JP2004198990A - 表面凹凸形成方法、それにより得られる光学フィルム、拡散反射板及び表面凹凸フィルム - Google Patents

Abstract

【課題】コンタクトホール部の光漏れが少なく、かつ表面凹凸域で良好な光散乱性を有する表面凹凸形成方法および、それにより得られる光学フィルム、拡散反射板及び表面凹凸フィルムを提供する。
【解決手段】感エネルギー性樹脂組成物層を形成し、マスクを介して活性エネルギー線を照射し、エネルギー線が照射された部分と照射されない部分により感エネルギー性樹脂組成物層を貫通するコンタクトホール部と加熱により表面凹凸域を形成する表面凹凸形成方法であって、薄膜能動素子が形成された基板と、前記薄膜能動素子上に積層された表面凹凸域を備える感エネルギー性樹脂組成物層と、前記感エネルギー性樹脂組成物層上方に積層された画素電極を備える表示装置において、前記感エネルギー性樹脂組成物層が薄膜能動素子と画素電極を接続するための深さｘのコンタクトホール部と、表面凹凸域の最大膜厚ｙと最小膜厚ｚが、
ｙ＞ｘ＞ｚであり、かつｙ/ｘ＜１．３、ｚ/ｘ＞０．７
である表面凹凸形成方法。
【選択図】 図１

Description

【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、感エネルギー性樹脂組成物層を使用する表面凹凸形成方法、それにより得られる光学フィルム、拡散反射板及び表面凹凸フィルムに関する。
【０００２】
【従来の技術】
近年、携帯パソコン、携帯電話及び小型ゲーム機などが急速に普及しているが、これら装置は内蔵電池での使用時間をできるだけ長く保持できることが望まれている。その対策の１つとして、内蔵電池の消費電力を低減する方法がいくつか提案されている。具体的にはディスプレイを視認する際の周囲の明るさに応じ、液晶画面の後面を照らすバックライトの点灯をさせず、自然光や蛍光灯などの外光を画面に反射させ、画面を認識する方式が取られている。この反射型液晶装置の反射板の作製方法として（１）感光性液状レジストを使用したフォト法、（２）規定の大きさのビーズを液状レジストに分散、スピンコートで成膜した後、熱硬化などを行う方法が提案され、実用化されている。また、（３）プリント配線板の製造に頻繁に使用されている、ドライフィルムの形態に類似したフィルム状のレジストに凹凸形状をラミネートにより転写し、露光、熱硬化し、反射下地層を形成する方法がある。その後、これら方法で作製した反射下地層に金属膜をスパッタ等で形成、カラーフィルタ並びにオーバーコート等を成膜し、ＩＴＯ電極形成、液晶封入等を行うことによって、携帯パソコン、携帯電話及び小型ゲーム機などの製品を製造する。しかしながら、前記反射板を作製する際、動画対応用に反射下地層にＴＦＴ、ＴＦＤ等の薄膜能動素子が設けられている場合、信号用の接続穴をあける必要がある。
ＴＦＴ、ＴＦＤ等が形成された基板の樹脂表面に基板露出面と凹凸形状を形成する場合、従来の技術では、基板に感光性樹脂を塗布し、パターン形成されたマスクを介して感光性樹脂層に紫外線を照射し、樹脂層の露光部分又は未露光部分を現像液で除去して基板露出面を形成し、さらに再度同様の工程を繰り返して、基板露出面と表面凹凸を形成するいわゆるフォトリソグラフィー法による方法が提案されている。このとき、凹凸の配置を密にして所定の間隔で配置し、凹凸の傾斜角度を所定値に制御することで、光学特性の向上が試みられている。このためには、平滑な基板上に凹凸を形成するだけでなく、表面になだらかな凹凸を形成するためのレベリング膜を再度同様の工程を繰り返して得る手法や樹脂の熱だれを利用してなだらかな凹凸を得る手法が利用されている。
【０００３】
しかし、従来の方法では、凹凸形状の制御と基板露出面の形成には製造プロセス上の変動因子が多く、同一の条件で同一の凹凸形状を得ることは困難であり、また、煩雑な工程を繰り返すため、比較的高価でもある。
【０００４】
【特許文献１】
特開平４−２４３２２６号公報
【特許文献２】
特開平１１−４２６４９号公報
【特許文献３】
特開２０００−０９８３７５号公報
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】
しかし、従来の方法では、エッチングにより凹凸を形成しているため、凹凸形状形成樹脂の凸部膜厚は、凹凸形状形成樹脂の凹凸形成前の膜厚と概ね同じになる。さらに薄膜能動素子と画素電極を接続するためのコンタクトホールもエッチングにより形成しており、所定のテーパー角度を得るため、コンタクトホール周囲の膜厚は、凹凸形状形成樹脂の凹凸形成前の膜厚と概ね同じになるか、能動素子の膜厚分凸になり、コンタクトホール中心部に進むにつれ膜厚が薄くなる。このため、液晶ディスプレイ等で、凹凸形状部分の平均膜厚で液晶の配向を調整すると、コンタクトホール付近の液晶の配向が設計値からずれやすく、光漏れの原因となる。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】
本発明は、コンタクトホール部の光漏れが少なく、かつ表面凹凸域で良好な光散乱性を有する表面凹凸形状形成方法、それにより得られる光学フィルム、拡散反射板及び表面凹凸フィルムを提供するものである。
【０００７】
【課題を解決するための手段】
本発明は、［１］感エネルギー性樹脂組成物層を形成し、マスクを介して活性エネルギー線を照射し、エネルギー線が照射された部分と照射されない部分により感エネルギー性樹脂組成物層を貫通するコンタクトホール部と加熱により表面凹凸域を形成する表面凹凸形成方法であって、薄膜能動素子が形成された基板と、前記薄膜能動素子上に積層された表面凹凸域を備える感エネルギー性樹脂組成物層と、前記感エネルギー性樹脂組成物層上方に積層された画素電極を備える表示装置において、前記感エネルギー性樹脂組成物層が薄膜能動素子と画素電極を接続するための深さｘのコンタクトホール部と、表面凹凸域の最大膜厚ｙと最小膜厚ｚが、
ｙ＞ｘ＞ｚであり、かつｙ/ｘ＜１．３、ｚ/ｘ＞０．７
であることを特徴とする表面凹凸形成方法である。
また、本発明は、［２］感エネルギー性樹脂組成物層が、感エネルギー性ネガ型樹脂組成物層であり、（ａ）バインダ樹脂、（ｂ）エチレン性不飽和基を少なくとも一つ以上有する一種類以上の重合可能なモノマー又はオリゴマー、（ｃ）活性エネルギー線の照射により遊離ラジカルを生成する重合開始剤を含むものである上記［１］に記載の表面凹凸形成方法である。
また、本発明は、［３］マスクを少なくとも１枚以上用い、コンタクトホール部形成用と、表面凹凸域形成用の領域があり、表面凹凸域形成用のマスクには活性エネルギー線遮断部と活性エネルギー線透過部からなる規則的あるいは不規則的な繰り返しパターンを有し、活性エネルギー線遮断部と活性エネルギー線遮断部又は活性エネルギー線透過部と活性エネルギー線透過部との距離が、１〜５０μｍである上記［１］または［２］に記載の表面凹凸形成方法である。
また、本発明は、［４］加熱が５０〜２５０℃である上記［１］ないし［３］のいずれかに記載の表面凹凸形成方法である。
また、本発明は、［５］活性エネルギー線が紫外光線である上記［１］ないし［４］のいずれかに記載の表面凹凸形成方法である。
さらに、本発明は、［６］上記［１］ないし［５］のいずれかに記載の凹凸形成方法を用いて形成された光学フィルムである。
さらに、本発明は、［７］上記［６］に記載の光学フィルムに反射膜を設けた拡散反射板である。
また、本発明は、［８］上記［７］に記載の拡散反射板を反射型液晶ディスプレイに用いたことを特徴とする拡散反射板である。
さらに、本発明は、［９］上記［１］ないし［５］のいずれかに記載の凹凸形成方法を用いて形成された表面凹凸フィルムである。
【０００８】
【発明の実施の形態】
本発明に関わる、薄膜能動素子は、液晶ディスプレイや有機ＥＬディスプレイの画素のスイッチングに用いられ、基材上に複数個作製される。その膜厚は０．１〜０．６μｍである場合が多い。また、光電変換素子として基材上に積層される場合もある。薄膜能動素子上に絶縁性樹脂組成物層が積層され、絶縁性樹脂組成物層に形成されたコンタクトホールを介して、絶縁性樹脂組成物層上に形成された画素電極と薄膜能動素子は接続される。絶縁性樹脂組成物層に反射型液晶ディスプレイの拡散反射板としての機能を付与したり、有機ＥＬディスプレイの発光を外部に効率よく取り出す場合、絶縁性樹脂組成物層の画素電極側界面には、凹凸形状が形成される。表面凹凸形状とコンタクトホールは、あらかじめ絶縁性樹脂組成物層に形成しておく方法が通常である。
本発明の表面凹凸形状は、前述の通り、感エネルギー性樹脂組成物層に設けられ、表面凹凸域は、例えば、図1に示したように、以下の工程で形成される。
図１（ａ）〜（ｆ）は、本発明の表面凹凸形成方法の工程図を示したものである。基材２上に薄膜能動素子である下層膜１が形成された基材２を準備し（ａ）、基材上に例えば感エネルギー性ネガ型樹脂組成物層３を設ける（ｂ）。感エネルギー性ネガ型樹脂組成物層３の上にマスクを設け、このマスクには、コンタクトホールのように樹脂組成物層を貫通し基板表面を露出したい位置に活性エネルギー線を遮蔽する遮蔽部が施されており、さらに、表面凹凸域を形成するために活性エネルギー線遮断部と活性エネルギー線透過部からなる規則的あるいは不規則的な繰り返しパターンを有しており、マスクを介して紫外光線のような活性エネルギー線を照射する（ｃ）。そして、加熱を行い表面凹凸形成域に表面凹凸を設ける。次に、コンタクトホール部に相当する位置に遮蔽部が施されたパターンを用い、活性エネルギー線を照射する（ｄ）。照射後、感エネルギー性ネガ型樹脂組成物層３を現像液を用いてエッチング（現像）し基材上に設けられた下層膜が露出するコンタクトホールを形成する（ｆ）。
本発明の表面凹凸形成方法は、上記のように（ａ）〜（ｆ）の工程を含み、凹凸形状の凸部、凹部の膜厚は、コンタクトホールの深さよりそれぞれ高く、低く形成できる。
さらに、本工程により得られる凹凸段差は、感エネルギー性樹脂組成物層の膜厚と関係して得られ、工程の微調整により、コンタクトホール部の深さをｘとして、表面凹凸域の最大膜厚をｙ、最小膜厚をｚとすると ｙ＞ｘ＞ｚであり、かつｙ/ｘ＜１．３、ｚ/ｘ＞０．７ を満足する。なお、感エネルギー性樹脂組成物層は、硬化後に絶縁性を有する。
感エネルギー性樹脂組成物層としては、特に限定されないが、感エネルギー性ネガ型樹脂組成物、感エネルギー性ポジ型レジスト、熱硬化型レジスト等がある。
【０００９】
感エネルギー性樹脂組成物層の基板上への形成方法としては、ロールコータ塗布、スピンコータ塗布、スプレー塗布、ディップコータ塗布、カーテンフローコータ塗布、ワイヤバーコータ塗布、グラビアコータ塗布、エアナイフコータ塗布、キャップコータ塗布等が挙げられる。あるいは、前述の方法により仮支持体に塗布した後、基材に転写することで、塗布することもできる。形成する感エネルギー性樹脂組成物層の厚みは、０．１〜１０００μｍが好ましく、０．１〜１００μｍがより好ましく、１〜５０μｍが特に好ましい。薄膜能動素子が設けられた基材としては、ガラス板、クロムやＩＴＯなどの無機化合物を成膜したガラス板、シリコン基板、セラミック、ポリカーボネート系樹脂フィルム、アクリル系樹脂フィルム、ポリエチレンテレフタレートフィルム、ポリエーテルスルホン樹脂フィルム、フッ素系樹脂フィルムなど、好ましくは複屈折率が少ない（Δｎ＝０．０１以下）基材を用いることができる。
【００１０】
基板上に形成した感エネルギー性ネガ型樹脂組成物層は、４０〜１５０℃で１〜３０分間プリベークする。プリベークした感エネルギー性ネガ型樹脂組成物層は、パターン形成されたマスクを介して紫外光線などの活性エネルギー線を照射する。マスクパターンは、紫外線遮断部（エネルギー線が照射されない部分）と紫外線透過部（エネルギー線が照射された部分）からなる規則的あるいは不規則的な繰り返しパターンを有し、紫外線遮断部と紫外線遮断部、又は紫外線透過部と紫外線透過部との距離が、１〜５０μｍが好ましく、５〜２０μｍがより好ましい。パターン形状は、特に限定されないが、例として、円形、楕円形、円輪形、多角形、曲線、直線、あるいは各形の集合形などがある。なお、後のエッチングにおいて感エネルギー性ネガ型樹脂組成物層を除去する箇所には、紫外線遮断部となるマスクパターンを適用する。また、紫外線量は、従来のエッチング工程を含む表面凹凸形成方法の中で照射する、例えば紫外線量に比べて同等あるいは少なくて済み、０．０１〜１Ｊ／ｃｍ^２が好ましく、０．０１〜０．５Ｊ／ｃｍ^２がより好ましく、０．０５〜０．１Ｊ／ｃｍ^２が特に好ましい。紫外線を照射する露光機光源としては、カーボンアーク灯、超高圧水銀灯、高圧水銀灯、キセノンランプ、メタルハライドランプ、蛍光ランプ、タングステンランプ等が挙げられる。これらの光源を使用するプロキシ露光機や投影露光機以外にも、マスクパターンを介して露光できればよい。
【００１１】
パターン形成されたマスクを介して紫外線を照射された感エネルギー性ネガ型樹脂組成物層の膜厚の場合は、紫外線を照射されていない部分の膜厚に比べ最終的に増加する。紫外線を少なくとも一回以上照射した後、加熱として、５０〜２５０℃の加熱を行い、好ましくは、８０〜１４０℃の加熱を行い、より好ましくは９０〜１２０℃の加熱を行い、紫外線を照射された部分と照射されない部分との膜厚差を顕著にする。加熱する装置としては、温風加熱炉、または赤外線加熱炉、ホットプレート等で加熱を行う。この際の加熱は、コンタクトホール部の現像によるエッチングを妨げる温度でないことが好ましい。
続いて、感エネルギー性ネガ型樹脂組成物層を除去する箇所以外に紫外線を照射する。照射する紫外線量は、０．０１〜１Ｊ／ｃｍ^２が好ましい。紫外線を照射する部分と遮光する部分は、フォトマスクを用いて行える。紫外線を照射する露光機光源としては、カーボンアーク灯、超高圧水銀灯、高圧水銀灯、キセノンランプ、メタルハライドランプ、蛍光ランプ、タングステンランプ等が挙げられる。感エネルギー性ネガ型樹脂組成物層を除去する箇所以外に紫外線を照射する工程の後、前記感エネルギー性樹脂組成物層をエッチング（現像）する。すなわち、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウム、メタケイ酸ナトリウム等の無機アルカリ、モノエタノールアミン、ジエタノールアミン、トリエタノールアミン、テトラメチルアンモニウムハイドロオキサイド、トリエチルアミン、ｎ−ブチルアミン等の有機塩基、又は塩を含む水溶液を吹き付けるか、水溶液に浸漬するなどして未露光部を除去することができる。前記感エネルギー性樹脂組成物層をエッチングする工程の後、さらに、加熱として、前工程の加熱より高い温度でかつ２５０℃以下の加熱を行い、好ましくは、１４０〜２５０℃の加熱を行うことが好ましい。加熱する装置としては、上記と同様、温風加熱炉、または赤外線加熱炉、ホットプレート等で行うことができる。
以上は、例えばある種の感エネルギー性ネガ型樹脂組成物を用いた場合の例であり、この工程に限定されるものではない。
【００１２】
本発明では、凹凸形成方法を用いて形成したものを表面凹凸フィルム、光学フィルムとすることができる。また、この光学フィルムに反射膜を設けて拡散反射板とすることができる。
この反射膜としては、反射したい波長領域によって材料を適切に選択すれば良く、例えば反射型ＬＣＤ表示装置では、可視光波長領域である３００ｎｍから８００ｎｍにおいて反射率の高い金属、例えばアルミニウムや金、銀等を真空蒸着法またはスパッタリング法等によって形成する。また反射増加膜（光学概論２、辻内順平、朝倉書店、１９７６年発行）を上記の方法で積層してもよい。屈折率差を利用して反射させる場合、金属単体だけでなく、ＩＴＯや五酸化タンタル、酸化チタン等の膜とシリコンやアルミニウム等の酸化膜や窒化膜、酸窒化膜を真空蒸着法またはスパッタリング法等によって積層形成する。反射膜の厚みは、０．０１〜５０μｍが好ましい。また反射膜は、必要な部分だけフォトリソグラフィー法、マスク蒸着法等によりパターン形成してもよい。
【００１３】
以上では図２に示した様な反射型液晶ディスプレイで説明したが、本発明の拡散反射板は外部や内部光線を拡散反射させることが必要な液晶用バックライト反射板、プロジェクタ用スクリーン、電気泳動表示装置、有機ＥＬ表示装置、無機ＥＬ表示装置、エレクトロクロミック表示装置、フォトエレクトロクロミズム表示装置等の表示デバイスに用いることが出来る。また、本発明の光学フィルムは、ノングレアシート、液晶用バックライト拡散板、視野角制御フィルム、リアプロジェクション用透過スクリーン、ビューファインダー用マイクロレンズ、プロジェクタ用マイクロレンズ、立体テレビ用視野角制御フィルム等の光学デバイスに用いることが出来る。さらに、本発明の表面凹凸フィルムは、印刷用版、液晶表示装置のＭＶＡ用配向制御、溝構造高分子液晶分子配向制御、溝構造低分子液晶分子配向制御等に用いることが出来る。
以下実施例により本発明を具体的に説明する。
【００１４】
【実施例】
（実施例１）
下記の感エネルギー性ネガ型樹脂組成物の塗液をガラス基板上に毎分１３００回転で１０秒間スピンコートし、ホットプレート上９０℃で４分間加熱し、膜厚４μｍの感エネルギー性ネガ型樹脂組成物層を得た。この感エネルギー性ネガ型樹脂組成物層の上に紫外線照射部と紫外線遮光部の境界線が規則的な周期１０μｍでパターニングされたマスクを置き、マスク面垂直上方より０．０６Ｊ／ｃｍ^２の紫外線を照射した後、９０℃で５分間の加熱した。次に、先の紫外線照射工程で照射しなかった箇所の一部であり感エネルギー性ネガ型樹脂組成物層を後のエッチングで除去する箇所以外を０．０４Ｊ／ｃｍ^２の紫外線で照射した後、水酸化カリウムを０．３重量％含む３０℃の水溶液シャワーを２１４秒間あてエッチングし、２３０℃で３０分間の加熱をした。この結果、感エネルギー性ネガ型樹脂組成物層の除去部分にコンタクトホールとしての基板露出面が形成され除去部分以外に紫外線照射部断面が凸、紫外線遮光部断面が凹の凹凸ピッチ１０μｍの形状を有する凹凸段差が得られた。このコンタクトホールのテーパー角度は、５０度で、ホール深さ（ｘ）が３．４７μｍであり、表面凹凸域の凸部の膜厚（ｙ）が４．２４μｍ、凹部の膜厚（ｚ）が２．６８μｍの表面凹凸形状を有する表面凹凸フィルムが得られた。
【００１５】
（ポリマーＡの合成）
撹拌機、還流冷却機、不活性ガス導入口及び温度計を備えたフラスコに、表１に示す（１）を仕込み、窒素ガス雰囲気下で８０℃に昇温し、反応温度を８０℃±２℃に保ちながら、表１に示す（２）を４時間かけて均一に滴下した。（２）の滴下後、８０℃±２℃で６時間撹拌を続けた後、表１に示す（３）を添加した。
（３）を添加後、反応系を１００℃に昇温し、０．５時間かけて表１に示す（４）を滴下した。（４）の滴下後、１００℃で２０時間撹拌を続けた後、室温に冷却して、重量平均分子量が約７０，０００のポリマーＡを得た。
【００１６】
【表１】

【００１７】
（感エネルギー性ネガ型樹脂組成物の塗液）：

【００１８】
（実施例２）
実施例１に記載の感エネルギー性ネガ型樹脂組成物の塗液をガラス基板上に毎分１０００回転で１０秒間スピンコートし、ホットプレート上９０℃で４分間加熱し、膜厚６μｍの感エネルギー性ネガ型樹脂組成物層を得た。この感エネルギー性ネガ型樹脂組成物層の上に紫外線照射部と紫外線遮光部の境界線が不規則的な曲線でパターニングされたマスクを置き、マスク面垂直上方より０．０６Ｊ／ｃｍ^２の紫外線を照射した後、９０℃で５分間の加熱した。次に、先の紫外線照射工程で照射しなかった箇所の一部であり感エネルギー性ネガ型樹脂組成物層を後のエッチングで除去する箇所以外を０．０４Ｊ／ｃｍ^２の紫外線で照射した後、水酸化カリウムを０．３重量％含む３０℃の水溶液シャワーを２１４秒間あてエッチングし、２３０℃で３０分間の加熱をした。この結果、感エネルギー性ネガ型樹脂組成物層の除去部分に基板露出面が形成され除去部分以外に紫外線照射部断面が凸、紫外線遮光部断面が凹の形状を有する表面凹凸フィルムを得た。得られた表面凹凸フィルムのコンタクトホール部のテーパー角度は５０度で、ホール深さ（ｘ）５．０２μｍであり、表面凹凸域の凸部の膜厚（ｙ）が６．２０μｍ、凹部の膜厚（ｚ）が３．８６μｍの表面凹凸形状が得られた（y/ｘ=1.23,z/x=0.77）。
この表面凹凸フィルムを透過光観察すると、曇りガラスのような良好な拡散性を示し、良好な光学フィルムを得たことを確認した。さらにスパッタによりＡｌ金属膜０．１μｍを成膜したところ、反射型液晶ディスプレイ用拡散反射板として良好な反射特性を示した。
【００１９】
（実施例３）
実施例１に記載の感エネルギー性ネガ型樹脂組成物の塗液をポリエーテルスルホン基板上に毎分１３００回転で１０秒間スピンコートし、ホットプレート上９０℃で４分間加熱し、膜厚４μｍの感エネルギー性ネガ型樹脂組成物層を得た。この感エネルギー性ネガ型樹脂組成物層の上に紫外線照射部と紫外線遮光部の境界線が不規則的な曲線でパターニングされたマスクを置き、マスク面垂直上方より０．０６Ｊ／ｃｍ^２の紫外線を照射した後、９０℃で５分間の加熱した。次に、先の紫外線照射工程で照射しなかった箇所の一部であり感エネルギー性ネガ型樹脂組成物層を後のエッチングで除去する箇所以外を０．０４Ｊ／ｃｍ^２の紫外線で照射した後、水酸化カリウムを０．３重量％含む３０℃の水溶液シャワーを２１４秒間あてエッチングし、２００℃で３０分間の加熱をした。この結果、感エネルギー性ネガ型樹脂組成物層の除去部分に基板露出面が形成され除去部分以外に紫外線照射部断面が凸、紫外線遮光部断面が凹の形状を有する表面凹凸フィルムを得た。得られた表面凹凸フィルムのコンタクトホール部のテーパー角度は、５０度で、ホール深さ（ｘ）３．４７μｍであり、表面凹凸域の凸部の膜厚（ｙ）が４．２６μｍ、凹部の膜厚（ｚ）が２．６９μｍの表面凹凸形状が得られた（y/ｘ=1.23,z/x=0.77）。さらにスパッタによりＡｌ金属膜０．１μｍを成膜したところ、反射型液晶ディスプレイ用拡散反射板として良好な反射特性を示した。
【００２０】
（比較例１）
実施例１に記載の感エネルギー性ネガ型樹脂組成物の塗液をガラス基板上に毎分１０００回転で１０秒間スピンコートし、ホットプレート上９０℃で４分間加熱し、膜厚６μｍの感エネルギー性ネガ型樹脂組成物層を得た。この感エネルギー性ネガ型樹脂組成物層の上に紫外線照射部と紫外線遮光部の境界線が不規則的な曲線でパターニングされたマスクを置き、マスク面垂直上方より０．０６Ｊ／ｃｍ^２の紫外線を照射した後、１３５℃で５分間の加熱した。次に、先の紫外線照射工程で照射しなかった箇所の一部であり感エネルギー性ネガ型樹脂組成物層を後のエッチングで除去する箇所以外を０．０４Ｊ／ｃｍ^２の紫外線で照射した後、水酸化カリウムを０．３重量％含む３０℃の水溶液シャワーを２１４秒間あてエッチングし、２３０℃で３０分間の加熱をした。この結果、感エネルギー性ネガ型樹脂組成物層の除去部分に基板露出面が形成され除去部分以外に紫外線照射部断面が凸、紫外線遮光部断面が凹の形状を有する表面凹凸フィルムを得た。得られた表面凹凸フィルムは、テーパー角度が５０度のコンタクトホールで、ホール深さ５．１２μｍを得られ、表面凹凸域の凸部の膜厚が７．３μｍ、凹部の膜厚が２．９４μｍの凹凸表面形状を得た（y/ｘ=1.42,z/x=0.57）。
実施例では，反射特性に極めて優れた表面凹凸が形成されるが、比較例１では，ｙ/ｘ＜１．３、ｚ/ｘ＞０．７の条件を満足せず、拡散性が強く、液晶の配向不良を生じる凸部と凹部の膜厚差が生じた。
【００２１】
【発明の効果】
本発明により、コンタクトホール部の光漏れが少なく、かつ表面凹凸域で良好な光散乱性を提供する表面凹凸形成方法および、それにより得られる光学フィルム、拡散反射板及び表面凹凸フィルムを提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の表面凹凸形成方法の一例を示す断面図
【図２】本発明の拡散反射板の一例を示す断面図
【図３】本発明の光学フィルムの一例を示す断面図
【符号の説明】
１．下層膜
２．基材
３．感エネルギー性ネガ型樹脂組成物層
４．活性エネルギー線
５．パターニングマスク
６．マスク（感エネルギー性ネガ型樹脂組成物層除去用マスク）
７．偏光板
８．位相差フィルム
９．ガラス基板
１０．ブラックマトリクス
１１．カラーフィルタ
１２．透明電極
１３．平坦化膜
１４．反射膜
１５．配向膜
１６．液晶層
１７．スペーサ
１８．コンタクトホール
１９．ＴＦＴ

Claims (9)

1. 感エネルギー性樹脂組成物層を形成し、マスクを介して活性エネルギー線を照射し、エネルギー線が照射された部分と照射されない部分により感エネルギー性樹脂組成物層を貫通するコンタクトホール部と加熱により表面凹凸域を形成する表面凹凸形成方法であって、薄膜能動素子が形成された基板と、前記薄膜能動素子上に積層された表面凹凸域を備える感エネルギー性樹脂組成物層と、前記感エネルギー性樹脂組成物層上方に積層された画素電極を備える表示装置において、前記感エネルギー性樹脂組成物層が薄膜能動素子と画素電極を接続するための深さｘのコンタクトホール部と、表面凹凸域の最大膜厚ｙと最小膜厚ｚが、
   ｙ＞ｘ＞ｚであり、かつｙ/ｘ＜１．３、ｚ/ｘ＞０．７
   であることを特徴とする表面凹凸形成方法。
2. 感エネルギー性樹脂組成物層が、感エネルギー性ネガ型樹脂組成物層であり、（ａ）バインダ樹脂、（ｂ）エチレン性不飽和基を少なくとも一つ以上有する一種類以上の重合可能なモノマー又はオリゴマー、（ｃ）活性エネルギー線の照射により遊離ラジカルを生成する重合開始剤を含むものである請求項１に記載の表面凹凸形成方法。
3. マスクを少なくとも１枚以上用い、コンタクトホール部形成用と、表面凹凸域形成用の領域があり、表面凹凸域形成用のマスクには活性エネルギー線遮断部と活性エネルギー線透過部からなる規則的あるいは不規則的な繰り返しパターンを有し、活性エネルギー線遮断部と活性エネルギー線遮断部又は活性エネルギー線透過部と活性エネルギー線透過部との距離が、１〜５０μｍである請求項１または請求項２に記載の表面凹凸形成方法。
4. 加熱が５０〜２５０℃である請求項１ないし請求項３のいずれかに記載の表面凹凸形成方法。
5. 活性エネルギー線が紫外光線である請求項１ないし請求項４のいずれかに記載の表面凹凸形成方法。
6. 請求項１ないし請求項５のいずれかに記載の表面凹凸形成方法を用いて形成された光学フィルム。
7. 請求項６に記載の光学フィルムに反射膜を設けた拡散反射板。
8. 請求項７に記載の拡散反射板を反射型液晶ディスプレイに用いたことを特徴とする拡散反射板。
9. 請求項１ないし請求項５のいずれかに記載の凹凸形成方法を用いて形成された表面凹凸フィルム。

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