TWI337187B

TWI337187B - Biaxial-optical polynorbornene-based film and method of manufacturing the same, integrated optical compensation polarizer having the film and method of manufacturing the polarizer, and liquid crystal display panel containing the film and/or polarizer

Info

Publication number: TWI337187B
Application number: TW094140029A
Authority: TW
Inventors: Won Kook Kim; Sung Ho Chun; Kyung Lim Paik; Belyaev Sergey; Malimonenko Nikolai
Original assignee: Lg Chemical Ltd
Priority date: 2004-11-15
Filing date: 2005-11-15
Publication date: 2011-02-11
Also published as: EP1812500A4; US20060105117A1; US20130334718A1; JP2010286837A; JP5587063B2; KR100762837B1; EP1812500B1; EP1812500A1; CN1946776A; JP2007534010A; US7582339B2; US20090295000A1; CN1946776B; US8801978B2; JP4943319B2; KR20060054165A; US8440117B2; TW200619248A; WO2006052116A1

Description

I8644pif.doc 九、發明說明：【發明所屬之技術領域】方法本種雙軸光學聚冰片烯式薄膜及其f造的製造方的整合光學補償偏先器及該偏= 示面板。更特定言一之種包士含該薄膜及/或該俺光器的液晶顯片稀式薄膜，I呈有▲#發明係關於種雙轴光學聚冰度方向中之負延辆、均衡之平面内延遲值及厚偏光器的液晶顯示面板。㈣及/或遠【先前技術】 “液晶顯示面板因其低功率消耗而甚至藉由電右干小時，因其小體積而需要小空間，_其輕而於搞帶，從而使其能夠廣泛地用於電視、筆記 ^ 桌上型電腦螢幕及其類似物中。同時，隨著 ^營幕區域的增加，寬視角、根據視角而抑^彩=的尚對比度及螢幕上之均衡顯示變得特別重要。為此，正在開發各種模式的液晶顯示面板’其使用扭轉向列（丁^液晶元件（liquid crystal cell)、超扭轉向列（STN )液晶元件、雙晶_TN液晶元件、垂直排列（VA)液晶元件及其類似物。所有此等液晶元件因其固有之液晶排列而具有^有之光學各向異性（optical⑽⑻⑽吖）。因此，為了補償歸因 1337187 'V 18644pif.d〇,

V

，需要一補、 vq叫哥式l與2所遲值（Rin)與厚度方向中之輯值（Rth) 1與2所給出之平面值（Rth): ⑴ (2)

Rin=(nx-ny)xd

Rth=(nz-ny)xd 其巾ηχ為薄膜平面内慢轴方向（X方向）中之折射率’ ^為垂直於薄膜平面内X方向之y方向中的折射率〜為相厚度方向（z方向）中之折射率，且d為薄膜之厚度。 ★當Rin與Rth之間存在較大差值且任一值接近於〇時， 4膜可用作-具有單軸光學各向異性之補償薄膜，意即，用作一單軸光學補償薄膜。當兩組份之絕對值大於〇時’ 4膜可用作一具有雙軸光學各向異性之補償薄膜意即，鲁用作一雙軸光學補償薄膜。該單軸光學補償薄膜被分為一滿足nx#ny ξ nz之需求的A板及一滿足nxSn/nz之需求的c 板。邊雙轴光學補償薄膜滿足ηχ#η/ηζ之需求。當適當地調整平面内延遲值（Rin)及厚度方向中之延遲值（Rth)時，一雙軸光學補償薄膜可用作A板與C板兩者，其是單軸光學補償薄膜。儘管補償薄膜之平面内延遲值可經由諸如精確拉伸之二次薄膜處理（secondary film processing)來控制，但是難以經由二次薄膜處理來控制厚度方向中之延遲值。即， ⑧ 1337187 I8644pif.doc 田厚度方向中之固有雙折射率（inherentbirefringe如e)較小時’厚度方向中之折射率可經由雙軸拉伸來控制。在此情況下’待在厚度方向中所獲得之延遲值通常小於待使用具有固有雙折料之材料在厚度方向巾所獲得的值。因此幸乂佳的是使用一在薄膜之厚度方向中具有聚合物之分子排列且在平面方向中具有互相不同之分子排列的透明材料來製造補償薄骐。詳言之，當僅考慮到補償由液晶元件所產生的延遲時，理想之補償薄膜應在液晶元件之光轴的攀鏡像中具有光軸。因此，對於使用VA液晶元件或TN液 .曰曰元件的液晶顯示裝置，其中厚度方向中之折射率大於平面方向中之折射率’需要一在厚度方向中具有負雙折射率 (negative birefringence)的負 C 板。可用於補償薄膜之聚合物包含圓盤型液晶（美國專利第5,583,679號）、在主鏈上具有平面苯基之聚醢亞胺（美國專利第5,344,916號）、在厚度方向中包含可稱作光學相位延遲劑之低分子量芳族化合物的纖維素酯薄膜（w〇 _ 2000/55657 )、聚碳酸酯薄膜（曰本專利特許公開申請案第

Hei 10-111412號）、開環聚合環狀烯烴式聚合物（作為商品名“Arton”市售的補償薄膜）等等。一合成諸如降冰片稀（norb〇rnene)之環狀單體的方法包括開環複分解聚合（ROMP)、後面是氫化之開環複分解聚合（HROMP )、與乙烯共聚合以及均相聚合 (homogeneous polymerization)。參看反應流程 1 ,可見到，儘管使用相同之單體，但是根據所使用之聚合方法的 9 ⑧ 18644pif.doc 類型而獲得具有不同結構之聚合物。此等聚合物具有不同的物理特性。反應流程1

因為藉由ROMP而合成之聚合物每一重複單元具有一不飽和鍵（unsaturated bond )’所以其具有非常差之熱穩定性及氧化穩定性且主要用作熱固性樹脂。以此方式製之熱固性樹脂可經由反應射出成形（RIM)而形成―電路板（美國專利第5,〇11，730號）。然而，除了差之熱穩定性及氧化穩定性之外，R〇MP聚合物還具有低玻璃轉移溫 ^。藉由氫化（添加氫）R0MP聚合物而獲得之Hr〇j^ 聚合物已增加了氧域錄，且通|具有比RQMp聚合物之玻璃轉移溫度高約5(rc：的玻璃轉移溫度。㈣，歸因於 =於％狀單體（環戊烧單元）之間的乙稀基，HR〇Mp聚二物仍具有低朗轉移溫度。此外，_的合成步驟、高、生產成本以及差之機械特性限制了 HROMP聚合物之商 18644pif.doc 業用途。乙烯與降冰片烯之共聚物亦具有約14〇°c或更少之低玻璃轉移溫度（德國專利第109,224號）。藉由使用均相催化劑對降冰片烯進行加成聚合而獲得之聚冰片烯式聚合物（在下文中稱作“加成型聚冰片烯式聚。物）之主鏈的每一重複單元具有一龐大的環結構。因此，其具有非常高之約之⑽它或更大的玻璃轉移溫度，該玻璃轉移溫度比ROMP聚合物或HR0MP聚合物之玻螭轉 1溫度向至少50。〇。因為其為非晶系聚合物，所以不存在知因於光散射之光損失（不同於結晶聚合物）且不存在歸因輛雙鍵之可見範圍中的光吸收。因此，其適於用作補償薄膜。此外，加成型聚冰㈣式聚合物薄膜在厚度方向中具有負雙折射率（韓國專利特許公開申 2〇04·0005593號）。在沒有雙軸拉伸之情況下，厚度方向中之大延遲甚至是藉由溶紐鑄或塗佈來充分地獲得沿一平行於薄膜平面之方向單軸地可⑽有延遲之所獲得的薄獲得，所以狗1之，t由光學補償薄膜的生產過程。可藉由單軸拉伸而 Γ于“旱度方向中及在平面方向中之延遲值的範圍亦較融化丄里型式聚合t因高玻璃轉移溫度而不易被之效應，ft 溶劑驗方法來處理。歸因於溶劑之玻璃轉移2騎_未完全錢之薄料有顯著減少 2移溫度，此使其甚至在低溫下亦能夠被拉伸。文所述，包含溶劑之薄膜甚至在低於聚合物之玻 1337187 18644pif.doc 璃轉移溫度之溫度下亦可姑至在低於聚合物之麵轉’且。含增輔之薄膜甚本專利特許公開申請索第來拉伸薄膜的方法。10重量％之溶劑 5-_號揭露了-用於案第,1 計3至10重量％時，將^的量是以固體之重量的溫度下在薄膜進行方向；於·。C或更少本專利特許公财請轉7姻=^MD)中拉伸。曰固體之重量計10重量丨虎揭路了一用於使用以法。曰本專利特許公開===: =物中使用增塑劑及2重量: 對加=。3^用广在部分地乾燥之後拉伸藉由進行溶劑鱗而獲得之薄膜的方問題，’使用增塑劑會導致所獲得之薄膜：度的溫度下拉伸經料乾燥之1時溶劑之沸點溫進行相對心 ^.J r, 3¾ II ^ ^ 6，14丨，〇75號）。〜栖截面圖（美國專利第 12 1337187 18644pif.doc 參看圖1，一 A板3及一由聚乙烯醇（pvA)組成之偏光器7順序地疊層於一液晶元件1之第一表面上。在偏光器7之一個表面上，或較佳地在兩個表面上，由三乙酿基纖維素（TAC )組成之透明保護薄膜5及9是利用一用於保邊偏光7之黏接劑來叠層。一負c板3'及一由pva 組成之偏光器7,順序地疊層於液晶元件丨之第二表面上。在偏光器7·之一個表面上，或較佳地在兩個表面上，由TAC 組成之透明保護薄膜5,及9,是利用一用於保護偏光器7之黏接劑來疊層。同時，在另一 VA液晶顯示器中，八板3 與負C板3•皆可形成於液晶元件1之一個表面上，且如圖 1中所說明之A板3之位置與負C板3,之位置可互相交換。然而，具有此結構之習知液晶顯示器1〇包含許多薄膜層，諸如液晶元件1上之A板3、負C板31、偏光器7及 7以及透明保護薄膜5及9,從而使得難以獲得薄之液晶顯 =器及簡化之製造製程。此外，TAC保護薄膜導致諸如在兩溫及歸因於其相對較高之吸濕特性之高濕度下的光沒漏及偏光度減少的問題，且具有差之耐久性。曰^專巧特許公開申請案第hei 1〇 imi2號揭露了一用於藉由單軸地拉伸使用溶液澆鑄方法而獲得之聚碳酸 S旨薄膜來製造補償㈣以為其提供雙折射率的方法。藉由使用此方法，可獲得—在被使料不具有触及剝落的延遲薄在整個薄膜上具有不顯著的延遲不均衡性且適於色彩補償（〇)k)reGmpensati()n)。然而，在聚碳酸醋之情況下’難以藉由單軸拉伸在厚度方向中實現充分之延遲值。 ⑧ 13 1337187 18644pif.doc 同時’有機聚合物之拉伸通常是在聚合物之玻璃轉移溫度或更大之溫度下進行。舉例而言，在日本專利特許公開申請案第hei 10-111412號中，聚碳酸酯薄膜於145°C至 155C的/皿度下在一加工方向（machjne_direct；i〇n)中被單軸地拉伸，戎溫度接近於聚合物之玻璃轉移溫度（約 150C)。曰本專利特許公開申請案第2〇〇ι_215332號揭露了-製造開環聚合環狀聚冰㈣式薄_方^在此方法 '中’將該開環聚合環狀聚冰片婦式薄膜（例如，作為商品名Arton市售的薄膜）充分地乾燥，且在比低玻璃轉移溫 m2rc)大至少3叱的溫度下，特別是在比該低玻璃胍又（<20〇C)大32〇C至60°C的溫度下將其拉伸。人物膜乍為補償薄膜之來自加成型聚冰片烯式聚中_“加成型聚冰片稀式薄膜，，）且 =:C或更大之高麵轉移溫度。因此，如在一般敎 :伸m設定至高於聚合物之玻璃轉移溫度時，因此易破碎。因此，此外’薄膜較脆，且充分乾燥之加成型二;稀式薄拉伸遲之雙轴光學薄膜時，可㈣各種_八有千面内延法：括製造雙轴光學聚冰片稀式薄以方邊如二氯甲貌之高揮發性低沸點溶劍 14 1337187 ¥ 18644pif.doc 冰，式聚合物溶液;在-基板上洗鑄該稀式聚合物麵；料喊賴溶液以聚冰片獲得經部分乾燥之

==力及低生產成本，僅使用高揮 = 的物方法是有_，料射町_ ••㈣在^^ 間恆定地控制經部分乾燥之薄膜中的剩餘溶劑量，且因容 ==:::難~制所獲得之_稀【發明内容】本發明提供一種雙轴光學補償薄膜，其具有及均衡之平面内延遲值且用作負C板與A板兩者，藉此促進薄液晶顯示器的生產及簡化之生產過程。曰本發明亦提供-種用於使用一單軸拉伸方法來製造雙

轴光學聚冰片烯式_的方法，其比雙轴拉伸方法更ς 且更具成本效益。本發明亦提供一種整合光學補償偏光器，其在高濕度條件下具有更好之敎性及絲率从均衡的平面内= 值’且用作-負c板…Α板以及—用於偏光器之透明保護層’藉此促進薄液晶顯示器的生產。本發明亦提供一種用於有效地製造整合光學補償偏光器之方法。本發明亦提供一種液晶顯示面板，其使用雙軸光學聚 18644pif.doc 冰片烯式薄膜或整合光學補償偏光器。根據本發明之一態樣，提供一種由加成型聚冰片烯式聚合物組成之雙軸光學聚冰片烯式薄膜，其中當nx為薄膜平面内慢軸方向（X方向）中之折射率、ny為垂直於薄膜平面内X方向之y方向中的折射率、112為薄膜厚度方向（z 方向）中之折射率、且Nz=(nx-nz)/(nx-ny)時，該薄膜滿足 nx> ny>nz 及 1$NZ$10 的兩需求。雙軸光學聚冰片烯式薄膜可具有由等式1所定義之自 30 nm至500 nm範圍内的Rin值及由等式2所定義之自-50 nm至-500 nm範圍内的Rth值。

Rin=(nx-ny)xd ⑴

Rth=(nz-ny)xd (2) 其中nx為薄膜平面内慢軸方向（X方向）中的折射率， ny為垂直於薄膜平面内X方向之y方向中的折射率，112為薄膜厚度方向（z方向）中之折射率，且d為薄膜之厚度。根據本發明之另一態樣，提供一種製造雙軸光學聚冰片烯式薄膜之方法，其包括：藉由將一聚冰片烯式聚合物溶解於一包含高沸點溶劑及低沸點溶劑之混合溶劑中來製備一組合物，其中該等兩溶劑之沸點相差20t或更大，且該高沸點溶劑的量為以該聚冰片烯式聚合物之重量計0.1 至15重量％;澆鑄且部分地乾燥該組合物以獲得一聚冰片 18644pif,doc 烯式薄膜，其包含以該聚冰片烯式薄膜之總重量計1至6 重量％的混合溶劑；及於一比高沸點溶劑之沸點小+20°C或等於該沸點的拉伸溫度下，在一與該薄膜之表面平行之方向中單軸地拉伸該經部分乾燥之薄膜，且在一大於或等於該高沸點溶劑之沸點的溫度下乾燥該經拉伸的薄膜。根據本發明之另一態樣，提供一種製造雙軸光學聚冰片烯式薄膜之方法，其包括：藉由將一聚冰片烯式聚合物溶解於一包含高沸點溶劑及低沸點溶劑之混合溶劑中來製備一包含聚冰片烯式聚合物的組合物，其中該等兩溶劑之彿點相差20。(：或更大，且該高沸點溶劑的量為以該聚冰片稀式聚合物之重量計0.1至15重量％ ;洗鑄且部分地乾燥該組合物以獲得一聚冰片烯式薄膜，其包含以該.聚冰片歸式薄膜之總重量計1至6重量％的混合溶劑；及於—比高彿點溶劑之沸點小+20°C或等於該沸點的拉伸溫度下，在兩個與該薄膜之表面平行之方向中雙軸地拉伸該經部分乾燥之薄膜，且在一大於或等於該高沸點溶劑之沸點的溫度下乾燥該經拉伸的薄膜。根據本發明之另一態樣’提供一種整合光學補償偏光器，其包含：一雙軸光學補償薄膜，其是由一加成型聚冰片歸式t合物組成，其中，g nx為薄膜平面内慢轴方向（X 方向）中之折射率、ny為垂直於薄膜平面内χ方向之y方向中的折射率、nz為薄膜厚度方向（z方向）中之折射率、且 Nz=(nx_nz)/(nx_ny)時’該薄膜滿足 ηχ>ι^>Πζ 及的兩需求；及一偏光器，其是由聚乙烯醇（pvA)組成， ⑧ 17 I8644pif.doc 其與聚冰片稀雙軸光學補償薄膜疊層並包含峨及/或雙向色染料（dichroic dye)。根據本發明之另一態樣，提供一種製造整合光學補償偏光器的方法，其包括：藉由將一聚冰片烯式聚合物溶解於一包含高沸點溶劑及低沸點溶劑之混合溶劑中來製備一包含聚冰片烯式聚合物的組合物，其中該等兩溶劑之沸點相差20°C或更大’且該高沸點溶劑的量為以該聚冰片稀式聚合物之重量計0.1至15重量°/。；澆鑄且部分地乾燥該組合物以獲得一聚冰片烯式薄膜，其包含以該聚冰片烯式薄膜之總重量計1至6重量％的混合溶劑；於一比高沸點溶劑之沸點小+20°C或等於該沸點的拉伸溫度下，在一橫向方向中單軸地拉伸該經部分乾燥之薄膜，且在一大於或等於該高沸點溶劑之沸點的溫度下乾燥該經拉伸的薄膜；及定位在橫向方向中具有光軸之聚冰片烯式薄膜及在加工方向具有吸收軸之偏光薄膜，使得該光軸垂直於該吸收軸，且使用一卷軸式（roll-to-roll)方法將其疊層。根據本發明之另一態樣，提供一種製造整合光學補償偏光器的方法，其包括：藉由將一聚冰片烯式聚合物溶解於一包含高沸點溶劑及低沸點溶劑之混合溶劑中來製備一包含聚冰片稀式聚合物的組合物’其中該等兩溶劑之沸點相差20°C或更大’且該高沸點溶劑的量為以該聚冰片烯式聚合物之重量計0.1至15重量％ ;澆鑄且部分地乾燥該組合物以獲得一聚冰片烯式薄骐’其包含以該聚冰片烯式薄膜之總重量計1至6重量％的混合溶劑；於一比高沸點溶 1337187 lS644pif.doc 工幻之/弗點小+20 C或等於該彿點的拉伸溫度下，在一加方向中單軸地拉伸該經部分乾燥之_，且在―大於或等 ^該高沸點溶劑之沸點的溫度下乾燥該經拉伸的薄膜；及丄在加工方向中具有光軸之聚冰片烯式薄膜旋轉％度，且 =位聚冰片稀式賴及在加X方向巾具有吸㈣之偏光薄、使仔該光㈣直於舰收軸，並將其叠層。若加成型 ^冰片膜具有負雙折射率，意即，拉伸方向之折射 ^小於_之橫向方向的折射率，則其可被卷軸式疊層而禾旋轉90度。战、^製：4雙軸光學聚冰Μ朗膜之方法及製造整合光貝偏光之方法中’混合溶劑可更包含以聚冰片稀式之重量計〇.1至2〇〇重量％的溶劑，該溶劑具有一 ;丨於高彿點溶劑之沸點與低沸點溶劑之沸點之間的沸點。勺八根據本發明之另一態樣，提供一種液晶顯示.面板，其 ^ 一液晶元件；一雙軸光學補償薄膜，其形成於該液 ^疋件之第—表面上；―第—保護薄膜，其形成於該補償筮犋上；一第一偏光器，其形成於該第一保護薄膜上；一弟二保護薄膜，其形成於該第一偏光器上；一第三保護薄其形成於該液晶元件之第二表面上；—第二偏光，成於該第三保護薄膜上；以及一第四保護薄膜，其形碡第二偏光器上，其中該雙軸光學補償薄膜是由加成 1水片稀式聚合物組成，且其中當ηχ為薄膜平面内χ方向中之折射率、ny為垂直於薄膜平面内χ方向之y方向中的折射率、nz為薄膜厚度方向（z方向）中之折射率、且 ⑧ 19 1337187 Νζ=(ηχ-ηζ)/(ηχ·η>ί)時，該雙軸光學補償薄臈滿足ηχ>~>ηζ 及l$Nz$l〇的兩需求。在該液晶顯示面板中，薄膜及偏光器可利用一黏接劑來疊層，且雙軸光學補償薄膜及第三保。蒦4膜可藉由一壓敏黏接劑而附著至液晶元件。此亦矸應用至以下態樣。

一第二保蠖薄膜，根據本發明之另一態樣，提供一種液晶顯示面板，其包含：一液晶元件；一整合光學補償偏光器，其形成於該液晶元件之第一表面上，其是由—鄰近於該液晶元件之雙軸光學補償薄膜及一形成於該雙軸光學補償薄膜上之第一偏光器組成，該雙軸光學補償薄膜亦作為一第一保護薄犋；一第二保護薄膜，其形成於該第一偏光器上；一第三保邊薄膜’其形成於該液晶元件之第二表面上；一第二偏光器，其形成於該第三保護薄膜上；以及一第四保護薄膜，其形成於該第二偏光器上，其中該雙軸光學補償薄膜是由加成型聚冰片稀式聚合物組成’當nx為薄膜平面内X方向中之折射率、ny為垂直於薄膜平面内X方向之y方向中的 ^射率〜為涛膜厚度方向（z方向）中之折射率、且 Ζ=(ΐνηζ)/(ΐνη〇時，該雙軸光學補償薄膜滿足ηχ>η >n2 且該第一偏光器是由包含峨或雙向另一態樣，提供一種液晶顯示面板，其 :一第一保護薄膜，其形成於該液晶元 —第一偏光器，其形成於該第一保護薄薄膜’其形成於該第一偏光器上；一雙 20 1337187 18644pif.doc 噶

V 軸光學補償薄膜，其形成於該液晶元件之第二表面上；一第三保護薄膜，其形成於該雙軸光學補償薄膜上；一第二偏光器，其形成於該第三保護薄膜上；以及一第四保護薄膜’其形成於該第二偏光器上，其中該雙轴光學補償薄膜疋由加成型聚冰片豨式聚合物組成，且當ηχ為薄膜平面内 X方向中之折射率、ny為垂直於薄膜平面内χ方向之乂方向中的折射率、〜為薄膜厚度方向（z方向）中之折射率、

且Nz=(rvnz)/(nx_ny)時’該雙軸光學補償薄膜滿足〜〉及iSNjlo的兩需求。恨佩不贫明之另曰件；―第—雙軸光學補償薄膜，其形成於。第-Ξ轴J第二ΐ面上；—第—保護薄膜，其形成於該 -保iC薄膜上；一第一偏光器，其形成於該第上；二第1護薄膜’其形成於該第一偏光器二#面卜—雙軸光學補償細’其形成於紐晶元件之第 ί薄膜上·’ —Ϊ三保護薄膜’其形成於該第二雙轴光學補以及-第四形成於該第三保護薄膜上·’ 第-其形成於該第二偏光器上，其中該合物組學償薄膜是由加成型聚冰片歸式聚垂直於薄肢二χ為溥獏平面内χ方向中之折射率、為厚度方向方向内)χ方向之y方向中的折射率、為薄臈 ^ ^ ^ ^ N^n；nz)/(n-y)^ ^ 匕似〇的兩1雙南仏薄膜滿足ηχΆ及

21 18644pif.doc 根據本發明之另-態樣，提供—種液晶齡面板，其 2楚二晶元件；-第-保護薄膜，其形成於該液晶元肢卜.一：面上」7第一偏光器’其形成於該第-保護薄人忠與h—h核，其形成於該第m上；-整偏光器’其形成於該液晶元件之第二表面上，二雙軸學補償薄膜及一形成 ^ . 、上之第一偏光器組成，該雙軸光學 ί二於:二為一第三保護薄臈；以及一第四保護薄膜，偏光器上’其中該雙轴光學補償薄膜是由力H水片烯式聚合物組成，且當ηχ為薄膜平面内X方向中之折射率、〜為垂直於薄膜平面内X方向之y方向中的折射率、ΠΖ為薄膜厚度方向（z方向）中之折射率 '且 Nz=(nx-nz)/(ivny)時’該雙轴光學補償薄膜滿足^〜及跳训的兩需求’且該第二偏光ϋ是由包含碟或雙向色染料的聚乙烯醇（pVA)組成。根據本發明之另一態樣，提供一種液晶顯示面板，其包含厂液晶元件；—整合光學補償偏光器，其形成於該液晶兀件之第-表面上’其是由—鄰近於該液晶元件之第一雙軸光學補償薄膜及一形成於該第一雙軸光學補償薄膜上之第:偏光器組成，該第一雙軸光學補償薄膜亦作為一第一保護濤臈；一第二保護薄膜，其形成於該第一偏光器上，一整合光學補償偏光器，其形成於該液晶元件之第二表面上’其是由一鄰近於該液晶元件之第二雙軸光學補償溥膜及-*形成於該第二雙軸光學補償薄膜上之第二偏光器 1337187 *κ 18644pif.doc 組成，^二雙料學補償薄膜亦作n保嗖薄膜；以及-第^轉薄膜’其形成於該第二偏光學補償薄膜是由加成型聚冰片稀式聚為薄膜平面内χ方向中之拆射率、~為垂戶二方:、χ方向之"方向中的折射率、“薄膜厚第亥第—又軸光學補償薄膜滿足nx>ny>n及匕Ν$10

該苐—及該第二偏光器是由“碘靡色木枓之聚乙烯醇（PVA)組成。 ^在根據本發明之遙樣的液晶顧示面板中，該.等保護薄膜可為三乙酿基纖維素（TAC)薄膜、開環聚：聚；烯

式薄膜、肖自氫化開環聚合環狀稀烴聚合物而獲得之 HROMP聚合物、聚薄膜或加成聚合聚冰片烯式薄膜中之任=物。聚冰㈣式賴可包含雙軸光學聚冰片稀式薄膜、单轴光學聚冰片烯式賴或未經拉伸之聚冰片稀式薄膜。此外，任何透明之聚合物薄膜可用作保護薄膜。因為聚冰片烯式薄臈在高濕度下具有比TAC薄膜更好之耐久性，所以當其用作保護薄膜時，其可疊層於pvA偏光器上而未在其表面上進行酸或鹼處理，藉此簡化了偏光器之製 ie·製程。在根據本發明之態樣的液晶顯示面板中，偏光器、保護薄膜以及補償薄膜之排列不限於如上文所述之結構，且可使用此項技術中已知的所有組態。在根據本發明之態樣的液晶顯示面板中，偏光器可為一包含碘或雙向色染料之PVA薄膜。 23 1337187 18644pif.doc 在根據本發明之態樣的液晶顯示面板中，液晶元件折射率在電壓之啓動（〇 η)或關閉（〇 ff)時可較佳滿足n X ^ ^ < nz的需求。此指示以下—液晶模式：其在負雙浙射X率= ，像中具有雙折射率，意即，聚冰片稀加成聚合物薄膜之厚度方向的折射率值小於其平面方向的折射率值。、

加成型聚冰片稀式聚合物組成之第一及第二雔 =償薄膜可較佳用於—垂直排列（VA)模式之液“示 '面板中。在此情況下，補償歸因於液晶層之雙折 ' 學相位延遲的效率得以改良。九根據製造本發明之雙軸光學聚冰片烯式薄膜之方法 :具有平_㈣與厚度方向巾之_兩相雙風策水單轴地拉伸在厚度方向中具有固有雙折射率= 造=式聚合物來製造。因此，可簡化雙轴光學薄膜j

=二Γ片烯式雙軸光學薄膜可替代兩個習先于補侦溥膜，意即’Α板及負c板。當聚冰片烯用作PVA偏光器之保護薄膜時，A板、負二二，偏光器之㈣_可藉由根據本發明之 A 本發明顯著地促進了液晶補r说!則化之生產雜。此外’ 0為#製造整合光成補该偏光器時可使用與PVA 楚口先予，，所以在橫向方向中拉伸爾==層此外，根據本發明之製造方法，在效的' 聚合物之_轉移溫度小很多之溫度下拉伸加成型== ⑧ 24 1 1337187 18644pif,doc 烯薄膜，藉此防止加成型聚冰片烯式拉伸薄膜變黃。【實施方式】現在將更詳細地描述根據本發明之一實施例製造雙軸光學聚冰片烯式薄膜的方法。

根據本發明之當前實施例，一雙軸光學聚冰片烯式薄膜僅是藉由單軸拉伸來製造。在此方法中’可藉由根據本發明之當前實施例而製造的一個雙軸光學補償薄膜來取代兩個單軸光學補償薄膜，意即，一 A板及一C板。首先，將一聚冰片烯式聚合物溶解於一包含高沸點溶劑及低沸點溶劑之混合溶劑中以製備一包含聚冰片烯式聚合物的組合物。該混合溶劑可更包含少量之至少一溶劑，該至少一溶劑具有一介於該高沸點溶劑之沸點與該低沸點溶劑之沸點之間的沸點。

高沸點溶劑較佳具有100°C_180°C的沸點，且更佳具，100°C-160°C的沸點，但其並不特別限於此。高沸點溶齊1減少歸因於拉伸而易於出現之補償薄膜之延遲值的不均。高沸點溶劑之實例包含環己酮、二曱苯、茴香醚、曱笨、乙基曱苯、均三曱苯、卜丁醇、二氣丙烧、氟乙稀及其類似物，但其並不限於此。此等溶劑可單獨地或以兩個或兩個以上之組合來使用。 p低沸點溶劑較佳具有35tMl5〇C的沸點且經添加以改生產力°當―拉伸溫度類似於或大於低彿點溶劑模數變:匕最因於溶劑之揮發之經部分乾燥之薄膜的夂匕最小化，且因為經部分乾燥之薄膜中之低;弗點溶 1337187 I8644pif.doc 劑的含量減少，所以可獲得均衡之平溶劑之實例包含二氣甲烧、甲笨、二異_κ弗點四虱咳味、二賊、三氣甲院、_ 甲軋Ψ燒、乙，、乙酸甲醋、乙酸乙I乙s_、=t、甲酸但其並不限於此。此等溶劑可單獨地或以兩似物，之組合來使用。馨於均衡之平面内延遲值的建=兩固以上 f擇具有35。〇至MC之彿點以及具有比的彿點小至少2(TC (較佳為4(rc) :弗點〉谷劑之沸，劑:猶圍與高彿點溶劑之彿點範園：:劑兴低而:，其意味諸如甲笨之溶劑可為根據與另牛= 的咼沸點溶劑或低沸點溶劑。之〜且5 為ί在於薄膜中之高沸點溶劑即使為少量亦可顯荖地影響延遲值’所以將其與低沸點溶劑— 點溶劑之含量難以聚冰㈣ y = ，量，，較佳為重量％，且更佳為2_4里量；^2 亦點洛劑之含量小於〇.!重量％時，包含田= 性的效應是不顯著的。當高沸：= V因此當在高溫及高濕度條件下被附著至液可發泡或姆，且難以製造。件時〇12Γ^Γ更包含以聚冰片稀式聚合物之重量計兮5,丨、一一里/〇 (較佳為ο.1，100重量％)的至少一溶劑，二有—介於高彿點溶劑之沸點與低彿點溶劑弗點之㈣_。在此情況下，歸因於乾燥溫度之遞增， 26 1337187 , 18644pif.doc 在乾燥時將較小之熱應力施加至薄膜，藉此提供了具有較好之熱穩定性 '濕氣穩定性及尺寸穩定性（dimensional stability)的最終乾燥薄膜。必要時，為了改良薄膜之機械強度、熱穩定性、光穩定性及可管理性，組合物可包含諸如此項技術中已知之填充劑、增塑劑、抗氧化劑、光穩定劑及/或抗靜電劑的添加劑。 • 聚冰片烯式聚合物未被特別地限制，但可為藉由對由式（1)所表示之一或多個降冰片烯式單體進行加成聚合而獲得的均聚物或共聚物。經由降冰片烯式單體之加成聚合之聚冰片烯式聚合物的製備方法被詳細地描述於韓國專利特許公開申請案第2004-0005594號、第2004-0045108號以及第2004-0049946號中。

其中m為0-4之整數；且R,、R2、113及仏之每一者可相同或不同，且為一氫原子、一鹵素原子、一具有1-20 個石炭原子之線性或分枝的烧基、烯基或乙稀基、一具有5-12 個碳原子之經烴取代或未經取代的環烷基、一具有6-40個碳原子之經烴取代或未經取代的芳基' 一具有7-丨5個碳原子之經烴取代或未經取代的芳烷基、一具有3-20個碳原子之炔基、一具有個破原子之線性或分枝的鹵烧基、鹵 1337187 18644pif.doc 稀基或鹵乙稀基、一具有5-12個碳原子之經煙取代或未經取代的鹵環烷基、一具有6-40個碳原子之經烴取代或未經取代的il芳基、一具有7-15個碳原子之經煙取代或未經取代的鹵芳烷基、一具有3-20個碳原子之鹵炔基、或一包含至少一氧原子、氮原子、碟原子、硫原子、矽原子或硼原子的極性基。 R〗及R2或尺3及！<4可互相連接以形成一具有M0個碳原子的亞烧基，且Ri或化可連接至R3及R4之任一者籲以形成一具有4-12個碳原子的飽和或不飽和環基或一具有6-24個碳原子的芳族環狀化合杨。包含至少一氧原子、氮原子、填原子、硫原子、石夕原子或删原子的極性基之特定實例包含-C(=0)0R6、 -R5C(=0)0R6、-OR6、-R5〇R6 w〇c(〇)〇R6、-R50C(=0)0R6、 -C(=0)R6、-R5C(0)R6、-〇C(=0)R6、-R5〇C(=〇)R6、 -(R50)p-0R6 、 -(0R5)P-0R6 、 -C(=0)-0-C(0)R6 、 -R5C(=0)-0-C(=0)R6、-SR6、-R5SR6、-SSR6、-R5SSR6、馨 -S(=0)R6、-R5S(=0)R6、-R5C(=S)R6、-R5C(=S)SR6、 -R5S03R6、_S03R6、-R5N=C=S、-NCO、R5-NCO、-CN ' -R5CN、-NNC(=S)R6、-R5NNC(=S)R6、-N02、及_R5N02、 -C(=0)N(R6)(R7)、-R5C(=0)N(R6)(R7)、-Si(R6)(R7)(R8)、 -R5Si(R6)(R7)(R8) 、 -Si(OR6)(OR7)(OR8) 、 -R5Si(OR6)(OR7)(OR8)、-N(R6)(R7)、-R5N(R6)(R7)、 -0C(=0)N(R6)(R7) 、-B(R6)(R7) 、-b(or6)(or7)、 _R5B(OR6)(OR7)、-p(〇R6)(〇R7)、-R5P(OR6)(〇R7)、 28 1337187 18644pif.doc -P(=0)(0R6)(0R7) 、 -R5P(=0)(0R6)(0R7) 、 -op(=o)(or6)(or7)以及 _0R5P(=0)(0R6)(0R7)，但其並不限於此。在上式中，R5為一具有卜20個碳原子之線性或分枝的烷基、鹵烷基、烯基、_烯基或_乙烯基、一具有4-12個碳原子之經烴取代或未經取代的環烷基或鹵環烷基、一具有6-40個碳原子之經烴取代或未經取代的芳基及鹵芳基、一具有7-15個碳原子之經烴取代或未經取代的芳烷基鲁及鹵芳烷基、或一具有3-20個碳原子之炔基及鹵炔基； R6、R7及Rs之每一者為一氫原子、一鹵素原子、一具有 1-20個碳原子之線性或分枝的烷基、齒烷基、烯基、鹵烯基、鹵乙烯基、院氧基、鹵烷氧基、羰氧基或氟羰氧基、一具有4-12個碳原子之經烴取代或未經取代的環烷基或鹵環烷基、一具有6-40個碳原子之經烴取代或未經取代的芳基、鹵芳基、芳氧基或鹵芳氧基、一具有7_15個碳原子之經烴取代或未經取代的芳烷基或鹵芳烷基、或一具有 Φ 3-20個碳原子之快基或鹵炔基；且P為1-1〇之整數。因為一龐大之烴環具有一伸展構形，所以本發明中所使用之聚冰片婦式聚合物具有光學各向異性。由於將極性基引入至具有伸展構形之聚冰片稀式聚合物中，所以分子間的相互作用增加。因此，分子間填充（interm〇lecular packing)具有一定向次序，且因此光學各向異性進一步增加。此外丄歸因^增加之表面張力，聚冰片烯式聚合物對 PVA偏光器具有向的黏接力，且因此適於整合光學補償偏 29 lS644pif.doc 光器之製造。接著，將組合物洗鑄於一基板上以形成一聚冰片稀气薄膜。該基板未被特別地限制，但可為一鏡面研磨金屬帶 (mirror polished metal belt)或一玻璃板。此基板之表面溫度可小於或等於室溫。將薄膜在基板上部分地乾燥。'"此部分乾燥製程包含：第一部分乾燥步驟，其中將薄膜在比低沸點溶劑之沸點小+20〇C的溫度下乾燥；及第二部分乾燥步驟，其中將薄膜在大於或等於低沸點溶劑之沸點且^ 於或等於冑咖溶劑之雜的溫度下錢。冑在大於或於低漭點_之_的溫度下執行第—部分賴步驟時，歸因於低軸溶劑之蒸發，凹坑可軸於薄膜上。當劑之沸點的溫度下執行第二部分乾燥步ς時，、由餘高含量之溶劑，所以均衡拉伸是困難的。此外，备在大於高沸點溶劑之沸點的溫度下執行第八分==上且均衡拉伸是，的: 時，二::二=溶劑之含量小於1重量% 於6重量％時，薄2 =難的’且當混合溶劑之含量大拉伸是困難的。儘管較二7 =程中1於起皺且均衡二部分乾燥步驟，2 —基板上之_之後執行第可在剝落該_之前執研磨基板之長度充分長時，隨後，在比二部分乾燥步驟。的拉伸溫度下H Λ劑之沸點小+贼或等於該沸點罕又佳疋在-10〇t之高沸點溶劑之沸點至 1337187 18644pif.doc 货◦之高'弗點溶劑之沸點範圍内的拉伸溫度下，在一與 j膜表面平行之方向中使用一拉幅機（tenter)來單轴地拉分乾燥之薄膜。所使用之拉幅機為一般的橫向方向巾田機，其中一銷型（P丨n-type)或夾型（dip_type) 二^在執道上運行，但其並不限於此。必要時，可使用壓达捲筒型（ni]>IOlltype)加工方向拉引拉幅機伸比率調整至約1G1_2倍。因為聚冰片稀式聚合物具所以其可用作一在厚度樹具有負雙奸料的負C板。因此，當將聚冰片烯式薄膜在一平行於 - 薄膜平面之方向中拉伸以引起平面内延遲時，可僅藉由單軸拉伸來獲得雙軸光學薄膜。然而，必要時，可藉^執行諸如雙步驟拉伸方法的雙軸拉伸來製造雙軸光學薄膜，= 方法諸如在加工方向（MD)拉伸之後進行橫向方向、(TDX) 拉伸、或在TD拉伸之後進行MD拉伸，或為了改良該膜之機械純，可II由執行共雙純伸（⑺_bia^ stretching)來製造。此雙軸光學薄膜可用作貞c板與a板 • ❺者。赛於藉由將薄膜疊層於偏光器上來製造整合光學償偏，器的簡易性，較佳的是在薄膜之橫向方向中單二地拉伸薄膜。參看圖2，將對其進行更詳細地描述。 —圖2示意性地說明以下一情況：其中根據本發明之一實施例而製造的聚冰片烯式補償薄膜3"及偏光器7”被叠層。在-用於VA液晶顯示面板之整合光學補償偏光器加中，補償薄膜3"之光軸與偏光器7"之吸收軸應互相垂直。田藉使用本發明之製造方法而使用一夾型TD拉幅機來製 31 1337187 18644pif.doc 造聚冰片稀式f#膜3"時’將其在橫向方向（與加工方向交又）中拉伸以在相同方向中具有光軸。在此情況下，當將經TD拉伸之雙軸光學聚冰片烯薄膜疊層於具有吸收，之P VA偏光器’7”上作為該偏光器之保護薄膜時，若兩個薄膜均以卷軸式狀態位於加工方向中，則補償薄膜3,，之光轴，偏光w之賴軸互祕直。因此，使用連續的卷軸式疊層製程將來自獨立捲筒之聚冰片烯式薄膜3"與pVA 偏光器7"直接地疊層以製造一整合光學補償偏光器。 .在一製造根據本發明之另一實施例之整合光學補償偏光器的方法中，與先前方法相反，將經MD單軸拉伸之雙軸光學聚冰片烯式薄骐旋轉90度，且接著將其疊層於一具有MD吸收軸之偏光薄膜上以製造一用於VA液晶顯示面板之整合光學補償偏光器。 ” 在以此方式而製造之整合光學補償偏光器中，聚冰片烯式薄膜可用作一負C板、一 A板及一用於該偏光器之保護薄膜，藉此促進薄液晶顯示面板的生產及簡化之製造程。、可藉由利用碘或雙向色染料對PVA薄膜進行染色來製造本發明中所使用之偏光器，且並不特別限制其製造方法。可使用黏接劑將偏光器疊層。即，首先藉由使^滾塗機（r〇Ucoater)'凹板式塗佈機（gravure coater)、到棒塗佈機（bar coater)、刮刀塗佈機（knife coater)或毛細管塗佈機（capillary coater)而利用黏接劑來塗佈聚冰片烯式薄膜或PVA薄膜。在黏接劑完全乾燥之前，將聚冰片烯式薄 32 1337187 18644pif.doc 膜與偏光器藉由利用疊層捲筒進行熱壓或冷愿來而’當使用熱溶性黏接劑時，應使用熱壓捲筒。可^ ^ 接劑可為PVA黏接劑、聚胺基甲酸轉接劑、U 劑j乙稀丁二烯橡膠（SBR)黏接劑或熱炫性點^接但”並不限於此。當使用聚胺基甲酸醋黏接劑時，佳為-使用未被光變黃之脂族異氛酸醋化合物而製接，。當使用-用於乾燥疊層之單組份或雙組份黏接^ 異氰酸醋與經基之反應性相對較低時，可使用纖維素、㈣、贼芳族溶劑而稀釋之溶液黏接劑。點= 之黏度較佳小於50〇〇cps。亦可使用SBR黏接劑、兩邛1 型（two-parttype)環氧黏接劑等等。此等黏接劑可具^二好之儲存穩定性及在400-800 nm處90%或更大之透光率= 若壓敏黏接劑可展示充分之黏接強度，則其亦可被使用。較佳地，將壓敏黏接劑在疊層之後藉由熱輻射或紫外輻射充分地固化以將其機械強度增加至黏接劑之水平，'使得其黏接強度太高以致於不能將其剝落，而不損壞壓敏黏接Μ所附著至之薄膜的一個或兩個側。可用之壓敏黏接劑之特疋貫例包含天然橡膠、合成橡膠或彈性體'乙稀基氣/ 乙酸乙烯酯共聚物、聚乙烯烷基醚、聚丙烯酸酯、及具有良好之光學透明性的改質聚烯烴壓敏黏接劑、以及藉由將硬化劑添加至彼處而產生的硬化壓敏黏接劑。為了改良聚冰片烯式薄膜之黏接強度，可將其表面利用底塗層來塗佈或使用電暈放電、電漿放電、離子束照射等等進行預處理。 ^ ⑧ 33 1337187 18644pif.doc 如上文所述之當前廣泛使用之作為偏光器之保護薄膜的TAC為偏光器的良好保護器，但其具有相對較高之吸谭特性，從而導致在高溫及高濕度條件下之光浪漏及偏光度減少以及耐久性降低。然而，如在本發明中，當聚冰片稀式補償薄膜用作偏光器之保護薄膜時，高溫及高濕度條件下之光:¾漏及偏光度減少被防止，且與# TAC用作膜時相比，财久性被改良。 ' 如上文所述，在製造根據本發明之一實施例之稀式薄膜的方法中’在比高沸點溶劑之彿點小+2代或自.t之高沸點溶劑之彿點至C之间/弗點洛劑之滞點之範圍内的溫度下仔了:透光率及均衡的平面内延遲值。胃此獲在大於或等於高滞點溶劑之海點的溫度下n 經拉伸的賴，直至剩餘之;下* 以獲得雙轴光學聚冰㈣式薄膜。於重董％， ^為薄膜平面内x方向（ =二薄膜平面内x方向之y方向中的折Ί 旱又方向（Z方向）中之折射 2為式補償输， KNZSH)的兩需求。 χ η^η2及 18644pif.doc 聚冰片稀式補㈣膜之平面喊遲值&可藉由改變拉伸條件來調整。，當拉伸比率增加時，&傾向於增加，且當溶劑之含量增加時，Rin傾向於減少。马度方向中聚冰片烯式補償薄膜之延遲值R可获由改變聚冰片婦式聚合物之分子結構及拉== 先關於聚冰片稀式聚合物之分子結構對之影響，當將包含酯*、乙_、烷氧基、胺基、羥基1、羰基：鹵；原子的極性基引入至由式（1)所表示之降冰片烯式單體中時，Rth之絕對值傾向於增加。此外，當此極性基之含量增加時，Rth之絕對值進一步增加。此外，當使用具有高值m 之由式（1)所表示的降冰片烯式單體、藉由減少測定取代基之長度之Ri ' I、R3、&及Rs之碳原子的數目來減少取代基之長度、或心及I或化及R4可互相連接以形成一具有M0個碳原子之亞烷基、且Ri或&可連接至R3 及^之任一者以形成一具有4·12個碳原子之飽和或不飽和％基或一具有6-24個碳原子之芳族環狀化合物時，傾向於增加。關於聚冰片烯式聚合物之拉伸條件對心匕之影響，當拉伸比率、在拉伸時之溶劑的含量、拉伸溫度及軋燥溫度在拉伸及乾燥時間之後增加時，Rt卜之絕對值傾向於增加。當所獲得之雙軸光學聚冰片烯式補償薄膜具有1〇〇 μΐΏ的厚度時，由等式3所定義之Nz值在1-50、較佳為 1、1〇、且更佳為1-6之範圍内。Rin值為300-500 nm，較^ 為50-200 nm。Rth值在自-50 nm至·5〇〇 nm之範圍内，且 18644pif.doc 較佳在自-50 nm至-300 nm之範圍内。

Nz = (nx - nz)/(nx - ny) = 1 - (Rth/Rin) (3) 其中nx為薄膜平面内x方向（拉伸方向）中之折射率， ny為垂直於薄膜平面内拉伸方向之方向（y方向）中的折射率，且nz為厚度方向（z方向）中之折射率。根據本發明之一實施例的液晶顯示面板包括根據此項技術中熟知之結構安置於液晶層之一上表面、一下表面或兩個表面上的雙軸光學聚冰片烯式薄膜及/或整合光學補償偏光器，且圖3至圖8中說明其詳細結構，但其並不限於此。在下文中’將參考以下實例及比較實例來詳細地描述製造根據本發明之一實施例之雙軸光學聚冰片烯式薄膜的方法。然而’此等實例僅是為說明性目的而被提供，且並不將其理解為限制本發明之範疇。實例1 將丁基降冰片稀/5-降冰月稀-2-缓酸丁酷（莫耳比： 5_/5)共聚物（PBu5-Be5NB)溶解於由以重量比98 : 2之二氣甲燒（b.P.39.8_4(rc)及環己酮（b_p. 155.6。〇組成 2劑系統中以獲得18重量％的聚合物溶液。將此溶液洗心鏡面研《磨鋼板上且在3Gt下將其部分地乾燥1 hr (小將所彳$相自該鋼板剝落且再次在1GG°C下將其部分 1337187 18644pif.doc 因Π: _ (分鐘)。量測薄膜之厚度及固體之含量。因此2膜之厚度約為105 μη1且固體之含量約為95 8%。

^下使用夾型夾具以Μ倍之拉伸比率來單轴 =伸？膜。將薄膜在内加熱至航，同時維持拉伸比率且在相同溫度下將其乾燥1()娜。緊接著，將薄 Μ冷部至7(TC，且在相同溫度下將其_ 2 _，且接著移除張力。所;f于之經單轴拉伸之pBu5_Be5 NB薄膜沒有諸如折皺及凹坑的缺陷，且因此其外觀為無暇的。實例2 將丁基降冰片烯/5_降冰片烯_2_羧酸丁酯（莫耳比： 5/5 )共聚物（PBU5-Be5 NB )溶解於由以重量比97 : 3之

曱苯（b.p. 11〇.6。〇及環己酮（b.p. 155 6t：)組成之溶劑系統中以獲得20重量％的聚合物溶液。將此溶液洗鑄於鏡面研磨鋼板上且在室溫下將其部分地乾燥15 hr。將所得薄膜自該鋼板剝落且再次在1〇〇〇c下將其部分地乾燥4 min。量測薄膜之厚度及固體之含量。因此，薄膜之厚度約為108 μΐΏ且固體之含量約為95.5%。在70°C下使用如在實例1中所使用之夾型夾具以i 4 倍之拉伸比率來單軸地拉伸薄膜。將薄膜在10min内加熱至160°C，同時維持拉伸比率且在相同溫度下將其乾燥1〇 min。緊接著，將薄膜冷卻至70°c，且在相同溫度下將其維持2 min ’且接著移除張力。所得之經單軸拉伸之 PBu5-Be5NB薄膜沒有諸如折皺或凹坑的缺陷，且因此其外觀為無暇的。 37 I8644pif.doc 實例3 將5_降冰片烯-2-乙酸烯丙酯/5_降冰片烯_2_羧酸曱酯 (莫耳比：7/3)共聚物（PAa7-Me3 NB)溶解於由以重量比 97 : 3 之曱苯（b.p. 11〇.6。〇及環己酮（b.p. 155.6。〇組成之溶劑系統中以獲得2 〇重量％的聚合物溶液。將此溶液澆鑄於鏡面研磨鋼板上且在室溫下將其部分地乾燥15 hr。將所得薄膜自該鋼板剝落且再次在1〇〇〇c下將其部分地乾燥8 min。量測薄膜之厚度及固體之含量。因此，薄膜之厚度約為110 μηι且固體之含量約為96.0%。在90°C下使用如在實例！中所使用之夾型夾具以12 倍之拉伸比率來單軸地拉伸薄膜。將薄膜在1〇min内加熱至190°C，同時維持拉伸比率且在相同溫度下將其乾燥1〇 min。緊接著，將薄膜冷卻至7〇。〇，且在相同溫度下將其維持2 min，且接著移除張力。所得之經單軸拉伸之 PAa7-Me3NB薄獏沒有諸如折皺或凹坑的缺陷，且因此复外觀為無暇的。〜實例4 將5-降冰片烯-2-乙酸烯丙酯/丁基降冰片烯/5_降冰烯-2-羧酸甲酯（莫耳比：7/1.5/1.5 )丘职a (PAa7-Bul.5-Mel.5 NB)溶解於由以重量比97 : 3之甲— (b.p. 110.6C)及環己酮（bp i55.6°C)組成之溶劑系，中以獲得20重量％的聚合物溶液。將此溶液洗鱗於鏡面、“先磨鋼板上且在室溫將其部分地乾燥丨.5 hr。將所得=研自該鋼板剝落且再次在10〇ac下將其部分地乾燥 '犋 ,s m 1 η _ 1337187 18644pif.doc 厚度及固體之含量。因此，薄膜之厚度約為1〇6 阿且固體之含量約為％ 2%。 ^ % 在 C下使用如在實例1中所使用之夾型夾I以 :::比ί ί單軸地拉伸薄膜。將_在10 ΜΗ内加熱 • 日彿持拉伸比率且在相同溫度下將其乾燥10 H 2、者’將_冷卻至90t，且在相同溫度下將其 PA 7 B ITV且接著移除張力。所得之經單軸拉伸之 =薄膜沒有諸如折皺或凹坑的缺陷，實例5 烯：二〜:-(PAa7-BuM_MeU NB )轉於㈣重苯（b.P.uoec)及環己_ (bp l55 6〇r、匕九98.土之甲統:以獲得2°重量%的聚合物溶液。將此溶二澆 =鋼板上且在3叱下將其部分地乾燥膜自_板剝落且再次在赋下， -。量測薄膜之厚度及固體之含量。因此，薄= 約為丨〇1 μηι且固體之含量約為％ 8%。又在1HTC下使用如在實例丨中所使用 :.=Γ率來單轴地拉伸薄膜。將薄膜在1上燥1〇_。緊接著，將薄膜冷卻至9〇。。將其維持2 _，且接著移除張力。所得之經單轴^之

39 18644pif.doc PAa7-Bul.5-Mel.5 NB 薄膜沒古心，且因此其外觀為無暇的有私折贼凹坑的缺陷，比較實例1 將丁基降冰片稀/5-降冰片歸相酸丁醋（莫耳比· 5^)共聚物（PBu5初NB )溶解於二氣甲烧从· ^獲得18重量％的聚合物溶液。將此溶錢鑄於鏡面研) 2板上且在坑下將其部分地乾燥30 min。將所得薄: 、自/亥鋼板剝洛，且量測薄膜之厚度及固體之含量。、薄膜之厚度約為115μηι且固體之含量約為95 8%。在70°C下以1.3肖之拉伸比率來單轴地拉伸薄間，該薄膜被部分地破壞。薄膜在拉伸方向中具继'， j將其置放於正交尼科耳（en)ssed Ni⑶丨）狀態中光态之間時，歸因於延遲值之不均衡性而觀察到污點。比較實例2 ‘” 將丁基降冰片烯/5-降冰片烯_2_羧酸丁酯（莫耳比. 5/5)共聚物（PBu5-Be5NB)溶解於甲笨（bp 11〇6^) 中以獲得18重量％的聚合物溶液。將此溶液鱗於鏡面研磨鋼板上且在室溫下將其部分地乾燥1.5 hr。將所得薄祺自該鋼板剝落且再次在丨0 0艺下將其部分地乾燥2 m丨η。量測溥膜之厚度及固體之含量。因此，薄膜之厚度約為⑺1 μιη且固體之含量約為95.2%。在70°C下使用如實例丨中所使用之夾型失具以丨2仵之拉伸比率來單軸地拉伸薄膜。將薄膜在1 〇 min内加熱至 16〇c，同時維持拉伸比率且在相同溫度下將其乾燥 18644pif.doc =。，著’=膜冷卻至7〇1且 L日二二著移除張力。薄膜在拉伸方向歸因於延遲值之不均衡性而觀察至偏心之間時，比較實例3 將丁基降冰片稀/5·降冰片稀倾酸 5/5)共聚物WBe5NB)溶解於由以，甲烧（b.pim：)及環己酮（bp l55 6t)8^之岭劑系統巾W獲得18重量％的聚合物溶液 2 於鏡面研磨鋼板上且在卿下將其部分地乾燥1 f薄膜自該鋼板以次在下將其部分地乾= h二議膜之厚度及固體之含量。因此，薄膜二1 為115μηι且固體之含量約為99 2%。又、，勺在一 160C下α 1.2倍之拉伸比率來單軸地拉伸薄間，該薄膜被部分地破壞。㈣在拉伸方向中具 ^ 且當將其置放於正交尼科耳狀態中之偏光器n =因於延遲值之不均衡性而觀察到污點。 f因比較實例4 將丁基降冰片稀/5-降冰片稀_2•賴丁⑽（莫 5/5)共聚物（PBu5-Be5NB)溶解於由以重量比97 甲苯（仏應。〇及環己酮（b.p.155 6t：)組成之溶= 糸統中以獲付2G重量％的聚合物溶液。將此溶液洗鱗於二面研磨鋼板上且在3Gt下將其部分地顏丨^ 膜自該鋼板剝落且再次纟1〇(rcT將其部分地乾^ 1337187 18644pif.doc mm。罝測薄膜之厚度及固體之含量。因此，薄膜之厚度約為108μηι且固體之含量約為93 〇%。在70 C下使用如實例1中所使用之夾型夾具以13倍之拉伸比率來單軸地㈣_。將_在1Qmin内加熱至 160C ’同日}維持拉伸比率且在相同溫度下將其乾燥 min。緊接著’將薄财卻至抓，且在相同溫度下將盆維持2 min，且接著移除張力。薄膜在拉伸方向中具有折

，’且#將其置放於正交尼科耳狀態中之偏光ϋ之間時，歸因於延遲值之不均衡性而觀察到污點。比較實例5 將5-降冰片稀乙酸烯丙醋/丁基降冰片烯/5·降烯-2-綾酸甲醋（莫耳比：7/1.5/1.5 )共聚1 (PAa7-Bu 1.5-Mel.5 ΝΒ )溶解於由以重量比97 : 3之，P^l〇.6°C)及環己酮（b.p l55 6t)組成之溶劑 ^獲得20重量％的聚合物溶液嘯此溶 _

;鋼板上从室溫下將其部分地乾燥1.5 hr。將所 ==板，且再次在⑽。c下將其部分地乾燥㈣。量曰固體之含量。，薄膜之厚度約為115 μηι且固體之含量約為95〇/〇。在85 C下使用如實例’丨中所使用之夾型夾具以 _。緊接且在相同溫度下將其乾燥1〇維持相同溫度下將其 42 1337187 18644pif.doc 薄膜在拉伸方向中具有折敏科耳狀態中之偏光器之間時n从田將其置放於正父尼觀察到污點。。。之間時一於延遲值之不均衡性而比較實例6 ' 水:歸·2_乙酸烯丙醋/丁基降冰斷降冰片稀冬竣酸甲酷（莫耳比：7/1 二水： (Ma7-Bul.5-Mel.5 ΝΒ )溶解於由 ;、-% • ( b-P. i H).6t：)及環己酮（b ρ 15二比97 · 3之甲装中以獲得20重量％的聚合物溶液。將此溶===蛛磨鋼板上且在室溫下將其部分地乾燥i 5 h ^ = 再次辦下將其部分地乾燥9= Ϊ m八曰固體之含量。因此，薄膜之厚度約為μ μηι且固體之含；g約為93.2%。在85°C下使用如實例i中所使用之夹型失且以 :申比率來單軸地拉伸薄膜。將薄膜在1〇_、内加‘ - 持拉伸比率且在相同溫度下將其乾燥10 ，在乾城程顧，薄難部分地破壞。即 :例：之薄膜與比較實例5之薄膜比較，當固體含量較‘ 日’ .¾即’虽洛劑含量較高時，在乾燥薄膜同時唯持拉伸 =率期間觀察到部分破壞。經部分破壞之_在拉伸方向中具有折敏’且當將其置放於正交尼科耳狀態哭之間時，歸因於延遲值之不均衡性而觀察到污點。〇〇如下就外觀及效能來評估在實例1_5及比較實例卜6 中所製造之經單軸拉伸的薄膜。 ⑧ 43 1337187 18644pif.doc 評估實例1:外觀之評估利用肉眼就外觀來評估在實例1·5及比所製造之經單軸拉伸的薄膜。χ表示觀察/貫例1-6中皺及發泡之至少一者的情況，且〇表示未=分破壞、折缺陷之情況。當由於溶劑之蒸發而在薄膜蜆察到所有該等泡時，出現凹坑。 '、之表面上產生起部分破壞實例1 0 厂實例2 0 實例3 r ~0 ~~ ΎϊΗ 4 ^ 0 ~~ 實例5 比較實例Ί~ ~~Χ^~Ί _ 比較實例_ i較實例比較實例5 "^較實—例參看表1，本發明之實生部分破壞、折缺稀的情況下’儘管未弓，起相反’在比較實例M之：汗估貫例2··平面

Rth及乂值的評估值、、厚度方向中之延遲值 18644pif.doc 對於實例卜5之薄膜’計算平面内延遲值心、厚度方向中之延遲值Rth及仏值。平面内延遲值心及厚度方向中之延遲值Rth可利用一自動折射器（可蹲自〇ji sdemific Lment ; KOBRAd繩）來量測。結果被展示於表2 中〇表2 薄膜厚度 (nm) ------ Rin (nm) ， ·—— Rth ( nm ) Nz 實例1 92 353 -56 1.16 實例2 94 326 -62 1.19 實例3 100 240 -205 1.85 實例4 101 270 -176 1.65 ' 實例5 100 51 -216 5.24 ~ 參看表2,根據本發明之聚冰片烯式薄膜具有一指示其可用作負C板之負Rth值。此外，Rin及Rth之絕對值大於0且相互類似’其指示薄膜具有雙軸光學各向異性。評估實例3:作為色彩不均衡性之指數之延遲之均衡性的評估如下就平面内延遲之均衡性來評估實例1-5以及比較實例2、4及5的薄膜。自薄膜之中心部分獲取樣本（寬度：l〇〇mm，長度： 200 mm )’且以寬度方向中mm及加工方向中20 mm之間隔來昼'則對於550 nm之單色光的平面内延遲值Rin。在表3中’ X表示兩個鄰近點之間之平面内延遲值的差值比 1337187 18644pif.doc 其平均延遲值大2%的情況’且〇表示差值小於2°/。的情況。表3

實例比較實例 1 2 3 4 5 2 4 5 Kin 0 0 0 0 0 X X X

參看表3，本發明之實例1-5的聚冰片烯式薄膜具有均衡之平面内延遲值。相反，比較實例2、4及5的薄膜具有不均衡之平面内延遲值。評估實例4 :視角之評估就視角特徵經由模擬對如圖9中所說明之僅在液晶元件之一個表面上具有聚冰片烯（ΡΝΒ)補償薄膜的不對稱液晶顯示面板進行研究。圖10說明使用圖9之液晶顯示面板而模擬之對比率圖。當分別將ΡΝΒ補償薄膜之Rin與Rth調整至55 nm與

21 〇 nrn時，液晶顯示面板具有1〇〇: 1或更大之寬視角。評估實例5 :視角之評估就視角特徵經由模擬對如圖丨丨中所說明之在液晶元件之兩個表面上具有聚冰片稀（pNB)補償薄膜的對稱液晶顯不面板進行研究。问明㈣圖u之液晶顯示面板而模擬之對比率 :备刀^將PNB補償薄膜之^與^調整至“⑽與 _ Γ上文顯示面板具有_:1錢大之寬視角。文所迷，根據製造本發明之雙轴光學聚冰片稀式 ⑧ 46 1337187 18644pif.doc 薄膜的方法，一具有平面内延遲值及厚度方向中之延遲值兩者的雙轴光學薄膜可藉由單軸地拉伸在厚度方向中具有固有雙折射率的聚冰片烯式聚合物來製造。因此，根據本發明而製造之-贿冰片烯式細可替代兩個習知的單轴光學補償賴，意即，A板及負C板^ #聚冰片烯式薄膜用作PVA偏光器之保護薄膜時，一八板、一負c板以及 1於PVA偏光器之保護薄膜可藉由一個聚冰片稀式薄膜來替代。因此，本發明可減少液晶顯示面板之厚度並簡化生產，程。此外’當在寬度方向中拉伸聚冰片烯式薄膜時，可製造整合光學補償偏光糾㈣連續料軸式疊層製程 :該薄膜疊狀PVA偏光器上。此外，因為在比加成^聚 /片烯式聚合物之玻璃轉移溫度小很多的溫度下拉媒變^以可在製造經拉伸之聚冰料式薄__止該薄雖然本發明已以較佳實施例揭露如上，秋限定本發明，任付孰羽Λ & . ’、、”、立非用以和/ 技藝者，在*脫離本發明之精神【圖式簡單說明】來ιΠ狀上述及其它特徵及優勢將藉由參看隨附圖式地描述其例示性實施例而變得更顯而易見，在= 圖1為習知液晶顯示裝置之示意性橫截面圖。 1337187 18644pif.doc 圖2示意性地說明以下一情況：其中根據本發明之實施例的雙軸光學聚冰片烯式薄膜與偏光器在製造整合光學補償偏光器之連續製程期間被疊層。圖3為根據本發明之一實施例之液晶顯示面板的示意性橫載面圖。圖4為根據本發明之另一實施例之液晶顯示面板的示意性橫截面圖。圖5為根據本發明之另一實施例之液晶顯示面板的示 • 意性橫截面圖。 _ 圖6為根據本發明之另一實施例之液晶顯示面板的示 ' 意性橫截面圖。圖7為根據本發明之另一實施例之液晶顯示面板的示意性橫截面圖。圖8為根據本發明之另一實施例之液晶顯示面板的示意性橫戴面圖。圖9為根據本發明之一實施例之僅在液晶元件之一表 • 面上具有PNB補償薄膜之不對稱液晶顯示面板的示意性橫戴面圖。圖105兒明使用圖9之液晶顯示面板而模擬之對比率圖 (contrast ratio map )。圖11為根據本發明之另一實施例之在液晶元件之兩個表面上具有PNB補償薄膜讀齡晶顯示面板的示意性橫戴面圖。圖12說明使用圖η之液晶顯示面板而模擬之對比率 48 1337187 18644pif.doc 圖。【主要元件符號說明】 1 ·液晶元件 3":聚冰片烯式補償薄膜 3 . A板 3':負C板 5、5'、9、9':透明保護薄膜 7、7丨、7” ：偏光器 10 .液晶顯不裔 20 :整合光學補償偏光器

Claims

18644pif.doc 修正日期:99年4月1日加成型聚冰片爲第94140029號中文專利&圍無劃線修正本申請專利範圍：你正 .一種雙轴光學聚冰外浠式聚合物組成，其中，當nx為薄膜平面内一慢軸方向（X方向）中之一折射率、ny為垂直於薄膜平面内X方向之y方向中的一折射率、nz為薄膜厚度方向（z方向）中之折射率，且 Nz=(nx-nz)/(nx-ny)時，該雙軸光學聚冰片烯式薄膜滿足 nx>ny>nz及匕Nz5l〇的需求。 2. 如申請專利範圍第1項所述之雙轴光學聚冰片烯式薄膜，該雙軸光學聚冰片烯式薄膜具有如由等式1所定義之自30 nm至500 nm範圍内的一 Rin值及由等式2所定義之自-50 nm至-500 nm範圍内的一 Rth值： Rin = (nx-ny) xd ⑴ Rth= (nz-ny) xd (2) 其中Πχ為薄膜平面内一慢抽方向（x方向）中之折射率，％為垂直於薄膜平面内X方向之y方向中的折射率， nz為薄膜厚度方向（z方向）中之折射率，且d為薄膜之厚度。 3. —種雙轴光學聚冰片烯式薄膜之製造方法，包括：藉由將一聚冰片烯式聚合物溶解於包含一高沸點溶劑及一低沸點溶劑之一混合溶劑中來製備包含聚冰片烯式聚合物的一組合物，其中該高沸點溶劑與該低沸點溶劑之沸點相差20°C或更大，且該高沸點溶劑之量為以該聚冰片烯式聚合物之重量計0,1至15重量％ ; 50 Γ537187 18644pif.doc 澆鑄且部分地乾燥該組合物以獲得一聚冰片烯式薄膜，該聚冰片稀式薄膜包含以該聚冰片稀式 >專膜之總重量計1至6重量％的該混合溶劑；以及於比該高沸點溶劑之沸點小+2〇 C或荨於該高沸點溶劑之沸點的拉伸溫度下，在與該聚冰片烯式薄膜之表面平行之方向中單轴地拉伸經部分乾燥之該聚冰片稀式薄膜，且在大於或等於該高沸點溶劑之沸.點的溫度下乾燥經拉伸的該聚冰片稀式薄膜。 4. 如申請專利範圍第3頊所述之雙轴光學聚冰片烯式薄膜之製造方法，其中該混合溶劑更包括以該聚冰片烯式聚合物之重量計（X卜20〇重量％的至少一溶劑，該至少一溶劑的沸點介於該高沸點溶劑之沸點與該低沸點溶劑之沸點之間。 5. 如申請專利範圍第3項所述之雙軸光學聚冰片稀式薄膜之製造方法，其中部分乾燥該組合物包括：在比該低沸點溶劑之沸點小+20°C的温度下部分地乾燥該I冰片稀式薄膜；以及在大於或等於該低沸點溶劑之沸點及比該高沸點溶劑之沸點小+ 2 0。(：或等於該高沸點溶劑之彿點的溫度下部分地乾燥該聚冰片烯式薄膜。 6. 如申請專利範圍第3或4項所述之雙軸光學聚冰片烯式薄膜之製造方法，其中將該聚冰片烯式薄膜在一橫向方向（TD)中拉伸。 7. —種雙軸光學聚冰片烯式薄膜之製造方法’包括：藉由將一聚冰片烯式聚合物溶解於包含一高沸點溶劑 51 1337187 18644pif.doc 及一低沸點溶劑之一混合溶劑合物的-組合物’其中該高彿點溶;=冰片烯式聚點相差2〇t或更大，且該高沸點、々二點溶劑之沸式聚合物之重量計G.1至15重量^之量為以1^聚冰片埽洗鎊且部分地乾賴組合物膜，該聚冰片烯式薄膜包含_ = Λ冰片晞式薄

計1至6重量％的該混合溶劑；㈣㈣之總重量於比該高沸點溶劑之沸點小+ 2 〇劑之彿點的拉伸溫度下，在與該聚冰片點溶 :之：:向中雙軸地拉伸經部分乾燥之該聚冰4;; 膜且在大於或等於該高彿點溶劑 $厚拉伸的該聚冰片烯式薄膜。 ’’…皿又下乾燥經薄膜=專法利範光學聚;_式聚合物之»計⑴

劑的濟點介於該高沸點溶劑之彿點與該低彿點溶劑之彿點之間。 ”‘ 9. 如申凊專利範圍第3、4、7及8項中任一項所述之雙軸光學聚冰片烯式薄膜之製造方法，其中’當nx為薄膜平面内一慢軸方向（x方向）中之折射率、ny為垂直於薄膜平面内X方向之y方向中的折射率、且Νζ=(ηχ_ηζ)/(ιν%) 時’該聚冰片烯式薄膜滿足nx>ny>nz& ι$Νζ$10的需求。 10. 如申請專利範圍第9項所述之雙軸光學聚冰片烯式薄膜之製造方法’其十該聚冰片烯式薄膜是由一加成型 52 1337187 18644pif.doc 聚冰片烯式聚合物組成。 —11.如申凊專利範圍第9項所述之雙軸光學聚冰片烯式 ^之製造方法’其中該聚冰片烯式薄膜具有如由等式i 所f義之自30nm至500 nm範圍内的一 Rin值及由等式2 所疋義之自-50 nm至-500 nm 圍内的一 Rth值： Rin = (nx-ny) xd ⑴ Rth=(nz-ny) xd (2)

八中〜為薄骐平面内一慢軸方向（χ方向）中之折射率’ ^為垂直於薄獏平面内χ方向之y方向中的折射率， Z為/專膜厚度方向（z方向）中之折射率，且d為薄膜之 12.一種整合光學補償偏光器，包括：一雙軸光學補償薄膜’由—加成型聚冰片稀式聚、、且成，其中，當nx為薄膜平面内一慢軸方向（χ方^ 2射率、ny為垂直於薄膜平面内χ方向之^方、〜且Νζ=(ηχ-ηζ)/(ηχ_%)時，該雙軸光學補償薄省 ηχ>ιν>ηζ及匕Νζ^ι〇的需求；以及、’ 田聚乙烯醇組成

賞薄膜疊層，且該偏光器包括碘及一雙向色染::軸夫 13.如申請專利範圍第12項所述之整合學丄器，其中該雙軸光學補償薄膜具有如由等式福 3〇mn至500 nm範圍内的一 Rin值及由等式2所=義之 -50 nm至-500 nm範圍内的一 Rth值：弋義之 Rin = (nx-ny) xd ⑴ 53 18644pif.doc Rth=(nz-ny) xd (2) 其:nx為薄膜平面内一慢轴方向（χ方向）中之折射於⑽平面内X方向之y方向㈣折射率， ^涛膜厚度方向（Z方向）中之折射率，且d為薄膜之厚度。一種整合光學補償偏光器之製造方法，包括：错^將一聚冰片稀式聚合物溶解於包含一高沸點溶劑劑之—混合溶劑中來製備包含聚冰片烯式聚 i、二Ϊ合物’其中該高沸點溶劑與該低沸點溶劑溶劑之ΙΜ目差20 c或更大，且該高彿點溶片稀式聚合物之$量計（U至15重量^之里為以^水洗鑄且部分地乾賴組合物崎得膜，該聚冰片烯式薄膜包含以該聚冰式計1至6重量％的該混合溶劑；邱飞桃之w重里於比該高_點溶劑之彿點小，。劑之沸點的拉伸溫度下，在—橫二寺於該w弗點分分乾燥之該聚冰片烯式薄^ 轴地拉伸經部劑之；!=溫度下乾燥經拉伸的該聚冰片及-= = = :=，_ 光軸垂直於該吸收軸，且使用H=膜’使付該與該吸收軸疊層。且9方法將該光軸 15.如申請專利範圍第14項所述之敕人器之製造方法，其巾該混合溶劑更包=光學補償偏光文括以該聚冰片式聚合 m?187 18644pif.doc 物之重量計⑴⑻重量％之至少 Γ介於該高彿點溶劑之沸點與該 16·-種整合光學補償偏光器之製造藉由將-聚冰片稀式聚合物溶解於包含及一低沸點溶劑之一混合溶劑中來f 问沸^/合绡合物的-組合物，其中該高式聚 _ 或更大，且該高彿點溶劑之量為式聚合物之重量計〇.i至15重量％ ; 該聚冰片烯洗鱗且部分地乾燥該組合物以獲得 $;=水片烯式薄膜包含以該聚冰薄膜:2 汁1至6重量％的該混合溶劑；德U里於比該高_溶劑之彿則、+2() 劑之沸點的拉伸溫度下，在-加工方向4軸::：點〉谷 :、欠軸之偏光細’使仔該光軸垂直於該吸二、該光軸與該吸收軸疊層。並將。。二，請專利範圍第16項所述之整合光學補償态之製la方法，其中該混合溶劑的濟點介於該高沸點溶狀_與該㈣點溶劑之沸g 55 1337187 i

18644pif.doc 間。 18.—種液晶顯不面板，包括：一液晶元件；一雙袖光學補償薄膜，形成於該液晶元件之一第一表面上；一第一保護薄膜，形成於該雙軸光學補償薄膜上；一第一偏光器，形成於該第一保護薄膜上；一第二保護薄膜，形成於該第一偏光器上；一第二保5蔓薄膜’形成於該液晶元件之一第二表面上；一第一偏光益’形成於該第三保護薄膜上；以及一第四保護薄膜’形成於該第二偏光器上，其中該雙轴光學補償薄膜是由一加成型聚冰片烯式聚合物組成；且當nx為薄膜平面内χ方向中之折射率、n為垂直於薄膜平面内X方向之y方向中的折射率、7且 Νζ=(ηχ-ηζ)/(ηχ-%)時，該雙軸光學補償薄膜滿及bNdlO的需求。 y Πζ 19.一種液晶顯示面板，包括： —液晶元件； -整合絲補觀絲，形成於紐晶元件之一第一 -雙ί光學補償偏光器是由鄰近於該液晶元件之第-偏光成於該雙軸光學補償薄膜上之-薄膜偏先1讀，該錄光學補償_亦作為—第一保護第二保護薄膜，形成於該第—偏光器上； 56 1337187 18644pif.doc 一第三保護薄膜，形成於該液晶元件之一第二表面上；一第二偏光器，形成於該第三保護薄膜上；以及一第四保護薄膜，形成於該第二偏光器上，其中該雙軸光學補償薄膜是由一加成型聚冰片烯式聚合物組成；當 nx為薄膜平面内X方向中之折射率、％為垂直於薄膜平面内X方向之y方向中的折射率、且Nz=(nx-nz)/(nx-ny)時，該雙軸光學補償薄膜滿足nx>ny>nz及1SN<10的需求；且該第一偏光器是由包含碘及一雙向色染料之聚乙烯醇組成。 20. —種液晶顯示面板，包括： —液晶元件，一第一保護薄膜，形成於該液晶元件之一第一表面上；一第一偏光器，形成於該第一保護薄膜上；一第二保護薄膜，形成於該第一偏光器上；一雙軸光學補償薄膜，形成於該液晶元件之一第二表面上；一第三保護薄膜，形成於該雙軸光學補償薄膜上；一第二偏光器，形成於該第三保護薄膜上；以及一第四保護薄膜，形成於該第二偏光器上，其中該雙軸光學補償薄膜是由一加成型聚冰片烯式聚合物組成；且當nx為薄膜平面内X方向中之折射率、％為垂直於薄膜平面内X軸之y方向中的折射率、且 Nz=(nx-nz)/(nx-ny)時，該雙轴光學補償薄膜滿足nx>ny>nz 及1SNZS10的需求。 21. —種液晶顯示面板，包括： 57 1337187 18644pif.doc 一液晶元件；一表^了㈣光學補償薄*，形成於魏晶元件之_第一第一保護薄膜，π A uw第—雙軸光學補償薄膜上； i

-第二保護薄膜，保護薄膜上； -第二雙軸光學補偏光器上；二表面上； r·，形成於魏晶元件之-第 mi:，’形成於該第二雙軸光學補償薄膜上; 一ΐ一偏先益’形成於該第三保護薄膜上；以及 -第四保護_，形成於該第二偏光器上，其中該第d光學補償薄膜及二薄膜是由—加成型聚冰㈣式聚合物組成4當平面内X方向中之折射率、％為垂直於薄膜平面内χ方向之y方=的折射率、且Nz=:(：n⑷咖㈣時該第一雙轴光學補償薄膜及該第二雙轴絲補㈣膜滿 1SNS10的需求。 22.—種液晶顯示面板，包括·· 一液晶元件；一第一保護薄膜，形成於液晶元件之一第一表面上；一第一偏光器，形成於該第一保護薄膜上；一第二保護薄膜，形成於該第一偏光器上；一整合光學補償偏光器，形成於該液晶元件之一第二表面上，該整合光學補償偏光器是由鄰近於該液晶元件之 58 m?187 18644pif.doc Γ雙轴光f補償薄膜及形成於該雙轴光學補償薄膜上之- 第一偏光益組成，該雙軸光學補償薄膜亦作為一薄膜；以及一 7 一第四保護薄膜，形成於該第二偏光器上，其中垓雙轴光學補償薄膜是由一加成型聚冰片稀式聚合物組成，且當ηχ為薄膜平面内χ方向中之折射率、^為垂直於薄膜平面内X方向之y方向中的折射率、且 Nz=(nx-nz)/(nx-ny)時，該雙軸光學補償薄膜滿足及1SNS10的需求；且該第一偏光器是由包含碘及X一^向色染料之聚乙烯醇組成。 23.—種液晶顯示面板，包括：一液晶元件；一整合光學補償偏光器，形成於該液晶元件之一第一表面上，該整合光學補償偏光器是由鄰近於該液晶元件之一第一雙轴光學補4k >專膜及形成於該第一雙軸光學補償薄膜上之一第一偏光器組成，該第一雙轴光學補償薄膜亦作為一第一保護薄膜； ' 一弟一保護薄膜，形成於該第一偏光器上；一整合光學補償偏光器，形成於該液晶元件之一第二表面上，該整合光學補償偏光器是由鄰近於該液晶元件之 -第二雙軸^學補償薄膜及形成於該第二雙軸光學補償薄膜上之-第二偏光II組成，該第二錄光學補償薄膜亦作為一第三保護薄膜；以及一第四保護薄膜，形成於該第二偏光器上， 18644pif.doc 每胺：、I該第—雙軸光學補償薄膜及該第二雙軸光學補償面內疋古：加成型聚冰片烯式聚合物組成；當ηχ為薄膜平 ν方w °中之折射率、ny為垂直於薄膜平面内χ方向之風補二瑞的折射率ί、且Nz==(nx-nz)/(nx-ny)時，該第一雙軸光 i:n<:膜及該第二雙軸光學補償薄膜滿足nx>ny>nz及求；且科—偏絲及該第二偏光器是由包峨及—雙向色染料之聚乙鱗組成。顧-^如υ職圍第18至23項中任—項所述之液晶中由該加成型聚冰片烯式聚合物組成之該雙轴t學補償薄膜具有如由等式^所定義之自3〇nm至500 nm，圍内的一心值及由等式2所定義之自，⑽至·· nm乾圍内的一 Rth值： R；n = (nx-ny) xd ⑴ Rth = (nz-ny) xd (2) -中1^為4膜平面内一慢輛方向&方向）中之折射 “二:為垂直於薄膜平面内χ方向之y方向中的折射率， j涛膜厚度方向（z方向）巾之折料，且d為薄膜之厚度。、 _ 25,如申請專利範園第18至23項令任一項所述之液晶 ’其中該第―保護薄膜、該第二保護薄獏、該第 ^保護薄難該第四保護賴為三乙11基麟素薄膜、開 %聚合聚冰片稀式薄膜、藉由氫化開環聚合環狀稀煙聚合物而獲得之HROMP、聚g旨薄膜、如申請專利範圍第i或〇2 項所述之雙軸光學聚冰㈣式薄膜、單軸光學聚冰片稀式 Ϊ337187 18644pif.doc 薄膜、或未經拉伸之聚冰片烯式薄膜，且該偏光器為包含蛾或一雙向色染料之聚乙稀醇薄膜。 26. 如申請專利範圍第25項所述之液晶顯示面板，其中該液晶元件之折射率在電壓之啓動或關閉狀態中滿足 nx4ny < nz的需求。 27. 如申請專利範圍第26項所述之液晶顯示面板，該液晶顯示面板具有垂直排列模式。

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