TWI343579B - Charge trap type non-volatile memory device and programe method thereof - Google Patents
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Description
1343579 九、發明說明: 本發明主張2007年3月14日申請之韓國專利申請案 第2007-25097號,在此倂入全文供參照。 【發明所屬之技術領域】 本發明係關於一種電荷陷捕型非揮發性記憶體元件及 其編程方法。 【先前技術】 依照包含記憶格(memory cell)之單位格的儲存格的類 型,用以儲存資料之非揮發性記憶體元件可分爲浮動閘型 非揮發性記憶體元件及電荷陷捕型非揮發性記憶體元件。 該浮動閘型非揮發性記憶體元件適用以儲存浮動閘中的電 荷,反之,該電荷閘型非揮發性記億體元件適用以堆積電 荷於現存的如氮化矽層之介電層中的陷捕上。當記憶格尺 寸減小時,該浮動閘型非揮發性記憶體元件需要高壓來編 程及抹除操作。相對地,該電荷陷捕型非揮發性記憶體元 件符合低電力與低電壓之需求,且可實現高整合度。 在電荷陷捕型非揮發性記憶體元件中,由於陷捕能量 的分佈特性,一些能階之電荷在特定記憶格上被陷捕。特 別地,陷捕電荷之能量分佈的淺陷捕電荷即使在如讀取電 壓之低電場上也容易消失,因而降低讀取持久性。 【發明內容】 因此,‘本發明針對上述問題,揭示一種電荷陷捕型非 揮發性記憶體元件之編程方法,其中施加電壓以移除施加 編程脈衝時之淺陷捕電荷。此外,本發明揭示一種施加去 1343579 陷捕脈衝之電荷陷捕型非揮發性記憶體元件。 本發明的一個觀點,爲編程電荷陷捕型非揮發性記憶 體元件之方法’其包含施加編程脈衝至選擇的記憶格;施 加去陷捕脈衝以從已施加編程脈衝之記憶格移除淺陷捕電 荷:及施加編程確認脈衝至記憶格。 本發明之另一個觀點,爲一種電荷陷捕型非揮發性記 憶體元件’包含具有電荷陷捕記憶格之記憶格陣列;及供 應去陷捕脈衝(detrap pulse)至電荷陷捕記憶格之高壓產生 器。 【實施方式】 依照本發明之特定實施例將參照附隨圖式詳細說明如 下。 第1圖爲說明一般電荷陷捕型非揮發性記憶體元件之 讀取操作期間記憶格之臨界電壓的分佈曲線圖。 介電層上淺陷捕之電荷,係於讀取操作期間,藉由施 加低準位讀取電壓而被去陷捕(亦即,釋放)。第1圖說明 編程確認上特定記憶格之臨界電壓的分佈(1)。此臨界電壓 由於讀取持久性的劣化而漸漸下降(2,3與4)。 爲了處理此問題,於施加確認電壓前但編程脈衝操作 之後,施加去陷捕脈衝以移除淺陷捕電荷。 第2圖爲應用本發明之電荷陷捕型非揮發性記憶體元 件之功能方塊圖。 電荷陷捕型非揮發性記憶體元件20 0包含:記憶格陣 列2 0 2,其具有依照電荷陷捕方法來儲存資料之記憶格; 1343579 頁面緩衝器208;Χ/Υ解碼器204與206;高壓產生器210: 指令界面邏輯單元212;指令暫存器214;位址暫存器/計 數器2 1 6 ;及10緩衝器單元220。非揮發性記憶體元件之 操作係說明如下。 在指令界面邏輯單元212方面,若晶片致能信號/CE 被失能(disabled)且寫入致能信號/WE被觸發時,該指令界 面邏輯單元212會對其響應而透過10緩衝器單元220及指 令暫存器214來接收命令信號。該指令界面邏輯單元212 係響應該命令信號來產生編程命令、抹除命令或讀取命 令。該命令信號包含用以決定非揮發性記憶體元件之操作 模式的頁面編程設定碼。同時,使從指令界面邏輯單元212 輸出之預備/忙錄反相信號/R/B失能達一預定時間週期。外 部記憶體控制器(未圖示)接收該預備/忙錄反相信號/R/B, 並識別此非揮發性記憶體元件是否在如編程/抹除/讀取之 操作狀態中。換言之,當使預備反相與忙錄反相信號/R與 /B失能時,於記憶格陣列之頁面之一上執行編程/抹除/讀 取操作。 此外,該位址暫存器/計數器216從該10緩衝器單元 220接收該位址信號,並產生列位址信號與行位址信號。 該位址信號對應於記憶格之一所包含的頁面之一。 該高壓產生器210響應編程命令、抹除命令或讀取命 令而產生偏壓,並供應偏壓至頁面緩衝器208、X解碼器 204等等。該X解碼器204以該偏壓來供應記憶格陣列之 方塊之一的記憶格陣列2 0 2,以響應列位址信號,其中該 1343579 偏壓係接收自該高壓產生器210。 該Y解碼器206透過頁面緩衝器208供應資料信號至 由記憶格陣列之方塊所分配之位元線(未圖示),以響應行 位址信號。該頁面緩衝器208閂鎖透過10緩衝器單元22〇 與Y解碼器2〇6接收之資料信號,並輸出此資料信號至由 記憶格陣列之方塊所分配之位元線(未圖示)。 在本發明之電荷陷捕型非揮發性記憶體元件中,編程 脈衝與編程確認脈衝透過高壓產生器210、X解碼器2〇4 等而被施加,及施加各種形式之去陷捕脈衝。該各種形式 之去陷捕脈衝依照本發明之實施例將說明如下。 第3圖爲說明依照本發明之實施例電荷陷捕型非揮發 性記憶體元件之編程操作期間施加電壓信號之圖式。 依照增量步階脈衝編程(IS PP)法施加編程脈衝至特定 記憶格’且同時施加去陷捕脈衝於編程脈衝與編程確認脈 衝之間。換言之,依照特定的編程脈衝來編程特定的記憶 格’但在編程操作期間,可能存在淺陷捕電荷。因此,在 移除淺陷捕電荷之後,基於此移除狀態來執行編程確認操 作。 移除如上述之淺陷捕電荷所施加之脈衝電壓被稱爲去 @ Μ脈衝。此去陷捕脈衝之電壓準位可高於施加至編程確 認上之選擇字元線的確認電壓之電壓準位。或者.,取決於 介電材料之特性,,此去陷捕脈衝可具有關於確認電壓大小 的相反方向。 雖然參照圖式將於隨後說明,可以取決於脈衝之電壓 1343579 準位與脈衝寬度之控制等各種形式來修改該去陷捕脈衝。 第3圖中所示之實施例係顯示具有大體上相同於編程 確認脈衝之電壓準位的去陷捕脈衝。此去陷捕脈衝可具有 一電壓準位,其低於編程脈衝之電壓準位,但大體上相同 於編程確認脈衝之電壓準位。在此情況下,去陷捕脈衝之 脈衝寬度大體上相同於編程確認脈衝之脈衝寬度。 第4圖爲說明依照本發明之另一實施例的電荷陷捕型 非揮發性記憶體元件之編程操作期間施加電壓信號之圖 式。 如第4圖中所不,去陷捕脈衝具有一電壓準位,其高 於編程確認脈衝之電壓準位。 該去陷捕脈衝可具有一電壓準位,其係低於編程脈衝 之電壓準位,但高於編程確認脈衝之電壓準位。在此情況 下,去陷捕脈衝之脈衝寬度大體上相同於編程確認脈衝之 脈衝寬度。 如上所述,去陷捕淺陷捕電荷所耗費的時間量可藉由 控制去陷捕脈衝之電壓準位來縮短。 第5圖爲說明依照本發明之再一實施例電荷陷捕型非 揮發性記憶體元件之編程操作期間施加電壓信號之圖式。 如第5圖中所示,去陷捕脈衝具有一脈衝寬度,其係 寬於編程確認脈衝之脈衝寬度。在此情況下,該去陷捕脈 衝可具有一電壓準位,其係低於編程脈衝之電壓準位,但 大體上相同於編程確認脈衝之電壓準位。 1 1343579 此外’可施加額外包含第4圖之實施例之特性的去陷 捕脈衝。換言之,此去陷捕脈衝可具有一電壓準位,其係 低於編程脈衝之電壓準位,但高於編程確認脈衝之電壓準 位’且該去陷捕脈衝可具有一脈衝寬度,其係寬於編程確 認脈衝之脈衝寬度。 如上所述,可藉由控制去陷捕脈衝之脈衝寬度來縮短 去陷捕淺陷捕電荷所需之時間量。 依照本發明之另一實施例,該去陷捕脈衝可大體上具 有一電壓準位’其相同於編程操作期間施加至未選擇字元 線之通過電壓(Vpass)的電壓準位。 該去陷捕脈衝可具有一電壓準位,其係低於編程脈衝 之電壓準位,但大體上相同於通過電壓之電壓準位。 依照本發明之再另一實施例,該去陷捕脈衝可具有一 電壓準位,其係高於在編程操作期間施加至未選擇的字元 線之通過電壓。 該去陷捕脈衝可具有一電壓準位,其係低於編程脈衝 之電壓準位,但係高於通過電壓之電壓準位。 如上所述,可藉由控制去陷捕脈衝之電壓準位來縮短 針對淺陷捕電荷要去陷捕所需的時間量。 依照本發明之另一實施例,該去陷捕脈衝可具有寬於 通過電壓之脈衝寬度的脈衝寬度,該通過電壓係在編程操 作期間施加於未選擇之字元線。在此情況下,該去陷捕脈 衝可具有一電壓準位,其係低於編程脈衝之電壓準位,但 係大體上相同於通過電壓之電壓準位。 -10- 1343579 此外,該去陷捕脈衝可具有一電壓準位,其係低於編 程脈衝之電壓準位,但係烏於通過電壓之電壓準位;,且此^ 去陷捕脈衝也可具有比該通過電壓之脈衝寬度還寬之脈衝 寬度。 該去陷捕脈衝可具有一電壓準位,其係低於編程脈衝 之電壓準位,但係高於通過電壓之電壓準位。 如上所述,可藉由控制去陷捕脈衝之脈衝寬度來縮短 針對淺陷捕電荷要去陷捕所需的時間量。 鲁 依照本發明依據上述之電荷陷捕型非揮發性記憶體元 件,移除淺陷捕電荷之步驟係於編程確認操作前執行。因 此,可防止臨界電壓分佈中的變化,且可確保讀取持久性。 雖然前述說明已參照特定實施例詳細說明,但所屬& 術領域中具有通常知識者均可依照本發明而做改變與修改 是可被了解的,且均不脫離本發明與下述之申請專利範圍I 之精神與範圍。 【圖式簡單說明】 • 第1圖爲說明一般電荷陷捕型非揮發性記憶體元件之 讀取操作期間記憶格之臨界電壓的分佈曲線圖; 第2圖爲應用本發明之電荷陷捕型非揮發性記憶體元 件之功能方塊圖; 第3圖爲說明依照本發明之實施例電荷陷捕型非揮發 性記憶體元件之編程操作期間施加電壓信號之圖式; » 第4圖爲說明依照本發明之另一實施例電荷陷捕型非 揮發性記憶體元件之編程操作期間施加電壓信號之圖式; 1343579
第 5圖 爲 說 明 依照 揮發性 記憶 體 元 件 之編' 【主要 元件 符 號 說 明】 200 非 揮 發 性 記憶 202 記 憶 格 陣 列 204 X 解 碼 器 206 Y 解 碼 器 208 頁 面 緩 衝 器 2 10 高 壓 產 生 器 2 12 指 令 界 面 邏輯 2 14 指 令 暫 存 器 2 16 位 址 暫 存 器/計 220 10 I緩衝器單元 Φ:發明之再一實施例電荷陷捕型非 g操作期間施加電壓信號之圖式。 I元件 ,元 數器 220
Claims (1)
1343579 修正本丨 第096 1 2423 8號「電荷陷捕型非揮發性記憶體元件及其編 程方法」專利案 (2010年11月23日修正) 十、申請專利範圍: 1 · 一種電荷陷捕型非揮發性記憶體元件之編程方法,該方 法包含: 施加編程脈衝至選擇記憶格; 施加去陷捕脈衝至該選擇記憶格;及 施加編程確認脈衝至該選擇記憶格; 其中該去陷捕脈衝之電壓準位低於該編程脈衝之電 壓準位,且高於該編程確認脈衝之電壓準位。 2 ·如申請專利範圍第1項之編程方法,其中施加該去陷捕 脈衝’以從選擇記憶格中移除淺陷捕電荷。 3 .如申請專利範圍第1項之編程方法,其中連續重覆施加 該編程脈衝、該去陷捕脈衝及該編程確認脈衝,直到完 成編程操作。 4 ·如申請專利範圍第1項之編程方法,其中該去陷捕脈衝 之脈衝寬度寬於該編程確認脈衝之脈衝寬度。 5 .如申請專利範圍第1項之編程方法,其中該去陷捕脈衝 之脈衝寬度大體上相同於該編程確認脈衝之脈衝寬度。 6 ·如申請專利範圍第1項之編程方法,其中該去陷捕脈衝 之電壓準位低於該編程脈衝之電壓準位,且大體上相同 於通過電壓之電壓準位。 7 .如申請專利範圍第1項之編程方法,其中該去陷捕脈衝 1343579 之電壓準位低於該編程脈衝之電壓準位,且高於該通過 電壓之電壓準位。 8 ·如申請專利範圍第1項之編程方法,其中該去陷捕脈衝 之脈衝寬度係寬於該編程確認脈衝之脈衝寬度,及該去 陷捕脈衝之電壓準位低於該編程脈衝之電壓準位且大 體上相同於該通過電壓之電壓準位。
9.如申請專利範圍第1項之編程方法,其中該去陷捕脈衝 之脈衝寬度係寬於該編程確認脈衝之脈衝寬度,及該去 陷捕脈衝之電壓準位低於該編程脈衝之電壓準位且高 於該通過電壓之電壓準位。 10. —種電荷陷捕型非揮發性記憶體元件,包含: 記憶格陣列;及 高壓產生器,用以供應去陷捕脈衝至記憶格陣列中之 記憶格; 其中該去陷捕脈衝之電壓準位低於該編程脈衝之電 壓準位,且高於該編程確認脈衝之電壓準位。 11. 如申請專利範圍第1 〇項之電荷陷捕型非揮發性記憶 體元件,其中於編程脈衝之應用與編程確認脈衝之應用 間施加該去陷捕脈衝。 12. 如申請專利範圍第1 〇項之電荷陷捕型非揮發性記憶 體元件,其中該去陷捕脈衝之脈衝寬度係寬於該編程確 認脈衝之脈衝寬度。 13. 如申請專利範圍第1 0項之電荷陷捕型非揮發性記憶 體元件’其中該去陷捕脈衝之電壓準位低於該編程脈衝 -2- 1343579 之電壓準位,且大體上相同於或高於通過電壓之電壓準 位。 14. 如申請專利範圍第1 0項之電荷陷捕型非揮發性記憶 體元件,其中該去陷捕脈衝之脈衝寬度係寬於該編程確 認脈衝之脈衝寬度,及該去陷捕脈衝之電壓準位低於該 編程脈衝之電壓準位且大體上相同於或高於通過電壓 之電壓準位。
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KR101666942B1 (ko) * | 2010-08-18 | 2016-10-18 | 삼성전자주식회사 | 비휘발성 메모리 장치의 프로그램 방법과, 상기 방법을 수행할 수 있는 장치들 |
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US9218874B1 (en) | 2014-08-11 | 2015-12-22 | Sandisk Technologies Inc. | Multi-pulse programming cycle of non-volatile memory for enhanced de-trapping |
US9355714B2 (en) | 2014-09-10 | 2016-05-31 | Kabushiki Kaisha Toshiba | Nonvolatile semiconductor memory device and method of controlling the same |
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KR102411026B1 (ko) * | 2015-09-24 | 2022-06-21 | 삼성전자주식회사 | 비휘발성 메모리 장치의 동작 방법, 비휘발성 메모리 장치 및 이를 포함하는 메모리 시스템 |
US10373697B1 (en) | 2018-02-15 | 2019-08-06 | Sandisk Technologies Llc | Programming dummy memory cells in erase operation to reduce threshold voltage downshift for select gate transistors |
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Family Cites Families (6)
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---|---|---|---|---|
US6721204B1 (en) * | 2003-06-17 | 2004-04-13 | Macronix International Co., Ltd. | Memory erase method and device with optimal data retention for nonvolatile memory |
US7209390B2 (en) * | 2004-04-26 | 2007-04-24 | Macronix International Co., Ltd. | Operation scheme for spectrum shift in charge trapping non-volatile memory |
KR100606929B1 (ko) * | 2004-05-27 | 2006-08-01 | 동부일렉트로닉스 주식회사 | 플래시 메모리 소자의 프로그래밍/소거 방법 |
KR20050116975A (ko) * | 2004-06-09 | 2005-12-14 | 동부아남반도체 주식회사 | 플래시 메모리 소자 및 이의 소거 방법 |
JP2007035214A (ja) * | 2005-07-29 | 2007-02-08 | Renesas Technology Corp | 不揮発性半導体記憶装置 |
JP2007193862A (ja) * | 2006-01-17 | 2007-08-02 | Toshiba Corp | 不揮発性半導体記憶装置 |
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