CN1821846A - 液晶显示器中的反射器及其制造方法 - Google Patents

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Abstract

一种在液晶显示器中使用的用于反射外界光线来显示图像的反射器，包括：有机膜(18)；以及覆盖所述有机膜形成的反射膜(19)；所述有机膜(18)在其表面上具有第一凸起和凹陷部分(1)、以及在所述第一凸起和凹陷部分(1)的表面上形成的第二凸起和凹陷部分(2)。所述第一凸起和凹陷部分(1)包括至少其中之一是弧形横截面的各凸起部分和凹陷部分，并且所述第二凸起和凹陷部分(2)在尺寸上比第一凸起和凹陷部分(1)小。

Description

液晶显示器中的反射器及其制造方法
技术领域
本发明涉及一种用于液晶显示器的反射器及其制造方法，以及包含这种反射器的液晶显示器。
背景技术
根据其光源，将液晶显示器分成透射式液晶显示器、反射式液晶显示器和半透射式液晶显示器。
透射式液晶显示器设计为具有位于设备背后的光源，并且通过允许或不允许从所述光源发出的光(称“背光”)穿过液晶显示器来显示图象。
反射式液晶显示器设计为具有反射外界光线的反射器，并且通过允许或不允许所述反射光穿过液晶显示器来显示图象。
半透射式液晶显示器设计为具有这样的区域，其中，在一个区域中该设备作为透射式液晶显示器，而在另一个区域中该设备作为反射式液晶显示器。
上述三种液晶显示器中，半透射式液晶显示器经常用在诸如移动式电话的移动设备和诸如数码相机的各种电子设备中作为显示单元，二者都期望在户外使用。这是由于用在笔记本式的个人电脑中的透射式液晶显示器伴随有这样的问题：由于在阳光强烈的户外，在显示屏的表面上出现了反射，因此用户很难看到显示单元所显示的图像。
相反，由于在室内时，半透射式液晶显示器具有背光光源，而在室外时利用诸如阳光的外界光作为光源，因而在室内和室外，用户都能够容易地看到所显示的图像。由此，半透射式液晶显示器是移动设备和相机的最佳显示单元。
由于不需要具有光源，并且因此具有低功耗的优点，因而反射式液晶显示器经常用在例如便携式游戏机中。
正如公开号为58-125084和4-243226的日本专利申请中所建议的一种用在半透射式或者反射式液晶显示器中的反射器，其通常设计为包含了波状表面的有机膜。这是由于这样的反射器与制造TFT型的液晶显示器的工艺(特别是在其中使用了光阻材料的光刻工艺)密切相关，能够以低成本制造这样的反射器，并且这样的反射器具有超过根据其他工艺制造的反射器更高的反射特性。
当诸如阳光的强光进入到包括了具有波状表面的反射器的液晶显示器时，会出现这样的现象：由于光的干涉，液晶显示器表面是发光的，好像它发出了多彩的光。在经常用于户外的便携设备中，这样的现象是一种致命的缺陷。因此，对于这样的现象已经提出了许多的解决方案。
如图1所示，光干涉是由波状图案的周期性以及图2所示的波状图案的倾斜角的周期性所引起的。由于光干涉取决于光的波长，因此会出现上述现象。
例如通过随机地形成所述波状图案，能够减小波状图案的周期性。然而，如果随机地形成波状图案，则像素中的光反射率将会不均匀，结果会导致所显示的图像中的亮度不均匀。
目前，通常在每个像素中反复地形成共同的波状图案，从而导致了波状图案的周期性。在每个像素中形成共同的波状图案目的是为了减小在光刻工艺中使用光掩模的数据量。因此，如果为了避免光干涉而随机地形成波状图案，那么数据量将会非常大，由此会在光掩模的制造中造成很大困难。
至于波状图案倾斜角的周期性，只要通过对有机膜进行热退火形成平滑的波状图案，那么倾斜角就取决于在某一温度下的有机膜的流动性和表面张力，该温度取决于构成该有机膜的材料特性。因此，很难显著地改变倾斜角的分布。
例如，公开号为2002-243923、2002-14211、2001-201743、10-123508和11-337964的日本专利申请都提出了为减小上述波状图案的周期性而使用的非周期性的波状图案。
公开号为6-27481的日本专利申请提出了在波状图案中使凸起和凹陷部分的高度不同，以减小波状图案倾斜角的周期性。
公开号为2002-258272的日本专利申请提出了一种控制方法，该方法对波状图案倾斜角的分布和波状图案中凸起部分和凹陷部分之间的距离进行控制，以便减小波状图案倾斜角的周期性。
例如，公开号为2004-61767的日本专利申请提出了一种制造小型波状图案的方法，该方法通过在膜上涂覆小的反射颗粒来制造小型波状图案。公开号为2003-114429和2002-357844的日本专利申请提出了一种通过对形成反射膜的温度进行控制而在反射膜表面形成小型波状图案的方法。
然而，由于为了在反射器中减小光干涉的上述常规方法中包括了在有机膜的表面形成波状图案的步骤，因此不能消除波状图案倾斜角的周期性，以及不能避免由于光干涉引起的显示屏呈现多彩。
由此，为了减小光干涉，将光漫射粘合剂涂覆在半透射或反射式液晶显示器的偏光器上，由此用于避免由于光干涉而使显示屏呈现多彩。然而，由于光漫射粘合剂引起的光漫射，使得光漫射粘合剂导致了反射率以及反射对比度的下降。具体来说，在半透射式液晶显示器中，由于不可能仅在液晶显示器的作为反射式液晶显示器的区域上涂覆光漫射粘合剂，因此会导致透射对比度降低大约一半这样的问题。
在公开号为2004-61767的日本专利申请中，提出的通过在薄膜上涂覆小型的反射颗粒来形成小型波状图案的常用方法伴随有以下问题。
在半透射式液晶显示器中，需要将反射颗粒仅仅涂覆在液晶显示器中作为反射式液晶显示器的区域上，由此必须对反射颗粒进行构图。然而，与普通金属膜不同，对反射颗粒进行构图非常困难。此外，颗粒在制造工艺中经常会引发杂质，结果导致了制造成品率的下降。
公开号为2003-114429和2002-357844的日本专利申请提出了通过控制形成反射膜的温度而在反射膜表面形成小型波状图案的常规方法，该方法伴随有以下问题。
在这些方法中，通过控制形成反射膜(例如，铝膜)的温度，借助反射膜的晶粒生长而在反射膜表面形成小型的波状图案。为了形成反射膜而对其进行加热的温度由下层有机膜能够承受的最高温度(大约250摄氏度))所限制。因此，对于加热反射膜来说，并不是总能够选择到期望的温度。
如果形成反射膜的温度过高，则具有短波长(0.4微米或更小)的蓝光将由晶粒生长所形成的波状图案散射，结果导致反射膜将呈黄色。因此，上述常规方法不能提供形成小型的波状图案所必需的条件。
此外，由于在上述常规方法中，共同的条件都将施加在基底上，因此不可能仅仅在反射器的一部分中形成小型的波状图案。
发明内容
考虑到现有技术中的上述问题，本发明的目的是提供在液晶显示器中使用的反射器，其能够防止由波状图案的周期性引起的光干涉，从而避免反射器呈现多彩。
本发明的另一个目的是提供一种制造上述反射器的方法。
本发明的还一个目的是提供一种包含了上述反射器的液晶显示器。
根据本发明的一个方面，提供了一种用在液晶显示器中的反射器，所述液晶显示器包括：第一基底；与第一基底成面对关系配置的第二基底；夹在第一和第二基底之间的液晶层，其中在形成于第一和第二基底之一上的反射器上对外界光线进行反射，由此显示图像。所述反射器包括：有机膜，以及覆盖所述有机膜而形成的反射膜，其特征在于：所述有机膜在其表面具有第一凸起和凹陷部分，以及在所述第一凸起和凹陷部分的表面上形成的第二凸起和凹陷部分。第一凸起和凹陷部分包括至少其中之一是弧形横截面的各凸起部分和各凹陷部分；所述第二凸起和凹陷部分在尺寸上比第一凸起和凹陷部分小。而反射膜具有映现出所述第一和第二凸起和凹陷部分的形状。
根据本发明的反射器适用于反射式或者半透射式液晶显示器。
进一步提供了一种包含上述反射器的液晶显示器。
根据本发明的液晶显示器可以安装在诸如移动式通信终端和移动电话的电子设备上。
根据本发明的另一个方面，提供一种用于液晶显示器的反射器的制造方法，所述液晶显示器包括：第一基底；与第一基底成面对关系配置的第二基底；夹在第一和第二基底之间的液晶层，其中在形成于第一和第二基底之一上的反射器处对外界光线进行反射以显示图像，所述方法包括：在基底上形成感光性有机膜；对所述感光性有机膜进行构图；对所述感光性有机膜进行热退火处理以在其表面形成第一凸起和凹陷部分，第一凸起和凹陷部分包括至少其中之一是弧形横截面的各凸起部分和各凹陷部分；在第一凸起和凹陷部分的表面形成第二凸起和凹陷部分，所述第二凸起和凹陷部分在尺寸上比第一凸起和凹陷部分小，以及在感光性有机膜上形成反射膜。
可以通过本发明随后的描述获得上述优点。
在本发明中，在有机膜的表面形成第一凸起和凹陷部分，而在第一凸起和凹陷部分的表面上形成第二凸起和凹陷部分，且第二凸起和凹陷部分的尺寸比第一凸起和凹陷部分小。形成在所述有机膜上的反射膜在形状上映现出第一和第二凸起和凹陷部分。
就相邻的各凸起(或者凹陷)部分之间的间距和所述各凸起和凹陷部分倾斜角的分布而言，第一和第二凸起和凹陷部分是彼此不同的。由此，能够消除波状图案的周期性。因此，可以避免由波状图案周期性所引起的光干涉，以及防止反射器呈现多彩。
由于防止了由光干涉引起的反射器呈现多彩，因此不再需要在反射器中使用光漫射粘合剂。结果，可以减少生产成本，以及进一步地，提高了反射率和对比度。特别是，可以提高半透射式液晶显示器中的透射对比度。
例如，可以通过如下方案形成第一凸起和凹陷部分：通过对感光性有机膜进行曝光，对所述膜进行显影，并且用热处理方法加热所述膜。通过使第一凸起和凹陷部分的表面变得粗糙可以形成第二凸起和凹陷部分。例如，可以通过对形成有第一凸起和凹陷部分的有机膜的表面施加干蚀刻法(例如，利用惰性气体的反应离子蚀刻[RIE]法)而形成第二凸起和凹陷部分。通过将反射膜涂覆在已经形成了第一和第二凸起和凹陷部分的有机膜的表面上，使得反射膜将能映现出有机膜表面的形状。
附图说明
图1示出了引起光干涉的波状图案的周期性。
图2示出了引起光干涉的波状图案倾斜角的周期性。
图3示出了包含根据本发明第一实施例的反射器的液晶显示器的剖视图。
图4示出了根据本发明第一实施例的反射器的制造方法的步骤。
图5示出了根据本发明第一实施例的反射器的制造方法的步骤。
图6示出了根据本发明第一实施例的反射器的制造方法的步骤。
图7示出了根据本发明第一实施例的反射器的制造方法的步骤。
图8示出了根据本发明第一实施例的反射器的制造方法的步骤。
图9示出了根据本发明第一实施例的反射器的制造方法的步骤。
图10示出了根据本发明第一实施例的反射器的制造方法的步骤。
图11示出了图9所示的剖面A的放大剖视图。
图12示出了图10所示的剖面A的放大剖视图。
图13示出了包含根据本发明第二实施例的反射器的液晶显示器的剖视图。
图14示出了根据本发明第二实施例的反射器的制造方法的步骤。
图15示出了根据本发明第二实施例的反射器的制造方法的步骤。
图16示出了根据本发明第二实施例的反射器的制造方法的步骤。
图17示出了包含了根据本发明的液晶显示器的移动电话的框图。
具体实施方式
[第一实施例]
图3示出了包含根据本发明第一实施例的反射器的液晶显示器100的剖视图。图4-10的每一个都示出了包含根据本发明第一实施例的反射器的制造有源矩阵基底方法的步骤。图11示出了图9所示的剖面A的放大的剖视图，图12示出了图10所示的剖面A的放大的剖视图。
根据第一实施例的液晶显示器100是一种包括透光区30和反光区40的半透射式液晶显示器，其中在透光区30中液晶显示器100作为透射式液晶显示器，而在反光区40中液晶显示器100作为反射式液晶显示器。
液晶显示器100由下述部分组成：有源矩阵基底110、与所述有源矩阵基底110成面对关系配置的对置基底120，以及夹在有源矩阵基底110和对置基底120之间的液晶层130。
有源矩阵基底110包括：由玻璃构成的第一透明基底11，在第一透明基底11上与液晶层130异侧形成的相位差板31，形成在该相位差板31上的偏光器32，在与液晶层130同侧形成在第一透明基底11上的栅电极12，形成在第一透明基底11上覆盖栅电极12的栅绝缘膜13，位于栅电极12上方形成在栅绝缘膜13上的半导体膜14，位于半导体膜14周围形成在栅绝缘膜13上的源/漏电极15，形成在栅绝缘膜13上覆盖半导体膜14和源/漏电极15的钝化膜16，形成在钝化膜16上由ITO(铟锡氧化物)组成的透光电极17，形成在钝化膜16上、部分地覆盖透光电极17的有机膜18，以及覆盖有机膜18的反射膜19。
背光光源33配置在偏光器32之下。
如稍后详细提到的，根据第一实施例的反射器包括有机膜18和覆盖该有机膜18的反射膜19。
对置基底120包括由玻璃构成的第二透明基底41、形成在第二透明基底41上的相位差板42、以及形成在该相位差板42上的偏光器43。
在透光区30中，从背光源33发出的光50穿过液晶显示器100。因此在透光区30中形成有光50穿过其中的透光电极17。
在反光区40中，外界光线51被反射。因此，在反光区40中形成由有机膜18和反射膜19构成的反射器。
在有源矩阵基底110的第一透明基底11上，形成了彼此平行延伸的多个扫描线(未示出)，多个彼此平行延伸并与所述扫描线垂直的信号线(未示出)，配置在扫描和信号线交叉点处的薄膜晶体管(TFT)以及像素电极。
每一薄膜晶体管包括栅电极12、栅绝缘膜13、半导体膜14、以及源/漏电极15。
像素电极由彼此电气连接的反射膜19和透光电极17构成，并且像素电极电气地连接到所述薄膜晶体管。
所述透光电极17和反射膜19借助覆盖TFT的有机膜18彼此分离。
如图9所示，第一凸起和凹陷部分1形成在有机膜18的表面上。第一凸起和凹陷部分1成平缓的波状。如图11所示，第二凸起和凹陷部分2形成在第一凸起和凹陷部分1的表面上。第二凸起和凹陷部分2比第一凸起和凹陷部分1具有形状更小或者更陡峭的波状。
形成覆盖有机膜18的反射膜。如图10和12所示，反射膜19映现出有机膜18表面的形状。即类似于形成在有机膜18表面上的第一和第二凸起和凹陷部分1和2，在反射膜19的表面上也形成有凸起和凹陷部分。
下文将参考图4到10描述有源矩阵基底110的制造方法。
首先，如图4所示，在第一透明基底11上形成栅电极12和扫描线(由于它们是从栅电极12垂直地向图4的平面延伸，因此在图4中未出现)。
随后，如图5所示，在第一透明基底11上形成栅绝缘膜13，所述栅绝缘膜13覆盖了栅电极12和扫描线。例如，栅绝缘膜13由氮化硅膜构成。
随后，在栅绝缘膜13上形成定义了欧姆接触层的非晶硅膜和磷掺杂的非晶硅膜。随后，通过光刻法和蚀刻将那些膜构图为岛状。因此，如图所示5，半导体膜14形成在栅绝缘膜13上。
随后，在栅绝缘膜13上形成源/漏电极15和信号线(未示出)。
此后，残留在源电极和漏电极15之间的磷掺杂的非晶硅的一部分被除去。随后，如图所示6，在整个组合体上形成由氮化硅膜构成的钝化膜16。
随后，在整个氮化硅膜上形成通孔16A，源电极15和透光电极17通过所述通孔彼此电气连接。随后如图6所示，形成了由铟锡氧化物(ITO)膜构成的、覆盖了通孔16A的内表面的透光电极17。
随后，如图所示7，将感光性丙烯酸树脂18A涂覆在整个钝化膜16和透光电极17上。
随后，如图所示8，通过光掩模34对感光性丙烯酸树脂18A进行曝光。因此，反光区40和透光区30以最佳剂量被曝光，并随后显影。此后，对感光性丙烯酸树脂18A进行热退火处理。
结果，如图所示9，感光性丙烯酸树脂18A被构图成有机膜18，并且使设置在反光区40中的有机膜18在其表面具有平缓波状的第一波状图案1，即具有第一凸起或凹陷部分1。
如图所示9，形成在透光区30中的感光性丙烯酸树脂18A全部被曝光，结果全部被除去。
然后，将使用诸如氩气或氦气的惰性气体的干蚀刻施加到有机膜18的表面，由此在第一波状图案1的表面形成第二凸起或凹陷部分2，即第二波状图案2(参见图11)。就凸起和凹陷的部分而言，第二波状图案2比第一波状图案1的形状更小或者比第一波状图案更锐利。
例如，第二波状图案2可以通过干蚀刻来形成，而所述干蚀刻主要是实施惰性气体的离子轰击。
常规的反应离子蚀刻(RIE)装置可以用于执行这样的干蚀刻。例如，将惰性气体引入所述装置的密闭室内，可以在例如10Pa或更小的相对较小的压力下进行干蚀刻。
第二波状图案2可以仅仅通过提供强离子轰击的物理蚀刻形成。不能通过具有小离子轰击的等离子蚀刻形成第二波状图案2。
在进行蚀刻处理时使用的氛围气体，惰性气体是适当的。但是，如果其他气体在化学上不会蚀刻有机膜18，那么也可以使用其他气体。由于还原性气体会还原下层的ITO膜17，因此还原性气体不适合用于蚀刻。
氧气或其中包含氧的气体在化学上会蚀刻有机膜18。然而，如果向惰性气体中少量地加入氧气或含氧气体，则可以增加蚀刻速率并且提高产量。
可以通过对气体、气体的混合比例、进行蚀刻的压力以及进行蚀刻所施加的功率等进行最优地选择来控制第二波状图案2的形状。
当对有机膜18进行干蚀刻时，如果下层的ITO膜17或钝化膜16受到损伤，则以光致抗蚀剂覆盖除了形成第二波状图案2的区域之外的区域，随后，进行干蚀刻。此后，除去光致抗蚀剂。
优选地，第二波状图案2中各相邻的凸起(或凹陷的)部分之间的间距小于第一波状图案1中的间距。
如果第二波状图案2中各相邻的凸起(或凹陷)部分之间的间距大于0.4微米，则波长基本上等于所述间距的蓝光会在第二波状图案2处散射，结果导致有机膜18看起来呈黄色。因此，第二波状图案2中的所述间距优选地等于或小于0.4微米。从而，将第二波状图案2中相邻的各凸起(或凹陷)部分之间的间距设计成等于或小于0.4微米。
优选地，在第二波状图案2中各相邻的凸起(或凹陷的)部分之间的各间距以及各凸起或凹陷部分的深度是不规则的或不均匀的。这样的不规则或不均匀的间距或深度防止了光的干涉。
由于通过对感光性有机树脂18A施加了光蚀刻法而在第一波状图案1中形成了凸起和凹陷部分，因此第一波状图案1的尺寸的下限取决于曝光的精度。
为在制造液晶显示器的工艺中的大尺寸玻璃而使用的曝光装置具有最小大约3微米的工艺尺寸。例如，当圆形的凸起部分具有3微米的直径时，第一波状图案1中相邻的凸起(或凹陷)部分之间的最小间距是6微米或更大。该间距的上限取决于其中配置了凸起和凹陷部分的像素的尺寸。像素的尺寸取决于显示屏和/或分辨率的大小。在通常用于移动电话的对角线2.2型(5.6厘米)的QVGA(240×320像素)设备中，像素具有大约50微米见方的尺寸，并且反光区40大约为像素尺寸的1/2到1/3。由于必须将反射器配置在反光区40中，并且反光区40必须包括凸起和凹陷部分间的一个或多个间距，因此间距的上限大约为30微米。
随后，如图10所示，在有机膜18和ITO膜17上形成钼膜和铝膜。所述钼膜和铝膜将作为反射膜19。钼膜作为阻挡膜用于抑制铝膜和ITO膜17之间的电解反应。反射膜19可以由铝膜和除了铝膜之外的其他金属膜构成。
如果反射膜19形成得较厚，则第二波状图案可能被掩盖在反射膜19中。因此，优选地，反射膜19具有等于或小于0.4微米的厚度。
随后，通过光蚀刻法将钼和铝膜构图蚀刻制成反射膜19。
如图10所示，作为反射电极的反射膜19和透光电极17通过作为反射膜19一部分的电极连接器20彼此电气地连接。
第一实施例中的反射膜19设计成具有多层结构，所述多层结构由铝膜和除了铝膜之外的其他金属膜构成。作为可选方案，反射膜19可以设计成具有这样的多层结构，所述多层结构由铝合金膜以及除了铝合金膜之外的其他金属膜构成。此外，反射膜19可以简单地由铝膜或铝合金膜构成。
如图10和12所示，反射膜19具有能映现出以下形状的表面：在下层的、平缓的波状的第一波状图案1的形状、以及比第一波状图案1更锐利的第二波状图案2的形状。
相位差板31和偏光器32在如下的任意步骤中附加到第一透明基底11上，例如，在制成了如图10所示的组合体的步骤之后进行，或者在制成如图4所示的组合体的步骤之前进行。
随后，将定向膜涂覆在有源矩阵基底110和对置基底120上。
随后，将间隔物夹在基底110和120之间用以界定它们中间的间隙。随后，将液晶引入所述间隙，以及随后将所述间隙密闭地封装起来。由此，液晶显示器100完工了。
需要确定反光区40中的间隙和透光区30中的间隙之间的差异，由此透光区30中的相位差等于1/4波长，而反光区40中的相位差等于1/2波长。通过对透光区30中感光性丙烯酸树脂18A相对于ITO膜17的平均高度进行控制，可以保证得到所述差异。
根据上述第一实施例，具有平缓波状图案的第一波状图案1形成在有机膜18的表面上，并且就凸起和凹陷部分而言，比第一波状图案1更锐利的第二波状图案2形成在所述第一波状图案1的表面上。形成在所述有机膜18上的反射膜19映现出第一和第二波状图案1和2的形状。
就各相邻的凸起(或者凹陷)部分之间的间距和所述凸起和凹陷部分的倾斜角的分布而言，第一和第二波状图案1和2彼此不同。由此，能够消除波状图案的周期性。因此，可以避免由波状图案的周期性所引起的光干涉，以及防止反射器呈现多彩。
由于防止了由于光干涉所引起的反射器呈现多彩，因此不再需要在反射器中使用光漫射粘合剂。结果，可以减少生产成本，以及进一步地，提高了反射率和反射对比度。特别是，可以提高半透射式液晶显示器中的透射对比度。
例如，可以通过如下工艺形成第一波状图案1：通过对感光性有机膜进行曝光，对所述膜进行显影，并且对所述膜进行热处理。可以通过对第一波状图案1的表面进行粗糙化处理而形成第二波状图案2。例如，可以通过对形成有第一波状图案1的有机膜18的表面施加干蚀刻(例如，使用惰性气体的反应离子蚀刻[RIE])来形成第二波状图案2。通过将反射膜19涂覆在形成有第一和第二波状图案1和2的有机膜18的表面上，反射膜19将映现出有机膜18表面的形状。
可以通过选择蚀刻气体、和/或控制压力或者刻蚀功率来控制第二波状图案2的凸起和凹陷部分的尺寸，诸如间距和深度。
此外，通过光蚀刻法，可以仅仅对要在其中形成第二波状图案2的区域进行蚀刻。因此，可以仅仅在有机膜18表面的一部分上形成第二波状图案2。
[第二实施例]
图13示出了含有根据本发明第二实施例的反射器的液晶显示器200的剖视图。
所述液晶显示器200是反射式液晶显示器，其包括在其上反射外界光线的反射器，并且通过允许或不允许所述反射光穿过液晶显示器来显示图象。
液晶显示器200由下述部分组成：有源矩阵基底210、与所述有源矩阵基底210成面对关系配置的对置基底220，以及夹在有源矩阵基底210和对置基底220之间的液晶层130。
有源矩阵基底210包括：由玻璃构成的第一透明基底11，在与液晶层130同侧形成在第一透明基底11上的栅电极12，形成在第一透明基底11上覆盖栅电极12的栅绝缘膜13，位于栅电极12上方形成在栅绝缘膜13上的半导体膜14，位于半导体膜14周围形成在栅绝缘膜13上的源/漏电极15，形成在栅绝缘膜13上的钝化膜16，其覆盖半导体膜14和源/漏电极15，形成在钝化膜16上的有机膜18，以及覆盖有机膜18的反射膜19。
如稍后详细提到的，根据第二实施例的反射器由有机膜18和覆盖该有机膜18的反射膜19来定义。
与第一实施例中的对置基底相类似，对置基底120包括：由玻璃构成的第二透明基底41、形成在第二透明基底41上的相位差板42、以及形成在该相位差板42上的偏光器43。
图14-16中的每一个都示出了包含有根据本发明第二实施例的反射器的有源矩阵基底210的制造方法的步骤。下文将参考图14-16描述有源矩阵基底210的制造方法。
在栅绝缘膜13上形成钝化膜16之前所执行的各步骤与第一实施例中的各步骤相同，即，参照图4到6所示的步骤。
在第二实施例中，如图14所示，在由氮化硅膜构成的钝化膜16形成在栅绝缘膜13上之后，在没有形成贯穿钝化膜16的通孔16A的情况下，将感光性酚醛清漆树脂18A涂覆在钝化膜16上。
随后，如图15所示，类似于第一实施例，对感光性酚醛清漆树脂18A进行曝光，由此在有机膜的表面形成第一波状图案1。在第二实施例中，不同于第一实施例的是，同步地形成贯穿感光性酚醛清漆树脂18A的通孔21。
随后，对有机膜18的表面进行干蚀刻，用以在有机膜18的表面上形成第二波状图案2。
随后，通孔21延伸穿过钝化膜16达到源/漏电极15。
然后，如图16所示，形成反射膜19，并以反射膜19覆盖有机膜18的表面和通孔21的内壁。反射膜19例如由银构成。反射膜19和源电极15通过所述通孔21彼此电气连接。
然后，类似于第一实施例，有源矩阵基底210和对置基底120彼此连接。由此，根据第二实施例的液晶显示器200完成了。
在第一和第二实施例中，感光性有机膜18A由丙烯酸的或者酚醛清漆树脂构成。感光性有机膜18A也可以由其他感光树脂构成。
第一实施例中，反射膜19由铝膜构成。作为可选方案，反射膜19可以由铝合金的膜构成，所述铝合金包括例如铝和钕或者铝和硅。第二实施例中，反射膜19由银膜构成。作为可选方案，反射膜19可以由银合金膜构成。
作为阻挡金属膜，可以使用例如钛膜或者铬膜代替钼膜。
根据第二实施例的液晶显示器200具有与根据第一实施例的液晶显示器100相同的优点。
此外，由于反射膜19和源电极15通过通孔21彼此直接电气地连接，因此不再需要形成第一实施例中的作为有源矩阵基底110一部分的透光电极17。
上述第一和第二实施例中，将第一波状图案1设计为平缓波状。第一波状图案1并不限于第一和第二实施例所示的图案。例如，如果至少一个凸起和凹陷部分具有弧形或者波状横截面，则包含有这样的凸起和凹陷部分的波状图案可以与第一和第二实施例所示的第一波状图案1一样提供相同的功能。
[第三实施例]
根据第一或第二实施例的液晶显示器100或者200可以应用于各种电子设备。举例来说，液晶显示器100可以应用于在下文描述的第三实施例的移动电话中。
图17是包括液晶显示器100的移动电话275的框图。
所述移动电话275包括：显示单元276；控制器277，其用于控制组成移动电话275的各部分的操作；存储器278，其用于存储由控制器277执行的程序和各种数据；信号接收机279，通过所述信号接收机接收无线电信号；信号发射机281，通过所述信号发射机从移动电话275发射无线电信号；输入接口282，其由键盘或者指示器构成；以及电源283，用于向组成移动电话275的各部分提供电能。
显示单元276包括液晶面板265、背光光源266和用于处理图像信号的信号处理器267。
液晶面板265是根据第一实施例的液晶显示器100构成的。通过使用液晶显示器100，可以避免反射器呈现多彩，以及可以提高液晶面板265的能见度。
包含液晶显示器100的液晶面板265也可以应用于便携式个人计算机的监视器、笔记本式个人电脑或者台式个人电脑。此外，包含液晶显示器100的液晶面板265也可以应用于诸如移动通讯设备以及移动电话等的多种电子设备中的显示单元。

Claims (17)

1.去时一种在液晶显示器中使用的反射器，所述液晶显示器包括：第一基底；与所述第一基底成面对关系配置的第二基底；夹在所述第一和第二基底之间的液晶层，其中在形成于第一和第二基底之一上的反射器处对外界光线进行反射从而显示图像；
所述反射器包括：
有机膜；以及
覆盖所述有机膜而形成的反射膜；
其特征在于：
所述有机膜在其表面具有第一凸起和凹陷部分，以及在所述第一凸起和凹陷部分的表面上形成的第二凸起和凹陷部分，
所述第一凸起和凹陷部分包括至少其中之一是弧形横截面的各凸起部分和凹陷部分，
所述第二凸起和凹陷部分在尺寸上比所述第一凸起和凹陷部分小，以及
所述反射膜成型为映现出所述第一和第二凸起和凹陷部分。
2.如权利要求1所述的反射器，其中所述第一凸起和凹陷部分呈波状形状。
3.如权利要求1所述的反射器，其中所述有机膜和反射膜叠覆配置在所述液晶显示器的薄膜晶体管上。
4.如权利要求1所述的反射器，其中所述第二凸起和凹陷部分中各相邻的凸起或凹陷部分之间的间距等于或小于0.4微米。
5.如权利要求1所述的反射器，其中所述第二凸起和凹陷部分是不规则形状的。
6.如权利要求1所述的反射器，其中所述第二凸起和凹陷部分仅形成在所述有机膜表面的一部分上。
7.如权利要求1所述的反射器，其中所述反射膜由铝或者铝合金构成。
8.如权利要求1所述的反射器，其中所述反射膜具有多层结构，该多层结构具有铝或者铝合金层、以及至少一个由除了铝之外的金属构成的层。
9.如权利要求1所述的反射器，其中所述反射膜具有等于或者小于0.4微米的厚度。
10.如权利要求1所述的反射器，其中所述有机膜由感光性有机膜构成。
11.一种液晶显示器，包括：
第一基底；
与所述第一基底成面对关系配置的第二基底；以及
夹在所述第一和第二基底之间的液晶层，
其中在形成于所述第一和第二基底之一上的反射器处对外界光线进行反射，从而显示图象，
所述反射器包括如权利要求1到10中任意一个的反射器。
12.一种具有液晶显示器作为显示单元的电子设备，所述液晶显示器包括如权利要求11所述的液晶显示器。
13.一种制造反射器的方法，该反射器用于液晶显示器，所述液晶显示器包括：第一基底；与所述第一基底成面对关系配置的第二基底；以及夹在所述第一和第二基底之间的液晶层，其中在形成于所述第一和第二基底之一上的反射器处对外界光线进行反射，从而显示图像，
所述方法包括：
在基底上形成感光性有机膜；
对所述感光性有机膜进行构图；
对所述感光性有机膜进行热退火，以在其表面形成第一凸起和凹陷部分，所述第一凸起和凹陷部分包括各凸起部分和各凹陷部分，其中至少一个是弧形横截面；
在所述第一凸起和凹陷部分的表面处形成第二凸起和凹陷部分，所述第二凸起和凹陷部分在尺寸上比所述第一凸起和凹陷部分小，以及
在所述感光性有机膜上形成反射膜。
14.如权利要求13所述的方法，其中所述第二凸起和凹陷部分是通过干蚀刻形成的。
15.如权利要求14所述的方法，其中所述干蚀刻包括离子轰击。
16.如权利要求14所述的方法，其中将惰性气体用于所述干蚀刻过程中。
17.如权利要求14所述的方法，其中，在所述干蚀刻过程中使用以下混合气体中的一种：包含惰性气体和氧气的混合气体，或者包含惰性气体和含氧原子的气体的混合气体。
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