JP2000105452A - データ変換装置及びデータ変換方法 - Google Patents
データ変換装置及びデータ変換方法Info
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- JP2000105452A JP2000105452A JP27527898A JP27527898A JP2000105452A JP 2000105452 A JP2000105452 A JP 2000105452A JP 27527898 A JP27527898 A JP 27527898A JP 27527898 A JP27527898 A JP 27527898A JP 2000105452 A JP2000105452 A JP 2000105452A
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Abstract
(57)【要約】
【課題】フォトマスクパターンの光学的観察像をコンピ
ュータに取り込み、画像処理を施すことによって、光強
度シミュレーションのためのデータに変換する、データ
変換装置及びデータ変換方法を提供すること。 【解決手段】フォトマスクパターンの画像データ（ビッ
トマップデータ）を画像入力処理Ｓ１によってコンピュ
ータに取り込み、ＲＧＢの画像データを濃度変換処理Ｓ
２によって濃度データに変換する。次に、平滑化処理Ｓ
３で濃度データの平滑化を行い、さらに２値化処理Ｓ４
で２値のパターンデータに変換する。また、寸法計測処
理Ｓ５によって単位画素の大きさ計測し、矩形分割処理
Ｓ６でパターンデータの矩形分割を行う。これらの処理
によって、光強度シミュレーションを行うためのマスク
パターンデータに変換される。
ュータに取り込み、画像処理を施すことによって、光強
度シミュレーションのためのデータに変換する、データ
変換装置及びデータ変換方法を提供すること。 【解決手段】フォトマスクパターンの画像データ（ビッ
トマップデータ）を画像入力処理Ｓ１によってコンピュ
ータに取り込み、ＲＧＢの画像データを濃度変換処理Ｓ
２によって濃度データに変換する。次に、平滑化処理Ｓ
３で濃度データの平滑化を行い、さらに２値化処理Ｓ４
で２値のパターンデータに変換する。また、寸法計測処
理Ｓ５によって単位画素の大きさ計測し、矩形分割処理
Ｓ６でパターンデータの矩形分割を行う。これらの処理
によって、光強度シミュレーションを行うためのマスク
パターンデータに変換される。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明はコンピュータによる
光強度シミュレーションを行う際のデータの作成方法に
関するものであり、画像処理の手法を利用してフォトマ
スクパターン（以下では単にマスクパターンと称す
る。）の光学的観察像を光強度シュミレーション用のデ
ータに変換するデータ変換方法に関するものである。
光強度シミュレーションを行う際のデータの作成方法に
関するものであり、画像処理の手法を利用してフォトマ
スクパターン（以下では単にマスクパターンと称す
る。）の光学的観察像を光強度シュミレーション用のデ
ータに変換するデータ変換方法に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】従来、光強度のシミュレーションは、フ
ォトマスクを用いて半導体ウェハー上に微細パターンを
露光転写する際の解像性や寸法忠実性等の予測評価を行
うために利用されている。光強度シミュレーションは一
般に、フォトマスクパターンをもとに露光転写条件をパ
ラメータとしてウェハー上の露光分布をシミュレーショ
ンするが、マスクパターンをシミュレーション用データ
としてマスクパターンデータを作成する必要がある。従
来、光強度シミュレーションを行うためのマスクパター
ンデータの作成方法は、一般に以下の手順に従う。まず
図１（ａ）のように、２次元平面上に適当な大きさの矩
形領域を設定し、その中にマスクパターンを配置する。
次に図１（ｂ）のように適当な幅でメッシュ（格子）状
に区分し、各メッシュをパターンの内部に属するか外部
に属するかによって塗り分ける。この場合、各メッシュ
を記号化して区分するために、パターン内を１、パター
ン外を０とすることにすれば、図１（ｃ）のような行列
形式のデータとなる。このようにして作成した行列デー
タをシミュレーション用のマスクパターンデータとす
る。図１（ａ）のマスクパターンは一般にＣＡＤで設計
されたデータを用いることができその場合はＣＡＤの専
用フォーマットで配置されたパターンデータを、図１
（ｂ）及び（ｃ）のように変換すればよい、ただしその
ように変換するソフトを必要とする。
ォトマスクを用いて半導体ウェハー上に微細パターンを
露光転写する際の解像性や寸法忠実性等の予測評価を行
うために利用されている。光強度シミュレーションは一
般に、フォトマスクパターンをもとに露光転写条件をパ
ラメータとしてウェハー上の露光分布をシミュレーショ
ンするが、マスクパターンをシミュレーション用データ
としてマスクパターンデータを作成する必要がある。従
来、光強度シミュレーションを行うためのマスクパター
ンデータの作成方法は、一般に以下の手順に従う。まず
図１（ａ）のように、２次元平面上に適当な大きさの矩
形領域を設定し、その中にマスクパターンを配置する。
次に図１（ｂ）のように適当な幅でメッシュ（格子）状
に区分し、各メッシュをパターンの内部に属するか外部
に属するかによって塗り分ける。この場合、各メッシュ
を記号化して区分するために、パターン内を１、パター
ン外を０とすることにすれば、図１（ｃ）のような行列
形式のデータとなる。このようにして作成した行列デー
タをシミュレーション用のマスクパターンデータとす
る。図１（ａ）のマスクパターンは一般にＣＡＤで設計
されたデータを用いることができその場合はＣＡＤの専
用フォーマットで配置されたパターンデータを、図１
（ｂ）及び（ｃ）のように変換すればよい、ただしその
ように変換するソフトを必要とする。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記従
来の技術においてマスクパターンデータを作成するには
ＣＡＤデータ及びシミュレーション用データに変換する
作業が必要であって、ＣＡＤデータ及び変換ソフトがな
い場合にはこのような手段はとれなかった。実際には、
フォトマスクを作成した後の行程においてＣＡＤデータ
は必ずしも用意できず、一般にかなり大きな容量となる
ＬＳＩのＣＡＤデータの中からシミュレーションしたい
部分的領域を検索し、抽出する作業は困難であった。ま
た、手作業で図１（ｃ）のような実際のマスクパターン
と同じパターンデータを作成するのは大きな労力が必要
であり、実際には困難な作業であるため、シミュレーシ
ョン用のフォトマスクパターンのデータを容易に得るこ
とが課題となっていた。
来の技術においてマスクパターンデータを作成するには
ＣＡＤデータ及びシミュレーション用データに変換する
作業が必要であって、ＣＡＤデータ及び変換ソフトがな
い場合にはこのような手段はとれなかった。実際には、
フォトマスクを作成した後の行程においてＣＡＤデータ
は必ずしも用意できず、一般にかなり大きな容量となる
ＬＳＩのＣＡＤデータの中からシミュレーションしたい
部分的領域を検索し、抽出する作業は困難であった。ま
た、手作業で図１（ｃ）のような実際のマスクパターン
と同じパターンデータを作成するのは大きな労力が必要
であり、実際には困難な作業であるため、シミュレーシ
ョン用のフォトマスクパターンのデータを容易に得るこ
とが課題となっていた。
【０００４】
【課題を解決するための手段】本発明は従来の課題を解
決するためになされたものであり、請求項１によれば、
フォトマスクパターンの光学的観察像を画像情報として
取り込み、光強度シミュレーションのためのデータに変
換するデータ変換装置であって、（ａ）フォトマスクパ
ターンを光学的に撮像し、これを画像データであるビッ
トマップデータとして変換して取り込む撮像装置を備え
た画像入力手段と、（ｂ）該ビットマップデータの各画
素のＲＧＢデータを 濃度Ｉ＝（Ｒ＋Ｇ＋Ｂ）／３ により、濃度データに変換し、該濃度データのノイズを
フィルタ処理によって除去することで平滑化し、該平滑
化された濃度データを２値化し、各１画素あたりの寸法
を計測し、２値化手段されたフォトマスクパターンのデ
ータの任意の領域を矩形分割し切り出しを行う画像処理
手段と、以上の（ａ），（ｂ）のいずれも具備すること
を特徴とするデータ変換装置である。
決するためになされたものであり、請求項１によれば、
フォトマスクパターンの光学的観察像を画像情報として
取り込み、光強度シミュレーションのためのデータに変
換するデータ変換装置であって、（ａ）フォトマスクパ
ターンを光学的に撮像し、これを画像データであるビッ
トマップデータとして変換して取り込む撮像装置を備え
た画像入力手段と、（ｂ）該ビットマップデータの各画
素のＲＧＢデータを 濃度Ｉ＝（Ｒ＋Ｇ＋Ｂ）／３ により、濃度データに変換し、該濃度データのノイズを
フィルタ処理によって除去することで平滑化し、該平滑
化された濃度データを２値化し、各１画素あたりの寸法
を計測し、２値化手段されたフォトマスクパターンのデ
ータの任意の領域を矩形分割し切り出しを行う画像処理
手段と、以上の（ａ），（ｂ）のいずれも具備すること
を特徴とするデータ変換装置である。
【０００５】また、請求項２によれば、フォトマスクパ
ターンの光学的観察像を画像情報として取り込み、光強
度シミュレーションのためのデータに変換するデータ変
換方法であって、（ａ）フォトマスクパターンを光学的
に撮像し、これを画像データ（ビットマップデータ）と
して変換して取り込む画像入力ステップと、（ｂ）該画
像データの各画素のＲＧＢデータを濃度データに変換す
る濃度変換ステップと、（ｃ）該濃度データのノイズを
除去する平滑化ステップと、（ｄ）該平滑化された濃度
データを２値化する２値化ステップと、（ｅ）該２値化
された濃度データの各１画素あたりの寸法を計測する寸
法計測ステップと、（ｆ）該２値化された濃度データの
任意の領域を矩形分割し切り出しを行う矩形分割ステッ
プと、を含むことを特徴とするデータ変換方法である。
ターンの光学的観察像を画像情報として取り込み、光強
度シミュレーションのためのデータに変換するデータ変
換方法であって、（ａ）フォトマスクパターンを光学的
に撮像し、これを画像データ（ビットマップデータ）と
して変換して取り込む画像入力ステップと、（ｂ）該画
像データの各画素のＲＧＢデータを濃度データに変換す
る濃度変換ステップと、（ｃ）該濃度データのノイズを
除去する平滑化ステップと、（ｄ）該平滑化された濃度
データを２値化する２値化ステップと、（ｅ）該２値化
された濃度データの各１画素あたりの寸法を計測する寸
法計測ステップと、（ｆ）該２値化された濃度データの
任意の領域を矩形分割し切り出しを行う矩形分割ステッ
プと、を含むことを特徴とするデータ変換方法である。
【０００６】
【発明の実施の形態】下に本発明の一実施形態を図２〜
図８を用いて説明する。 （イ）図２において１は画像入力装置、２は画像処理装
置、３は表示装置、４は記憶装置である。 （ロ）画像入力装置１はフォトマスクパターンの画像デ
ータ（ビットマップデータ）を取り込むものである。画
像処理装置２は取り込んだ画像データに対して以下の各
処理を行う。 ・ 濃度データへの変換処理 ・ 濃度データの平滑化処理 ・ 濃度データの２値化処理 ・ 各１画素あたりの寸法計測処理 ・ パターンデータの矩形分割処理 表示装置３は取り込んだ画像データを表示し、また寸法
計測や矩形分割処理結果の表示を行う。記憶装置４は取
り込んだ画像や処理の結果の記憶を行う。 （ハ）次に本実施形態の処理の例を図３のフローチャー
トに基づいて説明する。
図８を用いて説明する。 （イ）図２において１は画像入力装置、２は画像処理装
置、３は表示装置、４は記憶装置である。 （ロ）画像入力装置１はフォトマスクパターンの画像デ
ータ（ビットマップデータ）を取り込むものである。画
像処理装置２は取り込んだ画像データに対して以下の各
処理を行う。 ・ 濃度データへの変換処理 ・ 濃度データの平滑化処理 ・ 濃度データの２値化処理 ・ 各１画素あたりの寸法計測処理 ・ パターンデータの矩形分割処理 表示装置３は取り込んだ画像データを表示し、また寸法
計測や矩形分割処理結果の表示を行う。記憶装置４は取
り込んだ画像や処理の結果の記憶を行う。 （ハ）次に本実施形態の処理の例を図３のフローチャー
トに基づいて説明する。
【０００７】（１）画像入力処理（フローチャートのＳ
１） まず、フォトマスクパターンの画像データを取り込む。
このときの入力画像を図４に示す。画像のファイル形式
にはいろいろな種類があるが、本発明においてはＢＭＰ
のファイル形式を使用している。ＢＭＰファイルの構造
を図５に示す。ヘッダで定義されている色数が１６色や
２５６色の場合は、ビットマップデータはカラーマップ
へのインデックス値となり、フルカラーの場合はカラー
マップは存在せずＲＧＢ値がダイレクトにおかれる。ど
ちらにおいても、各ドット毎のデータはＲ、Ｇ、Ｂの３
つの数値から構成されている。
１） まず、フォトマスクパターンの画像データを取り込む。
このときの入力画像を図４に示す。画像のファイル形式
にはいろいろな種類があるが、本発明においてはＢＭＰ
のファイル形式を使用している。ＢＭＰファイルの構造
を図５に示す。ヘッダで定義されている色数が１６色や
２５６色の場合は、ビットマップデータはカラーマップ
へのインデックス値となり、フルカラーの場合はカラー
マップは存在せずＲＧＢ値がダイレクトにおかれる。ど
ちらにおいても、各ドット毎のデータはＲ、Ｇ、Ｂの３
つの数値から構成されている。
【０００８】（２）濃度変換処理（フローチャートのＳ
２） 次に画像処理機２は今後、データ処理を行い易くするた
めに、入力した画データを濃度データに変換する。変換
は濃度をＩとしてＩ＝（Ｒ＋Ｇ＋Ｂ）／３で行うことが
できる。これにより、各ドットは０〜２５５の濃度デー
タで表される。
２） 次に画像処理機２は今後、データ処理を行い易くするた
めに、入力した画データを濃度データに変換する。変換
は濃度をＩとしてＩ＝（Ｒ＋Ｇ＋Ｂ）／３で行うことが
できる。これにより、各ドットは０〜２５５の濃度デー
タで表される。
【０００９】（３）平滑化処理（フローチャートのＳ
３） （１）と（２）までの処理によって得られる画像には細
かなノイズが含まれている。そこでこのノイズを除去す
るためにフィルタを使った平滑化を行う。使用するフィ
ルタはメディアン・フィルタというもので、図６に示す
ように対象画素の近傍を調べ、それらの中での中間値
（図６の場合は９個の中の５番目のデータ２５）を対象
画素の値と置き換える。この処理を全ての画素に対して
行う。
３） （１）と（２）までの処理によって得られる画像には細
かなノイズが含まれている。そこでこのノイズを除去す
るためにフィルタを使った平滑化を行う。使用するフィ
ルタはメディアン・フィルタというもので、図６に示す
ように対象画素の近傍を調べ、それらの中での中間値
（図６の場合は９個の中の５番目のデータ２５）を対象
画素の値と置き換える。この処理を全ての画素に対して
行う。
【００１０】（４）２値化処理（フローチャートのＳ
４） 次に、平滑化した濃淡データを０と１の２値データに変
換する。変換は、あるしきい値を決め、それと各画素の
濃淡データ値を比較して行う。これによって、光強度シ
ミュレーションを行うための２値のマスクパターンデー
タが得られる。図７に２値化処理によって得られた２値
画像を示す。
４） 次に、平滑化した濃淡データを０と１の２値データに変
換する。変換は、あるしきい値を決め、それと各画素の
濃淡データ値を比較して行う。これによって、光強度シ
ミュレーションを行うための２値のマスクパターンデー
タが得られる。図７に２値化処理によって得られた２値
画像を示す。
【００１１】（５）寸法計測処理（フローチャートのＳ
５） ２値化したマスクパターンデータを使って、光強度シミ
ュレーションを行うにはパターンの大きさを知る必要が
ある。そのため、ここではパターンの画像の１画素あた
りの大きさを計測する。単位画素の寸法計測は、マスク
のパターンのピッチがだいたい決まっていることを利用
して、次のように行う。まず、パターン表示画面上にお
かれた横線カーソルを上下に移動させて位置を決める。
移動の指示を与えるコマンドは適宜に用意してよいが、
横線カーソルの上方向への移動はこの例では便宜上
‘８’を下方向への移動は‘２’を、また位置の決定は
‘０’を入力する。このとき画面の下部にカーソル上の
パターンをグラフ化したものがエッジ番号と共に表示さ
れるので、ピッチ間のエッジの始点と終点の番号とピッ
チ幅を入力することで、ピッチ幅をエッジ間の画素数で
割った単位画素の大きさが算出される。計測の様子を図
８に示す。図８は、エッジ番号２と４の間のピッチ幅が
５μｍの場合の寸法計測処理画面である。
５） ２値化したマスクパターンデータを使って、光強度シミ
ュレーションを行うにはパターンの大きさを知る必要が
ある。そのため、ここではパターンの画像の１画素あた
りの大きさを計測する。単位画素の寸法計測は、マスク
のパターンのピッチがだいたい決まっていることを利用
して、次のように行う。まず、パターン表示画面上にお
かれた横線カーソルを上下に移動させて位置を決める。
移動の指示を与えるコマンドは適宜に用意してよいが、
横線カーソルの上方向への移動はこの例では便宜上
‘８’を下方向への移動は‘２’を、また位置の決定は
‘０’を入力する。このとき画面の下部にカーソル上の
パターンをグラフ化したものがエッジ番号と共に表示さ
れるので、ピッチ間のエッジの始点と終点の番号とピッ
チ幅を入力することで、ピッチ幅をエッジ間の画素数で
割った単位画素の大きさが算出される。計測の様子を図
８に示す。図８は、エッジ番号２と４の間のピッチ幅が
５μｍの場合の寸法計測処理画面である。
【００１２】（６）矩形分割処理（フローチャートのＳ
６） 最後に、２値化したマスクパターンデータから必要な部
分だけを矩形分割し、切り出しを行う。まず、矩形分割
する領域の大きさを32×32、64×64、128 ×128 、256
×256 の中から選択し、次に正方形カーソルを移動させ
て領域の位置を決定する。移動の指示は与えるコマンド
は、前記同様に適宜に用意してよく、この例では、正方
形カーソルの移動は上方向は‘８’を下方向は‘２’を
左方向は‘４’を右方向は‘６’を入力し、位置の決定
は‘０’を入力する。矩形分割の様子を図９の上に示
す。この結果、図９の下のように矩形分割された領域の
パターンデータが切り出される。この矩形分割したパタ
ーンデータと寸法計測処理によって求めた単位画素のデ
ータがファイルにセーブされるので、シミュレータから
このファイルを読み込んで光強度シミュレーションを行
うことができる。
６） 最後に、２値化したマスクパターンデータから必要な部
分だけを矩形分割し、切り出しを行う。まず、矩形分割
する領域の大きさを32×32、64×64、128 ×128 、256
×256 の中から選択し、次に正方形カーソルを移動させ
て領域の位置を決定する。移動の指示は与えるコマンド
は、前記同様に適宜に用意してよく、この例では、正方
形カーソルの移動は上方向は‘８’を下方向は‘２’を
左方向は‘４’を右方向は‘６’を入力し、位置の決定
は‘０’を入力する。矩形分割の様子を図９の上に示
す。この結果、図９の下のように矩形分割された領域の
パターンデータが切り出される。この矩形分割したパタ
ーンデータと寸法計測処理によって求めた単位画素のデ
ータがファイルにセーブされるので、シミュレータから
このファイルを読み込んで光強度シミュレーションを行
うことができる。
【００１３】
【発明の効果】請求項１または２に記載の発明によれ
ば、フォトマスクの光学的観察像を画像データとしてコ
ンピュータに取り込み、画像処理を施すことによって光
強度シミュレーション用のマスクパターンデータに変換
できるので、光強度シミュレーションを行うためのシミ
ュレーション用マスクパターンデータを、ＣＡＤデータ
及び変換ソフトがなくても容易に作成することができ
る。また、手作業によるマスクパターンデータの作成に
必要な労力を解消しするとともに、マスクパターンデー
タの作成ミスをなくすことができ、迅速かつ正確な光強
度シミュレーションが行えるようになる。
ば、フォトマスクの光学的観察像を画像データとしてコ
ンピュータに取り込み、画像処理を施すことによって光
強度シミュレーション用のマスクパターンデータに変換
できるので、光強度シミュレーションを行うためのシミ
ュレーション用マスクパターンデータを、ＣＡＤデータ
及び変換ソフトがなくても容易に作成することができ
る。また、手作業によるマスクパターンデータの作成に
必要な労力を解消しするとともに、マスクパターンデー
タの作成ミスをなくすことができ、迅速かつ正確な光強
度シミュレーションが行えるようになる。
【図１】従来の技術におけるシミュレーション用データ
の作成方法についての解説図である。
の作成方法についての解説図である。
【図２】本発明のマスクパターンデータ変換装置の機能
ブロック図である。
ブロック図である。
【図３】本発明の処理を示すフローチャートである。
【図４】フォトマスク写真の入力画像である。
【図５】ＢＭＰファイルの構造図である。
【図６】メディアン・フィルタの解説図である。
【図７】２値化処理によって得られた２値画像である。
【図８】寸法計測処理の画面図である。
【図９】矩形分割処理の画面図である。
１ 画像入力装置 ２ 画像処理装置 ３ 表示装置 ４ 記憶装置
Claims (2)
- 【請求項１】フォトマスクパターンの光学的観察像を画
像情報として取り込み、光強度シミュレーションのため
のデータに変換するデータ変換装置であって、（ａ）フ
ォトマスクパターンを光学的に撮像し、これを画像デー
タであるビットマップデータとして変換して取り込む撮
像装置を備えた画像入力手段と、（ｂ）該ビットマップ
データの各画素のＲＧＢデータを 濃度Ｉ＝（Ｒ＋Ｇ＋Ｂ）／３ により、濃度データに変換し、該濃度データのノイズを
フィルタ処理によって除去することで平滑化し、該平滑
化された濃度データを２値化し、各１画素あたりの寸法
を計測し、２値化手段されたフォトマスクパターンのデ
ータの任意の領域を矩形分割し切り出しを行う画像処理
手段と、以上の（ａ），（ｂ）のいずれも具備すること
を特徴とするデータ変換装置。 - 【請求項２】フォトマスクパターンの光学的観察像を画
像情報として取り込み、光強度シミュレーションのため
のデータに変換するデータ変換方法であって、（ａ）フ
ォトマスクパターンを光学的に撮像し、これを画像デー
タ（ビットマップデータ）として変換して取り込む画像
入力ステップと、（ｂ）該画像データの各画素のＲＧＢ
データを濃度データに変換する濃度変換ステップと、
（ｃ）該濃度データのノイズを除去する平滑化ステップ
と、（ｄ）該平滑化された濃度データを２値化する２値
化ステップと、（ｅ）該２値化された濃度データの各１
画素あたりの寸法を計測する寸法計測ステップと、
（ｆ）該２値化された濃度データの任意の領域を矩形分
割し切り出しを行う矩形分割ステップと、を含むことを
特徴とするデータ変換方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP27527898A JP2000105452A (ja) | 1998-09-29 | 1998-09-29 | データ変換装置及びデータ変換方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP27527898A JP2000105452A (ja) | 1998-09-29 | 1998-09-29 | データ変換装置及びデータ変換方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2000105452A true JP2000105452A (ja) | 2000-04-11 |
Family
ID=17553206
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP27527898A Pending JP2000105452A (ja) | 1998-09-29 | 1998-09-29 | データ変換装置及びデータ変換方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2000105452A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2007507891A (ja) * | 2003-10-07 | 2007-03-29 | ブリオン テクノロジーズ，インコーポレーテッド | リソグラフィシミュレーションのための装置および方法 |
| KR100860088B1 (ko) | 2005-12-29 | 2008-09-25 | 에이에스엠엘 마스크툴즈 비.브이. | 다중 노광 리소그래피 프로세스에 사용하기 위한 모델 기반기하학적 분해를 위한 방법, 프로그램물 및 장치 |
-
1998
- 1998-09-29 JP JP27527898A patent/JP2000105452A/ja active Pending
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2007507891A (ja) * | 2003-10-07 | 2007-03-29 | ブリオン テクノロジーズ，インコーポレーテッド | リソグラフィシミュレーションのための装置および方法 |
| US7873937B2 (en) | 2003-10-07 | 2011-01-18 | Asml Netherlands B.V. | System and method for lithography simulation |
| US8209640B2 (en) | 2003-10-07 | 2012-06-26 | Asml Netherlands B.V. | System and method for lithography simulation |
| US8516405B2 (en) | 2003-10-07 | 2013-08-20 | Asml Netherlands B.V. | System and method for lithography simulation |
| US8893067B2 (en) | 2003-10-07 | 2014-11-18 | Asml Netherlands B.V. | System and method for lithography simulation |
| KR100860088B1 (ko) | 2005-12-29 | 2008-09-25 | 에이에스엠엘 마스크툴즈 비.브이. | 다중 노광 리소그래피 프로세스에 사용하기 위한 모델 기반기하학적 분해를 위한 방법, 프로그램물 및 장치 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20040210 |