WO2007066470A1 - 偏光板、偏光板の製造方法及び液晶表示装置 - Google Patents

偏光板、偏光板の製造方法及び液晶表示装置 Download PDF

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WO2007066470A1
WO2007066470A1 PCT/JP2006/322362 JP2006322362W WO2007066470A1 WO 2007066470 A1 WO2007066470 A1 WO 2007066470A1 JP 2006322362 W JP2006322362 W JP 2006322362W WO 2007066470 A1 WO2007066470 A1 WO 2007066470A1
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polarizing plate
film
liquid crystal
polarizing
protective film
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PCT/JP2006/322362
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English (en)
French (fr)
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Rumiko Yamada
Nobuo Kubo
Toshiaki Shibue
Original Assignee
Konica Minolta Opto, Inc.
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Publication date
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    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08JWORKING-UP; GENERAL PROCESSES OF COMPOUNDING; AFTER-TREATMENT NOT COVERED BY SUBCLASSES C08B, C08C, C08F, C08G or C08H
    • C08J5/00Manufacture of articles or shaped materials containing macromolecular substances
    • C08J5/18Manufacture of films or sheets
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08JWORKING-UP; GENERAL PROCESSES OF COMPOUNDING; AFTER-TREATMENT NOT COVERED BY SUBCLASSES C08B, C08C, C08F, C08G or C08H
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    • C08J2301/08Cellulose derivatives
    • C08J2301/10Esters of organic acids
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08KUse of inorganic or non-macromolecular organic substances as compounding ingredients
    • C08K5/00Use of organic ingredients
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    • G02B5/3033Polarisers, i.e. arrangements capable of producing a definite output polarisation state from an unpolarised input state in the form of a thin sheet or foil, e.g. Polaroid
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    • G02F1/00Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
    • G02F1/01Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour 
    • G02F1/13Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour  based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
    • G02F1/133Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
    • G02F1/1333Constructional arrangements; Manufacturing methods
    • G02F1/1335Structural association of cells with optical devices, e.g. polarisers or reflectors
    • G02F1/133528Polarisers
    • GPHYSICS
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    • G02F2201/00Constructional arrangements not provided for in groups G02F1/00 - G02F7/00
    • G02F2201/50Protective arrangements

Definitions

  • a polarizing plate, a polarizing plate method and a polarizing plate it is easier to perform a polarizing plate, and the qualitativeness under high temperature and high humidity is improved, and the polarizing of the polarizing plate is improved.
  • the method and arrangement of plates and polarizing plates Regarding the method and arrangement of plates and polarizing plates.
  • a polarizing plate is used for the purpose of protection.
  • This optical plate has a structure in which the plane of polarized light is sandwiched and held. Since then, the quality of the device has been improved by using the optics with a mark to give a viewing angle.
  • the function of the phase shifter has come to be combined with that of the polarizing plate, and it has become multifunctional with respect to the number of shifters and has been reduced.
  • the viewing angle is improved in the direction of 0, 000, and the field angle of the center is improved (for example, a patent).
  • a device using a vertical () type cell in which an object is arranged substantially vertically to a voltage, and an object is arranged substantially horizontally to a voltage, which has a good viewing angle due to the goodness of 000 de (for example, It is said that it has a wider viewing angle and a faster response compared to the conventional type (Patent 2.), but it still needs goodness when compared with C. 005 Especially, the large type. Wider viewing angle as the surface becomes larger
  • Patent 3 A method for making unevenness depending on the temperature is disclosed (for example, Patent 3).
  • a resin especially a sessate among the sessates, is used.
  • 015 It is composed of the following components.
  • a polarizing plate that has a light plate disposed on one side of the center of the cell used for placement and is provided on the side of the polarized light, and a second light plate disposed on the opposite side of the cell with respect to the polarized light.
  • the polarizing plate is characterized in that the optical plate has a dopant on the system and a sensor on the system.
  • the component of the optical plate in 5-2 is a sessate, and the sessile is at least a species selected from sessate and sessatetopionate sessate.
  • the component of the optical plate of 002 6 ⁇ 2 is at least a species selected from quinoline-type poca, poco-carbonate-type po, and popo-po-type po-type.
  • Light plate described. 002 7 ⁇ In a device having a light plate on each side of the light source and the light source on the light source side, at least one light plate of the polarizing plate provided on the light source side of , And two light plates arranged opposite to each other through the light guide plate, and the light plate is a polarizing plate having: To do.
  • Both light plates provided on the side of the cell have a light plate on the side of the polarized light and a light plate on the other side of the two light plates disposed on the opposite side of
  • the above-mentioned 7 is characterized in that it is a polarizing plate which has a cathode on the system and a cathode on the system.
  • An optical plate which is arranged on one side of the center of the cell used for placement and is provided on the side of the polarization and Via a polarizing plate with two light plates arranged opposite to each other,
  • a polarizing plate having:
  • the polarizing plate can be made easier
  • the polarizing plate which has a light plate im that is arranged on one side of at least one of the cells used for placement, and is provided on the side of the cell with respect to polarized light and
  • the polarizing plate is characterized in that the optical plate of the polarizing plate has a dopant on the surface of the system and a polarizing plate on the surface of the sheet. Can improve the qualitativeness in and improve the trust of the device.
  • An example of the composition of the 003 light plate is shown by.
  • the polarizing plate placed on the side of 003 and the polarizing plate on the side of 2 (optical plate of 2), polarizing plate (optical plate of 2), polarizing plate (optical plate of 2), polarizing plate (optical plate of 2) are arranged.
  • the optical plate b and the polarizing plate c may be the same or different, but at least one of them is characterized by having 5 to 5 kinds of dopant for each system. is there.
  • the poly used for the polarizing plate and the polarizing film d is at least a few types selected from sess-system-based, quino-based, po-carbonate-based, and popo-po-based por. Is preferred.
  • the optical plate a and the polarizing plate d may be the same or different. It is also preferable that the polarizing plate a and the polarizing plate d are provided with the functionality on the surface opposite to the polarized surface.
  • the aim of 003 is to improve this trust.
  • the trust is the trust when it is determined from the line direction of the display body, not the trust at the part of the screen.
  • the local untrust may decrease due to the occurrence of the screen underneath or the edge of the screen, but these are local, and the meaning of the front lath, which is the target to be raised, is meaningless. different.
  • the word trust is the trust in the display. Yes, the overall mechanics are different from those for improving the dynamic phenomena that the trust causes in certain cases (for example, high temperature and high humidity dry tests), and it is not the same as the description.
  • It has a structure with a highly branched acetyl at its position relative to the acid group of the compound and the acid group of Ming.
  • This product includes the following ().
  • hindered objects include octa 3 (3 5 4) peoneto, octa
  • the components contained in the polarizing plate b and the polarizing plate c related to the clarity are sessate, suspionnet, sessile, sessatetopione, sessat It is preferable that it is at least one species selected from the group consisting of sesame, sessate tatto and sessate, especially sessate top pionet or sessate cit.
  • the system used in the present invention is a system of a, including a structure with at least a substitution or a substitution of a substituent.
  • the benzene ring is a benzene ring in the a group
  • the benzene ring is represented by a gen, an ano, an aki, an aki, an aoki, an a, a force bond, a suad, a ouido, an ara. Ki, To, Akabo, Aoki Cabo, Araki Okabo, Kai, Sui, Aoki, A, Aki, Ax, As, Aki Oki
  • the number of groups is preferably ⁇ , more preferably ⁇ 4, even more preferably ⁇ 3, or most preferably two.
  • gen, ano, aki, aki, aki, aki, aki, aki, aki, aki, aki, aki, force bond, suad group and id group are preferred, gen, ano, aki, aki, aki, More preferred are alk- and bon-ad groups, more preferred are gen, ano, achi, achi and achi groups, most preferred are gen, achi and achi groups.
  • the achi group may have a cyclic branched structure.
  • the number of carbon atoms in the achi group is preferably ⁇ 2, more preferably ⁇ 2, even more preferably ⁇ 6, and most preferably ⁇ 4.
  • Examples of achi groups include methyl, thio, pupi, isopupi ,,,,,, octyl, octyl.
  • the achi group may have a cyclic branched structure.
  • the number of carbon atoms in the achi group is preferably ⁇ 2, more preferably ⁇ 2, even more preferably ⁇ 6, and most preferably ⁇ 4.
  • the achi group may be replaced by another achi group. Examples of achi groups include methoki, ibis, ibis, ibis, ibis, ibis, oki, oki.
  • the number of carbon atoms in the group a is preferably 6 to 2, more preferably 6 to 2.
  • groups include: The number of carbon atoms in the aoki group is preferably 6 to 2, and more preferably 6 to 2.
  • Examples of the aoki group include a kitoki.
  • the number of carbon atoms in the a group is preferably ⁇ 2, more preferably ⁇ 2.
  • Examples of the a group include ho and acetylene. Bonn
  • the number of carbon atoms of the adm group is preferably ⁇ 2, more preferably ⁇ 2.
  • bond groups include acedo add.
  • the number of carbon atoms in the suad group is preferably ⁇ 2, more preferably ⁇ 2.
  • Examples of suad groups include methane suds and benzene suds tons.
  • the number of carbon atoms in the id group is preferably ⁇ 2, more preferably ⁇ 2.
  • Examples of the id group include ().
  • the number of carbon atoms in the arachi group is preferably 7 to 2, more preferably 7 to 2.
  • the arachi group include benzyl and timethyti.
  • the number of carbon atoms in the carboxy group is preferably ⁇ 2, more preferably 2 to 2.
  • carboxylic acids include methoxicones.
  • the number of carbon atoms in the alkoxy group is preferably 7 to 2, and more preferably 7 to 2.
  • An example of an alkabo group includes cab.
  • the number of carbon atoms in the arachioxy group is preferably 8 to 2, and more preferably 8 to 2.
  • Examples of araquioxy groups include benziocarbo.
  • the number of carbon atoms in the a group is preferably ⁇ 2, more preferably ⁇ 2.
  • radicals include ()
  • the number of carbon atoms in the sulfur group is preferably 2 or less, more preferably 2 or less.
  • sui groups include () imemethas.
  • the number of carbon atoms in the aoki group is preferably ⁇ 2, more preferably 2 ⁇ 2.
  • azoxy groups include acetoquinooxy.
  • the number of carbon atoms in the group a is preferably 2 to 2, and more preferably 2 to 2.
  • Examples of the base include bi and asoppe.
  • the number of carbon atoms in the achi group is preferably 2 to 2, more preferably 2 to 2.
  • Examples of achi groups include chi.
  • the number of carbon atoms in the ax group is preferably ⁇ 2, and preferably ⁇ 2.
  • the number of carbon atoms in the as group is preferably 6 to 2, more preferably 6 to 2.
  • the number of carbon atoms in the aquiox group is preferably ⁇ 2, more preferably ⁇ 2.
  • the number of carbon atoms in the aox group is preferably 6 to 2, and more preferably 6 to 2.
  • the number of carbon atoms of the Akisuoki group is preferably ⁇ 2, and more preferably ⁇ 2.
  • the number of carbon atoms in the aox group is preferably 6 to 2, and more preferably 6 to 2.
  • the aliphatic group has a carbon atom number of. 2 to 2, and specific examples include popio, iso, iso, ai, kisai, octai, raui, steai, and the like.
  • the above-mentioned aliphatic a is meant to include those further having a substituent, and when the substitution is a benzene ring in the above-mentioned a group, it is exemplified as the position of the benzene ring. Is mentioned.
  • the number of X substituting for is or is ⁇ 5, preferably ⁇ 3, and especially preferred is or 2.
  • the number of groups to be further substituted is 2 or more, they may be the same as or different from each other, but they may also be linked to each other to form a ring compound (for example, tan, indene, indane, nanton, n, isone). , Ku, kun, tarazin, akujin, india, indones, etc.).
  • these may be sessiles or stations, or a mixture of two or more systems.
  • 005 The system has a group with 2 to 4 carbon atoms as a substituent, and when the acetyl group is placed X and the pupio or group is placed, the following (1) I like things. 005 () 2 x 3
  • X is a position of a thi group, and is a position of a pupio group and / or a position of a group.
  • a system that simultaneously satisfies the conditions defined in () and () is suitable for manufacturing optical plates b and c that exhibit excellent optical properties, which is the obvious target.
  • the sessate or sessate is particularly preferable, and the sessate is particularly preferable.
  • the sessate or sessate peony it is preferred that: ⁇ X 2 ⁇ 5 and ⁇ ⁇ 5, 2 ⁇ X 3 ⁇ .
  • the method for determining the position of the base can be determined according to S896.
  • the number average molecular weight of the system used in the clear the range of 6 to 3, the mechanical strength of the obtained is strong. In addition 7 to 2 are preferred.
  • 005 Measure the number of molecules according to the following conditions by the number average molecular weight of the system, and the 006 0 0 0 0 0 0 _ _ _ _ _ _ _ _ _ _ _ _ _ _ _ _ _ _ _ _ _ _ _ _ _ _ _ _ _ _ _ _ _ _ _ _ _ _ _ _ _ _ _ _ _ _ _ _ _ _ _ _ _ _ _ _ _ _ _ _ _ _ _ _ _ _ _ _ _ _ _ _ _ _ _ _ _ _ _ _ _ _ _ _ _ _ _ _ _ _ _ _ _ _ _ _ _ _ _ _ _ _ _ _ _ _
  • Examples of the sessile foods used for the sake of clarity include, but are not limited to, cotton sap, lumber sap, and the like. In addition, these systems can be mixed at will.
  • the agent of the composition is water (, anhydrous propione, anhydrous), it is useful for the use of organic acid chloride, etc. Is performed.
  • the agent is a chloride (C3COC, C2 5COC, C3 7C C)
  • the reaction is carried out using the basic compound as.
  • the flatness of the 6th position which is the position of the system used in Ming, is 5 to 9.
  • the synthesized system can be purified to remove
  • the system is also affected by the subtleties in the system. These are considered to be related to the water used in the manufacturing process, but it is preferable that they contain a small amount of components so that they can be insoluble, and gold ions such as iron, lithium and magnesium contain organic substances. Poor formation may form an insoluble material, preferably a small amount. For (e) minutes, preferably below. As for the amount of um (Ca), the amount of carbon and the amount of carbon, as well as many compounds and It is easy to form, and forms cams (soluble) that are derived from many kinds of um.
  • the content of (e), the content of Ca (C a), and the content of Gn () are decomposed by an exhaust method (), and the results are processed by CP S (plasma spectroscopic analysis). Can be used for analysis.
  • the addition of what is known as plasticity is preferable in terms of imparting mechanical flexibility and imparting water-solubility and moisture.
  • the addition of plasticizers has the purpose of lowering the degree of use of the ingredients than the glass degree of the system used, or of the same degree. It includes the purpose of reducing the cost of the software.
  • the degree of the ingredient means the temperature at which the ingredient is heated while the ingredient is heated and the fluidity is developed.
  • plastics represented by the following (2) and general (3) are preferable to use the plastics represented by the following (2) and general (3).
  • 007 (2) is an atomic atom, quaki, arachi, aki, quaki, aoki, arachioki, a, force oki, okicabo, or okicabo oki group. , Which may have further substitutions, are good, at least not at least hydrogen atoms. Represents a divalent chain and represents a substituted or substituted alkyne, an oxygen atom, or a direct bond.
  • a quaki group having 3 to 8 carbon atoms is also preferable, and concretely, it is a group such as cupupi, cuppenty, and ku. These groups may be substituted or, preferably, as a substituent, for example, in a group such as a chlorine atom, an atom atom, a fluorine atom, a hydrid, an achi, an achi, a quat or an arachi group. May be further substituted by aki or gen), bi, a
  • a group of a group may be further substituted with an achi or gen), a group of a group may be further substituted with an achi or gen), an acetyl, a Pio's prime numbers from 2 to 8, Aoki and Piooki's prime numbers from 2 to There is a replacement oki of 8.
  • the arachi represented by 007 R ⁇ are benzyl, chi,
  • a group such as poppy It also represents a group such as poppy, and these groups may be substituted, preferably, the same groups may be mentioned, even if they are substituted with the above-mentioned quaky group.
  • these groups may be substituted, and as a preferable substitution, a group such as a chlorine atom, an elementary atom, a fluorine atom, a hydride, an achi, a quaky or an arachi group is preferable.
  • Aki or gen may be substituted), a is a group which may be further substituted by an aki or gen), and aoki (for example, a group which is a chi group). )), Acetyl, and pupio groups, as well as oki, substituted oxy groups of prime numbers 2-8 of pupiooki, and benzoiokiaoki.
  • the quaki represented by 00800 R ⁇ is a quaki having a prime number of -8 as a substitute quaki. Specifically, it is a group such as cupuoki, kupenchioki, kuoki and the like. Is mentioned. Further, these groups may be substituted, and as preferable substitution, the same groups may be mentioned even if they are substituted with the above quat groups.
  • Examples of the alkoxy represented by 008 R ⁇ include a xy group, which may be substituted with the quasi group of achi or gen or may be substituted with the quat group.
  • Examples of the arachioki represented by 008 R ⁇ include benzyl and oki, and these groups may be further substituted, preferably substituted by the above quaki group. Moyo groups can be mentioned as well. Examples of the group represented by 008 R ⁇ include acetyl, and Pupio's substituted groups having a prime number of 2 to 8 (the hydrocarbons of the group include achi, achi and achi). The group may be further substituted, and as a preferred substituent, the same group may be mentioned as the above quat group.
  • the oki represented by 008 R ⁇ are aceoki and popio
  • Aoki which has a prime number of 2 to 8 (including hydrocarbons of Aki, A, and Aki), and Nzoi Okiabo Cabooki group. It may be substituted with the above quat group or may be substituted with a group similar to the above group.
  • the oxycarbo represented by 008 R ⁇ represents methoxabo, oxycabo, puquioxaboocabo, and cabokivacobo group. These groups may be further substituted, and preferably, the same groups as those described above may be substituted with the quaky groups.
  • oxycarboxyl represented by ⁇ represents an alkoxy group having a prime number of 8 of methoxoxy, and these groups may be further substituted, and preferably, Substituents may be mentioned in the same manner even if they are substituted with the above-mentioned quat groups.
  • At least one of these is not a hydrogen atom. It should be noted that it is also possible to form a structure by connecting to each other with the deviations from to.
  • linkage represented by represents a substituted or substituted alkyne, an oxygen atom, or a direct bond
  • the quinine is a group such as methine, tin, or pupine
  • These groups may be further substituted with the groups represented by the above-mentioned or may be substituted with the groups mentioned as the groups.
  • a particularly preferred linkage represented by is a direct bond and boric acid.
  • the above-mentioned constituents of the compound As the organic acid represented by (2) those having at least or at least the above-mentioned acyl, a, oxabo, ikiki, and okibooki groups are preferable. Also, those with a number of are preferred.
  • organic acid substituting the acid group of 3 above may be a single kind or plural kinds.
  • valence is a positive integer on 3 and the O group is an acid group. Especially preferred are 3 or 4 as.
  • polyvalent a examples include the following, but are not limited to these. Addo, Arabito, 24 Tantoo, 23 Xantho, 26 Xantho, Gusen, Zigsen, To, Pentato, Pentato, Topentato, Galactito, Guth, Theos, Ino Tonto, tonto, 3 methylpentane 35 toto, na, toto, toppane, tochitan, and kite. In particular, gushes, totitans, toppans, and pentatos are preferred.
  • a compound represented by the formula (2) above which has a plurality of organic acids, can be synthesized by the following method.
  • the organic acid polyvalent acid represented by (2) above can be tested in the presence of an acid, or the organic acid can be used as an aqueous solution to react with a polyvalent acid.
  • There is a method of reacting the acid with polyvalent acid and it is preferable to select the method with higher yield depending on the target compound.
  • Plasticity consisting of a multi-stage ester on an organic acid 3 represented by As the above, the product represented by the above (3) is preferable.
  • 6 to 2 are elementary atoms, quats, arachis 0
  • Examples of the group of Oki, Araki Oki, A, Riki Oki, Okiabo and Okibo Oki include the same groups as mentioned above.
  • the polyvalent aster thus obtained is not particularly limited, but it is preferably 3 to 5, and more preferably 4 to. However, smaller ones are preferable in terms of sex and sex.
  • the polarizing plates b and c according to Mitsumi plasticize the organic acid represented by the general formula (2) above and the polyester produced from the above three.
  • plastics and plastics are included. More preferred is 7 and even more preferred is 8. If it is used in this range, it can improve the doutability even if it is used in other ways.
  • Nzen ⁇ 35 Tetracaboquito, Ta e.g. Ta, Kita, Mita, Ta, Jitata, 2 Kita, Tato, Kuta, Nkutato, Mitata Megut, Multi-bonded system such as tee, tie, tie, tie, etc.), kun (for example, kunacetometh, kunacetochi, kunacetochi, etc.), Tost, business , Cinbis (St), Cinbis (Dist), Bis (Dist), Bis (Dist) (Adecasta P), BIS (Kist) (Adecasta P5), Examples include infant systems such as Nogisuto (made by Adecasta P6), for example, those such as those described in 2 2 22956, pp. 49-56. [0116] In the case of Ming, the test system, polyvalent carbon system, ubene system, post system, pot system, act
  • the yellowness is 3 / down, and more preferable is / down. . It can be determined based on the chromaticity S 73.
  • the preferred type is not particularly limited as long as it is a commonly used one in the general industry, for example, a sootite or a zinc oxide.
  • sulfur type examples include, for example, Lau 3 3 pupionate, sti 3 3 puppet, and distea 3 3 ppio. , Raustea 33 pionet, pentast tetrakis (0 lacrithiopropione), 39 bis (2 thio) 2 48 tetraoxas 5 5 decane and the like.
  • Oils and other unsaturated naturals are sometimes gusset or unsaturated and contain these generally 2 to 22 carbon atoms).
  • hinderedan (S) compound which is a known compound and is described in, for example, columns 5 to 5 of US 4 6 9 956 and columns 3 to 5 of US 4 839 4 5 As such, it includes 2 2 6 6 tetra-acryl, or their inclusions and their metallic counterparts.
  • S hinderedan
  • Examples of physical bodies are 4 chi 2 2 6 6 tetramethidine, 4 chi 2 2 6 6 tetramethidine, benzi 4 chi 2 2 6 6 tetramethidine, (4 2) 4 ki 2 2 6 6 tetramethidine, 4 steayl.
  • antioxidants include SS 2 below.
  • Each of these android types can be used alone or in combination of two or more, and even when they are used in combination with these android types, acid, and ultraviolet rays, they are introduced into the child structure part. It ’s okay. It is selected within a range that does not impair the objective, but in the im is preferably ⁇ , more preferably ⁇ ⁇ 5, and particularly preferably ⁇ 5 ⁇ .
  • an external line it is superior to the external line below the wavelength because it is a stop against the external line of the polarizer and the display device, and from the point of viewability, it is preferable that it has a small yield on wavelength 4.
  • oxybenzonon-based compounds, benzoto-azo-based compounds, satin-based compounds, benzonone-based compounds, acto-based compounds, and Ackke can be mentioned, but benzonon-based compounds and colored toazo compounds can be mentioned. I like the compound.
  • Examples of toazo-based external lines for use in 0132 include 2 (2 chimeti) benzoto azo, 2 (2 chi 35 e) benzoto azo, 2 (2 3 e
  • Bottle () 36 (Slippage / spare tips), 3 (
  • benzonon-based compounds include 2 4 benzonone, 2 2 quino 4 toki benzonon, 2 quino 4 toki 5 benzonon, and bis (2 toki 4 quino benzoi methane). Is not limited to.
  • particles of a dot can be added for imparting slipperiness, and examples of the particles include particles of an inorganic substance or particles of an organic substance. It is preferable to use particulates as much as possible, and for particulates, for example, silica dioxide, titanium dioxide, aluminum, zinc oxide, carbonate, kaolin, tac, calcium, hydrated calcium. Examples thereof include inorganic fine particles such as aluminum, potassium, and magnesium, and high molecular weight bridged particles. Above all, silicon dioxide is I like it because I can do it. Particles such as silicon oxide are often processed by organic substances, but such particles can reduce the amount of im. [0137] Orchids, alans, la, xane, etc. can be cited as the reasonably preferable products. The larger the particle size, the greater the slipperiness, and conversely, the average particle size, which is more transparent. In addition,
  • Examples of the fine particles of silicon include Di (OS) 2 2 3 R972 R972 R974 R2 2 R8 2 OX5 6 manufactured by Nippon Di Co., Ltd., and 2 R972 R972 R974 R2 2 R8 2 is preferable. . You can use more than one of these particles. When using 2 or more, they can be mixed and used in any combination. In this case, fine particles of average material, such as 2 and 972, can be used in the range of • 99 • 9 to 99 9 •.
  • the product includes a ring. Especially preferred is a ring, which is generally an unsaturated ring. Above all 3 5 Those having an azine ring are particularly preferable.
  • the inclusion of the above compound includes not only the state in which the product is wrapped in the system part but also the fact that it is present inside and on the surface at the same time.
  • drying means that the deviation of the material is used in addition to the absorbed moisture and used in the composition of the system, or is mixed in at the time of the formation.
  • Method may be performed in the air or in an atmosphere of selected gas as gas. When using these methods, it is better to carry out these methods in the area where the material does not decompose.
  • the amount of water remaining after the removal as described above or the amount of the body of the substance should be lower, preferably 5 lower, more preferably lower, further more preferably lower. . At this time
  • drying is more preferable under C (5) C, and further preferable under C (2) C. Dryness: between 5 and 24, more preferably between 8 and even more preferably between 5 and 2. Lower than these may be lower or too dry. Also, when present in other materials, heating to a higher temperature may make the material more difficult to handle.
  • 0146 2 can be separated, for example, by Then, it is possible to melt through the process between just before and just before.
  • the preferred polarizing plates b and c are ⁇ 5. Especially above 2 and above 35 is preferred. Also, it is preferable that it is under 4 and further under 2 u. Especially preferred is 25 to 9 u. Also, I would like
  • the polarizing plates b and c according to the invention are manufactured by: In Ming, means heating to the degree at which the porosity of the liquid such as the susceptibility is exhibited, and then performing the porosity of the liquid such as the susceptibility.
  • Ming means heating to the degree at which the porosity of the liquid such as the susceptibility is exhibited, and then performing the porosity of the liquid such as the susceptibility.
  • the extrusion method is the best method for obtaining a polarizing plate phi having excellent mechanical strength and strength.
  • the method of producing a light plate includes as follows: the material is heated so as to exhibit its mobility and then extruded on a drum or a sandwich.
  • 050 can be connected with an extruder, a twin-screw extruder, or a twin-screw outlet, and a twin-screw outlet can be connected.
  • an extruder in view of the qualitative and optical properties of the obtained extruder, use the extruder. Is preferred.
  • the temperature at the time of the above-mentioned light emission is in the range of 2 to 28 C. It is preferable that the light plates b and c of the bright plate are directionally or longitudinally extended. Especially, it is preferable to extend the direction.
  • the obtained Y is heated through a group of numbers and / or a device such as an infrared heater into the glass () of the cell () to the area of C, and is subjected to one or more steps. I like this.
  • a device such as an infrared heater into the glass () of the cell () to the area of C
  • 0155 usually at a temperature higher than that, and heat normally for 5 to 3 hours in an enclosure below 2 C. It is preferable to set the temperature difference in the range divided by 2 in the range of to C in sequence.
  • the specified number of times is set to normal, and the cup holding part at the end of the time is taken. It is preferable that the temperature is less than or equal to the final constant temperature, and within the above temperature range. In addition, it is preferable to cool from the final constant temperature at a rate of C / sec or less.
  • the means for performing the processing but it is possible to use the conventional method, but it is preferable to perform the processing while sequentially performing the processing in a plurality of areas from the viewpoint of improving the qualitativeness of the processing. , Cooling, the final constant temperature is the time from when the temperature reaches the final constant temperature to 0157, which is the value determined by ().
  • the polarizing plates b and c relating to the brightness can control the folding rate depending on the operation. As a work, it is possible to control to a desired range of the turn-around ratio by adjusting the direction of -2 to the direction of the time of 2-5.
  • the widthwise shrinkage is too large when extending in the opposite direction, the folding ratio in the only direction becomes too large. In this case, the suppression of the contraction of i can be improved by improving it.
  • the refractive index may be distributed in the width. This is sometimes seen when the tenter method is used, but it is a phenomenon in which the shrinkage occurs in the image when it is stretched in the direction, and it is twisted when it is fixed. Conceivable. Even in this case, it is possible to suppress the boeing phenomenon by extending it in the opposite direction, and it is possible to reduce the amount of cloth.
  • the light plate frames b and c are 3, and further.
  • the method of extending the two directions to each other is effective, and the two directions of the two directions to each other, respectively, in the end, respectively, to ⁇ 2 ⁇ f, and to ⁇ 2 ⁇ 5. It is preferable to double the size, and it is preferable to enclose it in the range of ⁇ ⁇ 5 and in the range of ⁇ 5 ⁇ 2 ⁇ f.
  • the system When the system is used to obtain a positive double fold against the force, it can be applied in the direction of the system by extending it in the width direction. In this case, in the present invention, in order to improve the display quality, it is preferable that it is in the direction of the system. It is necessary to satisfy (for).
  • the method of playing There is no particular limitation on the method of playing. For example, you can open multiple halves and use them to extend in the same direction, fix the ends of the ims with a cup, and spread the gap between the cups in the direction of travel to extend in the same direction. For example, the method of spreading horizontally and stretching in the horizontal direction, and the method of spreading horizontally and stretching in the horizontal and vertical directions are mentioned. Of course, you can combine these.
  • the tenter method it is preferable to drive the cups by the Adry method so that the slip can be reduced, and the steepness of can be reduced, so that it is preferable to use these tenters of about 0165. It can be a tenter or a cup tenter.
  • the polarizing plates b and c according to the invention are delayed in the direction of the im, and the in-plane at 589 is 3 to OO and the thickness in the direction of 7 to 3 R o is 2 to 5. Having such a phase value contributes to excellent field angle.
  • Is the turn-around ratio in the im is the turn-around ratio in the im
  • z is the turn-around ratio only in the im
  • d is the () in the im.
  • the movement of the cloth and the width of the cloth are preferably, is preferably 8, and is preferably 5. Furthermore, it is preferable that it is 3, and that it is. Most preferably, there is no action.
  • Tadeo (o) () can be determined using the automatic folding rate. For example, using R 2 ((stock, you can determine the wavelength of 23C 55. 0170 In addition,
  • Direction is the longitudinal direction. To be in.
  • Satisfying the 0171 factor can contribute to obtaining a high level in the display image and suppressing or preventing it, and to obtaining a real color image in the color position.
  • the stability of light plates b and c is based on the law of stability for 24 hours in C, the law of 8 Cg is preferable, and more preferable is 5 Especially preferred is.
  • the bright light plates b and c do not substantially use a solvent in a short time, they are stably contained in the scraped glass, and thus have a stable surface property. It is also possible to provide a light board. In particular, it has become possible to provide an optical plate with a stable surface even for the above long object. There are no particular restrictions on the winding of the light plate, and 5 25 5 is also preferable.
  • 0174 come by the dead space method.
  • a known optical plate is heated at 2 C for 2 minutes in a closed vessel, and the organic screen contained in the phase in the vessel is used.
  • the amount of water contained in the polarizing plate () was further measured by another method, and the amount of water () was added from () of the optical plate before and after the heat treatment.
  • the residual content () can be obtained from the value. It is difficult to set the () of the polarizing plate prepared in 0176 below, and it takes a long time for that. However, according to this method, it is possible to obtain an optical plate with extremely low residual content by striking. You can get it.
  • the decomposition reaction becomes remarkable, and this reaction may cause oxidization.
  • the decomposition reaction may generate a desirable amount of life.
  • optical plates a and d are the same as the ones used for the system, such as system, quino system, poca system, and popo system.
  • the sessate is at least one species selected from sessate and sessatetopionate sessate.
  • the light plates a and d may be the same or different. It is also preferable that the polarizing plates a and d have the following functions on the surface opposite to the polarized surface.
  • I is usually in the range of 5 to 2, preferably to 2 and more preferably 2 to. If it is sharp, it becomes difficult to handle the stacking, and if it is sharp, the stacking period becomes long and the productivity decreases.
  • the in-plane at 5 is ⁇ 5, more preferably ⁇ 2.
  • the thickness direction is 2 ⁇ 5, more preferred ⁇ 2.
  • the 0182 tag can be controlled by the tag, degree and extension of the previous key. If the previous rate is constant, the rate of the deferred rate tends to be high, so that the desired rate of the definite rate can be obtained by changing the rate.
  • the Ta of the wavelength of 5 is usually within 5, preferably under 3 and more preferably under 2. .
  • the thickness within the tadson can be adjusted by using the previous ones and by making the stresses equal to each other. For that purpose, it is desirable to extend the temperature distribution to a certain degree, preferably within 5 C, more preferably within 2 C, and particularly preferably within 5 C in a temperature controlled environment.
  • Dot, reflective ,, anti-reflective, optical, optical capability may be applied.
  • the quanine type porosity used in the present invention is composed of a polymer porosity containing a structure.
  • the quinoline type porosity is a porosity obtained by polymerizing and copolymerizing a cyclic ring.
  • inks There are three types of inks available: nobonone, ink pen, tetra Decene, thitetradecdecene, thidenetetracdecene, tetrac (7 ⁇ 4 ⁇ ⁇ 3 2 7 cas 2 4 6 tetra and other saturated elements and their conductors octene, kunten, kuxene, 34 methics Saturated elements and their conductors such as copper, 3 methixoxene, 2 (2 meth) kuxene, octene, 3a 5 6 7a tetrad 4 7 methanoindene, cupten, cupentazine, and oxazine.
  • substituents such as hydr, cab, a, ki, guji, okicabo, force, ano,
  • Quo-impo may be a product obtained by addition-polymerizing a monomer other than the cyclic one.
  • Polymerizable monomers include tin, pine, pentene, pentene, etc., or 4 dexazines, 4 methys 4 hexazines, 5 methys 4 dexazines, 7 octanes, etc. Is mentioned.
  • 0190 can be obtained by addition polymerization. It is carried out in the catalyst.
  • the addition polymerization include a polymerization medium composed of a nadium compound and an organic ammonium compound.
  • metals, salts or salts of metals such as um, zirconium, radium, osmium, indium, platinum, etc., and polymerization as the base agent are used for metals such as titanium, nadium, zinc, tungsten and den.
  • a polymer or the like which is composed of an oxygen atom or a chelate compound and an organic ammonium compound, can be used.
  • the pressure and pressure are not particularly limited, but usually 5 C to C 2
  • the quinoline-based compound used in the present invention is obtained by polymerizing and co-polymerizing a ring, and then changing the saturation in the molecule by hydrogen. Blowing hydrogen, hydrogenation So.
  • the Novonene system has the Novonene case as a repeating position.
  • examples of this include 62 2524 6 reports, special 62 252 4 7 reports, special 2 334 3 reports, and 63 45324 reports.
  • those described in Japanese Patent Publication No. 7 62 28, Japanese Patent No. 8 764, and Japanese Patent No. 9 24 484 can be preferably used, but are not limited to these. These can be used alone or in combination of two or more.
  • the above and C are not particularly limited, but preferably, the same is true even if the organic is linked through a hydrogen atom, a gen, a monovalent or at least a divalent chain. But it can be different. , Or and C or or or may form a polycycle.
  • the above-mentioned divalent chain includes oxygen atoms, sulfur atoms, and nitrogen atom-represented elements such as te, ste ,,, kuta, ad, and te. It is not limited to.
  • the above groups may be further substituted via the above.
  • any of these other copolymers that can be copolymerized with a nonone-based resin can be used alone or in combination of two or more.
  • the mass of the addition-polymerized bonone-based compound and the other copolymerizable compound It is usually chosen to be 3 7 to 99, preferably 5 5 to 97 3 and more preferably 7 3 to 95 5.
  • the hydrogenation rate should be 9 above, preferably 95 above, and particularly preferably 99 above due to factors such as the presence of hydrogen. .
  • the average molecular weight of the hexane (if the coalesce is not dissolved) measured by the Gaun-Kontogra method usually 5 to 5, preferably When it is within the range of 8 to 2, and more preferably, it is preferable because the mechanical strength of molding is highly balanced.
  • the 0206 quino system poiy may contain a compound that can be generally compounded with plastics.
  • plastics include heat, heat, ultraviolet rays, electrification, lubricants, plasticizers, agents, etc., and the amount thereof can be selected within a range that does not impair the purpose.
  • extrusion molding, extrusion, Is preferred, and extrusion is most preferred.
  • the purpose of use is selected according to the forming method, but when heated, the degree of contact is usually 5 to. .
  • the range is between 2 and 35 C, more preferably between 23 and 33 C. If the porosity is excessively low and the liquidity is poor, distortion occurs in the poise, and if the porosity is excessively high and the po
  • I is usually in the range 5 to 3, preferably ⁇ 2, more preferably 2 ⁇ . If it is sharp, it becomes difficult to handle the stacking, and if it is sharp, the stacking period becomes long and the productivity decreases.
  • the 0208 quanian poise has a surface strength of 4
  • the degree of polarization will be improved.
  • a treatment such as napping, ozone attachment, ultraviolet irradiation, flame treatment, chemical treatment, or the like.
  • the previous model requires a thickness of 5 to 5 degrees.
  • the tag will not increase and the rate will not be as prescribed, and the rate may drop.
  • the molecule thus obtained has a desired size and has a molecule having a desired size.
  • o is ⁇ 2, more preferably ⁇ O. Also, in the thickness direction
  • the 0213 tag can be controlled by the tag, degree, and extension of the previous key.
  • the front is constant In this case, since the delay rate tends to be large, the desired term time can be obtained by changing the rate.
  • the quan-poem according to Ming is usually less than 5 ratons with a wavelength of 58g, preferably 3 lower, more preferably 2 lower. It is a thing.
  • the thickness of the 0215 Rita-Dota is the same as the thickness before them.
  • the temperature in a controlled temperature environment preferably within 5 C, more preferably within 2 C, and particularly preferably within 5 C.
  • carbon-based materials that can be used to make the carbon-based materials, and in terms of quality and physical properties, po-carbonated materials are preferable, and snow- poked materials are particularly preferable.
  • po-carbonated materials are preferable
  • snow- poked materials are particularly preferable.
  • more preferable are those using a snoconductor into which snoene, oxane, or an aliphatic group is introduced.
  • these groups are introduced asymmetrically with respect to the central atom. Preference is given to a carbon-reduced structure within the unit obtained using a conductor.
  • a polarizing plate made of polycarbonate which is used in the present invention, is made of a polyester or a metal-based material or a ceramic material. It may be used as a mixture of transparent materials such as ceramics, or may be laminated with carbon nanotubes on one side of the system.
  • the method of producing a carbonaceous material that can be preferably used. That is, it is also possible to use a deviation such as an image by the output method, an image by the cast method, or an image by the kand method.
  • a deviation such as an image by the output method, an image by the cast method, or an image by the kand method.
  • either one or two is used, and by including the same as described in the polarizing films b and c, only a carbon system can be obtained.
  • the preferred carbonaceous material used is that the glass () is on C and the water absorption (measured between 24 in 23C) is 3 or less. Gyo. It is more preferable to use one having a water absorption rate of 2 C or less and 2 C or more.
  • the posters that make up the postal system posi- tions that are clearly preferred are those that have the main constituents of dicarbone and geo. is there.
  • the essential constituents of dicarbone include theta, isota, ta, 26 tunica bon, 27 tunica bon, dishondika bon, gitejika bon, ditan djica bon, oxandica bon, Examples thereof include dizidacone, dithiotedicadone, ditondicabone and indane dicarboxylic acid.
  • tin, pudding, tetra ting, hexane dimethano, 22 bis 4
  • Examples include te, tong, neopentyl, idoquinone, and quincandio.
  • the amount of dicarbone can be reduced to the For carbon dioxide and geo component, it is preferable to use a post whose main component is tungsten or 4-hexanedimethano.
  • a potentiate consisting of a potentiate or a potentiate, a co-polymerized posta consisting of a polymetacarbonate, and a mixture of at least one of these composites.
  • Posts which are the main components, are preferred.
  • the post which constitutes the post-type porosity used in Akira is good even if another copolymerization component is copolymerized as long as it does not inhibit the effects of Akira. It may be mixed. Examples of these include the dicarbone and geo components mentioned above, or the post made up of them.
  • a bino compound, a tan or a compound having a hexane ring can be copolymerized.
  • ⁇ 2 is preferred, based on the functional boric acid that constitutes the post.
  • the method for producing a post-type porosity which can be preferably used is any one. Clearly, either one or two is used, and by including the same as described in the polarizing plates b and c, only a postal system poim is obtained.
  • the popo which is preferred for the light plates im and a, is the po and po of lactic acid and lactic acid and the polyfunctional carboxylic acid, and the combination of them. Including things. Of these popo, po is po, po is more preferable.
  • a compatibilizer may be contained.
  • Popo is Po
  • it may be a random polymer, an alternating polymer, a dock polymer, or a grat polymer in the column of po.
  • these are at least partially bridged with polysaccharides such as quinisoaneto, 24 isotone, etc., and polysaccharides, such as acethenes.
  • polysaccharides such as quinisoaneto, 24 isotone, etc.
  • polysaccharides such as acethenes.
  • Examples of the polymerizable substance include, for example, guar, methyl, 2 KI, 3 KI, 4 KI, 2 PON, 3 PON, 2 quinic acid, 3 quinic acid, 4 quinic acid, 5 quinic acid, 2 KI.
  • the polysaccharides of Ananoa carbon may be mentioned. These polymerizable functionalities may be one kind or a mixture of two or more kinds, or, if they have an element ,, and a mixture of them.
  • the method for producing popo to be used for clarity is not particularly limited, but it is described in, for example, 59 96 23 report, Special 7 3386.
  • the method of directly obtaining lactic acid, or by using lacchi which is the body described in the US 4 57 357 booklet Po ee 4 49 ⁇ 495 (985) aoo C e 87 6 ⁇ 628 (986) etc. It can be manufactured according to the method of combination. As a matter of fact, it can be polymerized using a supporting official.
  • the average molecular weight () of popo used in the above is not particularly limited, but it is preferably ⁇ 10,000, more preferably 30,000 ⁇ 30,000, and even more preferably 50,000 ⁇ 10,000.
  • the distribution of the average molecular weight of Popo () used in Mitsui () is desired by selecting the raw material type, the type, the type, and the reaction, reaction time, and water of the reaction system. You can control things.
  • UV light plastic or fine particles to the surface.
  • the method of making the pommie that can be used preferably is as follows. Clearly, either one or two is used, and by including the same as described in polarizing plate b, c, only the popoim is obtained. 0235 (light board)
  • the bright light plate can be manufactured by a general method. It is preferable that the polarizing plates a, b, c, and d according to the invention are processed and dipped in a liquid, and one side of the polarized light is prepared by using a complete Bobia solution. . Of the polarizing plates b and c
  • Polarizing plates a and d are used on the other side of the substrate, but as the polarizing plates a and d, commercially available systems (for example, C8 X C4 X C5 X C8 C 3 C8 C 4 C8 C4 C 2 C8 C 3 C8 C 4 C8 C 5 C8 C8 X C8 X and above, you can also use Cantatopto Co., Ltd. etc.
  • Polarized light which is a constituent element of a light plate, is an element that passes only light in a certain direction, and is the currently known pore system, which is the element dyed in the system. There is a two-color dye. It is preferable that a pore solution be prepared, and that the solution be colored and then colored, and then a compound that has been subjected to durability treatment be used. On top of this, the surface of the polarizing plate for light is put together to form a polarizing plate. More perfect
  • Bright light plates are preferred for reflective, transmissive, semi-C for molds, S-types, OC-types, molds, molds (P-types, molds), PS-types, etc.
  • S-types OC-types
  • molds molds
  • PS-types PS-types
  • the present invention will be specifically described below with reference to implementation, but is not limited to these.
  • the thus obtained combined product was subjected to 2 at 7 C using hot air which had been passed through the air to remove the content.
  • the folding rate of the im was measured using the folding rate (4).
  • the size of the im was measured using a commercially available ink meter. 0247 (Co., Ltd.) was used for 4 hours at 23C 55, and the wavelength was measured at the wavelength of.
  • the value of the in-plane index (o) direction index () was obtained by inputting the following in the in-plane index (o). 0248 () o ()
  • Is the in-direction folding rate is the in-direction folding rate
  • z is the in-direction folding rate
  • d is the () of.
  • the optical plate was manufactured as follows.
  • I did 5. This was made into an aqueous solution consisting of iodine-75 and iodine-5,6, and then a solution of 68C consisting of iodine-6 and boron7.5. This was washed with water and dried.
  • a polarizing plate was prepared by combining the above-mentioned polarizing system material and the back-quinoline-based material in accordance with the following items (1) to (5).
  • Sodium sesquisate was obtained on the polarized side by washing with 0252 C of sodium oxide 6, followed by washing with water and drying.
  • a system material and a quinoine-based material were prepared in the same manner except that the hindered material was changed from S to S2, and the polarizing plate 2 was prepared. .
  • a system material and a quinoine-based material were prepared in the same manner except that the hindered material was changed from S to S3, and a polarizing plate 3 was prepared.
  • a system material and a quino system material were prepared in the same manner except that a Hinddon S was used for 3 and a S5 system was used for 3 A plate was made.
  • a system material and a quinine-based material were produced in the same manner except that the degree was set to 22 C, and the light polarizing plate 6 was produced.
  • a system material and a quinine-based material were manufactured in the same manner except that the temperature was set to 26 C, and the polarizing plate 7 was manufactured.
  • a system material and a quinine-based material were manufactured in the same manner except that the degree was set to 28 C, and the polarizing plate 8 was manufactured.
  • the system composition and the quinine composition composition were prepared in the same manner.
  • a polarizing plate 9 was prepared.
  • Sesthe C 9 and plastic P ⁇ were added, and the mixture was kept in air at a constant temperature of 3 C, 2 and room temperature. After heating this sessile compound at a temperature of 24 C, it was expanded from the mold die at 2 C in the mechanical direction ⁇ 2, and in the direction opposite to the mechanical direction ⁇ 4 times. As a result, I got 8 system materials.
  • the Rita was 45 R. In this way, a quinone-based porosity was obtained by using a carbonate-based fat instead of the sessile.
  • the ta o was R and the R was 2.
  • An optical plate 2 was manufactured in which the susceptor was arranged on the side of the cell through polarized light, and the quaternary po- sition was arranged on the opposite side. The calculation used for these was calculated at 23C 55. 0277 (of light plate 2 2
  • Sesthe C 9 and plastic P ⁇ were added, and the mixture was kept in air at a constant temperature of 3 C, 2 and room temperature. After heating this sessile compound at a temperature of 24 C, it was expanded from the mold die at 2 C in the mechanical direction ⁇ 2, and in the direction opposite to the mechanical direction ⁇ 4 times. As a result, I got 8 system materials.
  • the composition was obtained by using the resin instead of the sessile to obtain the composition.
  • An optical plate 2 3 was manufactured in which the sensor was placed on the side of the cell through polarized light, and the popo was placed on the opposite side. The rules used in these calculations were calculated at 23C 55.
  • Sesthe C 9 and plastic P ⁇ were added, and the mixture was kept in air at a constant temperature of 3 C, 2 and room temperature. After heating this sessile compound at a temperature of 24 C, it was expanded from the mold die at 2 C in the mechanical direction ⁇ 2, and in the direction opposite to the mechanical direction ⁇ 4 times. As a result, I got 8 system materials.
  • a post-type polymer was obtained by using a post-type resin instead of the post-system.
  • An optical plate 24 was manufactured by arranging the susceptor on the side of the light through polarized light and conversely arranging the above-mentioned post-system pos. The key used for these calculations was 24 at 23C, 55.
  • the front trust value was evaluated according to the following method.
  • the light board material was left at 7 C for a while. Release the G2P2 optical plate made by SEO, and
  • the frontal degree was measured from the indicated line direction, and the ratio was taken as the frontal trust. The higher the value, the better the front trust.
  • Dot ⁇ Prepared the dough by using a 4 pin made-up ita, spread it on the above light plate im with an incubator, dry it at 9 C, and then UV lamp.
  • the degree of irradiation was O W c
  • the irradiation O ⁇ J c was hardness
  • a dry 7 dry layer was formed.
  • Kia 84 ( ⁇ Sparetakez Co., Ltd.) 2
  • a reflective light guide plate was produced by applying a refractive index as follows, and then a reflective layer in this order on the manufactured dots.
  • the UV lamp After heating with C, the UV lamp irradiates it with O / J c to wind it, wind it on a thermal plastic with a winding length of 4, and then heat it for 8 3 times, then the reflective light plate im (im). Was produced.
  • the refractive index of 0297 was -37.
  • Tetratoxylane 289 Tano 553 was added to this, and • 5 acid aqueous solution 57 was added, and the hydrolysis was adjusted by 3 in 25 C water.
  • the value of the front untrust and the value of immunity were evaluated in the same manner as in the implementation, and the untrust value was 7 to 8 It was confirmed that the area had a high trust even in the surrounding area and that it had a good reflectivity.

Abstract

 本発明は、偏光板の製造時のフィルム貼合を行うことが容易で、かつ液晶表示装置の正面コントラストを向上させた偏光板、偏光板の製造方法及び液晶表示装置を提供する。この偏光板は、液晶表示装置に用いられる液晶セルの少なくとも一方の側面に配置され、偏光膜および該偏光膜に対して液晶セル側に設けられた第1の偏光板保護フィルムと、該偏光膜を介して液晶セルと反対側に配置された第2の偏光板保護フィルムとを有する偏光板であって、該第1の偏光板保護フィルムが、セルロースエステルと該セルロースエステルに対しヒンダードフェノール化合物を0.01質量%以上、5.0質量%以下含有することを特徴とする。

Description

偏光板、偏光板の製造方法及び液晶表示装置
技術分野
[0001] 本発明は、偏光板、偏光板の製造方法及び液晶表示装置に関し、より詳しくは偏 光板の製造時に、フィルム貼合を行うことが容易で、かつ光漏れや高温高湿条件下 における寸法安定性を改善し、液晶表示装置の正面コントラストを向上させた偏光板 、偏光板の製造方法及び液晶表示装置に関する。
背景技術
[0002] 偏光膜を保護する目的として、偏光板保護フィルムが使用されている。この偏光板 保護フィルムは、偏光膜の両面をサンドイッチする構成で偏光板としている。従来、 位相差フィルムを貼付して視野角補償フィルムとした光学補償フィルムにより、液晶 表示装置の表示品質を向上することが行われてきた。近年は偏光板保護フィルムに 位相差フィルムの機能が融合されるようになり、該保護フィルムの役割が多機能化し 、かつ部材が削減出来るようになつてきた。
[0003] 一方、液晶表示装置の表示品質において視野角の補償が改良されつつあり、ディ スコティック液晶のフィルムをッイストネマチック(TN)型液晶セルの上面と下面に配 置して、液晶セルの視野角特性を改善出来ることが開示されている(例えば、特許文 献 1参照。)。
[0004] 液晶モードの改善による視野角改良の技術は、液晶性化合物を電圧無印加時に 実質的に垂直に配向させ、電圧印加時に実質的に水平に配向させる垂直配向(VA )型液晶セルを用いた液晶表示装置が開示されている (例えば、特許文献 2参照。 ) 。 VA型液晶は、従来の TN型液晶表示装置と比較して、視野角が広ぐ応答が高速 であるとの特徴があるとされて 、るが、それでも CRTと比較すれば改善が必要である
[0005] 特に、大型 TVのように液晶画面が大きくなるに従って、更に視野角を広げたいとい う要望が高まっており、視野角拡大の為に位相差フィルムが使用されてきている。従 つて前記液晶画面の拡大により、位相差フィルムもますます広幅化される方向にある [0006] この目的で、従来より高分子フィルムの適用が検討されてきた力 通常、セルロース トリアセテート (TAC)フィルムは、厚み方向に一定の位相差値 (Rt)を有するが面内 方向には極めて小さな位相差値 (Ro)しか発現せず、例えば前述の VA型 LCDの視 野角を改善する目的には必ずしも適切ではなかった。
[0007] この点を克服すベぐセルロースエステルフィルムを製膜時に幅手方向に延伸する ことにより、幅手方向に遅相軸を持つ位相差フィルム兼偏光板保護フィルムとなる位 相差値の均一性に優れたフィルムが知られている。
[0008] し力しながら大型の液晶表示装置では、用いられている位相差フィルムにおいて、 フィルム面内の遅相軸のズレがコントラストの著しい低下を引き起こすことが知られて おり、表示性能を確保するために遅相軸のズレに着目した技術が開示されている(例 えば、特許文献 1、 2参照。)。
[0009] 更に、位相差フィルムの遅相軸のズレを抑制する為の具体的な方法として、延伸時 の温度によりフィルムを柔ら力べして延伸ムラをなくす方法が開示されて 、る(例えば
、特許文献 3参照。)。
[0010] しかしながら、いずれも近年要求の高い大型ディスプレイ用の位相差フィルムとして は、コントラスト、高温高湿条件下による寸法安定性、光漏れ等に課題があり、その改 善が求められているのが現状である。
[0011] 一方、偏光板の保護フィルムとしては、セルロース榭脂、特にセルロースアセテート の中でも特にセルローストリアセテートが用いられて 、る。
[0012] し力しながら一般にセルロース榭脂フィルムの製造方法はハロゲン系の溶媒を用い た溶液流延法による製膜方法であるため、溶媒回収に要する費用は非常に大きい 負担となっていた。そのため、力かる問題を解決するため、溶融流延法により製膜さ れたフィルムを貼合した偏光板の製造方法が開示されてきている(例えば、特許文献 4参照。;)。し力しながら、溶融流延法で製膜したフィルムにさらに幅手方向の熱延伸 を施すと熱履歴を重ねることとなり、フィルムに着色が起こりやすくなるため、該偏光 板の正面コントラストの低下を招く原因となっていた。
[0013] 同時に、熱履歴を重ねることで溶融物の分解が起こり、フィルムの平滑性が損なわ れることとなり、偏光板製造時のフィルム貼合性が低下するという問題が生じていた。 また、流延速度を上げようとすると溶融物に、更なる熱負荷が力かるため、フィルムの 生産能力向上を図ることができな力つた。
特許文献 1:特開平 11― 160536号公報
特許文献 2:特開 2002— 22943号公報
特許文献 3:特開 2001— 215332号公報
特許文献 4:特開 2000— 352620号公報
発明の開示
発明が解決しょうとする課題
[0014] 従って、本発明の目的は、偏光板の製造時のフィルム貼合を行うことが容易で、か つ液晶表示装置の正面コントラストを向上させた偏光板、偏光板の製造方法及び液 晶表示装置を提供することにある。
課題を解決するための手段
[0015] 本発明の上記課題は以下の構成により達成される。
[0016] 1.液晶表示装置に用いられる液晶セルの少なくとも一方の側面に配置され、偏光 膜および該偏光膜に対して液晶セル側に設けられた第 1の偏光板保護フィルムと、 該偏光膜を介して液晶セルと反対側に配置された第 2の偏光板保護フィルムとを有 する偏光板であって、該第 1の偏光板保護フィルムが、セルロースエステルと該セル ロースエステルに対しヒンダードフエノール化合物を 0. 01質量0 /0以上、 5. 0質量0 /0 以下含有することを特徴とする偏光板。
[0017] 2.前記第 1の偏光板保護フィルムを構成するセルロースエステル力 セルロースァ セテート、セノレロースプロピオネート、セノレロースブチレート、セノレロースアセテートプ 口ピオネート、セルロースアセテートブチレート、セルロースアセテートフタレート及び セルロースフタレートから選ばれる少なくとも 1種であることを特徴とする前記 1に記載 の偏光板。
[0018] 3.前記第 1の偏光板保護フィルムを構成するセルロースエステル力 セルロースァ セテートプロピオネートまたはセルロースアセテートブチレートであることを特徴とする 前記 2に記載の偏光板。 [0019] 4.前記第 1の偏光板保護フィルムを構成するセルロースエステルが、炭素原子数 2 乃至 4のァシル基を置換基として有し、ァセチル基の置換度を Xとし、プロピオニル基 またはプチリル基の置換度を Yとしたとき、下記式 (I)及び式 (II)で規定する条件を同 時に満たすことを特徴とする前記 3に記載の偏光板。
[0020] 式(I) 2. 0≤X+Y≤3. 0
式(II) 0≤Υ≤1. 5
5.前記第 2の偏光板保護フィルムの主成分がセルロースエステルであり、該セル口 ースエステノレが、セノレロースアセテート、セノレロースアセテートプロピオネート及びセ ルロースアセテートプチレートから選択される少なくとも 1種であることを特徴とする前 記 1乃至 4のいずれか 1項に記載の偏光板。
[0021] 6.前記第 2の偏光板保護フィルムの主成分力 シクロォレフイン系ポリマー、ポリ力 ーボネート系ポリマー、ポリ乳酸系ポリマー及びポリエステル系ポリマー力 選ばれる 少なくとも 1種であることを特徴とする前記 1乃至 5のいずれ力 1項に記載の偏光板。
[0022] 7.液晶セル、及び該液晶セルの両側にそれぞれ偏光板を有する液晶表示装置に おいて、該液晶セルの両側に設けられた偏光板のうち、少なくとも一方の偏光板が、 偏光膜および該偏光膜に対して液晶セル側に設けられた第 1の偏光板保護フィルム と、該偏光膜を介して液晶セルと反対側に配置された第 2の偏光板保護フィルムとを 有し、該第 1の偏光板保護フィルム力 セルロースエステルと該セルロースエステルに 対しヒンダードフエノールイヒ合物を 0. 01質量%以上、 5. 0質量%以下含有する偏 光板であることを特徴とする液晶表示装置。
[0023] 8.前記液晶セルの両側に設けられた両方の偏光板力 偏光膜および該偏光膜に 対して液晶セル側に設けられた第 1の偏光板保護フィルムと、該偏光膜を介して液晶 セルと反対側に配置された第 2の偏光板保護フィルムとを有し、該第 1の偏光板保護 フィルムが、セルロースエステルと該セルロースエステルに対しヒンダードフエノール 化合物を 0. 01質量%以上、 5. 0質量%以下含有する偏光板であることを特徴とす る前記 7に記載の液晶表示装置。
[0024] 9.液晶表示装置に用いられる液晶セルの少なくとも一方の側面に配置され、偏光 膜および該偏光膜に対して液晶セル側に設けられた第 1の偏光板保護フィルムと、 該偏光膜を介して液晶セルと反対側に配置された第 2の偏光板保護フィルムとを有 する偏光板の製造方法にぉ 、て、
セルロースエステルと該セルロースエステルに対してヒンダードフエノール化合物を
0. 01質量%以上、 5. 0質量%以下含有する混合物を加熱溶融し、溶融流延法によ り該第 1の偏光板保護フィルムを製造する工程、
該偏光膜に対して、該第 1の偏光板保護フィルム及び該第 2の偏光板保護フィルム を貼り付ける工程、
とを有することを特徴とする偏光板の製造方法。
[0025] 10.前記加熱溶融が、 200°C以上、 280°C以下の温度で行われることを特徴とす る前記 9に記載の偏光板の製造方法。
発明の効果
[0026] 本発明により、偏光板の製造時のフィルム貼合を行うことが容易となり、かつ液晶表 示装置の正面コントラストを向上させた偏光板、偏光板の製造方法及び液晶表示装 置を提供することが出来る。
図面の簡単な説明
[0027] [図 1]本発明の偏光板、液晶表示装置の構成例の模式図である。
発明を実施するための最良の形態
[0028] 以下本発明を実施するための最良の形態について詳細に説明する力 本発明はこ れらに限定されるものではない。
[0029] 本発明は、液晶表示装置に用いられる液晶セルの少なくとも一方の側面に配置さ れ、偏光膜および該偏光膜に対して液晶セル側に設けられた第 1の偏光板保護フィ ルムと、該偏光膜を介して液晶セルと反対側に配置された第 2の偏光板保護フィルム とを有する偏光板であって、該第 1の偏光板保護フィルムが、セルロースエステルと 該セルロースエステルに対しヒンダードフエノール化合物を 0. 01質量0 /0以上、 5. 0 質量%以下含有することを特徴とする偏光板により、偏光板の光漏れや高温高湿条 件下における寸法安定性を改善し、液晶表示装置の正面コントラストを向上出来る。
[0030] 本発明の偏光板の構成の一例を、図 1で示す。
[0031] 液晶セルの両側に配置された偏光板 A、偏光板 Bは各々偏光膜の両側に偏光板 保護フィルム a (第 2の偏光板保護フィルム)、偏光板保護フィルム b (第 1の偏光板保 護フィルム)、偏光板保護フィルム c (第 1の偏光板保護フィルム)、偏光板保護フィル ム d (第 2の偏光板保護フィルム)が配置されている。偏光板保護フィルム b、偏光板保 護フィルム cは同一でも異なっていてもよいが、少なくとも一方が、セルロースエステル と該セルロースエステルに対しヒンダードフエノール化合物を 0. 01〜5質量0 /0含有 する透明保護フィルムであることが特徴である。
[0032] また、偏光板保護フィルム a、偏光板保護フィルム dに用いられるポリマーは、セル口 ースエステノレ系ポリマー、シク口才レフイン系ポリマー、ポリカーボネート系ポリマー、 ポリ乳酸系ポリマー及びポリエステル系ポリマー力も選ばれる少なくとも 1種であること が好ましい。偏光板保護フィルム a、偏光板保護フィルム dは同一でも異なっていても よい。また、偏光板保護フィルム a、偏光板保護フィルム dは、偏光膜に貼合されてい る面とは反対の面に機能性層が設けられて 、ることも好ま 、。
[0033] 以下本発明を詳細に説明する。
[0034] 最初に、本発明の前記偏光板保護フィルム b、偏光板保護フィルム cに関して説明 する。
[0035] 本発明者らは、上記課題に対し鋭意検討した結果、偏光板保護フィルム b、偏光板 保護フィルム cの少なくとも一方が、セルロースエステルと該セルロースエステルに対 しヒンダードフエノールイ匕合物を 0. 01〜5質量%含有する偏光板保護フィルムであ る時に、偏光板の光漏れや高温高湿条件下における寸法安定性を改善し、液晶表 示装置の正面コントラストが向上出来るという驚くべき効果を見出し、本発明を成すに 至ったものである。
[0036] 本発明の目的の 1つは、この正面コントラストを向上させることである。正面コントラス トとは、表示装置全体の法線方向から測定した際のコントラストのことであり、画面の 一部の箇所の局所的なコントラストのことではない。例えば、画面四隅のコントラストの 低下、あるいは額縁状に発生する光漏れによる局所的にコントラストが低下するという 現象もあるが、これらは局所的に発生するものであり、本発明で向上させる対象とな る正面コントラストとは意味が異なる。
[0037] 従って、本発明で言う正面コントラストとは、表示面全体におけるコントラストのことで あり、ある特定条件 (例えば、高温高湿下やドライの耐久試験など)で局所的にコント ラストが悪ィ匕する、 t 、つた動的な現象を改善する場合とは全くメカニズムが異なって おり、本発明の内容とは一致しない。
[0038] (ヒンダードフ ノール化合物)
本発明に係るヒンダードフエノールイ匕合物は、フエノールイ匕合物の水酸基に対して オルト位置に嵩高い分岐アルキルを有する構造である。
[0039] 例えば、米国特許第 4, 839, 405号明細書の第 12〜14欄に記載されているもの などの、 2, 6 ジアルキルフヱノール誘導体化合物が好ましい。このような化合物に は、以下の一般式(1)のものが含まれる。
[0040] [化 1]
—般式《1》
Figure imgf000008_0001
[0041] 上式中、 R、 R及び Rは、更に置換されている力または置換されていないアルキル
1 2 3
置換基を表す。ヒンダードフエノールイ匕合物の具体例には、 n—ォクタデシル 3— (3, 5—ジ一 t—ブチル 4—ヒドロキシフエ-ル)一プロピオネート、 n—ォクタデシル 3— (3, 5—ジ一 t—ブチル 4—ヒドロキシフエ-ル)一アセテート、 n—ォクタデシル 3, 5—ジ tーブチルー 4ーヒドロキシベンゾエート、 n—へキシル 3, 5—ジー t ブチル —4—ヒドロキシフエ-ルペンゾエート、 n—ドデシル 3, 5—ジ一 t—ブチル 4—ヒド ロキシフエ-ルペンゾエート、ネオ—ドデシル 3— (3, 5—ジ— t—ブチル—4—ヒドロ キシフエ-ル)プロピオネート、ドデシル j8 (3, 5—ジ一 t—ブチル 4—ヒドロキシフエ -ル)プロピオネート、ェチル α— (4—ヒドロキシ— 3, 5—ジ— t—ブチルフエ-ル)ィ ソブチレート、ォクタデシル α—(4ーヒドロキシ 3, 5—ジー t ブチルフエ-ル)イソ ブチレート、ォクタデシル α— (4—ヒドロキシ一 3, 5—ジ一 t—ブチル 4—ヒドロキ シフエ-ル)プロピオネート、 2—(n—ォクチルチオ)ェチル 3, 5 ジ—tーブチルー 4ーヒドロキシ一べンゾエート、 2—(n—ォクチルチオ)ェチル 3, 5 ジー t—ブチル 4ーヒドロキシ一フエ-ルアセテート、 2—(n—ォクタデシルチオ)ェチル 3, 5 ジ —tーブチルー 4ーヒドロキシフエ-ルアセテート、 2—(n—ォクタデシルチオ)ェチル 3, 5 ジ—tーブチルー 4ーヒドロキシ一べンゾエート、 2—(2 ヒドロキシェチルチ ォ)ェチル 3, 5—ジー tーブチルー 4ーヒドロキシベンゾエート、ジェチルダリコールビ ス一(3, 5 ジ tーブチルー 4ーヒドロキシ一フエ-ル)プロピオネート、 2—(n—ォ クタデシルチオ)ェチル 3— (3, 5—ジ tーブチルー 4ーヒドロキシフエ-ル)プロピ ォネート、ステアルアミド N, N ビス一 [エチレン 3— (3, 5—ジ一 t—ブチル 4—ヒ ドロキシフエ-ル)プロピオネート]、 n—ブチルイミノ N, N—ビス一 [エチレン 3— (3, 5 ジ— t—ブチル—4 ヒドロキシフエ-ル)プロピオネート]、 2- (2—ステアロイル ォキシェチルチオ)ェチル 3, 5 ジー tーブチルー 4ーヒドロキシベンゾエート、 2—( 2 ステアロイルォキシェチルチオ)ェチル 7—( 3 メチル 5 t ブチル 4ーヒド ロキシフエ-ル)ヘプタノエート、 1, 2 プロピレングリコールビス一 [3— (3, 5 ジ一 tーブチルー 4ーヒドロキシフエ-ル)プロピオネート]、エチレングリコールビス [3— (3, 5—ジー tーブチルー 4ーヒドロキシフエ-ル)プロピオネート]、ネオペンチルグリ コールビス [3— (3, 5—ジ—tーブチルー 4ーヒドロキシフエ-ル)プロピオネート] 、エチレングリコールビス一(3, 5—ジ tーブチルー 4ーヒドロキシフエ-ルァセテー ト)、グリセリン一 1—n—ォクタデカノエートー 2, 3 ビス一(3, 5 ジ一 t—ブチル 4 —ヒドロキシフエ-ルアセテート)、ペンタエリトリトール—テトラキス— [3— (3' , 5' —ジ一 t—ブチルー^ —ヒドロキシフエ-ル)プロピオネート]、 1, 1, 1—トリメチロー ルェタン—トリス— [3— (3, 5—ジ— t ブチル—4—ヒドロキシフエ-ル)プロビオネ 一ト]、ソルビトールへキサ [3— (3, 5—ジ tーブチルー 4ーヒドロキシフエ-ル) プロピオネート]、 2 ヒドロキシェチル 7— (3—メチル—5— t ブチル—4 ヒドロキ シフエ-ル)プロピオネート、 2—ステアロイルォキシェチル 7—(3—メチルー 5— t— ブチルー 4ーヒドロキシフエ-ル)ヘプタノエート、 1, 6—n—へキサンジオール ビス [ (3' , 5' —ジ tーブチルー 4ーヒドロキシフエ-ル)プロピオネート]、ペンタエリト リトール テトラキス( 3 , 5—ジ一 t ブチル 4—ヒドロキシヒドロシンナメート)が含ま れる。上記タイプのヒンダードフエノール系酸ィ匕防止剤化合物は、例えば、 Ciba Sp ecialty Chemicalsから、 "Irganoxl076,,及び" IrganoxlOlO"という商品名で巿 販されている。
[0042] 本発明に係るヒンダードフエノールイ匕合物は、後述するセルロースエステルに対し て 0. 01 5質量%含有させる。 0. 01未満では本発明の効果が得られず、 5質量% 以内であれば溶融流延過程においてブリードアウトすることもなく安定した効果が得 られる。好ましくは、 0. 5 3質量%の範囲である。偏光板保護フィルム b、偏光板保 護フィルム cへの含有量は同一でも各々異なって 、てもよ 、。
[0043] (セルロースエステル)
本発明に係る偏光板保護フィルム b、偏光板保護フィルム cに含有されるセルロース エステノレは、セノレロースアセテート、セノレロースプロピオネート、セノレロースブチレート 、セノレロースアセテートプロピオネート、セノレロースアセテートブチレート、セノレロース アセテートフタレート及びセルロースフタレートから選ばれる少なくとも 1種であること が好ましぐ特にセルロースアセテートプロピオネートまたはセルロースアセテートブ チレートが好ましい。
[0044] 本発明に用いられるセルロースエステルは、脂肪酸ァシル基、置換もしくは無置換 の芳香族ァシル基の中カゝら少なくともいずれかの構造を含む、セルロースの前記単 独または混合酸エステルである。
[0045] 芳香族ァシル基にぉ 、て、芳香族環がベンゼン環であるとき、ベンゼン環の置換基 の例としてハロゲン原子、シァ入アルキル基、アルコキシ基、ァリール基、ァリールォ キシ基、ァシル基、カルボンアミド基、スルホンアミド基、ウレイド基、ァラルキル基、二 トロ、アルコキシカルボ-ル基、ァリールォキシカルボ-ル基、ァラルキルォキシカル ボ-ル基、力ルバモイル基、スルファモイル基、ァシルォキシ基、ァルケ-ル基、アル キ-ル基、アルキルスルホ-ル基、ァリールスルホ-ル基、アルキルォキシスルホ- ル基、ァリールォキシスルホ -ル基、アルキルスルホ -ルォキシ基及びァリールォキ シスルホ -ル基、 S— R NH— CO— OR PH— R P (— R) PH— O
2
R P
(一 R) (— O— R) P (— O— R) PH ( = 0)— R— P ( = 0) (— R) PH ( =
2 2
O)— O— R P ( = 0) (— R) (— O— R) P ( = 0) (— O— R) O— PH ( = 0
2
R O— P ( = 0) (— R) — O— PH ( = 0)— O— R O— P ( = 0) (— R) (— O— R)、 一 O— P ( = 0) (-O-R) 、 一 NH— PH ( = 0)— R、 一 NH— P ( = 0) (—
2
R) (一 O— R)ゝ 一 NH— P ( = 0) (-O-R) 、 一 SiH— R、 一 SiH (— R) 、 一 Si (—
2 2 2
R) 、 -O-SiH R、 -O-SiH (-R) ¾tJ^-0-Si (-R) が含まれる。上記 Rは
3 2 2 3
脂肪族基、芳香族基またはへテロ環基である。置換基の数は、 1個〜五個であること が好ましぐ 1個〜 4個であることがより好ましぐ 1個〜 3個であることが更に好ましぐ 1個または二個であることが最も好ましい。置換基としては、ハロゲン原子、シァ入ァ ルキル基、アルコキシ基、ァリール基、ァリールォキシ基、ァシル基、カルボンアミド基
、スルホンアミド基及びウレイド基が好ましぐハロゲン原子、シァ入アルキル基、ァ ルコキシ基、ァリールォキシ基、ァシル基及びカルボンアミド基がより好ましぐハロゲ ン原子、シァ入アルキル基、アルコキシ基及びァリールォキシ基が更に好ましぐハ ロゲン原子、アルキル基及びアルコキシ基が最も好まし 、。
[0046] 上記ハロゲン原子には、フッ素原子、塩素原子、臭素原子及びヨウ素原子が含ま れる。上記アルキル基は、環状構造或いは分岐を有していてもよい。アルキル基の 炭素原子数は、 1〜20であることが好ましぐ 1〜12であることがより好ましぐ 1〜6で あることが更に好ましぐ 1〜4であることが最も好ましい。アルキル基の例には、メチ ル、ェチル、プロピル、イソプロピル、ブチル、 t—ブチル、へキシル、シクロへキシル 、ォクチル及び 2—ェチルへキシルが含まれる。上記アルコキシ基は、環状構造或い は分岐を有していてもよい。アルコキシ基の炭素原子数は、 1〜20であることが好ま しぐ 1〜12であることがより好ましぐ 1〜6であることが更に好ましぐ 1〜4であること が最も好ましい。アルコキシ基は、更に別のアルコキシ基で置換されていてもよい。ァ ノレコキシ基の^ Jには、メトキシ、エトキシ、 2—メトキシエトキシ、 2—メトキシー 2—エト キシエトキシ、ブチルォキシ、へキシルォキシ及びォクチルォキシが含まれる。
[0047] 上記ァリール基の炭素原子数は、 6〜20であることが好ましぐ 6〜12であることが 更に好ましい。ァリール基の例には、フエニル及びナフチルが含まれる。上記ァリー ルォキシ基の炭素原子数は、 6〜20であることが好ましぐ 6〜12であることが更に好 ましい。ァリールォキシ基の例には、フエノキシ及びナフトキシが含まれる。上記ァシ ル基の炭素原子数は、 1〜20であることが好ましぐ 1〜12であることが更に好ましい 。ァシル基の例には、ホルミル、ァセチル及びベンゾィルが含まれる。上記カルボン アミド基の炭素原子数は、 1〜20であることが好ましぐ 1〜12であることが更に好ま しい。カルボンアミド基の例には、ァセトアミド及びべンズアミドが含まれる。上記スル ホンアミド基の炭素原子数は、 1〜20であることが好ましぐ 1〜12であることが更に 好ましい。スルホンアミド基の例には、メタンスルホンアミド、ベンゼンスルホンアミド及 び p—トルエンスルホンアミドが含まれる。上記ウレイド基の炭素原子数は、 1〜20で あることが好ましぐ 1〜 12であることが更に好ましい。ウレイド基の例には、(無置換) ウレイドが含まれる。
[0048] 上記ァラルキル基の炭素原子数は、 7〜20であることが好ましぐ 7〜 12であること が更に好ましい。ァラルキル基の例には、ベンジル、フエネチル及びナフチルメチル が含まれる。上記アルコキシカルボニル基の炭素原子数は、 1〜20であることが好ま しぐ 2〜12であることが更に好ましい。アルコキシカルボ-ル基の例には、メトキシカ ルポ-ルが含まれる。上記ァリールォキシカルボ-ル基の炭素原子数は、 7〜20で あることが好ましぐ 7〜 12であることが更に好ましい。ァリールォキシカルボ-ル基の 例には、フエノキシカルボ-ルが含まれる。上記ァラルキルォキシカルボ-ル基の炭 素原子数は、 8〜20であることが好ましぐ 8〜12であることが更に好ましい。ァラル キルォキシカルボ-ル基の例には、ベンジルォキシカルボ-ルが含まれる。上記力 ルバモイル基の炭素原子数は、 1〜20であることが好ましぐ 1〜12であることが更に 好まし 、。力ルバモイル基の例には、(無置換)力ルバモイル及び N—メチルカルバ モイルが含まれる。上記スルファモイル基の炭素原子数は、 20以下であることが好ま しぐ 12以下であることが更に好ましい。スルファモイル基の例には、(無置換)スルフ ァモイル及び N—メチルスルファモイルが含まれる。上記ァシルォキシ基の炭素原子 数は、 1〜20であることが好ましぐ 2〜12であることが更に好ましい。ァシルォキシ 基の例には、ァセトキシ及びベンゾィルォキシが含まれる。
[0049] 上記ァルケ-ル基の炭素原子数は、 2〜20であることが好ましぐ 2〜 12であること が更に好ましい。ァルケ-ル基の例には、ビニル、ァリール及びイソプロべ-ルが含 まれる。上記アルキニル基の炭素原子数は、 2〜20であることが好ましぐ 2〜12で あることが更に好ましい。アルキニル基の例には、チェ-ルが含まれる。上記アルキ ルスルホ -ル基の炭素原子数は、 1〜20であることが好ましぐ 1〜12であることが更 に好ましい。上記ァリールスルホ-ル基の炭素原子数は、 6〜20であることが好ましく 、 6〜12であることが更に好ましい。上記アルキルォキシスルホ -ル基の炭素原子数 は、 1〜20であることが好ましぐ 1〜12であることが更に好ましい。上記ァリールォキ シスルホ -ル基の炭素原子数は、 6〜20であることが好ましぐ 6〜 12であることが更 に好ましい。上記アルキルスルホ-ルォキシ基の炭素原子数は、 1〜20であることが 好ましぐ 1〜 12であることが更に好ましい。上記ァリールォキシスルホ -ル基の炭素 原子数は、 6〜20であることが好ましぐ 6〜12であることが更に好ましい。
[0050] 本発明に係るセルロースエステルにおいて、セルロースの水酸基部分の水素原子 が脂肪族ァシル基との脂肪酸エステルであるとき、脂肪族ァシル基は炭素原子数が 2〜20で、具体的にはァセチル、プロピオ-ル、ブチリル、イソブチリル、バレリル、ピ バロィル、へキサノィル、オタタノィル、ラウロイル、ステアロイル等が挙げられる。
[0051] 本発明において前記脂肪族ァシル基とは、更に置換基を有するものも包含する意 味であり、置換基としては上述の芳香族ァシル基において、芳香族環がベンゼン環 であるとき、ベンゼン環の置換基として例示したものが挙げられる。
[0052] また、上記セルロースエステルのエステルイ匕された置換基が芳香環であるとき、芳 香族環に置換する置換基 Xの数は 0または 1〜5個であり、好ましくは 1〜3個で、特 に好ましいのは 1または 2個である。更に芳香族環に置換する置換基の数が 2個以上 の時、互いに同じでも異なっていてもよいが、また、互いに連結して縮合多環化合物 (例えば、ナフタレン、インデン、インダン、フエナントレン、キノリン、イソキノリン、クロメ ン、クロマン、フタラジン、アタリジン、インドール、インドリンなど)を形成してもよい。
[0053] 上記セルロースエステルにおいて置換もしくは無置換の脂肪族ァシル基、置換もし くは無置換の芳香族ァシル基の少なくともいずれか 1種選択された構造を有する構 造を有することが本発明のセルロースエステルに用いる構造として用いられ、これら は、セルロースの単独または混合酸エステルでもよぐ 2種以上のセルロースエステル を混合して用いてもよい。
[0054] 前記セルロースエステルとしては、炭素原子数 2〜4のァシル基を置換基として有し 、ァセチル基の置換度を Xとし、プロピオニル基またはブチリル基の置換度を Yとした 時、下記式 (I)及び式 (II)で規定する条件を同時に満たすものが好ま 、。 [0055] 式(I) 2. 0≤X+Y≤3. 0
式(II) 0≤Υ≤1. 5
式中、 Xはァセチル基の置換度、 Υはプロピオニル基及び Ζまたはブチリル基の置 換度である。上記の式 (1)、式 (II)で規定する条件を同時に満足するセルロースエス テルは、本発明の目的である優れた光学特性を示す偏光板保護フィルム b、 cを製造 するのに適している。
[0056] この中で、特に、セルロースアセテートブチレートまたはセルロースアセテートプロピ ォネートが好ましぐ特にセルロースアセテートプロピオネートが好ましい。セルロース アセテートまたはセルロースアセテートプロピオネートでは、 1. 0≤X≤2. 5であり、 0 . 1≤Y≤1. 5、 2. 0≤Χ+Υ≤3. 0であることが好ましい。ァシル基の置換度の測定 方法は、 ASTM— D817— 96に準じて測定することが出来る。
[0057] 前記ァシル基の置換度が低過ぎると、セルロース榭脂の骨格を構成するビラノース 環の水酸基に対して未反応部分が多くなり、該水酸基が多く残存することにより、リタ 一デーシヨンの湿度変化や偏光板保護フィルムとして偏光子を保護する能力が低下 してしまうことがあり、好ましくない。
[0058] 本発明に用いられるセルロースエステルの数平均分子量は、 60000〜300000の 範囲が、得られるフィルムの機械的強度が強く好ましい。更に 70000〜200000のも のが好ましく用いられる。
[0059] セルロースエステルの数平均分子量は、下記の方法に従って測定することができる
[0060] 高速液体クロマトグラフィにより、下記条件で測定する。
[0061] 溶媒:アセトン
カラム: MPW X 1 (東ソ一 (株)製)
試料濃度 : 0. 2 (質量 Ζ容量)%
流量: 1. OmlZ分
試料注入量: 300 1
標準試料:標準ポリスチレン
温度: 23°C 本発明に用いられるセルロースエステルの原料のセルロースとしては、特に限定は ないが、綿花リンター、木材パルプ、ケナフなどを挙げることが出来る。またそれらか ら得られたセルロースエステルはそれぞれ任意の割合で混合使用することが出来る。
[0062] 本発明に係るセルロースエステルは、セルロース原料のァシル化剤が酸無水物(無 水酢酸、無水プロピオン酸、無水酪酸)である場合には、酢酸のような有機酸ゃメチ レンク口ライド等の有機溶媒を用い、硫酸のようなプロトン性触媒を用いて反応が行わ れる。ァシル化剤が酸クロライド(CH COCl、 C H COCl、 C H COC1)の場合には
3 2 5 3 7
、触媒としてァミンのような塩基性ィ匕合物を用いて反応が行われる。具体的には特開 平 10— 45804号に記載の方法を参考にして合成することが出来る。
[0063] 本発明で用いられるセルロースエステルのグルコース単位の 6位のァシル基の平均 置換度が 0. 5〜0. 9であることが好ましい。
[0064] セルロースエステルを構成するグルコース単位の 6位には、 2位及び 3位と異なり、 反応性の高い一級ヒドロキシル基が存在し、この一級ヒドロキシル基は、硫酸を触媒 とするセルロースエステルの製造過程で硫酸エステルを優先的に形成する。そのた め、セルロースのエスチルイ匕反応において、触媒硫酸量を増加させることにより、通 常のセルロースエステルに比べて、グルコース単位の 6位よりも 2位及び 3位の平均 置換度を高めることができる。さらに、必要に応じて、セルロースをトリチルイ匕すると、 グルコース単位の 6位のヒドロキシル基を選択的に保護できるため、トリチルイ匕により 6 位のヒドロキシル基を保護し、エステル化した後、トリチル基 (保護基)を脱離すること により、グルコース単位の 6位よりも 2位及び 3位の平均置換度を高めることができる。 具体的には、特開 2005— 281645記載の方法で製造されたセルロースエステルも 好ましく用いることができる。
[0065] ァセチルセルロースの場合、酢化率を上げようとすれば、酢化反応の時間を延長す る必要がある。但し、反応時間を余り長くとると分解が同時に進行し、ポリマー鎖の切 断ゃァセチル基の分解などが起り、好ましくない結果をもたらす。従って、酢化度を 上げ、分解をある程度抑えるためには反応時間はある範囲に設定することが必要で ある。反応時間で規定することは反応条件が様々であり、反応装置や設備その他の 条件で大きく変わるので適切でない。ポリマーの分解は進むにつれ、分子量分布が 広くなつてゆくので、セルロースエステルの場合にも、分解の度合いは通常用いられ る重量平均分子量 (Mw) Z数平均分子量 (Mn)の値で規定出来る。即ちセルロース トリアセテートの酢ィ匕の過程で、余り長すぎて分解が進みすぎることがなぐかつ酢ィ匕 には十分な時間酢ィ匕反応を行わせしめるための反応度合いの一つの指標として用 V、られる重量平均分子量 (Mw) Z数平均分子量 (Mn)の値を用いることが出来る。
[0066] セルロースエステルの製造法の一例を以下に示すと、セルロース原料として綿化リ ンター 100質量部を解砕し、 40質量部の酢酸を添加し、 36°Cで 20分間前処理活性 化をした。その後、硫酸 8質量部、無水酢酸 260質量部、酢酸 350質量部を添加し、 36°Cで 120分間エステルイ匕を行った。 24%酢酸マグネシウム水溶液 11質量部で中 和した後、 63°Cで 35分間ケンィ匕熟成し、ァセチルセルロースを得た。これを 10倍の 酢酸水溶液 (酢酸:水 = 1: 1 (質量比) )を用いて、室温で 160分間攪拌した後、濾過 、乾燥させてァセチル置換度 2. 75の精製ァセチルセルロースを得た。このァセチル セルロースは Mnが 92000、 Mw力 56000、 MwZMnは 1. 7であった。同様にセ ルロースエステルのエステル化条件 (温度、時間、攪拌)、加水分解条件を調整する ことによって置換度、 MwZMn比の異なるセルロースエステルを合成することが出来 る。
[0067] 尚、合成されたセルロースエステルは、精製して低分子量成分を除去したり、未酢 化ま
たは低酢化度の成分を濾過で取り除くことも好ましく行われる。
[0068] また、混酸セルロースエステルの場合には、特開平 10— 45804号公報に記載の 方法で得ることが出来る。
[0069] また、セルロースエステルは、セルロースエステル中の微量金属成分によっても影 響を受ける。これらは製造工程で使われる水に関係していると考えられるが、不溶性 の核となり得るような成分は少ない方が好ましぐ鉄、カルシウム、マグネシウム等の 金属イオンは、有機の酸性基を含んで ヽる可能性のあるポリマー分解物等と塩形成 することにより不溶物を形成する場合があり、少ないことが好ましい。鉄 (Fe)成分に ついては、 lppm以下であることが好ましい。カルシウム(Ca)成分については、カル ボン酸や、スルホン酸等の酸性成分と、また多くの配位子と配位化合物即ち、錯体を 形成しやすぐ多くの不溶なカルシウムに由来するスカム (不溶性の澱、濁り)を形成 する。
[0070] カルシウム(Ca)成分は 60ppm以下、好ましくは 0〜30ppmである。マグネシウム( Mg)成分については、やはり多すぎると不溶分を生ずるため、 0〜70ppmであること が好ましぐ特に 0〜20ppmであることが好ましい。鉄 (Fe)分の含量、カルシウムお a)分含量、マグネシウム (Mg)分含量等の金属成分は、絶乾したセルロースエステ ルをマイクロダイジェスト湿式分解装置 (硫硝酸分解)、アルカリ溶融で前処理を行つ た後、 ICP—AES (誘導結合プラズマ発光分光分析装置)を用いて分析することが 出来る。
[0071] (可塑剤)
一般的に、可塑剤として知られる化合物を添加することは機械的性質向上、柔軟性 を付与、耐吸水性付与、水分透過率の低減等のフィルムの改質の観点において好ま しい。また本発明で行う溶融流延法においては、可塑剤を添加することは、用いるセ ルロースエステル単独のガラス転移温度よりもフィルム構成材料の溶融温度を低下さ せる目的、または同じ加熱温度においてセルロースエステルよりもフィルム構成材料 の粘度を低下させる目的を含んでいる。ここで、本発明において、フィルム構成材料 の溶融温度とは、該材料が加熱され流動性が発現された状態にお!ヽて材料が加熱 された温度を意味する。
[0072] セルロースエステル単独では、ガラス転移温度よりも低いとフィルム化するための流 動性は発現されない。しカゝしながら、セルロースエステルは、ガラス転移温度以上に おいて熱量の吸収により弾性率或いは粘度が低下し、流動性が発現される。フィル ム構成材料を溶融させるためには、添加する可塑剤がセルロースエステルのガラス 転移温度よりも低 、融点またはガラス転移温度をもつことが好まし 、。
[0073] (一般式 (2)、一般式 (3)で表される化合物)
本発明では、下記一般式 (2)、一般式 (3)で表される化合物を可塑剤として用いる ことが好ましい。
[0074] [化 2]
Figure imgf000018_0001
Figure imgf000018_0002
[0076] 前記一般式(2)にお!/、て、 R〜Rは各々水素原子、シクロアルキル基、ァラルキル
1 5
基、アルコキシ基、シクロアルコキシ基、ァリールォキシ基、ァラルキルォキシ基、ァシ ル基、カルボニルォキシ基、ォキシカルボニル基、またはォキシカルボニルォキシ基 を表し、これらはさらに置換基を有していて良ぐ R〜Rのうち、少なくとも 1つは水素
1 5
原子ではない。 Lは 2価の連結基を表し、置換または無置換のアルキレン基、酸素原 子、または直接結合を表す。
[0077] R〜Rで表されるシクロアルキル基としては、同様に炭素数 3〜8のシクロアルキル
1 5
基が好ましぐ具体的にはシクロプロピル、シクロペンチル、シクロへキシル等の基で ある。これらの基は置換されていてもよぐ好ましい置換基としては、ハロゲン原子、例 えば、塩素原子、臭素原子、フッ素原子等、ヒドロキシル基、アルキル基、アルコキシ 基、シクロアルコキシ基、ァラルキル基(このフエ-ル基にはアルキル基またはハロゲ ン原子等によってさらに置換されていてもよい)、ビュル基、ァリール基等のァルケ- ル基、フエ-ル基(このフエ-ル基にはアルキル基またはハロゲン原子等によってさら に置換されていてもよい)、フエノキシ基(このフエ-ル基にはアルキル基またはハロ ゲン原子等によってさらに置換されていてもよい)、ァセチル基、プロピオ-ル基等の 炭素数 2〜8のァシル基、ァセチルォキシ基、プロピオニルォキシ基等の炭素数 2〜 8の無置換のカルボ-ルォキシ基等が挙げられる。
[0078] R〜Rで表されるァラルキル基としては、ベンジル基、フエネチル基、 γ —フエニル
1 5
プロピル基等の基を表し、また、これらの基は置換されていてもよぐ好ましい置換基 としては、前記のシクロアルキル基に置換してもよい基を同様に挙げることができる。
[0079] R〜Rで表されるアルコキシ基としては、炭素数 1〜8のアルコキシ基が挙げられ、
1 5
具体的には、メトキシ、エトキシ、 n—プロポキシ、 n—ブトキシ、 n—ォクチルォキシ、 イソプロポキシ、イソブトキシ、 2—ェチルへキシルォキシ、もしくは t—ブトキシ等の各 アルコキシ基である。また、これらの基は置換されていてもよぐ好ましい置換基として は、ハロゲン原子、例えば、塩素原子、臭素原子、フッ素原子等、ヒドロキシル基、ァ ルコキシ基、シクロアルコキシ基、ァラルキル基(このフエ-ル基にはアルキル基また はハロゲン原子等を置換していてもよい)、ァルケ-ル基、フエ-ル基(このフエ-ル 基にはアルキル基またはハロゲン原子等によってさらに置換されていてもよい)、ァリ ールォキシ基(例えば、フエノキシ基(このフエ-ル基にはアルキル基またはハロゲン 原子等によってさらに置換されていてもよい))、ァセチル基、プロピオニル基等のァ シル基力 またァセチルォキシ基、プロピオニルォキシ基等の炭素数 2〜8の無置換 のァシルォキシ基、ベンゾィルォキシ基等のァリールカルボ-ルォキシ基等が挙げら れる。
[0080] R〜Rで表されるシクロアルコキシ基としては、無置換のシクロアルコキシ基として
1 5
は炭素数 1〜8のシクロアルコキシ基基が挙げられ、具体的には、シクロプロピルォキ シ、シクロペンチルォキシ、シクロへキシルォキシ等の基が挙げられる。また、これら の基は置換されていてもよぐ好ましい置換基としては、前記のシクロアルキル基に置 換してもょ ヽ基を同様に挙げることができる。
[0081] R〜Rで表されるァリールォキシ基としては、フエノキシ基が挙げられる力 このフエ
1 5
-ル基にはアルキル基またはハロゲン原子等の前記シクロアルキル基に置換しても よ!、基として挙げられた置換基で置換されて 、てもよ!/、。
[0082] R〜Rで表されるァラルキルォキシ基としては、ベンジルォキシ基、フエネチルォキ
1 5
シ基等が挙げられ、これらの置換基は更に置換されていてもよぐ好ましい置換基と しては、前記のシクロアルキル基に置換してもよ 、基を同様に挙げることができる。 [0083] R〜Rで表されるァシル基としては、ァセチル基、プロピオニル基等の炭素数 2〜
1 5
8の無置換のァシル基が挙げられ (ァシル基の炭化水素基としては、アルキル、アル ケニル、アルキ-ル基を含む。)、これらの置換基は更に置換されていてもよぐ好ま し 、置換基としては、前記のシクロアルキル基に置換してもよ 、基を同様に挙げるこ とがでさる。
[0084] R〜Rで表されるカルボ-ルォキシ基としては、ァセチルォキシ基、プロピオ-ル
1 5
ォキシ基等の炭素数が 2〜8の無置換ァシルォキシ基 (ァシル基の炭化水素基として は、アルキル、ァルケ-ル、アルキ-ル基を含む。)、またベンゾィルォキシ基等のァ リールカルボ-ルォキシ基が挙げられる力 これらの基は更に前記シクロアルキル基 に置換してもよ 、基と同様の基により置換されて 、てもよ 、。
[0085] R〜Rで表されるォキシカルボ-ル基としては、メトキシカルボ-ル基、エトキシカ
1 5
ルボニル基、プロピルォキシカルボ-ル基等のアルコキシカルボ-ル基、またフエノ キシカルボ-ル基等のァリールォキシカルボ-ル基を表す。これらの置換基は更に 置換されていてもよぐ好ましい置換基としては、前記のシクロアルキル基に置換して もよ 、基を同様に挙げることができる。
[0086] また、 R〜Rで表されるォキシカルボ-ルォキシ基としては、メトキシカルボ-ルォ
1 5
キシ基等の炭素数 1〜8のアルコキシカルボ二ルォキシ基を表し、これらの置換基は 更に置換されていてもよぐ好ましい置換基としては、前記のシクロアルキル基に置換 してもょ 、基を同様に挙げることができる。
[0087] また、これら R〜Rのうち、少なくとも 1つは水素原子ではない。なお R〜Rのうち
1 5 1 5 の!、ずれか同士で互 、に連結し、環構造を形成して 、ても良 、。
[0088] また、 Lで表される連結基としては、置換または無置換のアルキレン基、酸素原子、 または直接結合を表す力 アルキレン基としては、メチレン基、エチレン基、プロピレ ン基等の基であり、これらの基は、更に前記の R〜Rで表される基に置換してもよい
1 5
基としてあげられた基で置換されて 、てもよ!、。
[0089] 中でも、 Lで表される連結基として特に好ましいのは直接結合であり芳香族カルボ ン酸である。
[0090] また、これら本発明にお ヽて可塑剤となるエステルイ匕合物を構成する、前記一般式 (2)で表される有機酸としては、少なくとも Rまたは Rに前記アルコキシ基、ァシル基
1 2
、ォキシカルボ-ル基、カルボ-ルォキシ基、ォキシカルボ-ルォキシ基を有するも のが好ま U、。また複数の置換基を有する化合物も好ま 、。
[0091] なお、本発明においては、 3価以上のアルコールの水酸基を置換する有機酸は単 一種であっても複数種であってもよ!/、。
[0092] 本発明にお 、て、前記一般式(2)で表される有機酸と反応して多価アルコールェ ステルイ匕合物を形成する 3価以上のアルコールィ匕合物としては、好ましくは 3〜20価 の脂肪族多価アルコールであり、 3価以上のアルコールとしては、下記の一般式 (4) で表されるものが好まし 、。
[0093] 一般式 (4) R' 一(OH)
式中、!^ は m価の有機基、 mは 3以上の正の整数、 OH基はアルコール性水酸基 を表す。特に好ましいのは、 mとしては 3または 4の多価アルコールである。
[0094] 好ましい多価アルコールとしては、例えば、以下のようなものを挙げることが出来る 力 本発明はこれらに限定されるものではない。アド二トール、ァラビトール、 1, 2, 4 ブタントリオール、 1, 2, 3 へキサントリオール、 1, 2, 6 へキサントリオール、グ リセリン、ジグリセリン、エリスリトール、ペンタエリスリトール、ジペンタエリスリトール、ト リペンタエリスリトーノレ、ガラクチトール、グルコース、セロビオース、イノシトール、マン 二トール、 3—メチルペンタン 1, 3, 5 トリオール、ピナコール、ソルビトール、トリメ チロールプロパン、トリメチロールェタン、キシリトール等を挙げることが出来る。特に、 グリセリン、トリメチロールェタン、トリメチロールプロパン、ペンタエリスリトールが好ま しい。
[0095] 一般式(2)で表される有機酸と 3価以上の多価アルコールのエステルは、公知の方 法により合成できる。例えば、前記一般式(2)で表される有機酸と多価アルコールと を酸の存在下で縮合させてエステルイ匕する方法、また、有機酸を予め酸クロライド或 いは酸無水物としておき、多価アルコールと反応させる方法、有機酸のフエ-ルエス テルと多価アルコールを反応させる方法等があり、 目的とするエステルイ匕合物により、 適宜、収率のよい方法を選択することが好ましい。
[0096] 一般式(2)で表される有機酸と 3価以上の多価アルコールのエステル力 なる可塑 剤としては、前記一般式(3)で表される化合物が好ま U、。
[0097] 前記一般式(3)にお!/、て、 R〜R は各々水素原子、シクロアルキル基、ァラルキ
6 20
ル基、アルコキシ基、シクロアルコキシ基、ァリールォキシ基、ァラルキルォキシ基、 ァシル基、カルボニルォキシ基、ォキシカルボニル基、またはォキシカルボ二ルォキ シ基を表し、これらはさらに置換基を有していて良い。 R〜R のうち、少なくとも 1つ
6 10
は水素原子ではなぐ R 〜R のうち、少なくとも 1つは水素原子ではなぐ R 〜R
11 15 16 20 のうち、少なくとも 1つは水素原子ではない。また、 R はアルキル基を表す。
21
[0098] R〜R のシクロアルキル基、ァラルキル基、アルコキシ基、シクロアルコキシ基、ァ
6 21
リールォキシ基、ァラルキルォキシ基、ァシル基、カルボニルォキシ基、ォキシカルボ
-ル基、ォキシカルボ-ルォキシ基については、前記 R〜Rと同様の基が挙げられ
1 5
る。
[0099] この様にして得られる多価アルコールエステルの分子量には特に制限はないが、 3 00〜 1500であることが好ましぐ 400〜1000であることが更に好ましい。分子量が 大きい方が揮発し難くなるため好ましぐ透湿性、セルロースエステルとの相溶性の 点では小さい方が好ましい。
[0100] 以下に、本発明に用いられる多価アルコールエステルの具体的化合物を例示する
[0101] [化 4]
Figure imgf000022_0001
[0102] [化 5]
Figure imgf000023_0001
[0103] [化 6] 〕
Figure imgf000024_0001
[8^ ] [SOTO]
Figure imgf000025_0001
[6^ ] [9010]
Figure imgf000026_0001
93 0^990/_00Z OAV [Οΐ^ ] [ ΟΐΟ]
Figure imgf000027_0001
il n [8010]
Figure imgf000028_0001
Figure imgf000029_0001
Figure imgf000030_0001
[0110] [化 13]
Figure imgf000031_0001
本発明に係る偏光板保護フィルム b、 cは、前記本発明に係る一般式 (2)で表され る有機酸および 3価以上の多価アルコールから製造されるエステル化合物を可塑剤 として 1〜25質量%含有することが好ましいが、それ以外の可塑剤と併用してもよい
[0113] 本発明に係る前記一般式(2)で表される有機酸と 3価以上の多価アルコールから なるエステルイ匕合物は、セルロースエステルに対する相溶性が高ぐ高添加率で添 加することができる特徴を備えているため、他の可塑剤や添加剤を併用してもブリー ドアウトを発生することがなぐ必要に応じて他種の可塑剤や添加剤を容易に併用す ることがでさる。
[0114] なお、他の可塑剤を併用する際には、本発明に係る可塑剤が、可塑剤全体の少な くとも 50質量%以上含有されることが好ましい。より好ましくは 70%以上、さらに好ま しくは 80%以上含有されることが好ましい。このような範囲で用いれば、他の可塑剤 との併用によっても、ブリードアウト及び透湿性を改良させることができる。
[0115] (他の可塑剤)
本発明において、併用出来る他の可塑剤としては、脂肪族カルボン酸—多価アル コール系可塑剤、特開 2003— 12823号公報の段落 30〜33に記載されているよう な、無置換の芳香族カルボン酸またはシクロアルキルカルボン酸 多価アルコール エステル系可塑剤、あるいはジォクチルアジペート、ジシクロへキシルアジペート、ジ フエ-ルサクシネート、ジ 2 ナフチルー 1, 4ーシクロへキサンジカルボキシレート、ト リシクロへキシルトリ力ルバレート、テトラ 3—メチルフエ-ルテトラヒドロフラン一 2, 3, 4, 5—テトラカルボキシレート、テトラプチルー 1, 2, 3, 4ーシクロペンタンテトラカル ボキシレート、トリフエ二ルー 1, 3, 5 シクロへキシルトリカルボキシレート、トリフエ- ルベンゼン 1, 3, 5—テトラカルボキシレート、フタル酸系可塑剤(例えば、ジェチ ルフタレート、ジメトキシェチルフタレート、ジメチルフタレート、ジォクチルフタレート、 ジブチルフタレート、ジー 2—ェチルへキシルフタレート、ジォクチルフタレート、ジシ クロへキシルフタレート、ジシクロへキシルテレフタレート、メチルフタリルメチルダリコ レート、ェチルフタリルェチルダリコレート、プロピルフタリルプロピルグリコレート、ブ チルフタリルブチルダリコレート等)、クェン酸系可塑剤(例えば、クェン酸ァセチルト リメチル、クェン酸ァセチルトリエチル、タエン酸ァセチルトリブチル等)等の多価カル ボン酸エステル系可塑剤、トリフエ-ルホスフェート、ビフエ-ルジフエ-ルホスフエー ト、ブチレンビス(ジェチノレホスフェート)、エチレンビス(ジフエ二ノレホスフェート)、フエ -レンビス(ジブチノレホスフェート)、フエ-レンビス(ジフエ-ノレホスフェート)(旭電ィ匕 製アデカスタブ PFR)、フエ-レンビス(ジキシレニルホスフェート)(旭電化製アデカス タブ FP500)、ビスフエノール Aジフエ-ルホスフェート(旭電化製アデカスタブ FP60 0)等のリン酸エステル系可塑剤、例えば、特開 2002— 22956号公報の段落番号 4 9〜56に記載のポリマーポリエステル等、ポリエーテル系可塑剤等が挙げられる。
[0116] 本発明では、フタル酸エステル系可塑剤、多価カルボン酸エステル系可塑剤、タエ ン酸エステル系可塑剤、ポリエステル系可塑剤、ポリエーテル系可塑剤、アクリル榭 脂可塑剤を使用することが好ましい。
[0117] なお、本発明に係る偏光板保護フィルム b、 cは、着色するとコントラストに影響を与 えるため、好ましくは黄色度 (イェローインデックス、 YI)が 3. 0以下、より好ましくは 1 . 0以下である。黄色度 ¾JIS— K7103に基づいて測定することができる。
[0118] (他の添加剤)
本発明に好ましく用いられる他の添加剤にっ 、て説明する。
[0119] その他の添加剤として、好ましいリン系安定剤としては、一般の榭脂工業で通常使 用される物であれば格別な限定はなぐ例えば、トリフエニルホスファイト、ジフエニル イソデシルホスフアイト、フエ-ルジイソデシルホスフアイト、トリス(ノ -ルフエ-ル)ホス ファイト、トリス(ジノユルフェ-ル)ホスファイト、トリス(2, 4 ジ一 t—ブチルフエ-ル) ホスファイト、 10— (3, 5 ジ一 t—ブチル 4 ヒドロキシベンジル) 9, 10 ジヒド ロー 9 ォキサ 10 ホスファフェナントレン 10 オキサイドなどのモノホスフアイ ト系化合物; 4, 4' ーブチリデンービス(3—メチルー 6— t ブチルフエ-ルージート リデシルホスファイト)、 4, 4' —イソプロピリデン—ビス(フエ-ル―ジ—アルキル(C 12〜C 15)ホスファイト)などのジホスファイト系化合物などが挙げられる。これらの中 でも、モノホスファイト系化合物が好ましぐトリス(ノユルフェ-ル)ホスファイト、トリス( ジノ-ルフエ-ル)ホスファイト、トリス(2, 4 ジ一 t—ブチルフエ-ル)ホスファイトなど が特に好ましい。
[0120] 好ましいィォゥ系安定剤としては、例えば、ジラウリル 3, 3 チォジプロピオネート、 ジミリスチル 3, 3' —チォジプロピピオネート、ジステアリル 3, 3—チォジプロビオネ ート、ラウリルステアリル 3, 3—チォジプロピオネート、ペンタエリスリトールーテトラキ ス(j8—ラウリル チォープロピオネート)、 3, 9—ビス(2—ドデシルチオェチル) 2 , 4, 8, 10—テトラオキサスピロ [5, 5]ゥンデカンなどが挙げられる。
[化 15]
Figure imgf000034_0001
ィ才ゥ系化合物
Figure imgf000034_0002
Sumilezer TP D
Sumilezer GP :住友化学工業社製
PEP 24G:旭電化工業 (株)製
Sumilezer TP— D:住友化学工業社製
また、 2—tert—ブチルー 6—(3— tert—ブチルー 2 ヒドロキシ 5 メチルベン ジル) 4—メチルフエ-ルアタリレート、 2— [1— (2 ヒドロキシ一 3、 5 ジ一 tert— ペンチルフエ-ル)ェチル]—4, 6—ジ—tert—ペンチルフエ-ルアタリレート等の耐 熱加工安定剤、特公平 8— 27508記載の 3, 4—ジヒドロ一 2H—1—ベンゾピラン系 化合物、 3, 3,ースピロジクロマン系化合物、 1, 1—スピロインダン系化合物、モルホ リン、チオモルホリン、チオモルホリンォキシド、チオモルホリンジォキシド、ピぺラジン 骨格を部分構造に有する化合物、特開平 3— 174150記載のジアルコキシベンゼン 系化合物等の酸素スカベンジャー等が挙げられる。これら酸化防止剤の部分構造が 、ポリマーの一部、或いは規則的にポリマーへペンダントされていても良ぐ可塑剤、 酸掃去剤、紫外線吸収剤等の添加剤の分子構造の一部に導入されていても良い。
[0123] (酸捕捉剤)
酸捕捉剤としては、米国特許第 4, 137, 201号明細書に記載されている酸捕捉剤 としてのエポキシィ匕合物を含んでなるのが好まし 、。このような酸捕捉剤としてのェポ キシィ匕合物は当該技術分野において既知であり、種々のポリグリコールのジグリシジ ルエーテル、特にポリグリコール 1モル当たりに約 8〜40モルのエチレンォキシドなど の縮合によって誘導されるポリグリコール、グリセロールのジグリシジルエーテルなど 、金属エポキシィ匕合物(例えば、塩ィ匕ビ二ルポリマー組成物において、及び塩化ビ- ルポリマー組成物と共に、従来から利用されているもの)、エポキシィ匕エーテル縮合 生成物、ビスフエノール Aのジグリシジルエーテル(即ち、 4, 4,ージヒドロキシジフエ -ルジメチルメタン)、エポキシィ匕不飽和脂肪酸エステル (特に、 2〜22この炭素原子 の脂肪酸の 4〜2個程度の炭素原子のアルキルのエステル(例えば、ブチルェポキ システアレート)など)、及び種々のエポキシィ匕長鎖脂肪酸トリグリセリドなど (例えば、 エポキシィ匕大豆油などの組成物によって代表され、例示され得る、エポキシ化植物 油及び他の不飽和天然油(これらは時としてエポキシィ匕天然グリセリドまたは不飽和 脂肪酸と称され、これらの脂肪酸は一般に 12〜22個の炭素原子を含有している)) が含まれる。特に好ましいのは、市販のエポキシ基含有エポキシド榭脂化合物 EP ON815c miller― Stephenson chemical company, inc.製)、及び一般式 (5 )の他のエポキシィ匕エーテルオリゴマー縮合生成物である。
[0124] [化 16]
Figure imgf000036_0001
[0125] 上式中、 nは 0〜12に等しい。用いることが出来る更に可能な酸捕捉剤としては、特 開平 5— 194788号公報の段落 87〜105に記載されているものが含まれる。
[0126] (光安定剤)
光安定剤としては、ヒンダードアミン光安定剤 (HALS)化合物が挙げられ、これは 既知の化合物であり、例えば、米国特許第 4, 619, 956号明細書の第 5〜11欄及 び米国特許第 4, 839, 405号明細書の第 3〜5欄に記載されているように、 2, 2, 6 , 6—テトラアルキルピぺリジンィ匕合物、またはそれらの酸付加塩若しくはそれらと金 属化合物との錯体が含まれる。このような化合物には、以下の一般式 (6)のものが含 まれる。
[0127] [化 17] 一般式 {6)
Figure imgf000036_0002
上式中、 R及び Rは、各々水素原子または置換基である。ヒンダードアミン光安定
1 2
剤化合物の具体例には、 4ーヒドロキシ—2, 2, 6, 6—テトラメチルピペリジン、 1ーァ リル 4ーヒドロキシー 2, 2, 6, 6—テトラメチルピペリジン、 1一べンジルー 4ーヒドロ キシ—2, 2, 6, 6—テトラメチルピペリジン、 1ー(4 1;ーブチルー2—ブテニル)ー4 ーヒドロキシ 2, 2, 6, 6—テトラメチルピペリジン、 4ーステアロイルォキシ 2, 2, 6 , 6—テトラメチルピペリジン、 1ーェチルー 4 サリチロイルォキシー 2, 2, 6, 6—テト ラメチルピペリジン、 4ーメタクリロイルォキシー 1, 2, 2, 6, 6 ペンタメチルピベリジ ン、 1, 2, 2, 6, 6 ペンタメチルピペリジン一 4—ィル一 β (3, 5 ジ一 t—ブチル一 4 ヒドロキシフエ-ル)一プロピオネート、 1—ベンジル一 2, 2, 6, 6—テトラメチル 4ーピベリジ-ルマレイネート(maleinate)、(ジ 2, 2, 6, 6—テトラメチルピペリ ジンー4 ィル) アジペート、(ジ 2, 2, 6, 6—テトラメチルピペリジンー4 ィル) —セバケート、(ジ一 1, 2, 3, 6—テトラメチル一 2, 6 ジェチルーピペリジン一 4— ィル) セバケート、(ジー1ーァリル 2, 2, 6, 6—テトラメチルーピペリジンー4ーィ ル)一フタレート、 1—ァセチル一 2, 2, 6, 6—テトラメチルピペリジン一 4—ィル一ァ セテート、トリメリト酸一トリ一(2, 2, 6, 6—テトラメチルピペリジン一 4—ィル)エステル 、 1—アタリロイルー 4一べンジルォキシ 2, 2, 6, 6—テトラメチルピペリジン、ジブ チルーマロン酸ージ一 (1, 2, 2, 6, 6 ペンタメチルーピペリジン 4 ィル) エス テル、ジベンジルーマロン酸ージ一(1, 2, 3, 6—テトラメチルー 2, 6 ジェチルー ピぺリジンー4 ィル) エステル、ジメチルービス一(2, 2, 6, 6—テトラメチルピペリ ジンー4ーォキシ)ーシラン,トリスー(1 プロピル 2, 2, 6, 6—テトラメチルピペリ ジン一 4—ィル)一ホスフィット、トリス一(1—プロピル一 2, 2, 6, 6—テトラメチルピぺ リジン一 4—ィル)一ホスフェート, N, N' —ビス一(2, 2, 6, 6—テトラメチルピペリ ジン一 4—ィル)一へキサメチレン一 1, 6 ジァミン、 N, N' —ビス一(2, 2, 6, 6— テトラメチルピペリジンー4 ィル)一へキサメチレン 1, 6 ジァセトアミド、 1ーァセ チルー 4—(N シクロへキシルァセトアミド) 2, 2, 6, 6—テトラメチルーピペリジン 、 4 ベンジルァミノ 2, 2, 6, 6—テ卜ラメチルピペリジン、 N, N, —ビス— (2, 2, 6, 6—テトラメチルピペリジン— 4—ィル) N, N' —ジブチル—アジパミド、 N, N ' —ビス一(2, 2, 6, 6—テトラメチルピペリジン一 4—ィル) N, N' —ジシクロへ キシル一(2 ヒドロキシプロピレン)、 N, N' —ビス一 (2, 2, 6, 6—テトラメチルピぺ リジン一 4—ィル) p キシリレン一ジァミン、 4— (ビス一 2 ヒドロキシェチル)一ァ ミノ— 1, 2, 2, 6, 6 ペンタメチルピペリジン、 4—メタクリルアミド— 1, 2, 2, 6, 6— ペンタメチルピペリジン、 (X—シァノー 13—メチルー 13 - [N— (2, 2, 6, 6—テトラメ チルピペリジンー4ーィル)] アミノーアクリル酸メチルエステル。好ましいヒンダード アミン光安定剤の例には、以下の HALS— 1及び HALS— 2が含まれる。
[化 18] HALS— 1
Figure imgf000038_0001
[0130] これらのヒンダードアミン系耐光安定剤は、それぞれ単独で、或 、は 2種以上を組 み合わせて用いることが出来、またこれらヒンダードアミン系耐光安定剤と可塑剤、酸 掃去剤、紫外線吸収剤等の添加剤と併用しても、添加剤の分子構造の一部に導入 されていても良い。その配合量は、本発明の目的を損なわない範囲で適宜選択され る力 フィルム中に好ましくは 0. 01〜10質量%、より好ましくは 0. 01〜5質量%、特 に好ましくは 0. 05〜1質量%でぁる。
[0131] (紫外線吸収剤)
紫外線吸収剤としては、偏光子や表示装置の紫外線に対する劣化防止の観点か ら、波長 370nm以下の紫外線の吸収能に優れており、且つ液晶表示性の観点から 、波長 400nm以上の可視光の吸収が少ないものが好ましい。例えば、ォキシベンゾ フエノン系化合物、ベンゾトリアゾール系化合物、サリチル酸エステル系化合物、ベン ゾフエノン系化合物、シァノアクリレート系化合物、ニッケル錯塩系化合物等を挙げる ことができるが、ベンゾフエノン系化合物や着色の少な!/、ベンゾトリアゾール系化合物 が好ましい。また、特開平 10— 182621号公報、同 8— 337574号公報記載の紫外 線吸収剤、特開平 6— 148430号公報記載の高分子紫外線吸収剤を用いてもょ ヽ。
[0132] 有用なベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤の具体例として、 2— (2' —ヒドロキシ一 5' —メチルフエ-ル)ベンゾトリアゾール、 2— (2' —ヒドロキシ一 3' , 5' —ジ一 t ert—ブチルフエ-ル)ベンゾトリアゾール、 2—(2' —ヒドロキシ—3' —tert—ブチ ルー 5' —メチルフエ-ル)ベンゾトリアゾール、 2— (2' —ヒドロキシ一 3' , 5' - ジ—tert ブチルフエ-ル) 5 クロ口べンゾトリァゾール、 2—(2' —ヒドロキシー 3' —(3グ , " , 5グ , Q" —テトラヒドロフタルイミドメチル) 5, —メチルフエニル )ベンゾ卜リァゾール、 2, 2—メチレンビス(4— (1, 1, 3, 3—テ卜ラメチルブチル)—6 — (2H ベンゾトリアゾール 2—ィル)フエノール)、 2— (2' —ヒドロキシ一 3' t ert—ブチル 5' —メチルフエ-ル) 5 クロ口べンゾトリァゾール、 2— (2H ベ ンゾトリァゾールー 2 ィル)ー6 (直鎖及び側鎖ドデシル)ー4 メチルフエノール、 ォクチル— 3—〔3— tert—ブチル 4 ヒドロキシ— 5— (クロ口 2H ベンゾトリア ゾール 2 ィル)フエ-ル〕プロピオネートと 2 ェチルへキシル 3—〔 3— tert - ブチル 4 ヒドロキシ 5— (5 クロ口一 2H ベンゾトリアゾール - 2 ィル)フエ -ル〕プロピオネートの混合物等を挙げることができるが、これらに限定されない。
[0133] また、市販品として、チヌビン (TINUVIN) 109、チヌビン (TINUVIN) 171、チヌ ビン (TINUVIN) 360 (いずれもチノく'スペシャルティ'ケミカルズ社製)、 LA31 (旭 電ィ匕社製)を用いることもできる。
[0134] ベンゾフエノン系化合物の具体例として、 2, 4—ジヒドロキシベンゾフエノン、 2, 2'
—ジヒドロキシ一 4—メトキシベンゾフエノン、 2 ヒドロキシ一 4—メトキシ一 5—スルホ ベンゾフエノン、ビス(2 メトキシ 4 ヒドロキシ 5 ベンゾィルフエ-ルメタン)等 を挙げることができる力 S、これらに限定されるものではない。
[0135] 本発明においては、紫外線吸収剤は 0. 1〜20質量%添加することが好ましぐ更 に 0. 5〜: L0質量%添加することが好ましぐ更に 1〜5質量%添加することが好まし い。これらは 2種以上を併用してもよい。
[0136] (マット剤)
本発明に係る偏光板保護フィルム b、 cには、滑り性を付与するためにマット剤等の 微粒子を添加することができ、微粒子としては、無機化合物の微粒子または有機化 合物の微粒子が挙げられる。マット剤はできるだけ微粒子のものが好ましぐ微粒子と しては、例えば、二酸化ケイ素、二酸化チタン、酸ィ匕アルミニウム、酸ィ匕ジルコニウム 、炭酸カルシウム、カオリン、タルク、焼成ケィ酸カルシウム、水和ケィ酸カルシウム、 ケィ酸アルミニウム、ケィ酸マグネシウム、リン酸カルシウム等の無機微粒子や架橋高 分子微粒子を挙げることができる。中でも、ニ酸ィ匕ケィ素がフィルムのヘイズを低くで きるので好ましい。ニ酸ィ匕ケィ素のような微粒子は有機物により表面処理されている 場合が多いが、このようなものはフィルムのヘイズを低下できるため好ましい。
[0137] 表面処理で好ま 、有機物としては、ハロシラン類、アルコキシシラン類、シラザン、 シロキサンなどが挙げられる。微粒子の平均粒径が大きい方が滑り性効果は大きぐ 反対に平均粒径の小さい方は透明性に優れる。また、微粒子の二次粒子の平均粒 径は 0. 05-1. 0 mの範囲である。好ましい微粒子の二次粒子の平均粒径は 5〜 50nmが好ましぐ更に好ましくは 7〜14nmである。これらの微粒子は偏光板保護フ イルム b、 c中では、偏光板保護フィルム b、 c表面に 0. 01-1. 0 mの凹凸を生成さ せる為に好ましく用いられる。微粒子の含有量はセルロースエステルに対して 0. 00 5〜0. 3質量%が好ましい。
[0138] 二酸化ケイ素の微粒子としては、 日本ァエロジル (株)製のァエロジル (AEROSIL ) 200、 200V、 300、 R972、 R972V、 R974、 R202、 R812、 0X50、 TT600等を 挙げ、ること力 Sでき、好ましくはァエロジノレ 200V、 R972、 R972V, R974、 R202、 R8 12である。これらの微粒子は 2種以上併用してもよい。 2種以上併用する場合、任意 の割合で混合して使用することができる。この場合、平均粒径や材質の異なる微粒 子、例えば、ァェロジル 200Vと R972Vを質量比で 0. 1 : 99. 9〜99. 9 : 0. 1の範 囲で使用できる。
[0139] 上記マット剤として用いられるフィルム中の微粒子の存在は、別の目的としてフィル ムの強度向上のために用いることもできる。また、フィルム中の上記微粒子の存在は 、本発明の偏光板保護フィルム b、 cを構成するポリマー自身の配向性を向上すること も可能である。
[0140] (リタ一デーシヨン制御剤)
本発明に係る偏光板保護フィルム b、 cは、リタ一デーシヨンを調節するために、欧 州特許第 911, 656A2号明細書に記載されているような、二つ以上の芳香族環を有 する芳香族化合物をリタ一デーシヨン制御剤として使用することができる。また 2種類 以上の芳香族化合物を併用してもよい。該芳香族化合物の芳香族環には、芳香族 炭化水素環に加えて、芳香族性へテロ環を含む。芳香族性へテロ環であることが特 に好ましぐ芳香族性へテロ環は一般に不飽和へテロ環である。中でも 1, 3, 5—トリ アジン環を有する化合物が特に好ま 、。
[0141] (各化合物の含有)
本発明において、上記各化合物を含有することとは、該化合物がセルロースエステ ル内部に包まれている状態のみならず、内部及び表面に同時に存在することも含む ものである。
[0142] セルロースエステルと化合物の混合物において、混合物中の化合物の粒径は 1 μ m以下であり、好ましくは 500nm以下であり、更に好ましくは 200nm以下である。ィ匕 合物の粒径が小さいほど、溶融成形物の加工安定性、光学特性の分布が均一にな り好ましい。
[0143] 上記セルロースエステルと添加剤の混合物、及び加熱溶融時に添加する添加剤は 、乾燥されることが望ましい。ここで乾燥とは、材料のいずれかが吸湿した水分にカロえ 、セルロースエステルと添加剤の混合物の調製時に用いた水または溶媒、添加剤の 合成時に混入して 、る溶媒の 、ずれかの除去を意味する。
[0144] この除去する方法は公知の乾燥方法が適用でき、加熱法、減圧法、加熱減圧法等 の方法で行うことができ、空気中または不活性ガスとして窒素を選択した雰囲気下で 行ってもよい。これらの公知の乾燥方法を行うとき、材料が分解しない温度領域で行 うことがフィルムの品質上好ましい。
[0145] 例えば、前記乾燥工程で除去した後の残存する水分または溶媒は、各々フィルム 構成材料の全体の質量に対して 10質量%以下、好ましくは 5質量%以下、より好まし くは 1質量%以下、更に好ましくは 0. 1質量%以下にすることである。このときの乾燥 温度は、 100°C以上乾燥する材料の Tg以下であることが好ましい。材料同士の融着 を回避する観点を含めると、乾燥温度はより好ましくは 100°C以上 (Tg— 5)°C以下、 更に好ましくは 110°C以上 (Tg— 20)°C以下である。好ましい乾燥時間は 0. 5〜24 時間、より好ましくは 1〜18時間、更に好ましくは 1. 5〜12時間である。これらの範囲 よりも低いと乾燥度が低いか、または乾燥時間が力かり過ぎることがある。また乾燥す る材料に Tgが存在するときには、 Tgよりも高い乾燥温度に加熱すると材料が融着し て取り扱いが困難になることがある。
[0146] 乾燥工程は 2段階以上の分離してもよぐ例えば、予備乾燥工程による材料の保管 と、溶融製膜する直前〜 1週間前の間に行う直前乾燥工程を介して溶融製膜しても よい。
[0147] (偏光板保護フィルム b、 cの製造方法)
本発明に係る偏光板保護フィルム b、 cの厚さは 10〜500 mが好ましい。特に 20 /z m以上、更に 35 m以上が好ましい。また、 150 m以下、更に 120 m以下が 好ましい。特に好ましくは 25以上〜 90 mが好ましい。また、好ましくはヘイズ値 1% 未満、より好ましくは 0. 5%未満である。
[0148] 本発明に係る偏光板保護フィルム b、 cは、溶融流延法により製造されることが好ま しい。本発明における溶融流延法とは、溶媒を用いずセルロースエステル等のポリマ 一の流動性を示す温度まで加熱溶融し、その後、流動性のセルロースエステル等の ポリマーを流延することを言う。加熱溶融する成形法は更に詳細には溶融押出成形 法、プレス成形法、インフレーション法、射出成形法、ブロー成形法、延伸成形法な どに分類できる。これらの中で、機械的強度及び表面精度などに優れる偏光板保護 フィルムを得るためには、溶融押出し法が優れている。ここでフィルム構成材料が加 熱されて、その流動性を発現させた後、ドラムまたはエンドレスベルト上に押出し製膜 することが、溶融流延製膜法として本発明の偏光板保護フィルムの製造方法に含ま れる。
[0149] 本発明に係るセルロースエステル等のポリマー及び添加剤の混合物を熱風乾燥ま たは真空乾燥した後、溶融押出し、 T型ダイよりフィルム状に押出して、静電印加法 等により冷却ドラムに密着させ、冷却固化させ、未延伸フィルムを得る。冷却ドラムの 温度は 90〜 150°Cに維持されて 、ることが好まし!/、。
[0150] 溶融押出しは一軸押出し機、二軸押出し機、更に二軸押出し機の下流に一軸押出 し機を連結して用いてもよいが、得られるフィルムの加工安定性、光学特性の点から 、一軸押出し機を用いることが好ましい。更に原料タンク、原料の投入部、押出し機 内といった原料の供給、溶融工程を、窒素ガス等の不活性ガスで置換、或いは減圧 することが好ましい。
[0151] 本発明に係る前記溶融押出し時の温度としては、 200〜280°Cの範囲であることが 好ましい。 [0152] 本発明の偏光板保護フィルム b、 cは、幅手方向もしくは製膜方向に延伸製膜され たフィルムであることが好まし 、。特に幅手方向に延伸されることが好まし!/、。
[0153] 前述の冷却ドラム力 剥離され、得られた未延伸フィルムを複数のロール群及び Z または赤外線ヒーター等の加熱装置を介してセルロースエステル等のポリマーのガラ ス転移温度 (Tg)から Tg+ 100°Cの範囲内に加熱し、一段または多段縦延伸するこ とが好ましい。次に、上記のようにして得られた縦方向に延伸された偏光板保護フィ ルムを、 Tg〜Tg— 20°Cの温度範囲内で横延伸し、次いで熱固定することが好まし い。
[0154] 横延伸する場合、 2つ以上に分割された延伸領域で温度差を 1〜50°Cの範囲で順 次昇温しながら横延伸すると、幅方向の物性の分布が低減でき好ましい。更に横延 伸後、フィルムをその最終横延伸温度以下で Tg— 40°C以上の範囲に 0. 01〜5分 間保持すると幅方向の物性の分布が更に低減でき好まし ヽ。
[0155] 熱固定は、その最終横延伸温度より高温で、 Tg— 20°C以下の温度範囲内で通常 0. 5〜300秒間熱固定する。この際、 2つ以上に分割された領域で温度差を 1〜: LO o°cの範囲で順次昇温しながら熱固定することが好ましい。
[0156] 熱固定されたフィルムは通常 Tg以下まで冷却され、フィルム両端のクリップ把持部 分をカットし巻き取られる。この際、最終熱固定温度以下、 Tg以上の温度範囲内で、 横方向及び Zまたは縦方向に 0. 1〜10%弛緩処理することが好ましい。また冷却は 、最終熱固定温度から Tgまでを、毎秒 100°C以下の冷却速度で徐冷することが好ま しい。冷却、弛緩処理する手段は特に限定はなぐ従来公知の手段で行えるが、特 に複数の温度領域で順次冷却しながらこれらの処理を行うことがフィルムの寸法安定 性向上の点で好ましい。尚、冷却速度は、最終熱固定温度を Tl、フィルムが最終熱 固定温度から Tgに達するまでの時間を tとしたとき、 (Ti— Tg) Ztで求めた値である
[0157] これら熱固定条件、冷却、弛緩処理条件のより最適な条件は、フィルムを構成する セルロースエステル等のポリマー種により異なるので、得られた二軸延伸フィルムの 物性を測定し、好ま 、特性を有するように適宜調整することにより決定すればょ 、。
[0158] (延伸操作、屈折率制御) 本発明に係る偏光板保護フィルム b、 cは、延伸操作により屈折率制御を行うことが できる。延伸操作としては、フィルムの 1方向に 1. 0〜2. 0倍及びフィルム面内にそ れと直交する方向に 1. 01〜2. 5倍延伸することで好ましい範囲の屈折率に制御す ることがでさる。
[0159] 例えば、フィルムの長手方向及びそれとフィルム面内で直交する方向、即ち幅手方 向に対して、逐次または同時に延伸することができる。このとき少なくとも 1方向に対し ての延伸倍率が小さ過ぎると十分な位相差が得られず、大き過ぎると延伸が困難とな り破断が発生してしまう場合がある。
[0160] 例えば、溶融して流延した方向に延伸した場合、幅方向の収縮が大き過ぎると、フ イルムの厚み方向の屈折率が大きくなり過ぎてしまう。この場合、フィルムの幅収縮を 抑制或いは、幅方向にも延伸することで改善できる。幅方向に延伸する場合、幅手 で屈折率に分布が生じる場合がある。これは、テンター法を用いた場合にみられるこ とがあるが、幅方向に延伸したことでフィルム中央部に収縮力が発生し、端部は固定 されていることにより生じる現象で、所謂ボーイング現象と呼ばれるものと考えられる。 この場合でも、該流延方向に延伸することでボーイング現象を抑制でき、幅手の位相 差の分布を少なく改善できるのである。
[0161] 更に、互いに直行する 2軸方向に延伸することにより、得られるフィルムの膜厚変動 が減少できる。偏光板保護フィルム b、 cの膜厚変動が大き過ぎると位相差のムラとな り、液晶ディスプレイに用いたとき着色等のムラが問題となることがある。
[0162] 偏光板保護フィルム b、 cの膜厚変動は、 ± 3%、更に ± 1%の範囲とすることが好ま しい。以上の様な目的において、互いに直交する 2軸方向に延伸する方法は有効で あり、互いに直交する 2軸方向の延伸倍率は、それぞれ最終的には流延方向に 1. 0 〜2. 0倍、幅方向に 1. 01-2. 5倍の範囲とすることが好ましぐ流延方向に 1. 01 〜1. 5倍、幅方向に 1. 05〜2. 0倍に範囲で行うことが好ましい。
[0163] 応力に対して、正の複屈折を得るポリマーとしてセルロースエステルを用いる場合、 幅方向に延伸することで、セルロースエステルフィルムの遅相軸が幅方向に付与する ことができる。この場合、本発明において、表示品質の向上のためには、セルロース エステルフィルムの遅相軸力 幅方向にあるほうが好ましぐ(幅方向の延伸倍率) > (流延方向の延伸倍率)を満たすことが必要である。
[0164] フィルムを延伸する方法には特に限定はない。例えば、複数のロールに周速差を つけ、その間でロール周速差を利用して縦方向に延伸する方法、フィルムの両端を クリップやピンで固定し、クリップやピンの間隔を進行方向に広げて縦方向に延伸す る方法、同様に横方向に広げて横方向に延伸する方法、或いは縦横同時に広げて 縦横両方向に延伸する方法などが挙げられる。もちろんこれ等の方法は、組み合わ せて用いてもよい。また、所謂テンター法の場合、リニアドライブ方式でクリップ部分を 駆動すると滑らかな延伸を行うことができ、破断等の危険性が減少できるので好まし い。
[0165] 製膜工程のこれらの幅保持或いは横方向の延伸はテンターによって行うことが好ま しぐピンテンターでもクリップテンターでもよい。
[0166] (リタ一デーシヨン値)
本発明に係る偏光板保護フィルム b、 cはフィルムの幅手方向に遅相軸を有し、 589 nmにおける面内位相差値 Roが 30〜100nm、厚み方向の位相差値 Rtが 70〜300 nm、 RtZRoが 2〜5であることが好ましい。このような位相差値を有することで優れ た視野角拡大に寄与する。
[0167] Ro= (nx-ny) X d
Rt= { (nx+ny) /2-nz} X d
式中、 nxはフィルム面内の遅相軸方向の屈折率であり、 nyはフィルム面内の進相 軸方向の屈折率であり、 nzはフィルムの厚み方向の屈折率であり、 dはフィルムの厚 さ(nm)である。
[0168] また、フィルム内の Rtの変動や分布の幅は ± 10nm未満であることが好ましぐ ±8 nm未満であることが好ましぐ ± 5nm未満であることが好ましい。更に ± 3nm未満で あることが好ましぐ ± lnm未満であることが好ましい。最も好ましくは Rtの変動がな いことである。
[0169] 尚、リタ一デーシヨン値 (Ro)、 (Rt)は自動複屈折率計を用いて測定することが出 来る。例えば、 KOBRA— 21ADH (王子計測機器 (株))を用いて、 23°C、 55%RH の環境下で、波長 589nmで求めることが出来る。 [0170] また、遅相軸は長尺フィルムの幅手方向 ± 1° 若しくは長手方向 ± 1° にあること が好ましい。より好ましくは幅手方向または長手方向に対してに ±0. 7° 、更に好ま しくは幅手方向または長手方向に対して ±0. 5° であり、特に好ましくは ±0. 1° で ある。
[0171] 上記関係を満たすことは、表示画像において高い輝度を得ること、光漏れを抑制ま たは防止することに寄与でき、カラー液晶表示装置においては忠実な色再現を得る ことに寄与できる。
[0172] (寸法安定性)
本発明の偏光板保護フィルム b、 cは、寸度安定性が 23°C55%RHに 24時間放置 したフィルムの寸法を基準としたとき、 80°C90%RHにおける寸法の変動値が ± 1. 0 %未満であることが好ましぐ更に好ましくは 0. 5%未満であり、特に好ましくは 0. 1 %未満である。
[0173] (フィルム残留溶媒、水分量)
本発明の偏光板保護フィルム b、cは製膜工程で実質的に溶媒を使用することがな いため、製膜後巻き取られたフィルムに含まれる残留有機溶媒量は安定して 0. 1質 量%未満であり、これによつて従来以上に安定した平面性と Rtをもつ偏光板保護フィ ルムを提供することが可能である。特に 100m以上の長尺の巻物においても安定し た平面性と Rtを持つ偏光板保護フィルムを提供することが可能となった。該偏光板 保護フイノレム ίま卷きの長さ【こつ ヽて ίま特【こ帘 U限 ίまなく、 1500m、 2500m, 5000m であっても好ましく用いられる。
[0174] 残留有機溶媒量は、ヘッドスペースガスクロ法により測定出来る。即ち、既知量の 偏光板保護フィルムを密閉容器内で 120°Cで 20分間加熱し、その密閉容器内の気 相に含まれる有機溶媒をガスクロマトグラフにより定量する。この結果から残留有機溶 媒量 (%)を算出することが出来る。
[0175] また、フィルムが水分を含む場合は、更に偏光板保護フィルムに含まれている水分 量 (g)を別の方法で求め、前記の加熱処理前後の偏光板保護フィルムの質量差 (g) 力も水分の質量 (g)を差し引いて求めた値により、残留有機溶媒含有量 (%)を求め ることが出来る。 [0176] 溶液流延法で作製された偏光板保護フィルムの残留有機溶媒量 (%)を 0. 1質量 %以下とすることは困難であり、その為には長い乾燥工程が必要である力 この方法 によれば安 、コストで極めて低 、残留有機溶媒含有量の偏光板保護フィルムを得る ことが出来る。
[0177] フィルム構成材料を加熱溶融すると分解反応が著しくなり、この分解反応によって 着色や劣化を伴うことがある。また、分解反応によって好ましくない揮発成分の発生 が併発することもある。
[0178] (偏光板保護フィルム a、 d)
偏光板保護フィルム a、 dは、フィルムに用いられるポリマー力 セルロースエステル 、シクロォレフイン系ポリマー、ポリカーボネート系ポリマー、ポリ乳酸系ポリマー及び ポリエステル系ポリマーから選ばれる少なくとも 1種であることが好ましい。偏光板保 護フィルムの主成分がセルロースエステルの場合、該セルロースエステルがセルロー スアセテート、セノレロースアセテートプロピオネート及びセノレロースアセテートブチレ ートから選択される少なくとも 1種であることが好ましい。
[0179] 偏光板保護フィルム a、 dは同一でも異なって 、てもよ 、。また、偏光板保護フィルム a、 dは、偏光膜に貼合されている面とは反対の表面に下記機能性層が設けられてい ることも好まし 、。
[0180] (セルロースエステルフィルム)
偏光板保護フィルム a、 dのポリマーの主成分がセルロースエステルである場合は、 前記偏光板保護フィルム b、 cと同様なセルロースエステル、同様な添加剤を用いるこ とが出来る。セルロースエステルフィルムの成形方法は格別な限定はなぐ加熱溶融 成形法、溶液流延法のいずれも用いることが出来る。フィルムの厚みは、通常 5〜20 0 m、好ましくは 10〜200 μ m、より好ましくは 20〜: LOO μ mの範囲である。厚み力 ^ 薄過ぎる場合は、積層時の取り扱いが困難となり、厚過ぎる場合は、積層後の乾燥 時間が長くなつて生産性が低下する。
[0181] 延伸倍率は、 1. 0〜2倍、好ましくは 1. 05-1. 5倍であり、この範囲で所望のリタ 一デーシヨンとなるようにすればよい。 589nmにおける面内位相差値 Roは 0〜50n mであり、 0〜20nmであることがより好ましい。また、厚み方向の位相差値 Rtは 20 〜50nmであり、 10〜20nmであることがより好ましい。
[0182] リタ一デーシヨンは、延伸前のシートのリタ一デーシヨンと延伸倍率、延伸温度、延 伸配向フィルムの厚さにより制御することが出来る。延伸前のシートが一定の厚さの 場合、延伸倍率が大きいフィルムほどリタ一デーシヨンの絶対値が大きくなる傾向が あるので、延伸倍率を変更することによって所望のリタ一デーシヨンの延伸配向フィ ルムを得ることが出来る。
[0183] リタ一デーシヨンのバラツキは小さいほど好ましぐセルロースエステルフィルムは、 波長 589nmのリタ一デーシヨンのバラツキが通常 ± 50nm以内、好ましくは ± 30nm 以下、より好ましくは ± 20nm以下の小さなものである。
[0184] リタ一デーシヨンの面内でのバラツキや厚さムラは、それらの小さな延伸前のシート を用いるほか、延伸時にシートに応力が均等に力かるようにすることにより、小さくする ことが出来る。そのためには、均一な温度分布下、好ましくは ± 5°C以内、更に好まし くは ± 2°C以内、特に好ましくは ±0. 5°C以内に温度を制御した環境で延伸すること が望ましい。
[0185] (機能性層)
上記偏光板保護フィルム a、 d製造に際し、延伸の前及び Zまたは後で帯電防止層 、ハードコート層、反射防止層、易滑性層、易接着層、防眩層、バリアー層、光学補 償層等の機能性層を塗設してもよい。特に、帯電防止層、ハードコート層、反射防止 層、易接着層、防眩層及び光学補償層から選ばれる少なくとも 1層を設けることが好 ましい。この際、コロナ放電処理、プラズマ処理、薬液処理等の各種表面処理を必要 に応じて施すことができる。
[0186] (シクロォレフィン系ポリマーフィルム)
本発明に好ましく用いられるシクロォレフイン系ポリマーフィルムにつ 、て説明する
[0187] 本発明に用いられるシクロォレフイン系ポリマーは脂環式構造を含有する重合体ポ リマーからなるものである。
[0188] 好ましいシクロォレフイン系ポリマーは、環状ォレフィンを重合又は共重合したポリ マーである。環状ォレフィンとしては、ノルボルネン、ジシクロペンタジェン、テトラシク ロドデセン、ェチルテトラシクロドデセン、ェチリデンテトラシクロドデセン、テトラシクロ
[7. 4. 0. 110, 13. 02, 7〕卜リデ力— 2, 4, 6, 11—テ卜ラエンなどの多環構造の不 飽和炭化水素及びその誘導体;シクロブテン、シクロペンテン、シクロへキセン、 3, 4 ージメチルシクロペンテン、 3—メチルシクロへキセン、 2—(2 メチルブチル) 1 シクロへキセン、シクロオタテン、 3a, 5, 6, 7a—テトラヒドロー 4, 7 メタノー 1H—ィ ンデン、シクロヘプテン、シクロペンタジェン、シクロへキサジェンなどの単環構造の 不飽和炭化水素及びその誘導体等が挙げられる。これら環状ォレフィンには置換基 として極性基を有していてもよい。極性基としては、ヒドロキシル基、カルボキシル基、 アルコキシル基、エポキシ基、グリシジル基、ォキシカルボ-ル基、カルボ-ル基、ァ ミノ基、エステル基、カルボン酸無水物基などが挙げられ、特に、エステル基、カルボ キシル基又はカルボン酸無水物基が好適である。
[0189] 好ましいシクロォレフインポリマーは、環状ォレフィン以外の単量体を付加共重合し たものであってもよい。付加共重合可能な単量体としては、エチレン、プロピレン、 1 ーブテン、 1 ペンテンなどのエチレンまたは α—ォレフイン; 1, 4一へキサジェン、 4ーメチルー 1, 4一へキサジェン、 5—メチルー 1, 4一へキサジェン、 1, 7—ォクタ ジェンなどのジェン等が挙げられる。
[0190] 環状ォレフィンは、付加重合反応或いはメタセシス開環重合反応によって得られる 。重合は触媒の存在下で行われる。付加重合用触媒として、例えば、バナジウム化 合物と有機アルミニウム化合物とからなる重合触媒などが挙げられる。開環重合用触 媒として、ルテニウム、ロジウム、パラジウム、オスミウム、イリジウム、白金などの金属 のハロゲンィ匕物、硝酸塩またはァセチルアセトンィ匕合物と、還元剤とからなる重合触 媒;或いは、チタン、バナジウム、ジルコニウム、タングステン、モリブデンなどの金属 のハロゲンィ匕物またはァセチルアセトンィ匕合物と、有機アルミニウム化合物と力 なる 重合触媒などが挙げられる。重合温度、圧力等は特に限定されないが、通常 50°C 〜100°Cの重合温度、 0〜490NZcm2の重合圧力で重合させる。
[0191] 本発明に用いられるシクロォレフイン系ポリマーは、環状ォレフィンを重合又は共重 合させた後、水素添加反応させて、分子中の不飽和結合を飽和結合に変えたもので あることが好ましい。水素添加反応は、公知の水素化触媒の存在下で、水素を吹き 込んで行う。水
素化触媒としては、酢酸コバルト Zトリェチルアルミニウム、ニッケルァセチルァセトナ ート Zトリイソブチルアルミニウム、チタノセンジクロリド Zn—ブチルリチウム、ジルコノ センジクロリド Zsec ブチルリチウム、テトラブトキシチタネート Zジメチルマグネシゥ ムの如き遷移金属化合物 Zアルキル金属化合物の組み合わせからなる均一系触媒 ;ニッケル、ノ ラジウム、白金などの不均一系金属触媒;ニッケル Zシリカ、ニッケル けい藻土、ニッケル Zアルミナ、パラジウム Zカーボン、パラジウム Zシリカ、パラジゥ ム zけ 、藻土、パラジウム Zアルミナの如き金属触媒を担体に担持してなる不均一 系固体担持触媒などが挙げられる。
[0192] 或いは、シクロォレフイン系ポリマーとして、下記のノルボルネン系ポリマーも挙げら れる。ノルボルネン系ポリマーは、ノルボルネン骨格を繰り返し単位として有している ことが好ましぐその具体例としては、特開昭 62— 252406号公報、特開昭 62— 252 407号公報、特開平 2— 133413号公報、特開昭 63— 145324号公報、特開昭 63 264626号公報、特開平 1— 240517号公報、特公昭 57— 8815号公報、特開平 5— 39403号公報、特開平 5— 43663号公報、特開平 5— 43834号公報、特開平 5 - 70655号公報、特開平 5 - 279554号公報、特開平 6— 206985号公報、特開平 7— 62028号公報、特開平 8— 176411号公報、特開平 9— 241484号公報等に記 載されたものが好ましく利用できる力 これらに限定されるものではない。また、これら は、 1種単独で使用してもよいし、 2種以上を併用してもよい。
[0193] 本発明においては、前記ノルボルネン系ポリマーの中でも、下記構造式 (I)〜(IV) の!、ずれかで表される繰り返し単位を有するものが好ま 、。
[0194] [化 19]
Figure imgf000051_0001
[0195] 前記構造式 (I)〜(IV)中、 A、 B、 C及び Dは、各々独立して、水素原子又は 1価の 有機基を表す。
[0196] また、前記ノルボルネン系ポリマーの中でも、下記構造式 (V)または (VI)で表され る化合物の少なくとも 1種と、これと共重合可能な不飽和環状化合物とをメタセシス重 合して得られる重合体を水素添加して得られる水添重合体も好ましい。
[0197] [化 20]
Figure imgf000051_0002
[0198] 前記構造式中、 A、 B、 C及び Dは、各々独立して、水素原子又は 1価の有機基を 表す。
[0199] ここで、上記 A、 B、 C及び Dは特に限定されないが、好ましくは水素原子、ハロゲン 原子、一価の有機基、又は、少なくとも 2価の連結基を介して有機基が連結されても よぐこれらは同じであっても異なっていてもよい。又、 Aまたは Bと Cまたは Dは単環 または多環構造を形成してもよい。ここで、上記少なくとも 2価の連結基とは、酸素原 子、ィォゥ原子、窒素原子に代表されるへテロ原子を含み、例えばエーテル、エステ ル、カルボニル、ウレタン、アミド、チォエーテル等が挙げられる力 これらに限定され るものではない。又、上記連結基を介し、上記有機基は更に置換されてもよい。
[0200] また、ノルボルネン系モノマーと共重合可能なその他のモノマーとしては、例えば、 エチレン、プロピレン、 1—ブテン、 1—ペンテン、 1—へキセン、 1—オタテン、 1—デ セン、 1ードデセン、 1ーテトラデセン、 1一へキサデセン、 1ーォクタデセン、 1 エイ コセンなどの炭素数 2〜20の α—ォレフイン、及びこれらの誘導体;シクロブテン、シ クロペンテン、シクロへキセン、シクロオタテン、 3a, 5, 6, 7a—テトラヒドロー 4, 7—メ タノ 1H—インデンなどのシクロォレフイン、及びこれらの誘導体; 1、 4一へキサジェ ン、 4ーメチノレー 1, 4一へキサジェン、 5—メチノレー 1, 4一へキサジェン、 1, 7—オタ タジェンなどの非共役ジェン;などが用いられる。これらの中でも、 aーォレフイン、特 にエチレンが好ましい。
[0201] これらの、ノルボルネン系モノマーと共重合可能なその他のモノマーは、それぞれ 単独で、或いは 2種以上を組み合わせて使用することが出来る。ノルボルネン系モノ マーとこれと共重合可能なその他のモノマーとを付加共重合する場合は、付加共重 合体中のノルボルネン系モノマー由来の構造単位と共重合可能なその他のモノマー 由来の構造単位との割合力 質量比で通常 30 : 70〜99 : 1、好ましくは 50 : 50〜97 : 3、より好ましくは 70: 30-95: 5の範囲となるように適宜選択される。
[0202] 合成したポリマーの分子鎖中に残留する不飽和結合を水素添加反応により飽和さ せる場合には、耐光劣化ゃ耐候劣化性などの観点から、水素添加率を 90%以上、 好ましくは 95%以上、特に好ましくは 99%以上とする。
[0203] このほか、本発明で用いられるシクロォレフイン系ポリマーとしては、特開平 5— 210 8号公報段落番号 [0014]〜[0019]記載の熱可塑性飽和ノルボルネン系ポリマー 、特開 2001— 277430号公報段落番号 [0015]〜[0031]記載の熱可塑性ノルボ ルネン系ポリマー、特開 2003— 14901号公報段落番号 [0008]〜[0045]記載の 熱可塑性ノルボルネン系ポリマー、特開 2003— 139950号公報段落番号 [0014] 〜 [0028]記載のノルボルネン系ポリマー組成物、特開 2003— 161832号公報段 落番号 [0029ト [0037]記載のノルボルネン系ポリマー、特開 2003— 195268号 公報段落番号 [0027]〜 [0036]記載のノルボルネン系ポリマー、特開 2003— 211 589号公報段落番号 [0009]〜 [0023]脂環式構造含有重合体ポリマー、特開 200 3- 211588号公報段落番号 [0008]〜 [0024]記載のノルボルネン系重合体ポリ マー若しくはビュル脂環式炭化水素重合体ポリマーなどが挙げられる。
[0204] 具体的には、 日本ゼオン (株)製ゼォネックス、ゼォノア、 JSR (株)製アートン、三井 化学 (株)製ァペル (APL8008T、 APL6509T、 APL6013T、 APL5014DP、 AP L6015T)などが好ましく用いられる。
[0205] 本発明で使用されるシクロォレフィ系ポリマーの分子量は、使用目的に応じて適宜 選択されるが、シクロへキサン溶液 (重合体ポリマーが溶解しな ヽ場合はトルエン溶 液)のゲル'パーミエーシヨン'クロマトグラフ法で測定したポリイソプレンまたはポリス チレン換算の重量平均分子量で、通常、 5000〜500000、好ましくは 8000〜2000 00、より好ましくは 10000〜100000の範囲であるときに、成形体の機械的強度、及 び成形加工性とが高度にバランスされて好適である。
[0206] シクロォレフイン系ポリマーフィルムは、必要に応じて、プラスチックフィルムに一般 的に配合することが出来る添加剤を含有していてもよい。そのような添加剤としては、 酸化防止剤、熱安定剤、耐光安定剤、紫外線吸収剤、帯電防止剤、滑剤、可塑剤、 及び充填剤などが挙げられ、その含有量は本発明の目的を損ねない範囲で選択す ることが出来る。
[0207] シクロォレフイン系ポリマーフィルムの成形方法は格別な限定はなぐ加熱溶融成 形法、溶液流延法のいずれも用いることが出来る。加熱溶融成形法は、更に詳細に 、押し出し成形法、プレス成形法、インフレーション成形法、射出成形法、ブロー成形 法、延伸成形法などに分類できるが、これらの方法の中でも、機械強度、表面精度等 に優れたフィルムを得るためには、押し出し成形法、インフレーション成形法、及びプ レス成形法が好ましぐ押し出し成形法が最も好ましい。成形条件は、使用目的や成 形方法により適宜選択されるが、加熱溶融成形法による場合は、シリンダー温度が、 通常 150〜400。C、好ましくは 200〜350。C、より好ましくは 230〜330。Cの範囲で 適宜設定される。ポリマー温度が過度に低いと流動性が悪ィ匕し、フィルムにヒケやひ ずみを生じ、ポリマー温度が過度に高いとポリマーの熱分解によるボイドゃシルバー ストリークが発生したり、フィルムが黄変するなどの成形不良が発生するおそれがある 。フイノレムの厚み【ま、通常 5〜300 μ m、好ましく ίま 10〜200 μ m、より好ましく ίま 20 〜: LOO /z mの範囲である。厚みが薄過ぎる場合は、積層時の取り扱いが困難となり、 厚過ぎる場合は、積層後の乾燥時間が長くなつて生産性が低下する。
[0208] シクロォレフイン系ポリマーフィルムは、その表面の濡れ張力が、好ましくは 40mN Zm以上、より好ましくは 50mNZm以上、更に好ましくは 55mNZm以上である。表 面の濡れ張力が上記範囲にあると、フィルムと偏光膜との接着強度が向上する。表 面の濡れ張力を調整するために、例えば、コロナ放電処理、オゾンの吹き付け、紫外 線照射、火炎処理、化学薬品処理、その他公知の表面処理を施すことが出来る。
[0209] 延伸前のシートは厚さが 50〜500 μ m程度の厚さが必要であり、厚さムラは小さい ほど好ましぐ全面において ±8%以内、好ましくは ±6%以内、より好ましくは ±4% 以内である。
[0210] 上記シクロォレフイン系ポリマーフィルムを本発明の偏光板保護フィルムにするには 、前述した偏光板保護フィルム b、 cと同様な製造法により得ることが出来る。
[0211] 延伸倍率は、 1. 1〜10倍、好ましくは 1. 3〜8倍であり、この範囲で所望のリタ一 デーシヨンとなるようにすればょ 、。延伸倍率が低過ぎるとリタ一デーシヨンの絶対値 が上がらずに所定の値とならず、高過ぎると破断することもある。
[0212] この様にして得たフィルムは、延伸により分子が配向されて、所望の大きさのリタ一 デーシヨンを持たせることが出来る。本発明において 589nmにおける面内位相差値 Roは 0〜20nmであり、 0〜: LOnmであることがより好ましい。また、厚み方向の位相 差値 Rtは一 20〜50nmであり、 10〜20nmであることがより好ましい。
[0213] リタ一デーシヨンは、延伸前のシートのリタ一デーシヨンと延伸倍率、延伸温度、延 伸配向フィルムの厚さにより制御することが出来る。延伸前のシートが一定の厚さの 場合、延伸倍率が大きいフィルムほどリタ一デーシヨンの絶対値が大きくなる傾向が あるので、延伸倍率を変更することによって所望のリタ一デーシヨンの延伸配向フィ ルムを得ることが出来る。
[0214] リタ一デーシヨンのバラツキは小さいほど好ましぐ本発明に係るシクロォレフインポ リマーフィルムは、波長 589nmのリタ一デーシヨンのバラツキが通常 ± 50nm以内、 好ましくは ± 30nm以下、より好ましくは ± 20nm以下の小さなものである。
[0215] リタ一デーシヨンの面内でのバラツキや厚さムラは、それらの小さな延伸前のシート を用いるほか、延伸時にシートに応力が均等に力かるようにすることにより、小さくする ことが出来る。そのためには、均一な温度分布下、好ましくは ± 5°C以内、更に好まし くは ± 2°C以内、特に好ましくは ±0. 5°C以内に温度を制御した環境で延伸すること が望ましい。
[0216] (ポリカーボネート系ポリマーフィルム)
ポリカーボネート系ポリマーフィルムを作製するのに用いられるポリカーボネート系 ポリマーとしては種々があり、化学的性質及び物性の点から芳香族ポリカーボネート が好ましぐ特にビスフエノール A系ポリカーボネートが好ましい。その中でも更に好ま しくはビスフエノール Aにベンゼン環、シクロへキサン環、叉は脂肪族炭化水素基な どを導入したビスフエノール A誘導体を用いたものが挙げられる力 特に中央炭素に 対して非対称にこれらの基が導入された誘導体を用いて得られた、単位分子内の異 方性を減少させた構造のポリカーボネートが好まし 、。例えばビスフエノール Aの中 央炭素の 2個のメチル基をベンゼン環に置き換えたもの、ビスフエノール Aのそれぞ れのベンゼン環の一の水素をメチル基ゃフヱ-ル基などで中央炭素に対し非対称に 置換したものを用いて得られるポリカーボネートが好まし 、。
[0217] 具体的には、 4, 4' ージヒドロキシジフエ-ルアルカンまたはこれらのハロゲン置換 体力ゝらホスゲン法またはエステル交換法によって得られるものであり、例えば 4, 4' ージヒドロキシジフエニルメタン、 4, 4' ージヒドロキシジフエニルェタン、 4, 4' ージ ヒドロキシジフエニルブタン等をあげることができる。
[0218] 本発明に使用されるポリカーボネートポリマーよりなる偏光板保護フィルムはポリス チレン系ポリマーあるいはメチルメタタリレート系ポリマーあるいはセルロースァセテ一 ト系ポリマー等の透明ポリマーと混合して使用しても良いし、またセルロースァセテ一 ト系フィルムの少なくとも一方の面にポリカーボネートポリマーを積層してもよい。本発 明にお 、て好ましく使用できるポリカーボネート系フィルムの作製方法は特に限定さ れるものではない。すなわち溶融押出法によるフィルム、溶媒キャスト法によるフィル ム、カレンダ一法によるフィルムなどのいずれを使用してもよい。本発明においては 1 軸延伸あるいは 2軸延伸のどちらかを使用し、偏光板保護フィルム b、 cで説明した延 伸工程を含む製造法により、歪みの少ないポリカーボネート系フィルムが得られる。
[0219] 本発明にお 、て好ましく使用されるポリカーボネート系フィルムはガラス転移点 (Tg )が 110°C以上であって、吸水率(23°C水中、 24時間の条件で測定した値)が 0. 3 %以下のものを使用するのがよい。より好ましくは Tgが 120°C以上であって、吸水率 が 0. 2%以下のものを使用することが好ましい。
[0220] (ポリエステル系ポリマーフィルム)
本発明に好ましく用いることの出来るポリエステル系ポリマーフィルムを構成するポ リエステルとしては、特に限定されるものではないが、ジカルボン酸成分とジオール成 分を主要な構成成分とするフィルム形成性を有するポリエステルである。
[0221] 主要な構成成分のジカルボン酸成分としては、テレフタル酸、イソフタル酸、フタル 酸、 2, 6 ナフタレンジカルボン酸、 2, 7 ナフタレンジカルボン酸、ジフエ-ルスル ホンジカルボン酸、ジフエ-ルエーテルジカルボン酸、ジフエ-ルエタンジカルボン 酸、シクロへキサンジカルボン酸、ジフエ-ルジカルボン酸、ジフエ-ルチオエーテル ジカルボン酸、ジフエ-ルケトンジカルボン酸、フエニルインダンジカルボン酸などを 挙げることが出来る。また、ジオール成分としては、エチレングリコール、プロピレング リコール、テトラメチレングリコール、シクロへキサンジメタノール、 2, 2 ビス(4ーヒド ロキシフエ-ル)プロパン、 2, 2 ビス(4 ヒドロキシエトキシフエ-ル)プロパン、ビス (4 ヒドロキシフエ-ル)スノレホン、ビスフエノールフルオレンジヒドロキシェチルエー テル、ジエチレングリコール、ネオペンチルグリコール、ハイドロキノン、シクロへキサ ンジオールなどを挙げることが出来る。
[0222] これらを主要な構成成分とするポリエステルの中でも透明性、機械的強度、寸法安 定性などの点から、ジカルボン酸成分として、テレフタル酸及び Zまたは 2, 6 ナフ タレンジカルボン酸、ジオール成分として、エチレングリコール及び Zまたは 1, 4ーシ クロへキサンジメタノールを主要な構成成分とするポリエステルが好まし 、。中でも、 ポリエチレンテレフタレートまたはポリエチレン 2, 6 ナフタレートを主要な構成成 分とするポリエステルや、テレフタル酸と 2, 6 ナフタレンジカルボン酸とエチレングリ コールからなる共重合ポリエステル、及びこれらのポリエステルの二種以上の混合物 を主要な構成成分とするポリエステルが好まし 、。
[0223] 本発明に用いられるポリエステル系ポリマーフィルムを構成するポリエステルは、本 発
明の効果を阻害しない範囲であれば、さらに他の共重合成分が共重合されていても 良いし、他のポリエステルが混合されていても良い。これらの例としては、先に挙げた ジカルボン酸成分ゃジオール成分、またはそれらカゝら成るポリエステルを挙げること が出来る。
[0224] またフィルムの耐熱性を向上する目的では、ビスフエノール系化合物、ナフタレン環 またはシクロへキサン環を有する化合物を共重合することが出来る。これらの共重合 割合としては、ポリエステルを構成する二官能性ジカルボン酸を基準として、 1〜20 モル0 /0が好ましい。
[0225] 本発明にお 、て好ましく使用できるポリエステル系ポリマーフィルムの作製方法は 溶液流延法、溶融流延法の何れでもよい。本発明においては 1軸延伸あるいは 2軸 延伸のどちらかを使用し、偏光板保護フィルム b、 cで説明した延伸工程を含む製造 法により、歪みの少ないポリエステル系ポリマーフィルムが得られる。
[0226] (ポリ乳酸系ポリマーフィルム)
〔ポリ乳酸系ポリマー〕
本発明の偏光板保護フィルム a、 dの支持体として好ましく用いられるポリ乳酸系ポリ マーは、ポリ乳酸、乳酸とヒドロキシカルボン酸等の共重合可能な多官能性化合物と のコポリマー、乳酸及び多価アルコールと多価カルボン酸のコポリマー、及びそれら の混合物を包含する。これらのポリ乳酸系ポリマーのうち、ホモポリマーであるポリ乳 酸が好ましぐ L ポリ乳酸がより好ましい。
[0227] また、混合物の場合、相溶化剤を含有してもよ ヽ。ポリ乳酸系ポリマーがコポリマー の場合、コポリマーの配列の様式はランダム共重合体、交替共重合体、ブロック共重 合体、グラフト共重合体の何れでもよい。さらに、これらは少なくとも一部がキシリレン ジイソシァネート、 2, 4 トリレンジイソシァネート等の多価イソシァネートやセルロー ス、ァセチルセルロースやェチルセルロース等の多糖類等の架橋剤で架橋されたも のでもよぐ少なくとも一部が線状、環状、分岐状、星状、三次元網目構造等のいず れの構造をとつて 、てもよく何ら制限されな 、。
[0228] 〔乳酸〕
ポリ乳酸系ポリマーの原料となる乳酸は、 L 乳酸、 D 乳酸、 DL 乳酸、または それらの混合物が挙げられ、乳酸の環状 2量体であるラクチドをポリマーの原料とし て使用する場合には、 Lーラクチド、 D ラクチド、メソーラクチド、またはそれらの混 合物が挙げられる。
[0229] これらの光学異性体原料を種々に組み合わせて、また反応条件により、所望の光 学純度を有する乳酸と乳酸以外の (共)重合可能な多官能性化合物との共重合体を 重合することができる力 異性体含有量は、 0〜10質量%が好ましぐ 0〜5質量%が より好ましぐ 0〜2質量%がさらに好ましい。例えば、乳酸が L 乳酸である場合、 D 乳酸の含有量は 0〜10質量%が好ましぐ 0〜5質量%がより好ましぐ 0〜2質量 %がさらに好ましい。
[0230] 〔共重合可能な多官能性化合物〕
共重合可能な多官能性化合物としては、例えば、グリコール酸、ジメチルダリコール 酸、 2 ヒドロキシ酪酸、 3 ヒドロキシ酪酸、 4ーヒドロキシ酪酸、 2 ヒドロキシプロパ ン酸、 3 ヒドロキシプロパン酸、 2 ヒドロキシ吉草酸、 3 ヒドロキシ吉草酸、 4ーヒド 口キシ吉草酸、 5 ヒドロキシ吉草酸、 2 ヒドロキシカプロン酸、 3 ヒドロキシカプロ ン酸、 4ーヒドロキシカプロン酸、 5—ヒドロキシカプロン酸、 6—ヒドロキシカプロン酸、 6—ヒドロキシメチルカプロン酸、マンデル酸等のヒドロキシカルボン酸;グリコリド、 β —メチル一 δ—バレロラタトン、 γ—バレロラタトン、 ε—力プロラタトン等の環状エス テル;シユウ酸、マロン酸、コハク酸、グルタル酸、アジピン酸、ピメリン酸、ァゼライン 酸、セバシン酸、ゥンデカン二酸、ドデカン二酸、テレフタル酸等の多価カルボン酸、 及びこれらの無水物;エチレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコ ール、 1, 2 プロパンジオール、 1, 3 プロパンジオール、 1, 3 ブタンジオール、 1, 4 ブタンジオール、 3—メチルー 1, 5 ペンタンジオール、 2, 3 ブタンジォー ル、 1, 5 ペンタンジオール、 1, 6 へキサンジオール、 1, 9ーノナンジオール、ネ ォペンチルグリコール、テトラメチレングリコール、 1, 4一へキサンジメタノール等の多 価アルコール;セルロース等の多糖類、 a アミノ酸等のアミノカルボン酸等を挙げる ことができる。これらの共重合可能な多官能性化合物は、一種類または二種類以上 の混合物であってもよぐ不斉炭素を有する場合、 L体、 D体、及びその任意の割合 の混合物であってもよい。
[0231] 〔ポリ乳酸系ポリマーの製造方法〕
本発明において使用するポリ乳酸系ポリマーの製造方法は特に限定されないが、 例えば、特開昭 59— 96123号公報、特開平 7— 33861号公報等に記載されている 。例えば、乳酸を直接脱水縮合して得る方法、または米国特許第 4, 057, 357号明 細書、 Polymer Bulletin, 14卷, 491〜495頁(1985年)、 Makromol. Chem. , 187卷, 1611〜1628頁(1986年)等に記載されている乳酸の環状二量体である ラクチドを用いて開環重合させる方法等により製造することができる。開始剤として、 支持体上の官能基を用いて重合することができる。
[0232] 本発明において使用するポリ乳酸系ポリマーの重量平均分子量 (Mw)は、特に制 限されないが、 1万〜 1000万力好ましく、 3万〜 300万力より好ましく、 5万〜 100万 力 Sさらに好ましい。本発明で使用するポリ乳酸系ポリマーの重量平均分子量 (Mw) 及び分子量分布 (MwZMn)は、原料の種類、溶媒の種類、触媒の種類及び量、反 応温度、反応時間、反応系の脱水の程度等の反応条件を適宜選択することにより所 望のものに制御することができる。
[0233] 本発明でポリ乳酸系ポリマーには、紫外線吸収剤、可塑剤または微粒子を添加す ることが好ましい。
[0234] 本発明にお 、て好ましく使用できるポリ乳酸系ポリマーフィルムの作製方法は、溶 液流延法、溶融流延法のいずれでもよい。本発明においては 1軸延伸あるいは 2軸 延伸のどちらかを使用し、偏光板保護フィルム b、 cで説明した延伸工程を含む製造 法により、歪みの少ないポリ乳酸系ポリマーフィルムが得られる。 [0235] (偏光板)
本発明の偏光板は、一般的な方法で作製することが出来る。本発明に係る偏光板 保護フィルム a、 b、 c、 dの裏面側をアルカリ鹼化処理し、沃素溶液中に浸漬延伸して 作製した偏光膜の少なくとも一方の面に、完全鹼化型ポリビニルアルコール水溶液 を用いて貼り合わせることが好ましい。本発明に係る偏光板保護フィルム b、 cの偏光 膜を介してもう一方の面には偏光板保護フィルム a、 dが用いられるが、偏光板保護フ イルム a、 dとしては、市販のセルロースエステルフィルム(例えば、コ-カミノルタタック
KC8UX、 KC4UX、 KC5UX、 KC8UCR3、 KC8UCR4、 KC8UYゝ KC4UY、 KC12URゝ KC8UCR— 3、 KC8UCR— 4、 KC8UCR— 5、 KC8UY— HAゝ KC8 UX—RHA、 KC8UX—RHA— N、以上、コ-カミノルタォプト(株)製)等を用いて ちょい。
[0236] 偏光板の主たる構成要素である偏光膜とは、一定方向の偏波面の光だけを通す素 子であり、現在知られている代表的な偏光膜は、ポリビニルアルコール系偏光フィル ムで、これはポリビュルアルコール系フィルムにヨウ素を染色させたものと二色性染料 を染色させたものがある。偏光膜は、ポリビニルアルコール水溶液を製膜し、これを一 軸延伸させて染色するか、染色した後一軸延伸してから、好ましくはホウ素化合物で 耐久性処理を行ったものが用いられている。該偏光膜の面上に、本発明に係る偏光 板保護フィルムの片面を貼り合わせて偏光板を形成する。好ましくは完全酸ィ匕ポリビ -ルアルコール等を主成分とする水系の接着剤によって貼り合わせる。
[0237] (表示装置)
本発明の偏光板を液晶表示装置に組み込むことによって、種々の視認性に優れた 液晶表示装置を作製することが出来る。本発明の偏光板は反射型、透過型、半透過 型 LCD或いは TN型、 STN型、 OCB型、 HAN型、 VA型(PVA型、 MVA型)、 IPS 型等の各種駆動方式の LCDで好ましく用いられる。特に画面が 30型以上、特に 30 型〜 54型の大画面の表示装置では、画面周辺部での白抜けなどもなぐその効果 が長期間維持され、 MVA型液晶表示装置では顕著な効果が認められる。特に、色 むら、ぎらつきや波打ちムラが少なぐ長時間の鑑賞でも目が疲れないという効果が めつに。 実施例
[0238] 以下に実施例を挙げて本発明を具体的に説明するが、本発明はこれらに限定され るものではない。
[0239] 《用いる素材》
〈セノレロースエステノレ〉
C 1 :セルロースアセテートプロピオネート、ァセチル置換度 1. 9、プロピオ-ル基 置換度 0. Ί、分子量 Μη= 70000、分子量 Mw= 200000、 Mw/Mn= 2. 9
〈可塑剤〉
P— 1:トリメチロールプロパントリべンゾエート
〈ヒンダードフエノール化合物〉
S— 1: 2— t ブチル 6— ( 3— t ブチル 2 ヒドロキシ 5 メチルベンジル) —4—メチルフエ-ルアタリレート、 2, 4 ジ一 t—ァミル一 6— (1— (3, 5 ジ一 t— アミルー 2—ヒドロキシフエ-ル)ェチル)フエ-ルアタリレート
S— 2 :ォクタデシルー 3— (3, 5 ジ一 t—ブチル 4 ヒドロキシフエ-ル)プロピ ォネート、 2, 2' ーメチレン ビス(4ーメチルー 6 t—ブチルフエノール)
S— 3 :トリエチレングリコール一ビス(3— (3— t—ブチル 4—ヒドロキシ一 5—メチ ノレフエ二ノレ)プロピオネート)
〈その他の添加剤〉
S— 4 :スミライザ一 BP76 (住友ィ匕学工業社製)、フエノール系安定剤
S— 5 : GSY— P101 (堺ィ匕学工業社製)、リン系安定剤
〈紫外線吸収剤〉
V— 1 :LA31 (旭電化社製、重量平均分子量: 486、 380nm〖こおけるモル吸光係 数 =6780)
〈シクロォレフィン系榭月旨〉
窒素雰囲気下、脱水したシクロへキサン 500部に、 1一へキセン 1. 2部、ジブチル エーテル 0. 15部、トリイソブチルアルミニウム 0. 30部を室温で反応器に入れ混合し た後、 45°Cに保ちながら、トリシクロ [4. 3. 0. 12, 5]デカ— 3, 7 ジェン(ジシクロ ペンタジェン、以下、 DCPと略記) 20部、 1, 4—メタノー 1, 4, 4a, 9a—テトラヒドロフ ノレ才レン(以下、 MTFと略記) 140咅、及び 8—メチノレ一テトラシクロ [4. 4. 0. 12, 5 . 17, 10]—ドデカー 3—ェン(以下、 MTDと略記) 40部からなるノルボルネン系モノ マー混合物と、六塩ィ匕タングステン (0. 7%トルエン溶液) 40部とを、 2時間かけて連 続的に添加し重合した。重合溶液にブチルダリシジルエーテル 1. 06部とイソプロピ ルアルコール 0. 52部を加えて重合触媒を不活性化し重合反応を停止させた。
[0240] 次 、で、得られた開環重合体を含有する反応溶液 100部に対して、シクロへキサン 270部を加え、更に水素化触媒としてニッケル—アルミナ触媒(日揮ィ匕学社製) 5部 を加え、水素により 5MPaに加圧して撹拌しながら温度 200°Cまで加温した後、 4時 間反応させ、 DCPZMTFZMTD開環重合体水素化ポリマーを 20%含有する反応 溶液を得た。濾過により水素化触媒を除去した後、軟質重合体 (クラレ社製;セプトン 2002)、及び酸化防止剤(チノく'スペシャルティ ·ケミカルズ社製;ィルガノックス 101 0)を、得られた溶液にそれぞれ添加して溶解させた ( 、ずれも重合体 100部あたり 0 . 1部)。次いで、溶液から、溶媒であるシクロへキサン及びその他の揮発成分を、円 筒型濃縮乾燥器 (日立製作所製)を用いて除去し、水素化ポリマーを溶融状態で押 出機からストランド状に押出し、冷却後ペレット化して回収した。重合体中の各ノルボ ルネン系モノマーの共重合比率を、重合後の溶液中の残留ノルボルネン類組成 (ガ スクロマトグラフィー法による)力も計算したところ、 DCP/MTF/MTD= 10/70 Z20でほぼ仕込組成に等しかった。この開環重合体水素添加物の重量平均分子量 (Mw)は 31, 000、分子量分布(MwZMn)は 2. 5、水素添力卩率は 99. 9%、 Tgは 134°Cであった。
[0241] 得られた開環重合体水素添加物のペレットを、空気を流通させた熱風乾燥器を用
V、て 70°Cで 2時間乾燥して水分を除去した。
[0242] 〈ポリカーボネート系榭脂〉
粘度平均分子量 4万、ビスフエノール A型ポリカーボネート榭脂を使用。
[0243] 〈ポリエステル系榭脂〉
(ポリエステルの合成)
テレフタル酸ジメチル 100質量部、エチレングリコール 64質量部に酢酸カルシウム 水和物 0. 1質量部を添加し、常法によりエステル交換反応を行なった。得られた生 成物に、 5—ナトリウムスルホジ(j8—ヒドロキシェチル)イソフタル酸のエチレングリコ ール溶液 (濃度 35質量%) 22質量部(7モル%Z全ジカルボン酸成分)、ポリエチレ ングリコール (数平均分子量 3000) 12. 2質量部(5質量%Z生成したポリエステル) 、三酸化アンチモン 0. 05質量部、リン酸トリメチルエステル 0. 13質量部を添カ卩した 。次いで、徐々に昇温、減圧にし、 280°C、 40Paで重合を行い、ポリエステル榭脂を 得た。
[0244] 〈ポリ乳酸系榭脂〉
重量平均分子量 14万のポリ乳酸系榭脂 (三井化学 (株)製 商品名 レイシァ H— 100)を使用。
[0245] 実施例 1
《偏光板試料の製造》
〔偏光板試料 1 1の製造〕
セルロースエステル C 1の 90質量部を、空気中、常圧下で 130°C、 2時間乾燥し
、室温まで放冷した。このセルロースエステルに可塑剤 P—1を 10質量部、ヒンダード フエノールイ匕合物 S— 1を 0. 5質量部、紫外線吸収剤 V— 1を 2質量部、セルロース エステルに対して添加し、この混合物を 240°Cの溶融温度に加熱溶融した後、 T型 ダイより溶融押出成形し、 120°Cにて機械的方向に 1. 2倍、機械的方向と直交する 方向に 1. 4倍の延伸比で延伸した。その結果、膜厚 80 mのセルロースエステルフ イルム試料を得た。下記の方法に従って測定したリタ一デーシヨン値 Roは 45nm、 Rt は 135nmであった。同様に上記シクロォレフイン系榭脂を用いてシクロォレフイン系 ポリマーフィルム試料を得た。下記の方法に従って測定したリタ一デーシヨン値 Roは
5nm、 Rtは 20nmであった。上記セルロースエステルフィルムを、偏光膜を介して液 晶セル側に配し、それと反対側に上記シクロォレフイン系ポリマーフィルムを配した偏 光板試料 1—1を製造した。これら測定に用いたフィルムは、 23°C、 55%RHで 24時 間調湿する前処理を行った。
[0246] 〈リタ一デーシヨン Ro、 Rtの測定〉
アッベ屈折率計 (4T)を用いてフィルムの平均屈折率を測定した。また、市販のマイ クロメーターを用いてフィルムの厚さを測定した。 [0247] 自動複屈折計 KOBRA— 21ADH (王子計測機器 (株)製)を用いて、 23°C、 55% RHの環境下 24時間放置したフィルムにおいて、同環境下、波長が 590nmにおける フィルムのリタ一デーシヨン測定を行った。上述の平均屈折率と膜厚を下記式に入力 し、面内リタ一デーシヨン (Ro)及び厚み方向のリタ一デーシヨン (Rt)の値を得た。
[0248] 式(I) Ro = (nx— ny) X d
式(Π) Rt = { (nx + ny) Z2— nz } X d
式中、 nxは、フィルム面内の遅相軸方向の屈折率であり、 nyは、フィルム面内の進 相軸方向の屈折率であり、 nzはフィルム厚み方向の屈折率であり、 dはフィルムの厚 さ(nm)である。
[0249] 偏光板は、以下のようにして作製した。
[0250] 厚さ、 120 mのポリビュルアルコールフィルムを、一軸延伸(温度 110°C、延伸倍 率 5倍)した。これをヨウ素 0. 075g、ヨウィ匕カリウム 5g、水 100gからなる水溶液に 60 秒間浸漬し、次いでヨウ化カリウム 6g、ホウ酸 7. 5g、水 100gからなる 68°Cの水溶液 に浸漬した。これを水洗、乾燥し偏光膜を得た。
[0251] 次いで、下記工程 1〜5に従って偏光膜と前記セルロースエステルフィルム試料、 裏面側にシクロォレフイン系ポリマーフィルム試料を貼り合わせて偏光板を作製した。
[0252] 工程 1: 50°Cの 1モル ZLの水酸ィ匕ナトリウム溶液に 60秒間浸漬し、次いで水洗し 乾燥して、偏光膜と貼合する側を鹼ィ匕したセルロースエステルフィルムを得た。
[0253] 工程 2:前記偏光膜を固形分 2質量%のポリビュルアルコール接着剤槽中に 1〜2 秒浸潰した。
[0254] 工程 3:工程 2で偏光膜に付着した過剰の接着剤を軽く拭き除き、これを工程 1で処 理したセルロースエステルフィルムの上にのせて、更に反対側にシクロォレフイン系 ポリマーフィルム配置した。
[0255] 工程 4:工程 3で積層したセルロースエステルフィルムと偏光膜とシクロォレフイン系 ポリマーフィルム試料を圧力 20〜30N/cm2、搬送スピードは約 2m/分で貼合し た。
[0256] 工程 5: 80°Cの乾燥機中に工程 4で作製した偏光膜とセルロースエステルフィルム とシクロォレフィン系ポリマーフィルムとを貼り合わせた試料を 2分間乾燥し、偏光板を 作製した。
[0257] 〔偏光板試料 1 2の製造〕
偏光板試料 1—1の製造において、ヒンダードフエノールイ匕合物を S—1から S— 2に 変更した以外は同様にして、セルロースエステルフィルム試料、シクロォレフイン系ポ リマーフィルム試料を作製し、偏光板試料 1 - 2を作製した。
[0258] 〔偏光板試料 1 3の製造〕
偏光板試料 1—1の製造において、ヒンダードフエノールイ匕合物を S—1から S— 3に 変更した以外は同様にしてセルロースエステルフィルム試料、シクロォレフイン系ポリ マーフィルム試料を作製し、偏光板試料 1—3を作製した。
[0259] 〔偏光板試料 1 4の製造〕
偏光板試料 1—1の製造において、ヒンダードフエノールイ匕合物 S— 1を 0. 5質量部 、フエノール系安定剤 S— 4を 0. 5質量部に併用した以外は同様にして、セルロース エステルフィルム試料、シクロォレフイン系ポリマーフィルム試料を作製し、偏光板試 料 1 4を作製した。
[0260] 〔偏光板試料 1 5の製造〕
偏光板試料 1—1の製造において、ヒンダードフエノールイ匕合物 S— 1を 0. 5質量部 、リン系安定剤 S— 5を 0. 5質量部に併用した以外は同様にしてセルロースエステル フィルム試料、シクロォレフイン系ポリマーフィルム試料を作製し、偏光板試料 1—5を 作製した。
[0261] 〔偏光板試料 1 6の製造〕
セルロースエステル C 1 90質量部を、空気中、常圧下で 130°C、 2時間乾燥し、 室温まで放冷した。このセルロースエステルに可塑剤 P—1を 10質量部、ヒンダードフ エノールイ匕合物 S— 1を 0. 5質量部、紫外線吸収剤 V— 1を 2質量部セルロースエス テルに対して添加し、この混合物を 240°Cの溶融温度に加熱溶融した後、 T型ダイよ り溶融押出成形し、 120°Cにて機械的方向に 1. 2倍、機械的方向と直交する方向に 1. 4倍の延伸比で延伸した。その結果、膜厚 80 mのセルロースエステルフィルム 試料を得た。同様に上記ポリカーボネート系榭脂を用いてポリカーボネート系ポリマ 一フィルム試料を得た。上記セルロースエステルフィルムを、偏光膜を介して液晶セ ル側に配し、それと反対側に上記ポリカーボネート系ポリマーフィルムを配した偏光 板試料 1—6を製造した。これら測定に用いたフィルムは、 23°C、 55%RHで 24時間 調湿する前処理を行った。
[0262] 〔偏光板試料 1 7の製造〕
セルロースエステル C 1 90質量部を、空気中、常圧下で 130°C、 2時間乾燥し、 室温まで放冷した。このセルロースエステルに可塑剤 P—1を 10質量部、ヒンダードフ エノールイ匕合物 S— 1を 0. 5質量部、紫外線吸収剤 V— 1を 2質量部セルロースエス テルに対して添加し、この混合物を 240°Cの溶融温度に加熱溶融した後、 T型ダイよ り溶融押出成形し、 120°Cにて機械的方向に 1. 2倍、機械的方向と直交する方向に 1. 4倍の延伸比で延伸した。その結果、膜厚 80 mのセルロースエステルフィルム 試料を得た。同様に上記ポリ乳酸系榭脂を用いてポリ乳酸系ポリマーフィルム試料を 得た。上記セルロースエステルフィルムを、偏光膜を介して液晶セル側に配し、それ と反対側に上記ポリ乳酸系ポリマーフィルムを配した偏光板試料 1 7を製造した。こ れら測定に用いたフィルムは、 23°C、 55%RHで 24時間調湿する前処理を行った。
[0263] 〔偏光板試料 1 8の製造〕
セルロースエステル C 1 90質量部を、空気中、常圧下で 130°C、 2時間乾燥し、 室温まで放冷した。このセルロースエステルに可塑剤 P—1を 10質量部、ヒンダードフ エノールイ匕合物 S— 1を 0. 5質量部、紫外線吸収剤 V— 1を 2質量部セルロースエス テルに対して添加し、この混合物を 240°Cの溶融温度に加熱溶融した後、 T型ダイよ り溶融押出成形し、 120°Cにて機械的方向に 1. 2倍、機械的方向と直交する方向に 1. 4倍の延伸比で延伸した。その結果、膜厚 80 mのセルロースエステルフィルム 試料を得た。同様に上記ポリエステル系榭脂を用いてポリエステル系ポリマーフィル ム試料を得た。上記セルロースエステルフィルムを、偏光膜を介して液晶セル側に配 し、それと反対側に上記ポリエステル系ポリマーフィルムを配した偏光板試料 1—8を 製造した。これら測定に用いたフィルムは、 23°C、 55%RHで 24時間調湿する前処 理を行った。
[0264] 〔偏光板試料 1 9の製造〕
セルロースエステル C 1 90質量部を、空気中、常圧下で 130°C、 2時間乾燥し、 室温まで放冷した。このセルロースエステルに可塑剤 P—1を 10質量部、ヒンダードフ エノールイ匕合物 S— 1を 0. 5質量部、紫外線吸収剤 V— 1を 2質量部セルロースエス テルに対して添加し、この混合物を 240°Cの溶融温度に加熱溶融した後、 T型ダイよ り溶融押出成形し、 155°Cにて機械的方向に 1. 2倍、機械的方向と直交する方向に 1. 4倍の延伸比で延伸した。その結果、膜厚 80 mのセルロースエステルフィルム 試料 bを得た。リタ一デーシヨン値 Roは 45nm、 Rtは 135nmであった。同様に上記 延伸操作において、機械的方向に 1. 2倍、機械的方向と直交する方向に 1. 2倍の 延伸を行った以外は同様にしてセルロースエステルフィルム試料 aを作製した。リタ一 デーシヨン値 Roは 55nm、 Rtは 80nmであった。上記セルロースエステルフィルム試 料 bを、偏光膜を介して液晶セル側に配し、それと反対側に上記セルロースエステル フィルム試料 aを配した偏光板試料 1 9を製造した。これら測定に用いたフィルムは 、 23°C、 55%RHで 24時間調湿する前処理を行った。
[0265] 〔偏光板試料 1 10の製造〕
偏光板試料 1—1の製造において、ヒンダードフエノールイ匕合物 S—1を 0. 01質量 部、リン系安定剤 S— 5を 0. 01質量部併用した以外は同様にしてセルロースエステ ルフィルム試料、シクロォレフイン系ポリマーフィルム試料を作製し、偏光板試料 1—1 0を作製した。
[0266] 〔偏光板試料 1 11の製造〕
偏光板試料 1—1の製造において、ヒンダードフエノールイ匕合物 S—1を 0. 03質量 部、リン系安定剤 S— 5を 0. 03質量部併用した以外は同様にしてセルロースエステ ルフィルム試料、シクロォレフイン系ポリマーフィルム試料を作製し、偏光板試料 1—1 1を作製した。
[0267] 〔偏光板試料 1 12の製造〕
偏光板試料 1—1の製造において、ヒンダードフエノールイ匕合物 S— 1を 0. 1質量部 、リン系安定剤 S— 5を 0. 1質量部併用した以外は同様にしてセルロースエステルフ イルム試料、シクロォレフイン系ポリマーフィルム試料を作製し、偏光板試料 1— 12を 作製した。
[0268] 〔偏光板試料 1 13の製造〕 偏光板試料 1—1の製造において、ヒンダードフエノールイ匕合物 S— 1を 3質量部、リ ン系安定剤 S— 5を 3質量部併用した以外は同様にしてセルロースエステルフィルム 試料、シクロォレフイン系ポリマーフィルム試料を作製し、偏光板試料 1—13を作製し た。
[0269] 〔偏光板試料 1 14の製造〕
偏光板試料 1—1の製造において、ヒンダードフエノールイ匕合物 S— 1を 5質量部、リ ン系安定剤 S— 5を 5質量部併用した以外は同様にしてセルロースエステルフィルム 試料、シクロォレフイン系ポリマーフィルム試料を作製し、偏光板試料 1— 14を作製し た。
[0270] 〔偏光板試料 1 15の製造〕
偏光板試料 1—1の製造において、溶融温度を 200°Cにした以外は同様にしてセ ルロースエステルフィルム試料、シクロォレフイン系ポリマーフィルム試料を作製し、偏 光板試料 1 15を作製した。
[0271] 〔偏光板試料 1 16の製造〕
偏光板試料 1—1の製造において、溶融温度を 220°Cにした以外は同様にしてセ ルロースエステルフィルム試料、シクロォレフイン系ポリマーフィルム試料を作製し、偏 光板試料 1 16を作製した。
[0272] 〔偏光板試料 1 17の製造〕
偏光板試料 1—1の製造において、溶融温度を 260°Cにした以外は同様にしてセ ルロースエステルフィルム試料、シクロォレフイン系ポリマーフィルム試料を作製し、偏 光板試料 1 17を作製した。
[0273] 〔偏光板試料 1 18の製造〕
偏光板試料 1—1の製造において、溶融温度を 280°Cにした以外は同様にしてセ ルロースエステルフィルム試料、シクロォレフイン系ポリマーフィルム試料を作製し、偏 光板試料 1 18を作製した。
[0274] 〔偏光板試料 1 19の製造〕
偏光板試料 1—1の製造において、溶融温度を 180°Cに変更した以外は同様にし て、セルロースエステルフィルム試料、シクロォレフイン系ポリマーフィルム試料を作 製し、偏光板試料 1 19を作製した。
[0275] 〔偏光板試料 1 20の製造〕
偏光板試料 1—1の製造において、溶融温度を 300°Cに変更した以外は同様にし て、セルロースエステルフィルム試料、シクロォレフイン系ポリマーフィルム試料を作 製し、偏光板試料 1 20を作製した。
[0276] 〔偏光板試料 2— 1の製造:比較例〕
セルロースエステル C—1の 90質量部に、可塑剤 P—1の 1. 0質量部を添加し、こ の混合物を空気中、常圧下で 130°C、 2時間乾燥し、室温まで放冷した。このセル口 ースエステル混合物を 240°Cの溶融温度に加熱溶融した後、 T型ダイより溶融押出 成形し、 120°Cにて機械的方向に 1. 2倍、機械的方向と直交する方向に 1. 4倍の 延伸比で延伸した。その結果、膜厚 80 mのセルロースエステルフィルム試料を得 た。リタ一デーシヨン値 Roは 45nm、 Rtは 135nmであった。同様の方法で、セルロー スエステルに代えてポリカーボネート系榭脂を用いてシクロォレフイン系ポリマーフィ ルム試料を得た。リタ一デーシヨン値 Roは 5nm、 Rtは 20nmであった。上記セルロー スエステルフィルムを、偏光膜を介して液晶セル側に配し、それと反対側に上記シク ロォレフイン系ポリマーフィルムを配した比較例の偏光板試料 2— 1を製造した。これ ら測定に用いたフィルムは、 23°C、 55%RHで 24時間調湿する前処理を行った。
[0277] 〔偏光板試料 2— 2の製造:比較例〕
セルロースエステル C—1の 90質量部に、可塑剤 P—1の 1. 0質量部を添加し、こ の混合物を空気中、常圧下で 130°C、 2時間乾燥し、室温まで放冷した。このセル口 ースエステル混合物を 240°Cの溶融温度に加熱溶融した後、 T型ダイより溶融押出 成形し、 120°Cにて機械的方向に 1. 2倍、機械的方向と直交する方向に 1. 4倍の 延伸比で延伸した。その結果、膜厚 80 mのセルロースエステルフィルム試料を得 た。同様の方法で、セルロースエステルに代えてポリカーボネート系榭脂を用いてポ リカーボネート系ポリマーフィルム試料を得た。上記セルロースエステルフィルムを、 偏光膜を介して液晶セル側に配し、それと反対側に上記ポリカーボネート系ポリマー フィルムを配した比較例の偏光板試料 2— 2を製造した。これら測定に用いたフィルム は、 23°C、 55%RHで 24時間調湿する前処理を行った。 [0278] 〔偏光板試料 2— 3の製造:比較例〕
セルロースエステル C—1の 90質量部に、可塑剤 P—1の 1. 0質量部を添加し、こ の混合物を空気中、常圧下で 130°C、 2時間乾燥し、室温まで放冷した。このセル口 ースエステル混合物を 240°Cの溶融温度に加熱溶融した後、 T型ダイより溶融押出 成形し、 120°Cにて機械的方向に 1. 2倍、機械的方向と直交する方向に 1. 4倍の 延伸比で延伸した。その結果、膜厚 80 mのセルロースエステルフィルム試料を得 た。同様の方法で、セルロースエステルに代えてポリ乳酸系榭脂を用いてポリ乳酸系 ポリマーフィルム試料を得た。上記セルロースエステルフィルムを、偏光膜を介して液 晶セル側に配し、それと反対側に上記ポリ乳酸系ポリマーフィルムを配した比較例の 偏光板試料 2— 3を製造した。これら測定に用いたフィルムは、 23°C、 55%RHで 24 時間調湿する前処理を行った。
[0279] 〔偏光板試料 2— 4の製造:比較例〕
セルロースエステル C—1の 90質量部に、可塑剤 P—1の 1. 0質量部を添加し、こ の混合物を空気中、常圧下で 130°C、 2時間乾燥し、室温まで放冷した。このセル口 ースエステル混合物を 240°Cの溶融温度に加熱溶融した後、 T型ダイより溶融押出 成形し、 120°Cにて機械的方向に 1. 2倍、機械的方向と直交する方向に 1. 4倍の 延伸比で延伸した。その結果、膜厚 80 mのセルロースエステルフィルム試料を得 た。同様の方法で、セルロースエステルに代えてポリエステル系榭脂を用いてポリエ ステル系ポリマーフィルム試料を得た。上記セルロースエステルフィルムを、偏光膜を 介して液晶セル側に配し、それと反対側に上記ポリエステル系ポリマーフィルムを配 した比較例の偏光板試料 2— 4を製造した。これら測定に用いたフィルムは、 23°C、 5 5%RHで 24時間調湿する前処理を行った。
[0280] 〔偏光板試料 2— 5の製造:比較例〕
偏光板試料 1 1の製造において、ヒンダードフエノール化合物 S— 1を 0. 003質 量部に変更した以外は同様にして、セルロースエステルフィルム試料、シクロォレフィ ン系ポリマーフィルム試料を作製し、比較例の偏光板試料 2— 5を作製した。
[0281] 〔偏光板試料 2— 6の製造:比較例〕
偏光板試料 1—1の製造において、ヒンダードフエノールイ匕合物 S—1を 10質量部 に変更した以外は同様にして、セルロースエステルフィルム試料、シクロォレフイン系 ポリマーフィルム試料を作製し、比較例の偏光板試料 2— 6を作製した。
[0282] 《偏光板試料の評価》
以上により製造した各偏光板試料について、下記の評価を行った。
[0283] (フィルム貼合性の評価)
本発明の偏光板試料 1— 1〜: L— 20及び比較例の偏光板試料 2— 1〜2— 6につ いて、製造時における故障、トラブルの発生状況を確認し、下記の基準に従ってフィ ルム貼合性を評価した。
[0284] 〇:フィルムの皺や折れ曲がりや傷の発生が全くない
〇△:フィルムの皺や折れ曲がりや傷の発生がほとんどない
△:フィルムの皺や折れ曲がりや傷の発生がある
X:フィルムの皺や折れ曲がりや傷の発生が多い
(正面コントラストの評価)
上記製造した偏光板試料 1 1〜1 20及び比較例の偏光板試料 2— 1〜2— 6を 用いて、下記の方法に従って正面コントラストの評価を行った。
[0285] 〈正面コントラストの評価方法〉
上記各偏光板試料を、 70°Cの乾燥環境下にて 1000時間放置した。次いで、ソニ 一社製の液晶 TV WEGAKLV20AP2の偏光板を剥離して、上記 70°Cの乾燥環 境下で 1000時間の処理を施した各偏光板を、偏光板に貼合したセルロースエステ ルフィルム試料側(偏光板試料 1— 9につ!/、てはセルロースエステルフィルム b側)が 液晶セル側になるように貼合し、 23°C、 55%RHにてバックライト点灯して 30分間放 置後、 ELDIM社製の EZ - CONTRAST160Dにて各試料毎の液晶 TVで白表示 と黒表示の法線方向から正面輝度を測定し、その比を正面コントラストとした。値が高 い程、正面コントラストに優れている。
[0286] 正面コントラスト =表示装置の法線方向から測定した白表示の輝度 Z表示装置の 法線方向から測定した黒表示の輝度
以上により得られた各評価結果を、表 1に示す。
[0287] [表 1] 偏光板試料 No. 正面コントラスト フィルム貼合性 備考
1 - 1 730 〇 本発明
1-2 740 〇 本発明
1一 3 720 〇 本発明
1-4 760 〇 本発明
1一 5 750 〇 本発明
1-6 720 〇 本発明
1-7 730 〇 本発明
1-8 730 〇 本発明
1-9 780 〇 本発明
1一 10 720 〇 本発明
1一 11 730 〇 本発明
1一 12 740 〇 本発明
1一 13 750 o 本発明
1一 14 750 〇 本発明
1一 15 750 〇 本発明
1—16 770 〇 本発明
1 -17 720 〇 本発明
1一 18 700 〇 本発明
1一 19 640 〇△ 本発明
1一 20 650 〇△ 本発明
2-1 520 X 比較例
2-2 530 X 比較例
2-3 510 X 比較例
2-4 540 X 比較例
2-5 560 △ 比較例
2-6 550 Δ 比較例
[0288] 表 1に記載の結果より明らかなように、本発明の偏光板試料 1— 1〜1— 20は、比較 例である偏光板試料 2— 1〜2— 6に対して顕著に正面コントラストが改善されて 、る ことが明らかである。
[0289] また、本発明の偏光板試料は、偏光板製造過程でのフィルム貼合における故障、ト ラブルが少なぐフィルム貼合性に優れ、偏光板製造適性が改善されていることが分 かった。
[0290] 実施例 2
《偏光板試料 1—1' 〜ι一 2( の作製》
偏光板試料 1一:!〜 1一 20の視認側に用レ、たポリマーフィルム(図 1の偏光板保護 フィルム a)上に、下記ハードコート層、反射防止層を設け、偏光板試料 1一 1' 〜1 20' を作製した。
[0291] [ハードコート層の形成]
下記のハードコート層用塗布液を孔径 0. 4 mのポリプロピレン製フィルターで濾 過してハードコート層塗布液を調製し、これを上記視認側偏光板保護フィルム上に、 マイクログラビアコーターを用いて塗布し、 90°Cで乾燥した後、紫外線ランプを用い 照射部の照度が lOOmWZcm2で、照射量を 0. lj/cm2として塗布層を硬化させ、 ドライ膜厚 7 μ mのハードコート層を形成した。
[0292] (ハードコート層塗布液)
下記の各添加剤を攪拌、混合してハードコート層塗布液とした。
[0293] アクリルモノマー: KAYARAD DPHA (ジペンタエリスリトールへキサアタリレート 、 日本化薬製) 220質量部
ィルガキュア 184 (チバ'スペシャルティ ·ケミカルズ (株)製) 20質量部 プロピレングリコールモノメチルエーテル 110質量部 酢酸ェチル 110質量部
[反射防止層付き偏光板保護フィルムの作製]
上記作製したハードコート層上に、下記のように高屈折率層、次いで、低屈折率層 の順に反射防止層を塗設し、反射防止層付き偏光板保護フィルムを作製した。
[0294] 〔反射防止層の形成 1:高屈折率層〕
ハードコート層上に、下記高屈折率層塗布組成物を押出しコーターで塗布し、 80
°Cで 1分間乾燥させ、次いで紫外線を 0. lj/cm2照射して硬化させ、更に 100°Cで 1分熱硬化させ、厚さが 78nmとなるように高屈折率層を設けた。
[0295] この高屈折率層の屈折率は 1. 62であった。
[0296] (高屈折率層塗布組成物の調製)
金属酸ィ匕物微粒子のイソプロピルアルコール溶液(固形分 20%、 ITO粒子、粒径 5 nm) 55質量部
金属化合物: Ti(OBu) (テトラ— n—ブトキシチタン) 1. 3質量部
4
電離放射線硬化型榭脂:ジペンタエリスリトールへキサアタリレート 3. 2質量部 光重合開始剤:ィルガキュア 184 (チバ ·スペシャルティ ·ケミカルズ (株)製) 0. 8質量部
直鎖ジメチルシリコーン—EOブロックコポリマー(FZ— 2207、 日本ュ-カー(株) 製)の 10%プロピレングリコールモノメチルエーテル液 1. 5質量部
プロピレングリコールモノメチルエーテル 120質量部 イソプロピルアルコール 240質量部
メチルェチルケトン 40質量部
〔反射防止層の形成 2:低屈折率層〕
前記高屈折率層上に、下記の低屈折率層塗布組成物を押出しコーターで塗布し、 100°Cで 1分間乾燥させた後、紫外線ランプにて紫外線を 0. UZcm2照射して硬化 させ、耐熱性プラスチックコアに巻き長 4000mで巻き取り、次いで 80°C3日間の加熱 処理を行!ヽ、反射防止層付き偏光板保護フィルム (反射防止フィルム)を作製した。
[0297] 尚、この低屈折率層の厚さ 95nm、屈折率は 1. 37であった。
[0298] (低屈折率層塗布組成物の調製)
〈テトラエトキシシラン加水分解物 Aの調製〉
テトラエトキシシラン 289gとエタノール 553gを混和し、これに 0. 15%酢酸水溶液 1 57gを添加し、 25°Cのウォーターノ ス中で 30時間攪拌することで加水分解物 Aを調 製した。
[0299] テトラエトキシシラン加水分解物 A 110質量部
中空シリカ系微粒子(下記 P— 2)分散液 30質量部
KBM503 (シランカップリング剤、信越化学 (株)製) 4質量部 直鎖ジメチルシリコーン—EOブロックコポリマー(FZ— 2207、 日本ュ-カー(株) 製)の 10%プロピレングリコールモノメチルエーテル液 3質量部
プロピレングリコールモノメチルエーテル 400質量部 イソプロピルアルコール 400質量部
〈中空シリカ系微粒子 (p 2)分散液の調製〉
平均粒径 5nm、 SiO濃度 20質量0 /0のシリカゾル 100gと純水 1900gの混合物を 8
2
0°Cに加温した。この反応母液の pHは 10. 5であり、同母液に SiOとして 0. 98質量
2
%のケィ酸ナトリウム水溶液 9000gと AI Oとして 1. 02質量0 /0のアルミン酸ナトリウム
2 3 水溶液 9000gとを同時に添加した。その間、反応液の温度を 80°Cに保持した。反応 液の pHは添加直後、 12. 5に上昇し、その後、殆ど変化しな力つた。添加終了後、 反応液を室温まで冷却し、限外濾過膜で洗浄して固形分濃度 20質量%の SiO ·Α1
2 2
Ο核粒子分散液を調製した (工程 (a) )。
3
[0300] この核粒子分散液 500gに純水 1700gをカ卩えて 98°Cに加温し、この温度を保持し ながら、ケィ酸ナトリウム水溶液を陽イオン交換樹脂で脱アルカリして得られたケィ酸 液 (SiO濃度 3. 5質量%) 3000gを添加して第 1シリカ被覆層を形成した核粒
2
子の分散液を得た (工程 (b) )。
[0301] 次いで、限外濾過膜で洗浄して固形分濃度 13質量%になった第 1シリカ被覆層を 形成した核粒子分散液 500gに純水 1125gを加え、更に濃塩酸(35. 5%)を滴下し て pHl. 0とし、脱アルミニウム処理を行った。次いで、 pH3の塩酸水溶液 10Lと純水 5Lを加えながら限外濾過膜で溶解したアルミニウム塩を分離し、第 1シリカ被覆層を 形成した核粒子の構成成分の一部を除去した SiO ·Α1 Ο多孔質粒子の分散液を
2 2 3
調製した(工程 (c) )。上記多孔質粒子分散液 1500gと、純水 500g、エタノール 1, 7 50g及び 28%アンモニア水 626gとの混合液を 35°Cに加温した後、ェチルシリケート (SiO 28質量%) 104gを添加し、第 1シリカ被覆層を形成した多孔質粒子の表面を
2
ェチルシリケートの加水分解重縮合物で被覆して第 2シリカ被覆層を形成した。次 ヽ で、限外濾過膜を用いて溶媒をエタノールに置換した固形分濃度 20質量%の中空 シリカ系微粒子 (P— 2)の分散液を調製した。
[0302] この中空シリカ系微粒子の第 1シリカ被覆層の厚さは 3nm、平均粒径は 47nm、 M Ox/SiO (モル比)は 0. 0017、屈折率は 1. 28であった。ここで、平均粒径は動的
2
光散乱法により測定した。
[0303] 《偏光板試料の評価》
上記作製した反射防止層付き偏光板保護フィルムを用いた偏光板試料 1 1' 〜 1 - 20' を用いて、実施例 1に記載の方法と同様にして、正面コントラストの評価及 びフィルム貼合性の評価を行ったところ、コントラスト値は 700〜800の範囲で!/、ずれ も高い正面コントラストを示し、かつ優れた反射防止機能を有した液晶表示装置であ ることが確認された。

Claims

請求の範囲
[1] 液晶表示装置に用いられる液晶セルの少なくとも一方の側面に配置され、偏光膜 および該偏光膜に対して液晶セル側に設けられた第 1の偏光板保護フィルムと、該 偏光膜を介して液晶セルと反対側に配置された第 2の偏光板保護フィルムとを有す る偏光板であって、該第 1の偏光板保護フィルム力 セルロースエステルと該セル口 ースエステルに対しヒンダードフエノールイ匕合物を 0. 01質量0 /0以上、 5. 0質量0 /0以 下含有することを特徴とする偏光板。
[2] 前記第 1の偏光板保護フィルムを構成するセルロースエステル力 セルロースァセ テート、セノレロースプロピ才ネート、セノレロースブチレート、セノレロースアセテートプロ ピオネート、セルロースアセテートブチレート、セルロースアセテートフタレート及びセ ルロースフタレートから選ばれる少なくとも 1種であることを特徴とする請求の範囲第 1 項に記載の偏光板。
[3] 前記第 1の偏光板保護フィルムを構成するセルロースエステル力 セルロースァセ テートプロピオネートまたはセルロースアセテートプチレートであることを特徴とする請 求の範囲第 2項に記載の偏光板。
[4] 前記第 1の偏光板保護フィルムを構成するセルロースエステルが、炭素原子数 2乃 至 4のァシル基を置換基として有し、ァセチル基の置換度を Xとし、プロピオ二ル基ま たはプチリル基の置換度を Yとしたとき、下記式 (I)及び式 (II)で規定する条件を同 時に満たすことを特徴とする請求の範囲第 3項に記載の偏光板。
式(I) 2. 0≤X+Y≤3. 0
式(II) 0≤Υ≤1. 5
[5] 前記第 2の偏光板保護フィルムの主成分がセルロースエステルであり、該セルロー スエステル力 セルロースアセテート、セルロースアセテートプロピオネート及びセル ロースアセテートプチレートから選択される少なくとも 1種であることを特徴とする請求 の範囲第 1項乃至第 4項のいずれか 1項に記載の偏光板。
[6] 前記第 2の偏光板保護フィルムの主成分力 シクロォレフイン系ポリマー、ポリカー ボネート系ポリマー、ポリ乳酸系ポリマー及びポリエステル系ポリマー力 選ばれる少 なくとも 1種であることを特徴とする請求の範囲第 1項乃至第 5項のいずれか 1項に記 載の偏光板。
[7] 液晶セル、及び該液晶セルの両側にそれぞれ偏光板を有する液晶表示装置にお いて、該液晶セルの両側に設けられた偏光板のうち、少なくとも一方の偏光板力 偏 光膜および該偏光膜に対して液晶セル側に設けられた第 1の偏光板保護フィルムと 、該偏光膜を介して液晶セルと反対側に配置された第 2の偏光板保護フィルムとを有 し、該第 1の偏光板保護フィルム力 セルロースエステルと該セルロースエステルに対 しヒンダードフエノールイヒ合物を 0. 01質量%以上、 5. 0質量%以下含有する偏光 板であることを特徴とする液晶表示装置。
[8] 前記液晶セルの両側に設けられた両方の偏光板が、偏光膜および該偏光膜に対 して液晶セル側に設けられた第 1の偏光板保護フィルムと、該偏光膜を介して液晶セ ルと反対側に配置された第 2の偏光板保護フィルムとを有し、該第 1の偏光板保護フ イルム力 セルロースエステルと該セルロースエステルに対しヒンダードフエノール化 合物を 0. 01質量%以上、 5. 0質量%以下含有する偏光板であることを特徴とする 請求の範囲第 7項に記載の液晶表示装置。
[9] 液晶表示装置に用いられる液晶セルの少なくとも一方の側面に配置され、偏光膜 および該偏光膜に対して液晶セル側に設けられた第 1の偏光板保護フィルムと、該 偏光膜を介して液晶セルと反対側に配置された第 2の偏光板保護フィルムとを有す る偏光板の製造方法にぉ 、て、
セルロースエステルと該セルロースエステルに対してヒンダードフエノール化合物を
0. 01質量%以上、 5. 0質量%以下含有する混合物を加熱溶融し、溶融流延法によ り該第 1の偏光板保護フィルムを製造する工程、
該偏光膜に対して、該第 1の偏光板保護フィルム及び該第 2の偏光板保護フィルム を貼り付ける工程、
とを有することを特徴とする偏光板の製造方法。
[10] 前記加熱溶融が、 200°C以上、 280°C以下の温度で行われることを特徴とする請 求の範囲第 9項に記載の偏光板の製造方法。
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