TWI352610B - Vapor delivery to devices under vacuum - Google Patents

Description

1352610 九、發明說明： 【發明所屬之技術領域】 蒸汽接收裝置之蒸汽 化蒸汽至高壓離子源 體裝置之製造中用於 本發明係關於傳至高真空腔室内之 的產生及傳送。本發明亦關於可離子 之傳送，該等高壓離子源提供在半導 離子植入的離子束。 【先前技術】 呆甲，常常需要

你丄 傳送至高真空系統内之裝置：必需性不穩定材料 =行零件之清潔或替換，且再填充蒸汽源及執;= :。再填充或服務之每一實例均需要分離及再。 封。卩分，及執行再鑑定測試以確保安全。 工进 具有許多嚴格要求之該蒸汽傳送之特 於生產丰逡鰣&里里安的貫例為用 +導體裝置之摻雜材料的處理 :义下具有低㈣力之高毒性固體材料::確:: 產生蒸汽流。此需要小心加熱固體以產生昇華 與其他物質接觸之e _ 仅中的不當凝結及若 員安全二Γ: 險。亦需要用以確保人 、之裝備。需要用於該蒸汽傳送之改良系統。 送於離子束植入系統之改良的蒸汽傳 /、中在離子源中離子化之蒸汽產生— 束經加速、質量分析及輸送至—目標基板離子 即，-需服務同時延長可用時間，亦 —時間。實施此操作的有利方式為藉由提 121819.doc 1352610 供使用向反應性試劑之^_试4 灿 劑之糸統組件之原位清潔，但此引入且 他安全顧慮。 /、 亦需要安全且可靠之墓锜 … 借心Kk s 士 .，“專达糸、.先，該等系統使同一設 備月匕夠與具有不同汽化溫度之許多不同源材料-起使用。 另外需要-種自獲得自供應商之饋入材料的傳送有效且 女全地進行至對加料有饋入材料之汽化器之蒸汽接收Μ 方式。較佳地以—標準化方式來實施此操作，以 確保人貝之熟悉度。 在該等情況中’具有所有前述需要的為以適於執行離子 =入之流量來將十㈣及十人職蒸汽及碳職蒸汽之 心提供至離子源以產生硼植入物的情形。 較：般地’在提供用於半導體製造之大分子的蒸汽流 广需要亦出現。實例包括以下分子的蒸汽流（例 神及磷之用於η型摻雜之大分子；用於共植入製程之碳 之大分子’其中碳抑制所植入之摻雜物質之擴散，或吸除 X)雜質，或非晶化基板的晶格；碳之大分子或晶體結 構之所謂”應力工程’’（例如，針對pM〇s電晶體應用晶體麼 縮’或針對NMOS電晶體應用晶體拉緊）之其他分子；及用 =其他目的（包括在半導體製造中之退火步驟期間之熱預 舁及不當擴散的減少）之大分子。 此等·^要應用於使用離子束植入之建構，且在適用之情 況下，亦應用於硼及用於原子層沈積或產生其他類型之層 或沈積物之其他物質的大分子沈積。用於此操作之技術可 使用例如：電聚浸沒，纟包括pLAD(電㈣雜）、肌aD(脈 121819.doc 1352610 衝電漿摻雜），及的電漿浸沒離子植入）；原子層沈積 (ALD);或化學蒸汽沈積（CVD)。 在電腦晶片、電腦記憶體、平板顯示器、光伏打裝置及 其他產品之製造中’剛描述之需要及現將描述的本發明態 樣重要地應用於在半導體基板中以較淺深度之高密度半導 體裝置（其包括(：：1^〇8及]^^〇8電晶體及記憶體π)之製造。

工業中的其他程序（其包含蒸汽或處理氣體之產生'及將 其傳送至蒸汽或氣體消耗裝置）亦可獲益於本文所呈現的 【發明内容】 作為本發明之第一態樣，蒸汽傳送系統包含-高真空妒 可料地安裝於該高真空腔室内之蒸汽接收裝置及 :界定：蒸汽流徑之流動界面裝£，該流動界面裝置包 二—疋位於該真空腔室外側之流徑界定部分；及—自外 側大出至該高真空腔室中之流

疋得廷延伸部分，該傳 达k伸。卩分具有一外部，該 一 Λ外^經饮封至該高真空腔室之 土 ’ s亥咼真空腔室外側之該户 ,兮士、 哀机徑的部分經構造以將蒸汽 ?、、、>飞源運輸至該傳送延伸邻八.η 垃甘士》 伸邛分，及—可分離流動連 關脾夕χ '與遠可移除蒸汽接收裴置相 關聯之入口通路間之該高真空 卢 至内，該系統使在該連接 處之任何成漏能夠進入該真空腔室内的真空。 本發明之此態樣之建構可具 ^ JA- at 3Ε a 特徵中的一或多者： 又π接收裝置具有一大體水 轲Η ·Α ^ β 十之用於移除及安裝之路 k，且k動界面裝置經安裝 於°亥路從下方之不干擾蒸汽接 1218l9.doc 1352610 收裝置之移除及安裝運動的適當位置之位準處。 傳送延伸部分大體向上地突出至高真空腔室中。 咼真空腔室内之蒸汽接收裝置為高壓離子源，且界面裝 置經構造以將可離子化蒸汽傳導至蒸汽接收裝置。 x 真空腔室外側之界面裝置的部分包含—界定蒸汽路徑之 -部分之熱傳導主體，該傳導主體與—電加熱器相關聯。 真空腔室外側之界面裝置的部分界定至少兩個蒸汽接收 界面’於每-蒸汽接收界面處界定一用於加熱汽化器的安 裝台’该界面裝置具有用於將蒸汽自該等汽化器中之每— 者經由傳送延伸部分傳送至蒸汽接收裝置的通路。 界面裝置包括一經構 > 以动At ώ、友口。 稱以以致此自 >飞化為之流量選擇的閥 糸統。 =於以經構造以麵過至蒸汽接收裝置之所要流動壓力 之壓力下來產生蒸汽之汽化器的使用，一

動界面裝置之流徑中以哨…e ^ ^ ",L 裝置的流量。 ㈣經由傳送延伸部分至蒸汽接收 在蒸汽接收裝置為—雜 緣套管安裝於真二： 況下，離子源經由電絕 移除而無流動界面裝置干父動界面裝置以致能離子源之 子源側上且在離子诉之移二方式電定位於絕緣套管之離 流動界面裝置由-安外°在—較佳情形中， 裝構所支撐，該安裝結構為了支撐 ::::_管，且在-尤其較佳之實例中，安裝結 ί，：Γ:，離子源安裝於該安裝環…在-較佳情 该裝置懸掛於離子源之移除及安裝的路徑下方。在 121819.doc

1U 另一情形中，至少門拉，，_ 0接地經由離子源之移除路徑外的安裝 結構來支標呈解離坡® + 裝置之形式的反應性氣體源，例如’解 離裝置懸掛於流動界 —# 面袭置’该流動界面裝置接著懸掛於 女裝結構。較佳地， 流動界面裝置界定心路徑之蒸汽入口痒處’ ^ ^ ^ ^ 用於可移除地安裝用於汽化固體材料 之加熱a化器的台，# …错此由流動界面裝置來支撐汽化器， ==接著懸掛於安裝結構。在-較佳情形中， 抓動界面裝置在用 材# ;。各除地安裝至少兩個用於汽化固體 材科之加熱汽化器之 統致能經由流徑二處-有心入口埠，且一間系 各別汽化器之飞化器的流動。較佳地，專用於 共同蒸汽傳::: =的獨:蒸汽一合併成-同通路定位，及— 、工制崧a流量之共同節流閥沿共 又，在發明之：㈣:系統經提供用於控制節流闕。 置能夠藉由沿-路上及態樣之較佳建構中’蒸汽接收裝 及移除，且目對移動而相對於真空腔室來安裝 於該真空腔室内之、“專送I伸部分的終端部分安置 之其各別安裝及、田位置處以在沿蒸汽接收裝置之路徑 入Λ、 " 除移動期間由蒸汽接收梦詈的社媒决 5及分離。在較佳建構中，3置的結構來喷 一彈簧負心輪部杜# 伸。^分之終端部分包含 動來移位從而與蒸汽接收蒸汽接收裝置之移 另外，在發明之楚 、t表面形成-密封部分。 裝置為_離子源，及態樣之較佳建構中，蒸汽接收 聯，且當該離子 ^裝置與反應性清潔氣體源相關 1時，經由傳送突出物之-部分延 】21819.doc 1352610 伸至離子源之蒸汽通路經調適以傳送來自汽化器之固體衍 生的洛汽用於離子化，且當該離子源經去能時，傳送突出 物之一部分界定致能自反應性清潔氣體源至離子源之反應 陡β潔氣體之流動的通路。較佳地’反應性氣體源為用於 解離前驅氣體或蒸汽流來產生反應性氣體流的裝置，較佳 也其為經構造以解離前驅氣體或蒸汽流來產生反應性氣體 流的補充電漿腔室。

又，藉由瘵汽接收裝置（離子源），蒸汽路徑較佳地提供 於熱傳導主體内’該熱傳導主體界定一用於可移除地接收 "器且與/飞化器連通之安裝台，存在一經調適以加 熱傳導主體之加熱系統。在較佳實例中，流動界面裝置在 用於至少兩個汽化器的安裝台處具有蒸汽人口4，且較佳 亥裝置與組汽化器組合，其中該組中的一個汽化器 專用於十戦以—汽化器專用於十八蝴烧。

根據本發明之另-態樣，提供-包括-定位於與一蒸汽 :::統組合之高真空外殼内之離子植入離子源的離子植 =子源系其包含：至少一汽化器，該汽化器經構 &以將一固體饋入材料加埶 ，、 "，、α化▲度來產生待離子化 之l >飞，及一蒸汽通路，該 之蒸汽的接㈣延伸至㈣;; 汽化器 來自… 離子源，該蒸汽通路經配置以傳送 -雷㈣I# l 於離子化，㈣子源經由 ' g及連接至套管之安穿么士 — π 内α'Ή 裝π構而女裝於真空外殼 内離子源為可自套管及外 能雜孚.、盾々你 除的’洛π傳送系統以致 -離子源之移除而無蒸汽 丁復之方式電定位於絕 i2I819.doc ^套S的離子源側上，J_由離子源之移除路徑外的離子源 女裝結構所支撑。 本發明之此態樣之建構可具有以下特徵中的—或多者： 亦至少間捿地由離子源之移除路徑外之安裝結構來支撐 與離子源相關聯的反應性清潔氣體源。 ^汽通路之傳送延伸部分延伸至真空外殼的真空中之 :二：置’以由暴露於高真空之嚙合區域處之離子源結構 :D:刀離’猎此在嚙合區域處之毒性蒸汽的洩漏對技 工、’不造成危險。較佳地，汽化器經構造 源之所要流動壓力之壓力下來產 ^子 蒸汽通路中以調節至離子…仏—括於 絲心扭 1，包括節流閥之蒸汽通 路提供於一熱傳導主體中， ^ 中存在—經調適以將傳導主體維 、 U '飞之汽化器的溫度以上之、、®声的A祝/ 僂藤Φ舻辟也 之，皿度的加熱糸統，該 傳導主體懸掛於安裝結構。又 至少兩個汽化f k佳地，科主體在用於 飞匕益之文裝台處界定装、、占λ ώ ^ 处介疋蒸，飞入口埠，且在傳導主 。。4自各別入口之流動通路，且一閥系統致能自气化 了I選擇。有利地為專用於各別汽化器之獨 共同蒸汽傳送通路，用於控制蒸汽 ^, 及棱供用於產生蒸汽的控制系试 包括一用於變化撰中】系、·充 ^ 電加熱位準的受控電力電 乂 ，路徑為大體上水平的， 路徑下方不干擾 1寻导主體女裝於該 卞耰離子源女裝及移除移動之 根據發明的另—能强A 1罝處。 室，該真空腔室二 系統包含：―真空腔 可移除離子源及-用於來自該離子 12l8I9.doc • 14 - 1352610 源之離子的束線；一加熱之蒸汽傳 俵这壯@ , 衣置该加熱之蒸汽 傳廷裝置經構造以肖可離子化蒸汽 、★描 吁疋王巧離子源，該篸 几傳送裝置界定一用於一汽化 ‘·、 兮私 盗早兀之安裝台及一用於至 忒雒子源之一受控蒸汽流的通路 Ά ~ t 硌 4崧八傳送裝置經構造 擾，立以致能㈣子源之移除而無該蒸汽傳送裝置的干 本發明之此態樣之建構可具有以下特徵中的一 置由亦支標離子源之電絕緣套管來大體上支樓蒸汽傳送裝 该蒸汽傳送裝置至真空腔室中僂 遠垃$ 傳廷延伸部分可移除地 接至腔室内之離子源的入口通路。 該蒸汽傳送裝置包含一放置控制 閱的加熱傳導金屬閥塊。@至離子源之蒸汽流量之 d:及描述中闡明τ前述特徵之-或多個建構之 、·田即。藉由描述及圖式且藉由申請 再 ^ 專利範圍，本發明的4 他特徵、目標及優點將顯而易見。 * 、，、 【實施方式】 /看圖1，蒸；^傳送系統之流動 空腔官9Π Β ^ ^ 劝界面裝置10連接至高真 至20,且包含一定位於真空腔 突屮5古〜a丄 丨风分8，及一 至真工脸至中的延伸部分9。 _ M* . 面裝置10之部分8提供 女裝C» 12，在該安裝台12處，一 ’、 安裝於-氣密界面Ϊ處。 ^化器Η可移除地 >飞化器14具有罐型，其具有一含 斗立JL , Θ 4寺〉飞化之固體饋人；bi* 料之加料的底部區 體貝入材 多之頂部部件。頂部部件與 I218l9.doc 1352610 在19處所圖解展示之汽化器加熱器相關聯。界面系統包括 一加熱益控制電路33，該加熱器控制電路33控制至汽化器 力:熱器（其由饋人材料產生蒸汽）的電力Pm。蒸汽流經16°自 汽化器經由界面I、經由鄰近之停止閥15、自此經由部分8 ^延伸部分9而延伸於界面裝置1〇中。延伸部分9在真空緊 氆之岔封部分21處密封至真空腔室2〇的外殼。 j密封之可分離連接形成於延伸部分9與高真空腔室内 之热》飞接收裝置22間。此連接點稱作界面π。 藉由此配置，使得在不干擾流動界面裝置10至高真空腔 室20之外殼之連接處的密封部分21的情況下，外部汽化器 14及蒸汽接&裝置22的迅速移除及服務為可能的。即便為 了執订U接收裝置22之服務而在界面„處之重複流動斷 開及再連接，界面Π會由於其位置而不致對工作人員造成 潛在沒漏危險。在可能發生茂漏之任何程度上，被約 束於间真空腔室20内’且由其真空泵及關聯的流出物處理 糸統2 5來移除。 在系統之k佳建構中，在界面11處，藉由蒸汽接收裝置 之安裝移動來在高真空腔室内實施連接。在圖丨之實例 中，藉由沿路徑A移動直到裝置22在可卸連接23處密封於 真空腔室20之表面上為止來安裝蒸汽接收裝置22。當藉由 此運動來安裝蒸汽接收裝置時，蒸汽接收裝置22經構造以 在真空腔室20内於界面π處與延伸部分9嚙合且密封。舉例 而D藉由匹配緊密配合之表面，蒸汽接收裝置可經構造 以有效形成一迷宮式真空密封部分。類似地，蒸汽接收裝 I218l9.doc 丄乃261〇 置22構造為在不干擾流動界面裝置1〇與真空腔室2〇之外殼 的雀封部分2 1的情況下，可以破壞界面II處之密封部分之 方式藉由沿路徑A的相對運動來將蒸汽接收裝置22自真空 腔室移除。 圖1A-1C說明了在高真空腔室2〇|内於界面][1處形成該密 封邛分之機構。高真空腔室2〇，之外殼包括一界面凸緣

20F，其以真空緊密的方式接合至外殼且具有一向下引導 之開口。 動界面裝置10’呈界定—蒸汽流動通路之熱傳導塊的 户弋仙動界面裝置1 0,包括一軸環ό，其經構造以真空緊 在之方式將塊安裝於外殼凸緣2〇F上。接合且密封至塊ι〇, P件7界疋蒸α通路的延伸部分。頸部件7自軸環6經 由腔至凸緣20F突出至高真空腔室2〇|中。 ,彈簧負載連接器密封部件5例如鐵氣龍之彈菁負 /載連接密封部件具有_在頸部件7中之通路的圓柱形部 緊密配D的官狀桿5 A。桿5 A向上延伸至蒸汽接收裝 22^安1路#中’終止於界I水平向上引導之密封表 面的頂部頭5B中。頭5B具有一角形凸輪表面％，其經安 置乂由裝置22’之對應凸輪表面22C，來喃合。 — 八中田蒸汽接收裝置22,沿路徑A移動至右邊用於 :展時’凸輪表面5C及22Ci經展示仍為分開的。在圖ib — 則進至凸輪表面嚙合之點。在圖1C中，安 對：成其中裝置22’之安裝凸緣固定於高真空腔室201的 〜'凸緣表面上’從而形成真空緊密密封部分23。已向下 121819.doc 推動彈簧偏置之鐵氟龍部件 蓄9〇， 且其扁平頂部表面嚙合畀 置22之對應的向下引導扁 口裝 -逑宮式密封部分…頸部件7中此之有效形成 从的緊密配合的圓柱形表面來形成^路宮"^接之桿 Μ A, m ^ ^ X ^ 述呂式岔封部分。 措由固定流接收裝置22,，對準 1刀 ._ s 耵旱硝部件7與蒸汽接收裝置22, 各自之通路，以致能蒸汽之傳送。 ^於蒸汽接收裝置以的移除，使該等運動反向。 ::此項技術者將理解可使用其他對 為轴向對準之喃合表面，例如 個實例 ^ * 圓錐形或金字塔形連接5f 之表面。在其他情形中，在 運㈣ 接。 成”二外喊内之部分間的密封連 再次參看圖1 ’在較佳建構攻 以接受含有待汽化之不同好4』’動界面裝置10經構造 -溫度感測器，藉由其感 …化-載運 T"發送至界面系統之汽化 "’且將溫度 ^ ^ β σ…、器控制電路33。儘管經 展不為感測早元的頂部溫度 ^ 地感測底部附近之溫度或可1 2替地將其定位以有效 用於-特定源材料，且2兩者位置。每一汽化器專 置10且；^ 载運—識別符裳置30。流動界面裝 置10具有-補充辨識裝置3 r C]4M # δ ^ 〇〇 χ 辨識裝置32將一控制信號 徒供至几化益加熱器控制 路33建立一用於力勒 ，回應於此，控制電 括一將電力t Λ ‘、別饋入材料之安全溫度範圍，其包 在力&加至特定汽化器之加 例，在一較佳J上丨艮1乍為貫 氣動界面裝置1〇經構造以接收專用 121819.doc •18- 1352610 於分別含有十硼烷及十八硼t 儿。。必 硼烷之汽化器】4丨及14„。誃箄方 匕裔載運顯著不同之識別裝置3〇。當將 一…飞 面裝置10時，辨埤举罢<3 ' 裔女裝至界 面裝置！叫辨識裂置32辨識汽化器14,或…，， 別控制信號C14'或c14”。在#%## 如供各 ^, 在適當建構中，例如，由+棚 烷汽化器所觸發之辨識信號 田十硼 ^ M 丨4使加熱器控制電路33能鈞 在用於汽化十硼烷的適當力σ埶r $ & 4 夠 田加熱靶圍内操作，且防止在約 3 5 C以上之汽化器的加献， 她峨 … 由十八硼烷汽化器所觸發之 二：紅"’’使加熱器控制電路33能夠在用於汽化 =適當加熱範圍内操作，且防止在⑽以上之汽化器的 力…專用於其他材料之其他汽化器載運 別符’以導致界面控制單元致能其他溫度範圍或=: 操作條件。 八他過田 在較佳建構中，流動界面裝置1G包含—熱料主體，直 例如由已切削之链塊形成部分來形成。當安裝間時，孰傳 導塊有效地用作該等閥的間主體。經由加熱主體之真空緊 “汽路徑自界^延伸至界面„。主體與在u處所圖^展 不之加熱器熱接觸，其由電路13來控制。電路Μ具有來自 汽化器14之溫度輸入Τμ，及來自流動界面裝置ι〇之傳導 主體的溫度輸入TIG。電路〗3經調適以控制加熱器丨丨來將 傳導主體維持在一受控溫度下，例如，維持至各別汽化器 14之溫度以上但在一安全溫度以下的溫度，例如，在正汽 化之各別材料之解離溫度以下的溫度。 系統之加熱器可具有各種形式，例如，習知電的匣式或 帶式加熱器，且可配置於一或一個以上加熱區中。舉例而 ⑵ 8l9.doc S ’有利地’可存在-用於將汽化器加熱至T,之加埶區 ;、用於加熱界面主體10的加熱區2，及用於蒸汽接收裝置 。。之：：區3。加熱區包含各別加熱器元件及溫度感測 二個配置中’在蒸汽接收裝置中，沿著自汽化器至 了：路徑’該等加熱區之溫度自T1增加至Τ2，亦即 1 γτ3’其中所#此等溫度均限於待汽化之材料之安全 限度以下的溫度Τ4。 參看圖1D，在較佳建構中，汽化器為—罐，其包含—作 ^部區或部件之熱絕緣罐主體14a，及—可卸 閉Γ件-。主體MA具有-頂部開口及—⑽如 積其用於保持待逐漸昇華之固體饋入材料的加料。 可卸頂部部件14Β併有1V11部及底料件 以及該闕)包含例如"之熱傳導材料。間定位於頂部部： 之主體叫藉此其大體上维持在主體之溫度。"件 有利地，僅電加埶讳仆 _ ，，1化β早兀的頂部部件。藉由經由可 :頂::區與底部區間之接合及經由底部區之側壁及底部： 之固艘材料加熱至一 Λ所二熱)的熱傳遞’來將罐主體内 部件之蒸汽通路的‘二。二了，:經由頂部 产 丨超過正幵華之固體源材料的溫 士先月’J所提及’將加熱器置放於汽化器罐單元之可 =區中(而將在變化溫度下之待汽化材料的加料定位 於早R底部中）對於—般熟習此項技術者可能 2 為優良實踐。可卸頂部區與底部區間之界面的熱 121819.doc -20- ⑶^10 具有相關聯熱質量之熱傳輸的距離，及回應之緩慢度，以 及至外部之熱損耗將顯現為不當的 '然而，發現藉由此配 置可獲仔大量優點’且在適當建構中發現也許看似為固有 之缺點為可避免或無關緊要的。 因此，系統確保由材料所產生之蒸汽遭遇增加溫度之通 路同時自產生之點經由閥VI且至流動界面裝置1〇，且經 =流動界面裝置10來移動。類似地，在蒸汽利用點前之蒸 /飞接收裝置22的部分可界定另一加熱區，該加熱區經調適 以遞增地保持在流動界面裝置丨〇之溫度以上的溫度。 現參看圖2之平面圖，流動界面系統具有圖丨之系統的所 有特徵（某些特徵未展示），且亦界定多個汽化器安裝台。 展示了兩個安裝台：台12A及12B。 個別流徑區段16A及16B分別自安裝台12A及12B經由裝 置10A之熱傳導主體之部分8的長度來部分地延伸。路徑 16入與163在接合點x處合併。一共同蒸汽流徑區段i6c經 由部分8A之剩餘部分且經由界面裝置1〇A之延伸部分9延 伸至界面π，其中將蒸汽傳送至蒸汽接收裝置22。裝置 中之如止閥15A及15B與個別流徑16A及16B相關聯。如由 連接線17所指示，聯鎖閥15A與15B。在所示之情形中， 以確保在可打開另一閥前必須關閉每一閥的方式來實施此 操作。此防止自路徑16A及16B之同時流動。 流動界面裝置10A從而提供在不干擾界面裝置1〇A與高 真空腔室20之密封連接2 1的情況下針對兩個汽化器之移除 及服務的迅速近接；流動界面裝置1〇A允許服務或填充一 1218l9.doc 丄 個汽化器，而含有相同源材料之另一汽化器產生蒸 ，許針對選擇性使用來安裝兩種不同物質的汽化^藉由 在界面Ϊ處提供汽化器罐與系統之剩餘部分之熱隔離 一不活動單元能夠冷卻，使得哕置 、 加料大體上並不降級。……餘之材科的任何 參看圖3,流動界面系統具有圖2之系統的所有特徵（某 :特徵未展示)。又，在共同路徑㈣中圖3之流動界面 裝置⑽包括在屢力監視器26前之流量控制裝置或節流間 24。此等裝置連接至界面系統的流量及加熱器控制裝置 28。控制裝置28連接至用於各別汽化器MA與⑽之溫产 感測線WW加熱器電力線〜與卩⑽。安裝台處之 辨識裝置32A及32B與專用於特定源材料之汽化器Μ及 ⑽上的識別裝置嫩及则相互作用。辨識裝置將汽化器 之類型的識別傳这5、;*·§» n。 寻運至机罝及加熱器控制系統28，其導致後 者來選擇適當操作限度’及將適當電力施加至各別汽化器 加熱器19。 共同路輕c中之流量控制裝置24可包含_節流閥，諸 、灸i路之蒸 '八傳導率的蝶形闊。控制系統可經構造 、才乂據在專利申睛案w〇 2〇〇5/〇6〇6〇2中所描述之協定來操 作°亥專利申請案公開於2005年7月7日，名為"Ccmtmlling he Flow of Vap0rs Sublimated f_ s〇iids"，該案之全文 以引用方式併入本文中。 ^ 寺定而。操作該節流閥以傳送一所要流量視緊靠節流 閥之上游之區域中存在所要的蒸汽壓力而^。將注意在一 1218l9.doc -22- 1352610 給定汽化器溫度下，所產生之蒸汽量(及因此其壓 加熱至汽化溫度之適當位置所剩餘之饋入材料的加料旦而 定：為了補償材料之原始加料之逐澈耗盡，控制系統二 所傳送壓力W目應地增加汽化腔室的溫度。對於汽化器系 統有利的為能夠達成增加之溫度而無較大延遲。當㈣： 作壓力及力mx達成㈣'統之所要效能時，I在= 期間為重要的，且在起動期間尤為重要。 '

單-流量控制裝置24(其位於共同路徑區段16(：中)能夠 選擇性地控制來自各別安裝台處之兩個或兩個以上汽化号 的流量。藉由聯鎖(其包括如圖2中所描述之連接閱15从 1 5B的選定位置），可防止系統—次加熱及傳輸來自—個以 上之汽化器的蒸汽。選定汽化器、裝置1〇B及裝置22經構 造以加熱至適當溫度，例如，Τι<Τ2<Τ3，其中所有此等溫 度均限於-在選；t汽化器中之特^材料之安全限度以下的

溫度A。因此，確保在適於選定汽化器中之材料之預定安 全範圍中來施加加熱’且確保適當控制與該材料相關之其 他條件。 參看圖4,其展示一系統，該系統可具有圖2或圖3之系 統的所有特徵（某些特徵未展示），且該系統具備一反應性 /月潔氣體源40，其在流動界面裝置1〇(：之主體之部分…中 與通路42連通。流動界面裝置之延伸部分9A密封至高真空 腔至20A之側壁’且突出至高真空腔室2〇A中至界面π Α。 其界定至洛 >飞接收裝置22 Α的兩個獨立流徑，用於來自共 同瘵ία路徑之崧汽之流動的路徑16C及用於反應性清潔氣 1218l9.doc -23 · 體之流動之平行但獨立的路徑42。與蒸汽接收裝置22入之

對應通路22V及22G之密封連接可移除地形成於界面IIA 處；每-者可以先前所描述之方式由迷宮式密封部分來形 成。可由高真空腔室20A之周圍側壁來含有來自任一密封 部分的洩漏。 右例如根據圖1A_1C來建構，則沿路徑A之蒸汽接收裝 之安裝及移除移動可實施及斷開經由延伸部分9A之 π及反應’d氣體通路兩者的密封連接。匹配部分之緊密 -己。表面可有效地形成如先前所描述之迷宮式冑空密封部 分。 反應性m體⑽可為反應性氣體的容器，或用於由 氣體或固體饋入材料來產生反應性氣體之構件。 5圖4之界面裝置1〇C包括-閥聯鎖裝置50,該閥聯鎖裝置 5〇防止崧汽及反應性清潔氣體同時流動至蒸汽接收裝置 在杈佳建構中，此藉由一可逆短管閥來達成，該 :逆短管閥確保在打開另一路徑前完全關閉每一路徑。在 、未展不之替代構造中（其中反應性氣體源為具有—用 j寺解離之饋入氣體之饋入氣體供應線的反應性氣體產生 器)’可以一可本At VU Λ 1 紊此供應線之方式來藉由至氣體產生器之 ，供應線而非藉由反應性氣體線來形成聯鎖裝置。在此 情形中，可猫☆认^ 珣立地形成與蒸汽接收裝置的反應性氣體連 接0 參看圖5 ’其展不了圖1之通用機構的調適，其中蒸汽接 收裝置包含一古网私 、 问屋離子源22Β ’其具有一離子化腔室90， 1218l9.doc -24 - 受控之蒸汽流5丨人至該離子化腔室9G以離子化。藉由提取 ,電極及最终能量總成94之靜電吸引來經由一提取孔％自離 子化腔至90抽取離子，以形成離子束％。離子束沿—束線 弓丨導至冑子植入器終端站(未圖示)。圖5的高真空腔室包 . ^-離：源真空外殼7〇,其具備一高麼絕緣體62(例如， . &強％氧樹脂之高壓絕緣體）。絕緣體62將主要真空外殼 4 # 71與@壓終端（在此安裝離子源22b及其蒸汽饋入系统 • :〇D及⑷電隔離。真空緊密安裝環”提供於絕緣體以之高 壓側上。其提供一用於可移除地接收離子源22丑之安裝凸 緣76且與安裝凸緣76密封的終端凸緣74。離子源結構沿轴 線A自安裝凸緣軸向延伸至真空腔室中。如圖4及圖5中之 所示’流動界面裝置10D之延伸部分9B具冑雙通路構造， f在2以處密封至安裝環72。延伸部分9B突出至高真空腔 室中至界面II-B。藉由（例如）根據圖1A]C及圖轉造用於 延伸部分9B之每-通路的界面，此界面可經定位以經由一 連接來接收可移除料源，該連接以先前所描述之方式 (例如）藉由有效形成迷宮式真空密封部分之緊密配合表面 來有效形成每一通路之密封部分。 呈特定形式之反應性清潔氣體產生器键的反應性氣體 源具有-用於材料(例如’能夠被解離之氣體氟化合物)之 饋入線41。清潔氣體產生器經構造以提供解離條件，藉此 來產生反應性清潔氣體（例如，氟或氟離子）。將其輸出引 入至界面裝置10D中的饋入通路42。如在圖4中，反應性氣 體通路4 2及蒸汽流徑丨6經過一聯鎖裝置5 〇 (諸如短管閥卜 12I819.doc •25- 1352610 其選擇性地允許一次僅經由一個通路之流動，此防止同時 流動》有利地’在流動界面裝置丨〇D中提供—節流閥24及 壓力監視器26及相關聯之控制（諸如，圖3中所提供的）。反 應性清潔氣體產生器可包含一電漿腔室或其他能夠由固體 或氣體饋入材料產生反應性清潔氣體的設備。 圖5之系統可便利地併入公開申請案w〇 2〇〇5/〇5994中所 不之離子植入器系統中的每一者中，該公開申請案名為 Method and Apparatus for Extending Equipment Uptime Ion Implantation"，在此方面，該案之内容以如同本文全 面闡明之方式以引用的方式併入本文中。 參看圖6，離子源22B及類似於圖5之蒸汽傳送系統的蒸 汽傳送系統（14-1、14-2及l〇E)可具有圖1-5之系統的所有 特徵（某些特徵未展示）。在圖6中，針對用於產生可離子化 蒸π之固體汽化器14-1及14_2來界定兩個安裝台。系統可 〃有至此所拖述之所有聯鎖裝置及安全特徵以及一控制系 統，忒控制系統經構造以控制汽化器之加熱及經由界面裝 置10Ε的流量。亦提供一具有一與界面系統相關聯之管道 102的可離子化氣體源，諸如，單原子摻雜物質之氣 體）。其在聯鎖裝置50的下游之點處實施與反應性氣體通 路42Α的連接。反應性清潔氣體之氣體通路“A及延伸部 刀9Α之相關反應性氣體通路的此下游部分從而替代地適用 於引入用於提供其他摻雜劑物質之在室溫下為氣體之可離 子化材料。可提供一聯鎖裝置（未圖示），α當可離子化赛 汽或清潔氣體之流動發生時來防止可離子化源氣體的流 121819.doc • 26 · 動。 圖6A之示音_ • 圖扎示圖6之流動特徵經併入傳導塊12〇中。 . >:=:=:致能:一，㈣)之 . 、、一忠 可在服知糸統刖或在引入另一物質之蒸 ’义刖“移除毒性或反應性蒸汽之殘餘f ‘ I’此系統㈣適於將含有领之蒸仏(例如，十㈣及 、硼烷)自几化器瓶提供至離子植入器的離子源22B。 • 二之蒸汽系統具有-類似於用於毒性氣體箱之技術的 你’此力。固體汽化器罐上之閥VI或V2經構造以遠端操 扩其因^ ’一可遠端關閉間以隔離汽化器。亦操作（例如以 吕閥早，之形式所實現的)聯鎖汽化器選擇器閥们及 V4 ’以將蒸汽傳送路虚 '、八化斋隔離。因此，在瓶隔離閥 /、汽化器選擇器閥間形成一氣介 乳體工腔。此氣體空腔將含有 :餘蒸汽’例如，Βχ蒸汽。在汽化器斷開以用於移除之 月U ’错由閥V5stV6之適當致動，經由共同管線μ以氯來 響 循環沖洗空腔，以消险庳太可At 为除原本了此洩漏至環境中之任何痕量 的B x蒸汽。 圖7中示意性展示且圖W7B中所建構之系統可與圖6 中所示之系統相同且具有其他特徵。 在界面I處形成至罐之所右楂垃 所有連接。此包括用於供電汽化 器加熱器之電力連接、用於信號傳輸溫度及汽化器狀態之 其他參數的信號連接器，及用於伙在,> 益&用於控制母-汽化器罐内之氣 動閥的壓縮空氣。 類似於圖6A，在圖7、7A；57Rtb λ, 牡園/ 7Α及7Β中，針對來自兩個汽化器 1218l9.doc -27- 1352610 (圖7中之汽化器141、圖7A及7B中之汽化器14”）的蒸汽通路 來提供聯鎖閥V3及V4。聯鎖裝置經展示為由閥元件V3及 V4(其為類似於圖6之短管閥5 〇之短管閥的部分）所建構。 包括圖6A之沖洗氣體特徵。 圖8-11展示了組合至此所描述之流動界面裝置之所有特 徵的建構。如圖10及圖11中之所示，呈包含一閥塊13〇之 熱傳導主體之形式的流動界面裝置安裝於圖8及圖9中所示 之離子源22B之安裝及移除路徑A下方。閥塊13〇界定用於 加熱罐形式之汽化器132及134的兩個安裝台，其藉由併入 女裝台之頂部區中之安裝特徵而懸掛於流動界面裝置。間 塊1 3 0具有自此等安裝台之個別流動通路區段，該等流動 通路區段合併成一引導至高真空腔室71A(圖8及8B)中的共 同通路區段。 如圖8及圖11中之所示且類似於圖所示之特徵， 界面裝置130藉由其軸環6A而自一形成真空外殼安裝環 72A之部分的安裝凸緣72F懸掛。因此，系統懸掛於高壓絕 緣體62A之高壓側上。如圖1A_1C中之所示，系統之流動 通路經由真空外殼内的凸輪連接器而連接至離子源結:。 呈電毁腔室4 0 A，之形式的反應性清潔氣體源自閥塊\ 3 〇懸 掛，處於其下方。反應性清潔氣體源經構造以解離饋入= 體來產生反應性氟。在一個較佳形式中，由離子源安裝環 72A來載運此整個總成之重量，而該離子源安裝環乃^ 由絕緣體62A支撐。 ’、 併入間塊130中的為匿式加献写乃χ. 刀…益及閥，其執行關於先前 121819.doc -28- I ^ 34之力°熱11及閥的安全及流加熱及控制功能。薄 孟屬，閉體14〇圍繞此傳送總成，I具有可打開用於近 =罩風（包括汽化器罩蓋142)。此封閉體藉由包含高壓絕 緣肢之腳而自地面支撐。因& ’整個蒸汽傳送系統經調適 以維持在離子源的高壓電位下。 將理解許多其他實體配置為可能的，該等配置仍在連接 至絕緣體之安裝環之一側或其他側處提供所描述的動作且 仍在離子源之安裝及移除之路徑外。 參看圖U，展不了汽化器單元132及134。如在圖1D中， 母- Ά化器單元具有一加熱器，且經構造以含有一固體饋 入材料且將固體饋入材料（諸如，十删烧或十八爛烧）加熱 產生待離子化之蒸汽的溫度。如在圖丄D之單元的情況 下，汽化器單元包含一具有一固體接收容積（通常約一公 升)之下罐主體14Α，及一可卸頂部閉合部件14Β。其經構 造以在-適當安裝台處自頂部閉合部件垂直懸掛。為此目 的’頂部閉合部件界定—垂直安裝表面，J^配由流動界 面裝置10(圖1)或其閥塊建構所界定之安裝台的對應表面且 與該對應表面密封。圖1D及圖i i之罐的頂部部件亦併 有一允許自罐至安裝台之蒸汽流的閥V1。頂部部件MB由 熱傳導材料（例如，鋁）形成。 此汽化器之加熱器19較佳地包含一組配合至頂部部件 14B中所形成之容器中的匣式加熱器元件。重要地，頃發 現定位於可卸頂部部件中之此加熱器提供足夠之熱來適冬 地使固體汽化。藉由加熱器的位置，加熱器用以將頂部閉 121819.doc -29- 1352610 合部件之閥維持在高於固體材料被加熱之溫度的溫度。有 利地，為此目的，閥V1之主體包含熱傳導叙，且經由#頂 部部件以與加熱器之傳導熱傳遞關係將其安置，以將經由 閥的蒸汽通路大體上維持在加熱器溫度。 在較佳建構中，僅存在—個用於汽化器之受控加執區。 错由組合中之此等特徵，發現在消耗加料時定位於汽化器 罐之頂部區令的加熱器可產生下區中之遠端加料的有效二 化。發現該構造具有一足夠低之熱質量，使得可發生盘設 定溫度之可接受的快速平衡。當操作員調整參數以起始= 調諸總系統之操作時，此允許適當操作及夠 迅速的改變。 疋疋疋夠 之發現該單元適用於(例如)藉由蝶形閥所建構 二料閥蒸汽流量控制裝置24,其中在消耗饋 上游㈣ΓΓ須逐漸增加汽化溫度以維持節流間之 的壓力（參見圖3、6及7,及相關描述）。 單==重要地，藉由此熱傳遞配置可獲得之汽化器 於自至頂部的正溫度梯度防止在蒸汽闕Vl(定位 、 至水平流之過渡處）及蒸汽傳送通路（向上入口·畜 路及水平傳送通路）中之蒸汽凝結及不利 ^ 此等特徵策略上接近於加熱器地定位 了 遠：，'化空腔之底部中之材料加料的溫度。 路:::::延:升通路終止於一水平閥座處。水平蒸汽通 接二:延伸，部分Ι4Β放置氣動波紋管_ 圖6Α中之W2)，及在圖m中稱為”機械越控機 】218l9.d〇c •30- 構"之"打開允許|，機構的一部分。 可在汽化器之頂部區丨仙令沒/ 4 ,,^ .E 卡及在間塊流動界面裝置1()中 使用適备類型的度式加熱器。 置10中 適當咖（電阻式熱1貞測峨位m 處及系統中之別虛。ό由A 早凡之底部 自底。卩感測器的用於信號之 2伸至與頂部區14B之界面處的連接器。藉由使單元之绅 女裝裝置與底部區之彼等安裝裝置對準來將此 部區的配合連接器橫向對準，且使對準頂部區向= 部區之移動嚙合連接器。 r嘀口底 在一個實例中，由遠端熱控制單元所控制之RTD溫度感 測器之調節溫度範圍的頂部可經設定為對於⑽"之⑽ 及對於B】SH22之12〇t，且對於一個實例，汽化器罐單元之 頂部中之過溫限制開關可經設定為對於B丨❶h Η汽化器罐之 5〇C及對於Βι8η22汽化器罐之14(rc。以其他饋入材料來使 用類似溫度設定，特定值視所選材料的汽化性質而定。 先則所指示，建立獨立熱區以防止汽化器罐與蒸汽接 收裝置間之熱遷移，此藉由引入一實質熱截斷來完成。此 防止熱自蒸汽接收裝置進入汽化器單元及干擾汽化器罐單 兀的熱控制系統。又，由於此熱截斷之存在，所安裝之汽 化器罐單元可在經去能且其外部熱絕緣經移除後相對快速 地冷卻，儘管蒸汽接收裝置（汽化器罐單元安裝至其）較熱 且與另一附著汽化器單元在溫度下連續操作。儘管流動界 面裝置（閥塊）的連續加熱狀態，但技工可立刻處理經去能 之汽化器罐單元用於移除及替換。或者，可將冷卻單元留 121819.doc 1352610 入材料安全生產離子束， 硼烷（Βι〇ΗΜ)及十八硼烷 所描述之系統適於由大分子饋 該等饋入材料包括含有（諸如）十 (b〗sh22)之化合物的硼。 如本文所描述，圖7之系銥复古& v 之系統具有兩個氣體傳送源，來自

=性清潔氣體源之氣體與來自蒸汽傳送系統之幕汽 閥早π來實現)’使得此等兩個流決不可交又 匕栺述了本發明態樣之許多建構 、 …、，"V / /¾ Jt里解可 脫離本發明之精神及範 ^ Ρ水貫轭各種修改。 ，八他建構在以下申請專利範圍之範疇内。 【圖式簡單說明】 圖1為包含—外部汽仆器、_ y- . 收f置及… “真空腔室内之蒸汽接 收裝置及一在此專組件間之流動 的示意性側視圖。 ’以傳迗配置 圖1a、1B及1C為圖i之高真空腔室 的圖㈣$。 Η之讀Κ之建構 圖1D為適用於圖1之系統中之汽化器的示意性側視圖。 圖2為具有類似於圖工之流動界面系統之流動界面系 :置的示意性仰視平面圖’該配置提供用於經由-共同基 ’飞傳送路徑來供應蒸汽之兩個汽化器的安裝台，且併有— r、凡ϋ由5亥閥系統可選擇來自兩個汽化器中之每—者 1218l9.doc -32- 1352610 之所要的蒸汽流量。 圖3為具有類似於圖2之流動界面系統之流動界面系統且 併有一流量控制及汽化器加熱系統（藉由其可維持來自兩 •個汽化器中之每一者的所要蒸汽流量）之配置的示意性仰 . 視圖。 . /圖4為具有類似於圖2及圖3之流動界面系統之流動界面 系統之配置的示意性仰視圖’該配置併有一反應性氣體源 • 及一防止流動之共連通的流動停止裝置。 圖5為具有類似於圖丨之流動界面系統之流動界面系統 (其展示為與高真空腔室内之離子源成一體）且具有—外部 反應性凊潔乳體產生器及一防止流動之共連通的流動停止 裝置之配置的示意性側視圖。 圖6為具有一離子源系統（其具有與圖2、3及4之流量控 制及雙汽化器特徵組合之圖5的特徵）之配置的示意性仰視 平面圖。 • 圖6A為建構圖6之特徵且包括一沖洗氣體配置之閥及通 路示意性圖。 圖7為類似於圖6的視圖，但展示經安裝之兩個汽化器及 .示意性地展示短管型閥（其在每一實例中使得一次僅能夠 選擇一個流徑）。 圖7A為一俯視圖，且圖7B為圖7之流動傳送系統之建構 的水平橫截面圖。 圖8、8 A及8B為在一外殼内之蒸汽傳送系統之建構的正 交圖，該等圖展示了其與離子源高真空外殼及離子源之關 121819.doc -33 - 1352610 係。 圖9、9A及10為圖8之系統的透視圖，其說明打開一罩蓋 以近接安裝於系統中之兩個汽化器。 圖11為罩蓋經移除之圖8之系統的透視圖。 【主要元件符號說明】

5 彈簧負載連接器密封部件 5A 管狀桿 5B 頂部頭 5C 角形凸輪表面 6 軸環 6A 軸環 7 頸部件 8 部分 8A 部分 8C 部分 9 延伸部分 9A 延伸部分 9B 延伸部分 10 流動界面裝置 10' 流動界面裝置 10A 流動界面裝置 10B 流動界面裝置 10C 流動界面裝置 10D 流動界面裝置 121819.doc -34- i1352610

10E 界面裝置 11 加熱器 12 安裝台 12A 安裝台 12B 安裝台 13 電路 14 汽化器 14' 汽化器 14" 汽化器 14-1 蒸汽傳送系統、 固體汽化器 14-2 蒸汽傳送系統、 固體汽化器 14A 熱絕緣罐主體、 汽化器 14B 可卸頂部區或閉合部件、汽化器 15 停止閥 15A 停止閥 15B 停止閥 16 蒸汽流徑 16A 流徑 16B 流徑 16C 共同蒸汽流徑區段 17 連接線 19 汽化器加熱器 20 高真空腔室 20' 高真空腔室 121819.doc -35- 1352610

20A 高真空腔室 20F 界面凸緣、 21 密封部分 22 蒸汽接收裝 22' 蒸汽接收裝 22A 蒸汽接收裝 22B 高壓離子源 22C' 凸輪表面 22G 通路 22V 通路 23 可卸連接、 24 節流閥、流 25 流出物處理 26 壓力監視器 28 流量及加熱 30 識別符裝置 30A 識別裝置 30B 識別裝置 32 補充辨識裝 32A 辨識裝置 32B 辨識裝置 33 加熱器控制 40 反應性清潔 40A 反應性清潔 置 電路 氣體源 氣體產生器 外殼凸緣、腔室凸緣 置 置 置 真空緊密密封部分 量控制裝置 系統 器控制裝置 、識別裝置 121819.doc -36- 1352610 40A' 電漿腔室 41 饋入線 42 通路 42A 反應性氣體通路 50 聯鎖裝置 62 高壓絕緣體 62A 高壓絕緣體

70 離子源真空外殼 71 真空外殼部件 71A 高真空腔室 72 真空緊密安裝環 72A 安裝環 72F 安裝凸緣 74 終端凸緣 76 安裝凸緣

90 離子化腔室 92 提取孔 94 提取電極及最終能量總成 96 離子束 100 可離子化氣體源 102 管道 120 傳導塊 130 閥塊 132 汽化器 121819.doc -37- 1352610

134 汽化器 140 薄月金屬封閉體 142 汽化器罩蓋 A 路徑 Bx 含有硼之蒸汽 C 1 4 控制信號 I 氣密界面 II 界面 P]4 電力 P 1 4A 加熱器電力線 P 1 4B 加熱器電力線 T,0 溫度輸入 T,4 溫度輸入 Tl 4 A 溫度感測線 T 1 4B 溫度感測線 V, 閥 V2 閥 V3 聯鎖閥 V4 聯鎖閥 V5 閥 V6 閥 V7 隔離閥 V8 隔離閥 X 接合點 121819.doc -38-

Claims (1)

1352610 申請專利範圍： 1. 一種蒸汽傳送系統，其包含一高真空腔室、—可移除地 安裝於言玄高真空腔室内之蒸汽接收裝置及一界定一蒸汽 流徑的流動界面裝置，該流動界面裝置包含：一定位於 該真空腔室外側之❹界定部分；及—自該外侧^至 該高真空腔室中之流徑界定傳送延伸部分，該傳送延伸 部分具：-外部’該外部經密封至該高真空腔室的一 亥室外側之該流徑的局部經構造以將蒸汽 接：：：：至該傳送延伸部分；及-可分離流動連 =伸=動連接部在該高真空腔室内介於該傳 送延伸部分與一虚命7λ ^ 通路門，汽接收裝置相關聯之入口 通路間，该糸統使在 空腔室内的真空。接處之任何“能夠進入該真 2. 如請求項1之蒸汽傳送系統，其中該幕汽接„置且右 一大體水平之用於移 …，飞接收裝置具有 置經安屐於該路徑下：女裝之路徑，且該流動界面裝 及安裝運㈣料位¥以干擾該^接收裝置之移除 3. 置之—位準處。 如μ求項2之蒸汽傳 向上突出至該高 ^統’其中該傳送延伸部分大體 4. J丹二腔室中。 如請求項1之蒸汽傳 蒸汽接收裝置為一古；_統’其中該高真空腔室内之該 將可離子化蒸汽傳：Γ子源’且該界面裝置經構造以 ,.^ + 迗至該蒸汽接收裝置。 .之蒸汽傳送系統，其中該真空腔室外側之該 界面裝置的部分包合 一界定該蒸汽路徑之一部分之熱傳 121819.doc 6如 傳導主體與-電加熱器相關聯。 明求们之蒸汽傳送系絲，其中該直 界面裝置的該部分界接：：外側之該 蒸汽接收界面處界定兩=接收界面，於P 界面裝置夏右田於一加熱汽化器的安裝台，該 置具有用於將蒸汽自該等汽化器 7 伸部分傳送至該蒸汽接《置的通路。 .構：求項6之蒸汽傳送系統，其中該界面裝置包括硬 構造以致能热、s + 且己枯一釦 8. 如請求項二僂自該等汽化器之流量的閱系統。 至該其搭配一經構造以在超過 之汽化器使用！：：Γ動壓力之厂坚力下來產生蒸汽 流徑中以，，Ερ流閥包括於該流動界面裝置之該 的流量：調即經由該傳送延伸部分之至該蒸汽接收裝置 9. 送系統，其中該離子― 女裝於該真空腔室内，該流動界面裝置以致能該 '、之移除而無該流動界面裝置之干擾的方式電定位 路二緣套管之該離子源側上且在該離子源之移除的， 10. 11. 12. 、月泉項9之蒸汽傳送系統，其中該流動界面裝置由/ 連接至垓電絕緣套管之安裝結構支撐。 ^ ，員1 〇之蒸汽傳送系統，其中該安裝結構為一安装 裒°亥離子源安裝至該安裝環。 、月求項1G之洛汽傳送系統，其中呈—解離裝置之形武 纟反應性氣m少間接地經由該離子源之該移除路 121819.doc 1352610 控外之η安裝結構支撐。 η.如s月求項12之蒸汽傳送系統， 流動界运裳置，m ^。_裝置懸掛於該 ⑷如請求心之^:裝置係懸掛於該安裝結構。 連接至… 統，其令該流動界面裝置在- 至遠络π路徑之蒸汽入口 安裝一田认士 早處界疋—用於可移除地 用於气化固體材料之加埶汽 ^ 化器由該产動壯 ‘ 1化盗的台，藉此該汽 X々丨L勤界面裝置支撐，ώ 該安裝結構。 D^IL動界面裝置係懸掛於 1 5.如請求項14之； …、/飞傳达糸統，其中該法 於可移除地安裝至少兩個用於：，動界面裝置在用 器之安P處且/ 化固體材料之加熱汽化 Μ σ處具有蒸汽入 流徑之來自-選定汽化器的流動。纟統致能經由請 A如請求们5之^傳送μ， 該流動界面裝置的獨…、中專用於各別汽化器之 傳送路獲，一用路^合併成-共同蒸a 、才工制？各 >飞流量之J£回 通路定位，且—松幻 /、同即流閥沿該共同 趕制系統經提供用於批 … 17.如請求们之蒸汽 ㈣亥節流閥。 藉由沿—路徑之广糸統’其中該蒸汽接收裝置能夠 移除，且該流動界品 、该真空腔室來安裝及 界面裝置之該傳诸μ从 分安置於該真空於〜 ' I伸部分的一終端邹 <至内之適當位晉泠、 裝置之路徑之龙Α 置處u在沿該蒸汽接收 a+ 各別安裳及移除移動— 裝置的結構來嘀入 d間由泫瘵汽接收 σ及分離。 I如請求項η之^傳送系統，其 終端部分包含一锴Μ μ傳送延伸部分之該 ^負載凸輪部件，該彈菁負載凸輪部 I21819.doc 1352610 :經調適.以藉由該蒸汽接收裝置之移動來移位從而與該 ?备汽接收裝置之一表面形成一密封部分。 .A如請求項!之蒸汽傳送系統，其中該蒸汽接收農置為一 . 料源;該流動界面裝置與-反應性清潔氣體源相關 聯，且當該離子源經賦能時，一經由傳送突出物之—部 . 分延伸至該離子源之蒸汽通路經調適以傳送來自一汽i 器之固體衍生的蒸汽用於離子化，且當該離子源經：能 • 時，該傳送突出物之一部分界定—致能自該反應性清= 氣體源至該離子源之反應性清潔氣體之流動的通路。、 20. 如明求項19之蒸汽傳送系統’其中該反應性氣體源為一 用於解離—前驅氣體或蒸汽流來產生—反應性: 裝置。 岐机的 21. 如請求項20之蒸汽傳送系統’其中該解離裝置為—經構 造以解離-前驅氣體或蒸汽流來產生該反應性氣 補充電毀腔室。 籲22.如請求項19之蒸汽傳送系統，其中該蒸汽路徑提供於_ ::導主體内’該熱傳導主體界定一用於可移除地接收 一》飞化器且與該汽化器連通之安裝台，存在—經調適以 加熱該傳導主體之加熱系統。 23.如β求項22之蒸汽傳送系統，其中該流動界面裝置在用 於2少兩個汽化器之安裝台處具有蒸汽入口埠。 二矢項23之^傳m該mm统與一組汽 化益組合，其中該組中之一個汽化器專用於十 另一汽化器專用於十八㈣。 且 1218J9.doc 1352610 25.-種包括—定位於_與—蒸 殼内之離子植入 于忒組合之尚真空外 含： "、.子植入器離子源系統，其包 至少-汽化器，該汽化器經構造以 加熱至其汽化声决$ ^ ^ ^ 口體饋入材料 八几化咖度來產生待離子化之蒸汽，及 洛>-L通路’該蒸汽通路自一 ^ AA ^ ^ 用於來自該汽化器之蒸 接收埠延伸至該離子源，該蒸汽通路 經配置以傳送來自該汽化 子化， u體何生的蒸汽用於離 該離子源經由一電絕緣套管及連接至該套管之 構而安裝於該真空外殼内，該 " 殼移除的， 子源為可自該套管及外 該蒸汽傳送系統以致能該離子源之移除而無該蒸汽傳 送糸統之干擾之方式電定位於該絕緣套管的該離子源側 上’且由該離子源之-移除路徑外的該離子源 支撐。 26. 如請求項25之離子源系統，其中與該離子源相關聯之一 反應性清潔氣體源亦至少間接地由該離子源之該移除路 徑外的該安裝結構來支撐。 27. 如請求項26之離子源系統’其中—傳送延伸部分自該蒸 汽通路延伸至該真空外殼的真空中之適當位置，以由暴 露於高真空之一嚙合區域處之離子源結構來嚙合及分 離’藉此使在該响合區域處之毒‘也蒸汽的&漏對技工並 不造成危險。 121819.doc 1352610 28.如請求項25之離子源系统，其_該汽化器經構造以在超 過至該離子源之所要流動壓力之壓力下來產生蒸汽，一 節流閥包括於該蒸汽通路中以調節至該離子源的流量， 包括該節流閥之該蒸汽通路提供於—熱傳導主體中，存 在-經調適以將該傳導主體維持在產生該蒸汽之該汽化 器的溫度以上之溫度的加熱系統’該傳導主體懸掛於該 安裝結構。 29.如請求項28之離子源系統，其中該傳導主體在用於至少 兩個汽化器之安裝台處界定蒸口 體内有來自各別入口之流動 該傳導主 汽化器的流量選擇。通路，且一閥系統致能自— 3〇.如請求項29之離子源系統，其 亡兮* λ „ 專用於各別汽化器之獨 二口通路合併成一共同蒸汽傳送通路， 蒸>^之該節流㈣該共同通路定位，且 於該蒸汽之產生的控制系統包括1於變化—選:用 斋之電加熱位準的受控電力電路。 /飞化 31. 如請求項29之離子源系統， 的，且該傳導主體安裳於該路,ντ體上水平 及移除移動之適當位置處，下方不干擾離子源安裝 32. =離子束植m其包 室放置一可移除離子源及一 至違真空腔 束線；-加熱之蒸汽傳送裝置，\ s亥離子源之離子的 經構造以將可離子化Η ' ’ β加熱之蒸汽傳送裝置 蒸汽傳送裝置界定一至該離子源，該 化益早凡之安裝台及一用 121819.doc 1352610 於至該離子源之一受控蒸汽流的通路，該蒸汽傳送裝置 經構造及定位以致能該離子源自其外殼之移除而無該蒸 汽傳送裝置之干擾。 33. 如請求項32之遠子束植入系統’其中該蒸汽傳送裝置大 體上由一亦支樓該離子源之電絕緣套管來支樓。 34. 如請求項33之離子束植入系統，其中該蒸汽傳送襞置至

該真空腔室中之一傳送延伸部分可移除地連接至該腔室 内之該離子源的一入口通路。 35.如請求項34之離子束植入系統，其中該蒸汽傳送裝置勺 含一放置控制至該離子源之該蒸汽流量之閥的加 金屬閥塊。 ，、、、得導 121819.doc