.177之2D圖案。最終，注意在 給定曝光光罩中之特徵及/或.區段之間的距離應大於最小 可解析間距2kA/NA。 圖16為一說明一可實施上文所解釋的照明最佳化之電腦 系統1〇〇的方塊圖。電腦系統100包括一匯流排1〇2或用於 傳送貧訊之其他通信機構及一與匯流排1〇2耦接以用於處 理資訊的處理器104。電腦系統100亦包括一耦接至喱流排 1 02以用於儲存資訴寻待由處理器1〇4執行之‘指令的主記憶 體丨〇6，諸如隨機存取記憶體（RAM)或其他動態儲存設 備。主記憶體106亦可用菸在‘行待由處鍾器1〇4執行的指 令期間儲存臨時變量或其他中間資訊電腦系統1〇〇進一 步包括耦接至匯流排102以用於儲存供處理器1〇4使用之靜 態資訊及指令的了唯讀記憶體（R〇M)1〇8或其他靜態儲存 設備。提供一儲存設備110(諸如磁碟或光碟）並將其耦接至 匯流排1 02以用於儲存資訊及指令。 電腦系統100可經由匯流排102而耦接至一用於向電腦使 用者顯示資訊之顯示器U2，諸如陰極射線管（CRT)或平板 或觸控面板顯示器。包括文數字及其他鍵的輸入設備1〇4 耦接至匯流排y用於傳送L身訊及命令選擇至處理器 104。另一類型之使用者輸入設備為用於傳送方向資訊及 命令選擇至處.理器104並用於控制游標在顯示器112上之移 動的游標控制器116’諸如滑鼠、軌跡球或游標方‘向鍵。 v 117544.doc •21 - Ι36002Ϊ 此輸入設備通常具有在兩個軸（一第一轴（例如，χ)及—第 Κ例如’ 之兩個自由度’其允許設備指定在—平 面中的位置。觸控面板(螢幕)顯示器亦可用作一 備。 根據本發明之一實施例，回應於處理器104執行主記憶 體106中含有的一或多個指令之-或多個序列，電腦系： 100可執仃著色處理。此等指令可自另一電腦可讀媒體(諸
如儲存設傷11〇)讀入至主記憶體106中。主記憶體106中含 有的指令序列之執行導致處理器1〇4執行本文中所描遮之 處理步驟。多處理配置中之一或多個處理器亦可用於執行 主記憶體106中含有的指令序列。在替代實施例中，可替 代軟體指令或與其結合使甲硬連線電路以實施本發明。因 此，本發明之實施例不限於硬體電路與軟體之任何特定組 合0 本文中所使用的術語"電腦可讀媒體”係指參予提供指令 至處理器104 f用於執行的任何媒體。此媒體可採取許多 形式，包括（但不限於）非揮發性媒體、揮發性媒體及傳輸 媒體。非揮發性媒體包括（例如）光碟或磁碟，諸如儲存設 備110。揮發性媒體包括動態記憶體，諸如主記憶體1〇6。 傳輸媒體包括同軸電纜、銅線及光纖，包括包含匯流排 102之導線。傳輸媒體亦可採取聲波或光波形式，諸如在 射頻（RF)及紅外（IR)資料通信期間產生的彼等波。普通形 式的電腦可讀_體包括（例如）軟性磁碟、軟碟、硬碟、磁 帶、任何其他磁性;媒體、CD-ROM、DVD '任何其他光學 117544.doc -22- 136002.1 媒體、打孔卡片、紙帶、具有孔圖案之任何其 體、RAM、PR〇M及 EPROM、FLASH-EPROM、 屺憶體晶片或匣、如下文中描述之載波或電腦可 何其他媒體。 各種形式之電腦可讀媒體可涉及將一或多個指令之一或 多個序列載運至處理器104以用於執行。舉例而言，該等 指令最初可提供（borne)於遠端電腦之磁碟上。遠端電腦可
將該等指令載人其動態$憶體中並使用—數據機經由電話 線發送該等指令。位於電腦系統1〇〇處之數據機可接收電 話線上之資料並使用一紅外傳輸器來將資料轉換成紅外信 號。耦接至匯流排102之紅外偵測器可接收紅外信號令所 載運的資料並將資料置放於匯流排102上。匯流排1〇2將資 料載運至主記憶體106，處理器104自主記憶體106擷取該 等扣令並執行該等指令。由主記憶體106所接收的指令在
他實體媒 任何其他 讀取的任 由處理器104執行之前或之後可視情況儲存於儲存設備11〇 上。 電腦系統100較佳亦包括一耦接至匯流排1〇2之通信介面 118 °通彳s介、面118提供與連接至區域網路i22之網路鏈路 120耦接的雙向資料通信。舉例而言，通信介面1丨8可為一 整體服務數位網路（〗sdn)卡或數據機以提供至相應類型電 話線之資料通信連接。作為另一實例，通信介面118可為 一區域網路（LAN)卡以提祺至相容1^八1^之資料通信連接。 亦可實施無線鏈路。在任何此實施例中，通信介面丨18發 送並接收載運表示各種類型資辨之數位資料流的電信號、 117544.doc -23- 1360021 電磁信號或光信號。 網路鏈路12〇通常提供經由一或多個網路至其他資料設 備之資料通信。舉例而言，網路鏈路12〇可提供一經由區 域網路m而至主機電腦124或至由網際網路服務提供^ (isP)126操作之資料設備的連接。lsp 126接著藉由全球封 包資料通信網路(現在通常稱為"網際網路"128)>提供資料通 信服務。區域網路122及網際網路128二者皆使用載運數位 :資料流之電信號、電磁信號或光信號。經由各種網路之作 署 1與在網路鏈路12G上及經由通信介面118之信號（其載運 數位資料至電腦系統100並載運來自電-系統1〇〇之數位資 料）為傳送資訊之載波的例示性形式。 電腦系統100可經由（多個）網路、網路鏈路120及通信介 ’ ® m發送訊息並接收資料，包括程式碼。在網際料實 例中，伺服器130可經由網際網路128、lsp 126、區域網路 122及通信介面118而傳輸應用程式之請求程式碼。根據本 I 發明，例如，此種下載應甩程式提供實施例之照明最佳 化。所接收之程式碼可藉由處理器1〇4在其被接收時加以 執行，且/或可儲存於儲存設備11〇或其他非揮發性儲存器 中以用於稍後執行。以此方式，電腦系統1 〇〇可以載波形 式獲得應用程式碼。 圖1 7示思性地描繪一適於與借助於本發明所設計之光罩 起使用的微影投影裝置。該裝置包含： -輻射系統Ex、IL，其用於供應輻射之投影光束pB ^在 此特定狀況下，輻射系統亦包含一輻射源LA; 117544.doc •24· 1360021 •第一载物台（光罩台）ΜΤ， 如’主光罩）之光罩固持器，
其具備用於固持光罩ΜΑ(例 並連接至用於相對於零件PL 精確地定位光罩的第一定位構件； -第二載物台（基板台）WT，其具備用於固持基板w(例 如，光阻塗佈之矽晶圓）之基板固持器，並連接至用於相 對於零件（item)PL精確地定位基板的第二定位構件； -投影系統("透鏡")PL(例如’折射、反射或反射折射光
學系統），纟用於將光罩MA之受照射部分成像於基板W之 目標部分C(例如，包含一或多個晶粒）上。 如本文中所描繪的，裝置為透射型（亦即，具有透射光 罩）。然而，其通常亦可為（例如）反射型（具有反射光罩）。 或者，該裝置可使用另一種圖案化構件作為使用光罩的替 代；實例包括一可程式化鏡面陣列或LCD矩陣。
源LA(例如，汞燈或準分子雷射器）產生輻射光束。此光 束直接地或（例如）在已橫穿諸如射束放大器E X之調節構件 之後被送入至照明系統（例如，照明器）IL中。照明器几可 包3用於设定光束中的光強分佈之外部及/或内部徑向範 圍（一般地分別被稱為σ外部及σ内部）的調整構件AM。此 外，照明器IL通常將包含各種其它組件，諸如積光器爪及 聚光器C〇。以此方式，撞擊於光罩MA上之光束PB在其截 面中具有所要的均一性及光強分佈。 關於圖17應注意的是，源LA可在微影投影裝置之外殼 之内（例如’此通常為源lA為汞燈時的情況），但是其亦可 遠離微影投影裝置，（例如，借助於適當的引導鏡）將其產 117544.doc -25- 136002.1 生之輻射光束引導至裝置中；此後者情況通常為源la為 準分子雷射器（例如，基於KrF、ArF或F2雷射）時的狀況β 本發明涵蓋此等情況之二者。 光束ΡΒ隨後截接固持於光罩台ΜΤ上之光罩ΜΑ。橫穿光 罩ΜΑ之後，光束ρβ通過透鏡pl，該透鏡PL將光束ΡΒ聚焦 於基板W之目標部分c上。借助於第二定位構件（及干涉量 測構件IF) ’可精確地移動基板台WT，（例如）以將不同目
標部分C定位於光束pb之路徑中。類似地，（例如）在自光 罩庫以機械方式取得光罩MA之後，或在掃描期間，第一 定位構件可用以相對於光束PB之路徑而精確地定位光罩 MA。通常，載物台MT、WT之移動將借助於一長衝程模 組（粗定位）及一短衝程模組（精定位）來實現，該等模組未 在圖17中明確描繪《然而，在晶圓步進器（與步進掃描工 具相對）的狀況下，可僅將光罩#MT連接至一短衝程致動 器，或可將其固定》
所描繪之工具可用於兩種不同模式中： -在步進模式中，保持光罩台Μτ基本上固定，且一次性 地（亦即，單次"快閃"）將整個光罩影像投影於目標部分c 上。接著，在X及/或y方向上移位基板台资，使得可藉由 光束PB照射不同之目標部分C ; -在掃描模式中，除了在單女”也 J牡早人決閃中不曝光給定目標部 刀C之外，基本上應用相同情況。f j 丨月几貫傦為’先罩台MT可以 速度V在給定方向（所謂的"掃描 ^ ^ 例如y方向）上移 動，使得導致投影光束PB在光罜岑你L e h 仕尤罩衫像上掃描；同時，基板 117544.doc • 26 - 1360021 台WT同時以速度v=Mv在相同或相反方向上移動，其中M 為透鏡PL之放大率（通常，Μ=1/4或1/5)。以此方式可曝 光相對較大的目標部分C而不必在解析度上折浐。
另外，軟體可實施或辅助執行所揭示之概念。電腦系統 之軟體功能性涉及程式化（包括可執行程式碼），可用以實 施上文所描述之成像模式。軟體程式▲可由通用電腦來執 行。在操作中，程式碼及可能相關聯之資料記錄儲存於通 用電腦平臺中。然而，在其他時候，軟體可儲存於其他位 置處及/或經傳送以用於載入適當通用電腦系統中。因 此，上文所論述之實施例涉及以藉由至少一個機器可讀媒 體載運的程式碼之一或多個模組的形式存在的一或多個軟 體產品。藉由電腦系統之處理器執行此程式碼使得平臺能 夠基本上以本文中所論述並說明的實施例中所執行的方式 來實施目錄及/或軟體下載功能。
如本文中所使用的，諸如電腦或機器，，可讀媒體"之術語 係指參予提供指令至一處理器以用於執行的任何媒體。此 媒體可採取許多，形式，包括（但不限於）非揮發性媒體、揮 發性媒體及傳輸媒體。非揮發性媒體包括（例如）光碟或磁 碟’諸如作為上文所論述之祠服器平臺之一者操作的任何 電腦中之儲存設備之任一者。揮發性媒體包括動態記憶 體，諸如此電腦平臺之主記憶體％實體傳輸媒體包括同= 電纜、銅線及光纖，包括包含電腦系統中之匯流排的導 線。載波傳輸媒體可採取電信號或電磁信號，或諸如在射 頻（RF)及紅外（IR)資料通信期間產生的彼等波之聲波或光 117544.doc -27- 1360021 波的形式。因此，普通形式的電腦可讀媒體包括（例如）： 軟性磁碟、軟碟、硬碟 '磁帶、任何其他磁性媒體、CD-ROM、DVD、任何其他光學媒體、通常較少使用的媒體 (諸如打孔卡片、紙帶 '具有孔圖案之任何其他實體媒 體）、RAM、PR〇M及 EPROM、FLASH-EPROM、任何其他 s己憶體晶片或昆、傳送資料或指令之載波、傳送此載波之 ； 電纜或鏈路、或電腦可自其讀取程式碼及/或資料的任何 其他媒體。此等形式之電腦可讀媒體之若干者可涉及載運 一或多個指令之一或多個序列至一處理器以用於執行。 儘管已詳細描述並說明本發明，但是應清楚地瞭解本發 明僅以說明及實例來說明且說明及實例不限制獲得本發 明，本發明之範彆僅由附加申請專利範圍之請求項限制。 【圖式簡單說明】 圖1為一說明本發明、之以模式為基礎之著色處理的例示 性流程圖’該處理用於目標圖案分解成接著用於多重 照明處理中之多個區段。
的例示性目標圖案。 圖3說明本發明之著色處理之步驟12, 其中界定分段 圖4說明著色處理之步驟μ 之分段點而界定多個多邊形。 圖5說明著色處理之步驟a ILS之單一多邊形的光罩。 其中基於步驟12中所界定 其中界定一包含具有最低 117544.doc -28- 1360021 圖6說明著色處理之步驟2〇，其中為步驟18中所界定的 單一多邊形界定一干涉圖。 圖7說明目標光罩之區域將如何基於圖6中所說明之干涉 圖而被界定成獨立曝光。 圖8說明著色處理之步驟26,其中界定一含有在預定相 干半徑内具有最高（next highest)價值函數之多邊形的光 罩。
圖9說明著色處理之步驟30,其中界定一表示具有最低 ILS之單一多邊形與步驟26中所選擇之多邊形的組合之干 涉圖。 圖10說明目標光罩之區域將如何基於圖9中所說明之干 涉圖而被界定成獨立曝光。
'· V 圖11說明在已處理所有多邊形後的總干涉圖。 圖12說明目標光罩之區域將如何基於圖n中所說明之干 涉圖而被界定成獨立曝光。、
圖13說明一第二例示性目標圖案。 圖I4說明對應於圖13乏目標圖案的由本發明之處理所產 生的干涉® 圖15說明目標光罩之區域將如何基於圖14中所說明之干 涉圖而被界定成獨立曝光。 圖16為一說明一可根據本發明之一實施例實施照明最佳 化之電腦系統的方塊圖。 圖1 7示意性地描繪一適於與一借助於所揭示之概念而設 計的光罩一起使用的例示性微影投影裝置。 117544.doc -29- 1360021 【主要元件符號說明】
32、33 垂直特徵 34 多邊形區段/多邊形 35 分段點 36 較免區域 38 較暗區域 52 單一多邊形 100 電腦系統 102 匯流排 104 處理器 106 主記憶體 108 唯讀記憶體 110 儲存設備 112 顯示器 114 輸入設備 116 游標控制器 118 通信介面 120 網路鏈路 122 區域網路 124 主機電腦 126 網際網路服務提供者（ISP) 128 網際網路 130 伺服器 AM 調整構件 117544.doc -30· 1360021
c CO Ex IF IL IN LA MA MT PB PL W WT 目標部分 聚光器 輻射系統/射束放大器 干涉量測構件 輻射系統/照明器 積光器 輻射源 光罩 光罩台/第一載物台 投影光束 投影系統/透鏡 基板 基板台/第二載物台 117544.doc -31 -

Claims (1)

  1. Μ年丨月ί/丨-】修正本 十、申請專利範屬7~ 第095149996號專利申請案 中文申請專利範圍替換本(1〇1年〗月） 種刀解具有待成像於一基板上之特徵的目標圖案以 允許該等特徵於-多重曝光製程中成像之方法，該方法 包含以下步驟： ⑷將複數個料特徵分段成複數個多邊形； (b)判定該複數你）容·息瓜，> > 個夕邊形之母一者的影像對數斜率 (ILS)值； 干 (:)判定該複數個多邊形中具有最小似值之一特定多 邊形’且界定—含有該特定多邊形之光罩； ⑷以-透射交又係數之一本徵函數卷積步驟⑷中所 界定的該光罩，以洚吐 產生一苐一干涉圖，該透射交叉係數 界疋一照明系統；及 (e)基於分別對應於 寸夕瓊肜之一位置處的該第一干 /V圖之忒值而指派一相 ^ ^ , 邳伹、口 °亥4多邊形，該相位界定將 及夕重曝光製程中之哪一 丨★曝先指派給該等多邊形。 月求項1之方法，其進-步包含以下步驟： =另透:多邊形，且界定-含有該多邊形之光罩； 定之爷光罩係數之該本徵函數卷積步驟⑴中所界 " 以產生一第二干涉圖； (h) 藉由組合該第一 干涉圖；及 +涉圖與§亥第二干涉圖而產生—總 (i) 基於分別對應於該等多邊形 ffl ^ in it ^ 置處的該總干涉 ^之輕Μ派-相位給料多 多重曝光製程中之相位界疋將该 ^ 1 -人曝先指派給該等多邊形； 117544-1010110.doc 其中重複該等步驟（f)-(i)直至已處理所有多邊形為 止。 3. 如叫求項2之方法，其中步騍⑴包含使用一價值函數來 排列該等多邊形，且具有最高價值函數之該多邊形經選 擇為下一多邊形以用於處理。 4. 如请求項2之方法，其中將一第一相位或一第二相位指 派、。亥4夕邊形，經指派該第一相位之該等多邊形待於 一第一次曝光處理中成像 且經指派該第二相位之該等多 邊形待於一第二次曝光處理中成像。 。月求項4之方法’其中將該第一相位指派給在該總干 涉圖之該相應位置中具有一正值的每一多邊形，且將該 第一相位指派給在該總干涉圖之該相應位置中具有一負 值的每一多邊形。 6. 如請求項2之方法，其中該目標圖案中所含有的一單一 特徵可經分解成經指派不同相位且於不同曝光處理中成 像的多個區段。 7. —種用於控制—電腦之電腦程式產品，該電腦程式產品 包含-可由該電腦讀取之記錄媒體，記錄於該記錄媒體 上之構件係用於引導該電腦分解一具有待成像於一基板 上之特徵之目標圖案，以允許該等特徵於—多重曝光製 程令成像’該製裎包含以下步驟： (a) 將複數個該等特徵分段成複數個多邊形； (b) 判定該複數個多邊形之每一者的 办像對數斜率 II7544-l〇l〇H〇.doc (c) 判定該複數個多邊形中具有最小ILs值之一特定多 邊形’且界定一含有該特定多邊形之光罩； (d) 以一透射交又係數之一本徵函數卷積步驟（c)中所 界定的該光罩，以產生一第一干涉圖，該透射交叉係數 界定一照明系統；及 (e) 基於分別對應於該等多邊形之一位置處的該第一干 ’步圖之該值而指派一相位給該等多邊形，該相位界定將 °亥多重曝光製程中之哪一次曝光指派給該等多邊形。 8’如請求項7之電腦程式產品，其中該方法進一步包含以 下步驟： (f) 選擇另一多邊形，且界定一含有該多邊形之光罩； (g) 以該透射交又係數之該本徵函數卷積步驟（f)中所界 定之該光罩，以產生一第二干涉圖； (h) 藉由組合該第一干涉圖與該第二干涉圖而產生一總 干涉圖；及 (1)基於分別對應於該等多邊形之一位置處的該總干涉 圖之該值而指派一相位給該等多邊形，該相位界定將該 夕重曝光製程中之哪一次曝光指派給該等多邊形； /、中重複s亥等步驟（f)_(i)直至已處理戶斤有多邊形為 止。 9. 如請求項8之電腦程式產品，其中步驟（f)包含使用一價 值函數排列該等多邊形，且具有最高價值函數之該多邊 形經選擇為下一多邊形以用於處理。 10. 如請求項8之電腦程式產品，其中將一第一相位或一第 I17544-10l0110.doc ^60021 二相位指派給該等多邊形，經指派該第一相位之該等多 邊形待於一第一次曝光處理中成像且經指派該第二相位 之該等多邊形待於一第二次曝光處理中成像。 1 h如請求項10之電腦程式產品，其中將該第一相位指派給 在該總干涉圖之該相應位置中具有一正值之每一多邊 形’且將該第二相位指派給在該總干涉圖之該相應位置 中具有一負值之每一多邊形。 如明求項8之電腦程式產品’其中該目標圖案中所含有 的一單一特徵可經分解成經指派不同相位且於不同曝光 處理中成像的多個區段。 13. 一種設備製造方法’其包含以下步驟： (a)提供一至少部分地由一輻射敏感材料層覆蓋之基 板； (b)使用一成像系統提供輕射之—投影光束； ⑷使用一光罩上之一圖案以在該投影光束之截面中賦 予其一圖案； 之 ⑷將輻射之該圖案化光束投影於該糾敏感材料層 —目標部分上， 其中，在步驟⑷令，該光罩係藉由一種包含以下步 之方法而形成： ⑷將複數個該等特徵分段成複數個多邊形； (0判定該複數個多邊形戽 值 ; 夕邊形之母一者的影像對數斜率（IL 之一特定多 (g)判定該複數個多邊 形中具有最小ILS值 U7544-Wi01W.doc •4- 邊形，且界定一含有該特定多邊形之光罩； W以-透射交叉係數之一本徵函數卷積步驟⑻中所 =的該光罩’以產生一第一干涉圖，該透射交又係數 界疋一照明系統；及 ⑴基於分別對應於料多邊狀—位置處的該第一干 涉圖之戎值而指派一相位給該等多邊形，該相位界定將 14. 15. 16. “夕重曝光製程中之哪一次曝光指派給該等多邊形。 種刀解-具有待成像於一基板上之特徵的目標圖案以 允許該等特徵於-多重曝光製程中成像之方法，該方法 包含以下步驟： U)將複數個該等特徵分段成複數個多邊形；及 (b)基於分別對應於該等多邊形之一位置處的一干涉圖 之=而指派-相位或色彩給該等多邊形，該相位或色彩 界疋將該多重曝光製程中之哪一次曝光指派給該等多邊 形。 如清求項14之方法’其中該干涉圖係藉由以一透射交叉 系數之本从函數卷積一表示該等多邊形之光罩而產 生，該透射交又係數界定一照明系統。 種刀解&有待成像於一基板上之特徵的目標圖案以 許/等特徵於一多重曝光製程中成像之方法，該方法 包含以下步驟： ⑷將複數個該等特徵分段成複數個多邊形；及 一⑻基於—表示該等多邊形之光罩與—透射交叉係數之 本徵函數t 4積的結果而指派—相位或色彩給該等 H7544-I010110.doc 1360021 多邊形，該透射交又係數界定一照明系統。 17. 18. 19. 20. 21. 22. 23. 一種光罩，其使用請求項}之方法形成。 一種光罩，其使用請求項14之方法形成。 種光罩，其使用5青求項16之方法形成。 一種成像一晶圓之方法，該方法包含以下步驟： (a) 將複數個待成像之特徵分段成複數個多邊形·，及 (b) 基於刀別對應於該等多邊形之一位置處的一干涉圖 之值而指派-相位或色彩給該等多邊形，該相位或色彩 界疋將-多重曝光製程中之哪一次曝光指派給該等多邊 形。 如請求項20之方法，其中該干涉圖係藉由以一透射交叉 係數之一本徵函數卷積一表示該等多邊形之光罩而產 生，该透射父又係數界定一照明系統。 一種成像一晶圓之方法，該方法包含以下步驟： ⑷將複數個待成像之特徵分段成複數個多邊形·，及 (b)基於-表示該等多邊形之光罩與一透射交又係數之 本徵函數之一卷積的結果而指派一相位或色彩給該等 多邊形，該透射交叉係數界定一照明系統。 種用於控制f腦之電腦程式產品，該電腦程式產品 包含-可由該電腦讀取之記錄媒體，記錄於該記錄媒體 上之構件係用於弓丨導該電腦分解一具有待成像於一基板 上之特徵之目標圖案以允許該等特徵於-多重曝光製程 中成像，該製程包含以下步驟： (a)將複數個該等特徵分段成複數個多邊形；及 117544-1010H0.doc • 6 - 丄丄 ::)基於分別對應於該等多邊形之—位置處 之值而指派一相位或色彩給該等多邊形 -圖 界定將該多重曝光製程中之 位或色彩 形。 —人曝先指派給該等多邊 初之電腦程式產品，其中該 透射交又絲之-本徵函數㈣# _ 口係错由以一 ; 卷積—表不該等多邊形之光 產生，该透射交叉係數界定一照明系統。
    25·於控制—電腦之電腦程式產品，該電腦程式產品 …可由該電腦讀取之記錄媒體’記錄於該記錄媒體 上之構件係用於引導該電腦分解—具有待成像於一基板 上之特徵之目標圖案以允許該等特徵於—多重曝光製程 中成像，該製程包含以下步驟： 、 (a) 將複數個該等特徵分段成複數個多邊形；及 (b) 基於一表示該等多邊形之光罩與一透射交叉係數之
    _函數之—卷積的結果而指派一相位或色彩給該等 多邊形’該透射交又係數界定一照明系統。 117544-10l0110.doc 1360021 第095149996號專利申請案 中文圖式替換本(101年1月）
    圖1 117544-fig-1010110.doc 1360021
    ]]ΟIπ 1 1<» doc 1360021 US—ΐ.δ,'ι1\>義1*4'」·'':;·;.*於 !z·.*-____.….··.. .人 <.-... 0Jt-° -ίο 寸〇 6€〇 es lwr「f ν'φ-/^ ..ST' s- 0 [—1— US so 山"0 ?0 5 0 s'o ? 0 寸 0 6C0 &〇 ! 1-Γι--]〇Ι〇Ι K) I36002I 鉍扫WSIN'IF椒if 涵赴4-丨姊洲Irt·^屮鄉匀-cn筅 鲥扫屮wsd,i、^^< 寸® 寸ε、 寸ε、 艺' 1 1 "5'M-t KJ-1 Ο I 01 1 il.Joc 1360021
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