TWI333103B - Reflector in liquid crystal display device and method of fabricating the same - Google Patents

Description

1333103 九、發明說明： 【發明所屬之技術領域】 本發明係有關於用於液晶顯示裝置之反射板及其製造 方法’以及包括上述反射板之液晶顯示裝置。 【先前技術】 液晶顯示裝置根據其光源係分類為光透射型液晶顯示

裝置、光反射型液晶顯示裝置、以及半透射型液晶顯示裝 置。 光透射型液晶顯示裝置係設計為具有在裝置後面的光 源，並藉由允許光源發射的光（稱作，，背光”）通過裝置或 不允許光通過裝置以顯示影像。 光反射型液晶顯示裝置係設計為具有外部光在其上反 射的光反射板’並藉由允許反射光通過裝置或不允許反射 光通過裝置以顯示影像。 、’㈣液晶顯示裝置係設計為具有其中裝置動作為 :汾射里液曰曰顯不裝置的一區域、以及其中裝置動作為光 反射型液晶顯示裝置的一區域。 上述三液晶顯示裝置中― ^ 活動裝置如仃動電話以及各 相機，兩者皆視為用於戶外，Α 射型液晶顯示裝置常肖# 個人雷腦沾丄 用作顯不早疋。這是因為用於筆記型 電腦的光透射型液晶顯 強烈的戶外由於h 一炫κ罝伴隨有問題，即陽光 由於在顯不螢幕的表面 以看到顯千於肋_ 座生九反射’使用者難 〗顯不於顯不單元的影像。 2134-77〇7-PF;Ahddub 5 相對地，由於半透射型液晶顯示裝置在室内具有背光 :’而在戶外使用外部光如陽光作為光源，使用者可以在 至内及戶外隨時看到顯示的顯像。因A，半透射型液晶顯 示裝置係最佳用以作為活動褒置及相機的顯示單元。 由於不需要光源，光反射型液晶顯示裝置常用於如活 動遊戲機，因此具有低功率消耗的優點。 如日本專利申清第58_125〇84和4 號公報，用 於半透射型或光反射型液晶顯示裝置的反射板通常設計為 包括具有波狀表面的有機膜。這是因為這樣的反射板高度 類似裝造m型液晶顯示裝置的過程（特別是，其中使用光 =的微影成像過程），可以以低成本製造這樣的反射板，且 廷樣的反射板具有高光反射特性，優於以其它過程製造的 反射板。 當強烈的光線如陽光進入具有波狀表面的液晶顯示裝 置產纟種現象，其中由於光干擾，液晶顯示裝置的表 面發亮同發出彩虹光。在常用於戶外的活動裝置中， 這樣的現象是重大的失敗。因此，提供了很多對此現象的 解決方案。 光干擾係由第1圖所示的波狀圖案周期以及第2圖所 不的波狀圖案的傾斜角度周期所產生的。由於光干擾係依 據光的波長’產生了上述現象。 藉由例如形成任意的波狀圖案，可以降低波狀圖案的 周期。不’如果形成任意波狀圖帛，晝素的光反射率不 會一致’導致顯示影像中的亮度不均。 2134-7707^PF;Ahddub 6 1333103 • 目前，各畫素内通常重複形成共同的波狀圖案，產生 波狀圖案周期。共同的波狀圖案在各畫素内形成，係為了 降低微影成像過程中所使用的光罩的資料量。因此，如果 波狀圖案係任意形成以避免光干擾，資料量會很大，導致 難以製造光罩。 關於波狀圖案傾斜角度的周期，只要以熱回火有機膜 开> 成平坦的波狀圖案，依組成有機膜的物質的溫度，傾斜 角度取決於有機膜的流動性與表面應力。因此，難以明顯 改變傾斜角度的外形。 例如’日本專利申請公報第2002-243923、 2002-1421 1、200卜201743、10-1 23508、及 1 1-337964 號 提出使用非周期性波狀圖案以減少上述波狀圖案周期。 曰本專利申請公報第6-27481號提出差異化波狀圖案 内凸起及凹下部的高度以減少波狀圖案傾斜角度的周期。 曰本專利申請公報第2002-258272號提出一方法，係 •控制波狀圖案傾斜角度的外形以及波狀圖案内凸起及凹下 部之間的距離，用以減少波狀圖案傾斜角度的周期。 • 例如’曰本專利申請公報第2004-61 767號提出—藉由 • 塗佈小光反射微粒至膜上以製造小波狀圖案的方法。日本 專利申請公報第2003-1 14429及2002-357844號提出—藉 由控制光反射膜形成的溫度而在光反射膜表面上形成小波 狀圖案的方法。 / 不過，由於上述降低反射板内光干擾的習知方法包括 在有機膜表面上形成波狀圖案的步驟，無法消除波狀圖案 2134-7707-PF；Ahddub 7 1333103 ’傾斜角度的周期以及避免顯示螢幕因光干擾而變色。 因此’為了降低光干擾，塗佈光擴散黏著劑至半透射 或光反射型液晶顯示裝置内的光反射板上，藉以避免顯示 螢幕因光干擾而變色。不過，由於光擴散黏著劑所引起的 光擴散’光擴散黏著劑降低了光反射率以及反射對比。特 別是’在半透射型液晶顯示裝置中，由於不能塗佈光擴散 • 黏著劑至液晶顯示裝置動作為光反射型液晶顯示裝置的區 I 域上’引起光透射對比降低至大約一半的問題。 藉由塗佈小光反射微粒至一膜上以形成小波狀圖案的 習知方法’係由日本專利申請公報第2〇〇4_61767號所提 出，伴隨有以下問題。 在半透射型液晶顯示裝置中，必須只塗佈光反射微粒 至液晶顯示裝置動作為光反射型液晶顯示裝置的區域上， 於是必須圖案化光反射微粒。不過，不像一般的金屬膜， 很難圖案化光反射微粒。此外，微粒在製造過程中常引起 污染’導致製造產量降低。 藉由控制光反射膜形成的溫度在光反射膜的表面形成 . 小波狀圖案的習知方法，係由日本專利申請公報第 2003-1 14429和2002-357844號所提出，伴隨有以下問題。 這些方法中，藉由控制光反射膜（例如，鋁膜）形成的 溫度，在光反射膜表面以光反射膜的長晶形成小波狀圖 案。加熱用以形成光反射膜的溫度受限於下方有機膜可抵 抗的最大溫度（約250。(：）。因此，不見得可以選擇想要的 溫度來加熱光反射膜。 2134-7707-PF;Ahddub 8 叫103 如果形成光反射膜的溫度較高，具有短波長（〇4微米 或更小）的藍光會被長晶形成的波狀圖案散射，導致光反射 膜變百。因此，上述習知方法不能提供形成小波狀圖案所 必需的條件。 此外，由於上述習知方法中應用共同條件於基板，不 能只在部分的光反射板中形成小波狀圖案。 【發明内容】 鑑於先前技術的上述問題，本發明的目的係提供一反 射板，用於液晶顯示裝置中，可防止波狀圖案的周期所引 起的光干擾，藉此避免反射板變色。 本發明的又一目的係提供製造上述反射板的方法。 本發明的又一目的係提供包括上述反射板的液晶顯示 裝置。 在本發明的一形態中，提供一反射板，用於液晶顯示 裝置包括.一第1基板；一第2基板’與第1基板面對 放置；以及一液晶層，夹在第1和2基板間；其中，一外 部光在形成於第1和第2基板其中之-上的反射板上反 射，以藉其顯示影像’而反射板包括一有機膜，且反射膜 的形成係覆蓋有機膜，其特徵為上述有機膜具有在其表面 上的第1凸起及凹下部、以及形成於第1凸起及凹下部的 表面上的帛2凸起及凹下部，上述第1凸起及凹下部包括 的凸起部及凹下部中至少其—是i形❹第2凸起及凹 P的尺寸小於第1凸起及凹下部，並且反射膜的形成係 2134-77〇7-PF;Ahddub 9 1333103 反映上述第1和第2凸起及凹下形狀。 根據本發明的反射板係應用於光反射或半透射型液晶 顯示裝置。 供包括上述反射板的液晶顯示震置。 根據本發明的液晶顯示裝置可安裝在例如活動通訊終 端及行動電話的電子裝置上。 本發明的另一形態中，提供製造用於液晶顯示裝置的 反射板的-方法，上述液晶顯示裝置包括：一第丄基板； -第2基板，與第！基板面對放置；以及一液晶層，央在 第1和第2基板間；其中，一外部光在形成於第^和第2 基板其中之-上的反射板上反射，以藉其顯示影像；上述 方法包括：在一基板上形成一光敏有機臈；圖案化光敏有 機膜；熱回火光敏有機膜以在其表面上形成第】凸起及凹 下部，而第1凸起及凹下部包括的凸起部及凹下部令至少 其一是弧形剖面；在第丨几 起及凹下部的表面上形成第2 凸起及凹下部，而第？Ώ 及凹下邱. 起及凹下部的尺寸小於第1凸起 …以及在上述光敏有機臈上形成一反射臈。 上述本發明所得到的優點將說明如下。 本㈣巾’帛1凸㈣町Μ錢料表 成’第2凸起及凹下部的尺寸小於第u起及凹下部並： 成於第1凸起及凹下部的* 1成於上述有機犋上的 反射膜反映成形的第1和第2凸起及凹下部。 的 第1和第2凸起及凹下部，在相鄰的凸起。戈凹下)部 刀間的間距以及凸起及凹下Α 下。Ρ的傾斜角度外形方面，彼此 2l34-77〇7-PF;Ahddub 10 1333103 不同。因itf*，—r 可以消除波狀圖案的周期。因此，可以避免 皮狀圖案的周期所引起的光干擾，並防止反射板變色。 命由於可防止反射板因光干擾而變色，光反射板内不再 而要使用光擴散黏著劑。結果，可以降低製造成本，並更 加強光反射率及制_ 4* B -r- _ 午及對比β特別是，可以增加半透射型液晶顯 示裝置内的光透射對比。

例如，第1凸起及凹下部藉由曝露光敏有機媒於光線 中、產生膜、以及將膜加熱而形成。帛2凸起及凹下部可 經由粗糙化第1凸起及凹下部的表面而形成。例如，第2 ύ起及凹下部可藉由施加乾蝕刻(例如，使用惰性氣體的反 應離子㈣（RIE))形成第丨凸起及凹下部的有機膜的表面 而形成。#由塗佈反射膜至已形成第^ 2凸起及凹下部 的有機膜表面上，反射媒會反映成形的有機膜表面。 【實施方式】 [第一實施例] 第3圖係包括根據本發明第—實施例的反射板的液晶 顯示裝置100的剖面圖。第4至10圖各顯示包括根據本發 明第-實施例的反射板的主動距陣基板的製造方法的一步 驟。第11圖係第9圖中所指示的剖面A的放大剖面圖，而 第12圖係第1〇圖中所指示的剖面久的放大剖面圖。 根據第-實施例的液晶顯示裳i 1〇〇係一半透射型液 晶顯示裝置’包括：-光透射區3〇,其中液晶顯示裝置⑽ 動作為光透射型液晶顯示裝置；以及一光反射區4〇,其中 2134-7707-PF;Ahddub 11 1333103 液晶顯示裝置100動作為半反射型液晶顯示裝置。 液晶顯示裝置100係由主動距陣基板11〇、置於面對 主動距陣基板110的相對練120、以及夾在主動距陣基 板110與相對基板120間的液晶層13〇所組成。 主動距陣基板110的組成係玻璃構成的第1透明基板 • n、在液晶層130對側形成於第1透明基板11上的減速板 31、形成於減速板31上的偏光板32、在液晶層130的同 籲側形成於第！透明基U上的閉極電極12、形成於第i 透月基板11上用以覆蓋閘極電極丨2的閘極絕緣膜丨3、在 閘極電極12上方形成於閘極絕緣膜13上的半導體膜丨4、 圍繞半導體膜14形成於閘極絕緣膜13上的源極/汲極電極 15、形成於閘極絕緣膜13上用以覆蓋半導體膜14與源極/ 及極電極15的保s蔓膜16、形成於保護膜Η上且由ιτο(氣 化銦錫）構成的光透射電極17、形成於保護膜16上部分覆 蓋光透射極17的有機膜18、以及覆蓋有機膜18的光反射 • 膜 19。 背光源33係置於偏光板32的下方。 . 如之後所詳述，根據第一實施例的反射板係由有機膜 : 丨8與覆蓋有機膜18的光反射膜19所構成。 相對基板12 0的組成係玻璃構成的第2透明基板41、 ’ 形成於第2透明基板41上的減速板42、以及形成於減速 板42上的偏光板43。 在光透射區30中’背光源33射出的光50通過液晶顯 示裝置100。於是，通過光50的光透射電極I?在光透射 12 2134-77〇7-PF;Ahddub 1333103 區30内形成。

在光反射區40中，反射外部光51。於是，有機膜18 與光反射膜19組成的反射板在光反射區40内形成Q 在主動距陣基板110的第1透明基板11上，形成彼此 平行延伸的複數的掃描線（未圖示）、彼此平行延伸且垂直 於掃描線的複數的信號線（未圖示）、位於掃描線與信號線 交點的薄膜電晶體（TFT)、以及晝素電極。 各薄膜電晶體由閘極電極12、閘極絕緣膜1 3、半導體 膜14、以及源極/汲極電極15所組成。 畫素電極由彼此電氣連接的光反射膜19以及光透射 電極17所組成，並且電氣連接至薄膜電晶體。 光透射電極17和光反射膜19藉由覆蓋TFT的有機膜 18而彼此分開。 如第9圖所示’第1凸起及凹下部1在有機膜18的表 面上形成。第1凸起及凹下部1係緩和的波狀。如第丨丨圖 所示，第2凸起及凹下部2在第丨凸起及凹下冑i的表面 上形成。第2凸起及凹下部2比第i凸起及凹下部i的尺 寸小且波狀較陡。 形成光反射膜19以覆蓋有機膜18。如第1〇和12圖 所示，光反射膜19具有反射有機膜18表面的形狀。即， 反射膜19的表面上也形成凸起及凹下部相似於在有機膜 18的表面上形成的凸起及凹下部1和2。 以下參考第4至10圖，說明製造主動距陣基板ιι〇的 方法。 2134-7707-PF;Ahddub 13 丄川i〇3 於第2 ’：第4圖所示，閘極電極12和掃描線(未出現 於第4圖’因為它們從閘極電極12延伸而垂直於第 平面）在第1透明基板"上形成。 其··人’如第5圖所示’閘極絕緣膜丨3形成於第工透明 基板11上，用以覆蓋閘極電極12及掃描線。例如，閑極 絕緣膜13由氮化矽膜構成。 其-人，定義一歐姆接觸層的非晶矽膜和摻雜磷的非晶 籲石夕膜形成於閉極絕緣膜13上。其次，上述膜以微影成像矛: 蝕刻形成島狀圖案。因此，如第5圖所示，半導體膜"形 成於閘極絕緣13上。 其次’源極/汲極電極15和信號線（未顯示）形成於閘 極絕緣13上。 之後’移除留在源極和汲極電極15間的一部分摻雜磷 的非晶矽膜。其次，如第6圖所示，氮化矽膜所構成的保 濩膜16完全地形成在此成品上。 • 其次’源極電極15以及光透射電極17通過穿孔1 6 A 彼此電氣連接，而穿孔16A穿過氮化矽膜而形成。其次， • 如第6圖所示’形成氣化銦錫（ITO)膜所構成的光透射電極 17覆蓋穿孔16A的内表面。 其次，如第7圖所示，光敏丙烯酸樹脂18A完全塗佈 • 於保護膜16和光透射電極17上。 其次，如第8圖所示，光敏丙烯酸樹脂18A曝露於穿 過光罩34的光線中。因此，光反射區40和光透射區30曝 露於最佳數量的光線中，然後成形。其次，熱回火光敏丙 2134-7707-PF;Ahddub 14 1333103 烯酸樹脂18A。 結果’如第9圖所示，光敏丙稀酸樹脂18A被圖案化 為有機膜18,位於光反射區40内的有機膜18在其表面上 具有緩和波狀的第1波狀圖案1或是具有第1凸起或凹下 部1 〇 如第9圖所示’形成於光透射區30内的光敏丙烯酸樹 脂18 A全曝露於光線中，結果完全被移除。 其次’使用惰性氣體如氬或氦氣體的乾蝕刻施加於有 機膜18的表面，藉此在第i波狀圖案j的表面上形成第2 凸起及凹下部2或第2波狀圖案2(見第11圖關於凸起 及凹下部，第2波狀圖案2比第1波狀圖帛i的尺寸小或 更陡。 / 例如，第2波狀圖案2可藉由其中主要執行惰性氣體 的離子轟擊的乾蝕刻而形成。 習知反應離子蝕刻(RIE)裝置可用於執行此乾蝕刻。例 如’弓丨進惰性氣體至裝置空間内，可以以相當小的壓力例 如l〇Pa或更小來執行乾蝕刻。 ，第2波狀圖案2只能藉由提供高離子轟擊的物理蝕刻 而形成。不能藉由提供小離子轟擊的電漿蝕刻形 狀圖案2。 珉第2波 惰性乳體適合作為執行姓刻時使用的大氣氣體。如果 不會化學㈣有機膜18，可以使用其它的氣 不細刻’因為會還原下面的IT。膜17。…體 氧氣或包含氧的氣體化學㈣有機膜18。不過，如果 2134«7707-PF;Ahddub 15 1333103 氣丨或匕3氧的氣體稍微加入惰性氣體， 和提高產量。 ^增加蝕刻率 可以藉由選擇理想的氣體、氣體的 的壓力、、 σ比、執行蝕刻 以及執行蝕刻所施加的功率來控制 2的形狀。 ，皮狀圖案 如果當蝕刻有機膜18時下面的ΙΤ〇 胰1 7或保護膜1 6 又損除了將形成第2波狀圖案2的區域之冰

Ra薄甚 场•之外的區域以光 ，其次，執行乾蝕刻。之後，移除光阻。 ^波狀圖案2内相鄰&起（或凹下）部之間的間距最 好〜第1波狀圖案i内的相鄰凸起（或凹下）部之間的間 距。 如果第2波狀圖案2内相鄰凸起(或凹下)部分間的間 距大於〇.4微米，具有幾乎等於間距的波長的藍光散射於 第2波狀圖案2’導致有機膜8看起來是變黃。因此，第2 波狀圖案2内的間距最好等於或小於〇 4微米。因此，第 2波狀圖案2内的相鄰凸起(或凹下)部分間的間距設計為 等於或小於〇. 4微米。 第2波狀圖帛2内的相冑凸起（或凹下）部之間的間距 以及凸起或凹下部的深纟為不規則或不均勾。#此的不規 則或不均勻的間距或深度係防止光干擾。 由於第1波狀圖案1内的凸起及凹下部的形成係對光 敏有機樹脂18A執行微影成像，第1波狀圖案1的尺寸的 下限係依曝光的準確度而定。 在製造液晶顯示裝置的過程中，用於大尺寸玻璃的曝 2134-7707-PF;Ahddub 16 1333103 光裝置具有約3微米的最小加工尺寸。例如，當圓形凸起 部具有3微米的直徑，第1波狀圖案1内的相鄰凸起(或凹 下）部之間的最小間距為6微米或更大。間距的上限係依其 中放置凸起及凹下部的畫素尺寸而定。畫素的尺寸係依螢 幕的尺寸及/或解析度而定。在一般用於行動電話的對角線 2.2型（5.6公分川％八（24〇><32〇畫素）中，畫素的尺寸約5〇 • 平方微米，且光反射區40具有約等於1/2或1/3畫素尺寸 φ 的區域。由於必須放置反射板在反射區40内，且反射區 40必須包括凸起及凹下部的丨個或更多的間距，間距的上 限約3 0微米。 其次，如第10圖所示，鉬膜和鋁膜形成於有機膜18 和ITO膜17上。鉬膜和鋁膜會形成光反射膜19。鉬膜係 作為壓制鋁膜和ITO膜17間單元反應的阻障膜。光反射膜 19可由鋁膜及除了鋁膜的金屬膜組成。 如果光反射膜19的形成是厚的，第2波狀圖案2可以 φ 埋入光反射膜M。因此，光反射膜19最好具有等於或小 於0. 4微米的厚度。 • 其次’翻和紹膜以微影成像及姓刻為光反射膜19而形 成圖案。 如第10圖所示，動作為光反射電極的光反射膜19及 光透射電極17經由光反射膜19的一部分的電極連接器20 而互相電氣電氣連接。 第一實施例中的光反射膜19係設計為具有多層結 構，由铭膜及除了銘膜的金屬膜組成。或者，光反射膜19 2134-7707-PF;Ahddub 17 1333103 可、十為具有多層結構，由鋁合金膜及除了鋁合金膜的 金屬膜組成。又，光反射膜19可以只由鋁膜或鋁合金膜構 成。 如第10及12圖所示’光反射膜19的表面反映在下方 且緩和波狀的帛1波狀圖案1以及比第1波狀圖案1陡的 第2波狀圖案2的形狀。 、迷板31和偏光板32’在如接著製造第1〇圖所示的 成的步驟所執行的步驟或製造第4圖所示的成品的步驟 之引所執行的步驟的任一步驟中，附著於第1透明基板1卜 其次，對準膜塗佈於主動距陣基板110和相對基板12〇 上。 其次，間隙壁係夾在基板i丨〇和j 2〇之間以定義其間 的間隙。其次，弓丨進液晶進入間隙，接著密封住間隙。因 此元成了液晶顯示裝置。 必須定義光反射區40中的間隙和光透射區3〇中的間 隙之間的差異，使在光透射區30中的遲延等於1/4波長， 且在光反射區40中的遲延等於1/2波長。可以藉由控制光 透射區30中的光敏丙烯酸樹脂18A相對於1：1〇膜u的平 均高度來確定差異。 根據上述第一實施例，作為緩和波狀圖案的第1波狀 圖案1在有機膜18的表面上形成，而凸起及凹下部比第1 波狀圖案1陡的第2波狀圖案2形成於η波狀圖案… 表面上。形成於有機帛18丨的光反射帛19 &映成形的第 1和第2波狀圖案1及2。 2l34-77〇7，PF;Ahddub 18 起（或凹下）部之間的間距以及凸起及凹 部的傾斜角的外开；t A 略Λ _ 卜形方面，第1及第2波狀圖案1及2彼此 不同因此’可以消除波狀圖案的周期。因此，可以避免 波狀圖案的周期所引起的干擾，並防止反射板變色。 由於防止反射板因光干擾而變色，光反射板内不再需 要使用光擴散黏著劑。結果，可以降低製造成本，還增加 了反射率和對比。特別《，可增加半透射型液晶顯示農置 内的光透射對比。 例如，第1波狀圖案1可藉由曝露光敏有機膜於光線 中產生膜、並將膜加熱而形成。第2波狀圖案2可藉由 粗糙化第1波狀圖案i的表面而形成。例如，帛2波^圖 案2可以藉由施加乾蝕刻（例如，使用惰性氣體的反應離子 ㈣（RIE))至形成第i波狀圖的有機们8的表面。藉 由塗佈光反射膜19至已形成第i和第2波狀圖案卜^ 有機膜18的表面’光反射膜19會反映成形的有機膜以的 表面。 第2波狀圖案2的凸起及凹下部的尺寸，如間距和深 度，可以由選擇蝕刻氣體及/和控制壓力或蝕刻動力來控 制。 又，藉由微影成像，可以只在應形成第2波狀圖案2 的區域執行蝕刻。因此，可以只在部分的有機膜18上形成 第2波狀圖案2。 [第二實施例] 第13圖係包括根據本發明第二實施例的反射板的液 2134-7707-PF;Ahddub 19 1333103 在間極絕緣膜13上形成保護膜16之前執行的步驟與 第-施實例的步驟相同，顯示第4至6圖。 、 第實《•例中，氮化石夕膜所構成的保護膜工6在間極絕 緣膜13上形成之後，塗佈光敏㈣樹脂18A至保護膜16 上，而未形成穿過保護膜16的穿子L 16A，如帛Η圖所禾。 其次，相似於第—實施例，曝露光敏酚醛樹脂18A於 光線中’因而在有機膜的表面上形成帛1波狀圖案卜如

第15圖所示。在第二實施例中’不同於第一實施例，同時 形成穿過光敏酚醛樹脂18A的穿孔21。 其次，在有機膜18的表面執行乾蝕刻以在有機膜Η 的表面上形成第2波狀圖案2。 其次，穿孔21延伸通過保護膜丨6而到達源極/汲極電 極1 5 〇 其次，如第16圖所示，形成光反射膜19以覆蓋有機 膜18的表面以及穿孔21的内牆。光反射膜19由例如銀構 φ 成。光反射膜19和源極電極15經由穿孔21互相電氣連接。 其次’相似於第一實施例’主動距陣基板2丨〇和相對 基板120互相依附。因此，完成了根據第二實施例的液晶 示裝置200。 • 在第一及第二實施例中，光敏有機膜18A由丙稀酸或 ••酚醛樹脂所構成。光敏有機膜18A可由其它的光敏樹脂所 構成。 在第一實施例中，光反射膜19由鋁膜構成。或者是， 光反射膜19可由包括如鋁和鈥或鋁和矽的鋁合金所構成 2134-77〇7-PF;Ahddub 21 的膜所構成。在第二實施例中，光反射膜19自銀膜所組 成。或者是，光反射膜19可由銀合金膜所構成。 可以使用例如鈦膜或鉻膜代替鉬膜作為阻障金屬膜。 根據第—實鉍例的液晶顯示裝置2 〇 〇提供與根據第— 實把例的液晶顯示裝置1 〇〇相同的優點。 又，由於光反射膜19和源極電極15經由穿孔21直接 互相電氣連接’不再需要形成第—實施例中的主動距陣基 板110的一部分的透明電極17。 在上述第一及二實施例中，第】波狀圖案丄係設計為 緩和波狀。第1波狀圖t U不受限於第一和第二實施例 令所示的圖案。例>，如果凸起部及凹下部的至少其一有 狐形或波狀剖面’包括如凸起及/或凹下部的波狀剖面提供 第-和第二實施例所示的第i波狀圖案"目同的功能。 [第三實施例] 根據第-或第二實施例的液晶顯示裝置i00或可 應用於各種電子亓杜。仓丨 牛例如’第三實施例中液晶顯示裝置 100應用於行動電話，說明如下。 第17圖係包括液晶顯示裝置⑽的行動電話奶的方 塊圖。 行動電話2 7 5的紐忐仫，_ 的.，且成係.顯示單元276 ;控制器277， 控制行動電話275的椹λ φ μ , 的構成零件的操作；記憶體278，儲存 由控制器2 7 7所執行的兹★ 订的程式、以及各種資料；信號接收器 279’經由信號接收写27q垃！ 益接收電波信號；信號傳送器281， 從行動電話2 7 5經由>{士妹·屈、、， 、由^遗傳运器281傳送電波信號；輸入 2134-7707-PF;Ahddub 22 1333103 界面282，由鍵盤或指標構成；以及電源283，提供電源給 行動電話275的構成零件。 顯示單元276由液晶面板265、背光源266、以及處理 影像信號的信號處理器267所構成。 液晶面板265由根據第一實施例的液晶顯示裝置ι〇〇 所構成。利用液晶顯示裝置1 〇〇，可以避免反射板變色， 增加液晶面板265的可見度。 包括液晶顯示裝置100的液晶面板265可應用於手提 個人電腦、筆記型個人電腦、或桌上型個人電腦的螢幕。 此外’包括液晶顯示裝置丨〇〇的液晶面板265可應用於在 各種電子裝置如活動通訊裝置以及行動電話中的顯示單 元。 【圖式簡單說明】 [第1圖]係顯示引起光干擾的波狀圖案的周期； [第2圖]係顯示引起光干擾的波狀圖案的傾斜角的周 期； [第3圖]係包括根據本發明的第一實施例的反射板的 一液晶顯示裝置的剖面圖； [第4圖]係顯示根據本發明的第一實施例的製造反射 板方法的^步驟· [第5圖]係顯示根據本發明的第一實施例的製造反射 板方法的一步顿.

[第6圖]係顯示根據本發明的第一實施例的製造反射 2134-7707-pF;Ahddub 23 板方法的一步騍； [第7 圖]係顯 is方、、i* aa ''、示根據本發明的笛 扳方法的一步驟； 的第一實施例的製造反射 [第8圓]传 糸顯示根據本發 明的第一實施例的製造反射 板方法的一步驟； [第9圖]係— 糸顯示根據本發明的楚 板方法的一步驟； 贫月的第一實 [第1 〇圖1位月R 射板方、土 係顯示根據本發明的笛魯> 射板方法的—步驟. 的第一實施例的製造反 [第11圖1传贫Λ 、第θ圖中所如一 μ [第12圖]係笸 曰不的剖面Α的放大剖面圖； '、乐1Q圖中所扣一 [第13圖1伤— 曰不的剖面A的放大剖面圖； 」係包括根據本發明的坌_杏> 的一液晶顯示裝署 的第一實施例的反射板 ι的剖面圖； [第14圖1你 顯不根據本發 射板方法的—步驟. 發月的第二實施例的製造反 [第15圖]传鹿_ Λ 顯不根據本發明的第_营谕彻 射板方法的一步驟； J弟一實細例 施例的製造反射 的製造反 [第16圖]係 射板方法的一步驟；以及 [第17圖]係包括根據本發 顯示根據本發明的第二實施例的製造反 電話的方塊圖 明的液晶顯示裝置的行動 主要元件符號說明】 11〜第1透明基板； 12〜閘極電極 2134-77〇7-PF;Ahddub 24 13〜 閘極絕緣膜； 14〜 半導體膜； 15〜 源極/汲極電極； 16〜 保護膜； 16A〜穿孔； 17〜 光透射電極； 18〜 有機膜； 18A〜光敏丙烯酸樹脂 19〜 光反射膜； 20〜 電極連接器； 21〜 穿孔； 30〜 光透射區； 31〜 減速板； 32〜 偏光板， 33〜 背光源； 40〜 光反射區， 41〜 第2透明基板； 42〜 減速板； 43〜 偏光板； 50〜 光； 51〜 外部光； 100, -液晶顯示裝置； 110- -主動距陣基板； 120- …相對基板； 130- 〜液晶層； 130, ^液晶層； 200〜液晶顯示裝置； 210, -主動距陣基板； A〜剖面； 1333103 1〜第1波狀圖案（第1凸起及凹下部）； 2〜第2波狀圖案（第2凸起及凹下部）。 2134-7707-PF;Ahddub 25

Claims (1)

133.3103 修正日期：99.0.23 第095102792號中文申請專利範圍修正本 十、申請專利範圍： ？f^月少修正替换I. 1.一種反射板，用於-液晶顯示裝置中，上述液晶顯 示裝置包括：一第i基板；一第2基板，位於面對上述第 1基板；以及-液晶層，夾在上述第！和第2基板之間； 其中，外部光線在形成於上述第〗和第2基板其中之一上 的上述反射板上反射以顯示影像，上述反射板包括·· 一有機膜；以及 一反射膜，形成以覆蓋上述有機膜； 其特徵在於： 上述有機膜在表面上具有第丨凸起及凹下部，以及形 成於上述第1凸起及凹下部的表面上的第2凸起及凹下部； 上述第1凸起及凹下部包括的&起部和凹下部至少其 中之一係弧形剖面； 上述第2凸起及凹下部的尺寸小於上述第i凸起及凹 下部；以及 上述反射膜的形成反映上述第1和第2凸起及凹下部， 其中上述第2凸起及凹下部之形狀及大小為不規則。 2·如申請專利範圍第1項所述的反射板，《中上述第 1和第2凸起及凹下部係波狀。 3·如申請專利範圍第1項所述的反射板，#中上述有 機膜和上述反射膜係位於重疊上述液晶顯示裝置的一薄膜 4.如申請專利範圍第 凸起及凹下部中的相鄰 1項所述的反射板，其中上述第 凸起及凹下部之間的間距等於或 2134'7707-PFl 26 133.3103 竹年乙月^日修正替換頁 小於0. 4微米 5.如申請專利範圍第1項所述的反射板，其中上述第 1和第2凸起及凹下部只有在上述有機膜的一部分的表面 上形成。 6.如申請專利範圍第1項所述的反射板，其中上述反 射膜由鋁或鋁合金構成。 7·如申請專利範圍第1項所述的反射板，其中上述反 射膜具有鋁或鋁合金層的一多層結構，並且至少一層由除 了鋁之外的金屬構成。 8.如申請專利範圍第1項所述的反射板，其中上述反 射膜具有等於或小於〇·4微米的厚度。 9·如申請專利範圍第1項所述的反射板，其中上述有 機膜係由一光敏有機膜構成。 10.—種液晶顯示裝置，包括： 一第1基板； 一第2基板，位於面對上述第丨基板；以及 一液晶層，夾在上述第1和第2基板間； 一其中，-外部光在形成於上述第i和第2基板其中之 一上的一反射板上反射以顯示影像；以及 一上述反射板係包括申請專利範圍第1 i 9項中任一頂 所定義的反射板。 、 項 11· 一種電子裝置，包括—汸曰 -u + &晶顯示裝置作為一靖干星 兀，上述液晶顯示裝置為申請直糾Μ 斓不早 勹〒-月專利範圍第1〇項 晶顯示裝置。 巧所疋義的液 2134-7707-PF1 27 ff年‘月少修正 12. —種製造液晶顯示穸罟 丁裒置之反射板的製造方法，上述 液晶顯示裝置包括：一第！基板 土双，弟/基扳，位於面對 上述第1基板；以及一液荖鹿 , 成日日層，夹在上述第1和第2基板 之間，其中’外部光線在形 取於上述第1和第2基板其中 之一上的上述反射板上反射 '、 久耵以顯不影像，上述方法包括 列步驟： 尸 在一基板上形成一光敏有機膜； 以在其表面上形成第 下部包括的凸起部和 1凸起及 凹下部至 圖案化上述光敏有機膜 熱回火上述光敏有機膜 凹下部’上述第1凸起及凹 少其中之一係弧形剖面； 凸起及凹下 1凸起及凹 為不規則。 其中上述第 其'中上述乾 其中上述乾 其中上述乾 體的混合氣 在上述第1凸起及凹下部的表面形成第2 部’上述第2凸起及凹下部的尺寸小於上述第 下部；以及 在上述光敏有機膜上形成一反射膜， 其中上述第2凸起及凹下部之形狀及大小 13. 如申請專利範圍第12項所述的方法， 2凸起及凹下部係以乾蝕刻形成。 14. 如申請專利範圍第13項所述的方法， 姓刻由離子轟擊構成。 15·如申請專利範圍第以項所述的方法， 姓刻中使用惰性氣體。 16_如申請專利範圍第13項所述的方法， 蝕刻中使用包括惰性氣體及包含氧原子的氡 2134-7707-PF1 28 1333103

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