JP2002350841A - 反射型液晶表示素子およびその製造方法 - Google Patents
反射型液晶表示素子およびその製造方法Info
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- JP2002350841A JP2002350841A JP2001160878A JP2001160878A JP2002350841A JP 2002350841 A JP2002350841 A JP 2002350841A JP 2001160878 A JP2001160878 A JP 2001160878A JP 2001160878 A JP2001160878 A JP 2001160878A JP 2002350841 A JP2002350841 A JP 2002350841A
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 基板上に反射板の下地となる凹凸を形成する
工程の簡略化を図るとともに、光の映り込みを抑え良好
な光散乱性を有する。 【解決手段】 対向する基板のうち一方の基板１の表面
に感光性樹脂膜３を少なくとも１層以上塗布する工程
と、感光性樹脂膜３を大気圧から減圧状態にすることに
より感光性樹脂膜中の溶存気体、溶媒を蒸発させて発生
する泡により感光性樹脂膜の表面に多数の連続した凹凸
部１３’を形成する工程と、凹凸部１３’を有する感光
性樹脂膜３上に反射膜４を形成する工程とを含む。ま
た、感光性樹脂膜の表面に凹凸部１３’を形成した後、
凹凸部１３’の角を丸める熱処理工程を付加する。これ
により、凹凸形状を１回のフォトリソグラフィ工程によ
り形成でき、かつ、光源の映り込みを抑えるとともに散
乱性を有する反射板形成をすることができる。
工程の簡略化を図るとともに、光の映り込みを抑え良好
な光散乱性を有する。 【解決手段】 対向する基板のうち一方の基板１の表面
に感光性樹脂膜３を少なくとも１層以上塗布する工程
と、感光性樹脂膜３を大気圧から減圧状態にすることに
より感光性樹脂膜中の溶存気体、溶媒を蒸発させて発生
する泡により感光性樹脂膜の表面に多数の連続した凹凸
部１３’を形成する工程と、凹凸部１３’を有する感光
性樹脂膜３上に反射膜４を形成する工程とを含む。ま
た、感光性樹脂膜の表面に凹凸部１３’を形成した後、
凹凸部１３’の角を丸める熱処理工程を付加する。これ
により、凹凸形状を１回のフォトリソグラフィ工程によ
り形成でき、かつ、光源の映り込みを抑えるとともに散
乱性を有する反射板形成をすることができる。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】この発明は、外光を利用した
表示を行うための反射型液晶表示素子およびその製造方
法に関する。
表示を行うための反射型液晶表示素子およびその製造方
法に関する。
【０００２】
【従来の技術】バックライトなどの光源を必要としない
反射型表示素子、たとえば、反射型液晶表示装素子は、
反射板と、表示素子に入射する光および反射板で反射さ
れた光の光量を制御する光制御手段（液晶表示素子な
ど）とを組み合わせて表示を行うものであり、消費電力
が小さいため、携帯用の機器に利用されることが多い。
反射型表示素子では外光を反射する反射板が必要である
が、表示素子として十分な明るさを確保するためには、
反射板から反射される光のうち表示素子を見る観察者の
方向に反射する光をできるだけ多くし、光の利用効率を
高める必要がある。特にカラー表示を行う反射型表示素
子では、単色の表示素子に比べて高い反射率が求められ
る。
反射型表示素子、たとえば、反射型液晶表示装素子は、
反射板と、表示素子に入射する光および反射板で反射さ
れた光の光量を制御する光制御手段（液晶表示素子な
ど）とを組み合わせて表示を行うものであり、消費電力
が小さいため、携帯用の機器に利用されることが多い。
反射型表示素子では外光を反射する反射板が必要である
が、表示素子として十分な明るさを確保するためには、
反射板から反射される光のうち表示素子を見る観察者の
方向に反射する光をできるだけ多くし、光の利用効率を
高める必要がある。特にカラー表示を行う反射型表示素
子では、単色の表示素子に比べて高い反射率が求められ
る。
【０００３】高い反射率を得るためには、反射板として
反射率の高いアルミニウムや銀などの金属反射膜を用い
ることが考えられるが、平坦な面上に金属反射膜を形成
すると、鏡面反射して光源が反射板に映り込み、それ以
外ではほとんど反射しないために暗く、表示が非常に見
づらくなる。図４（ａ）はこの様子を示したものであ
る。反射板の垂線からの角度（座標角）が−３０度方向
から入射光を入射した場合、図４（ｂ）のように、反射
光は、＋３０度方向のみに鋭いピークとしてあらわれ、
それ以外ではほとんど反射光が得られない。
反射率の高いアルミニウムや銀などの金属反射膜を用い
ることが考えられるが、平坦な面上に金属反射膜を形成
すると、鏡面反射して光源が反射板に映り込み、それ以
外ではほとんど反射しないために暗く、表示が非常に見
づらくなる。図４（ａ）はこの様子を示したものであ
る。反射板の垂線からの角度（座標角）が−３０度方向
から入射光を入射した場合、図４（ｂ）のように、反射
光は、＋３０度方向のみに鋭いピークとしてあらわれ、
それ以外ではほとんど反射光が得られない。
【０００４】一方、紙の印刷物のように自然な見え（い
わゆるペーパーホワイト）を得ようとすると、反射板と
して白い紙やこれに類似するものを反射板として用いれ
ばよいが、観察者から大きく外れた方向にも光が反射さ
れるため、暗い表示となる。図５（ａ）にこの様子を示
す。図５（ｂ）のように、反射光がすべての方向に散乱
されるため、光源の映り込みはないが、どの方向から見
ても暗い表示となる。
わゆるペーパーホワイト）を得ようとすると、反射板と
して白い紙やこれに類似するものを反射板として用いれ
ばよいが、観察者から大きく外れた方向にも光が反射さ
れるため、暗い表示となる。図５（ａ）にこの様子を示
す。図５（ｂ）のように、反射光がすべての方向に散乱
されるため、光源の映り込みはないが、どの方向から見
ても暗い表示となる。
【０００５】この課題に対しては、従来例では、図６
（ａ）のように、フォトレジスト等により基板上に隔離
した多数の凸部１２を形成し、この上に反射膜４を形成
している。反射膜４としてアルミニウムなどを用いるこ
とにより、図６（ｂ）のように散乱性を付与し、光源の
映り込みを小さくしている。しかし、この従来例では、
凸部１２が隔離して形成されているため、凹部１１は平
面的であり、その反射光は正反射方向（図６（ｂ）では
＋３０度方向）にピークが現れ、光源の映り込みが発生
し、ほかの角度から見たときには暗いという課題を有し
ていた。
（ａ）のように、フォトレジスト等により基板上に隔離
した多数の凸部１２を形成し、この上に反射膜４を形成
している。反射膜４としてアルミニウムなどを用いるこ
とにより、図６（ｂ）のように散乱性を付与し、光源の
映り込みを小さくしている。しかし、この従来例では、
凸部１２が隔離して形成されているため、凹部１１は平
面的であり、その反射光は正反射方向（図６（ｂ）では
＋３０度方向）にピークが現れ、光源の映り込みが発生
し、ほかの角度から見たときには暗いという課題を有し
ていた。
【０００６】そこで、この課題を解決した従来例を、図
７（ａ）に示す。これは凹または凸形状１２が形成され
た基板上に液体を塗布、硬化することによって凹凸表面
に滑らかな起伏１４を形成し、前記従来例で課題であっ
た平面的な部分が除かれ、図７（ｂ）のように、正反射
方向に鋭いピークが現れない良好な光散乱性を確保した
ものである。
７（ａ）に示す。これは凹または凸形状１２が形成され
た基板上に液体を塗布、硬化することによって凹凸表面
に滑らかな起伏１４を形成し、前記従来例で課題であっ
た平面的な部分が除かれ、図７（ｂ）のように、正反射
方向に鋭いピークが現れない良好な光散乱性を確保した
ものである。
【０００７】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、後者の
従来例では、基板上に凹または凸形状を形成する工程
と、前記凹凸上に液体を塗布するという２段階の工程が
必要であり、凹凸形状を形成する工程のみに２段階の工
程が必要であり、工程が冗長であった。
従来例では、基板上に凹または凸形状を形成する工程
と、前記凹凸上に液体を塗布するという２段階の工程が
必要であり、凹凸形状を形成する工程のみに２段階の工
程が必要であり、工程が冗長であった。
【０００８】したがって、この発明の目的は、上記課題
を解決するものであり、基板上に反射板の下地となる凹
凸を形成する工程の簡略化を図るとともに、光の映り込
みを抑え良好な光散乱性を有する反射型液晶表示素子お
よびその製造方法を提供することである。
を解決するものであり、基板上に反射板の下地となる凹
凸を形成する工程の簡略化を図るとともに、光の映り込
みを抑え良好な光散乱性を有する反射型液晶表示素子お
よびその製造方法を提供することである。
【０００９】
【課題を解決するための手段】上記課題を解決するため
にこの発明の請求項１記載の反射型液晶表示素子は、対
向する基板のうち一方の基板上に反射膜を有する反射型
液晶表示素子であって、一方の基板上に形成された感光
性樹脂膜の表面に多数の連続した凹凸部が形成され、前
記凹凸部を有する前記感光性樹脂膜上に前記反射膜を形
成した。
にこの発明の請求項１記載の反射型液晶表示素子は、対
向する基板のうち一方の基板上に反射膜を有する反射型
液晶表示素子であって、一方の基板上に形成された感光
性樹脂膜の表面に多数の連続した凹凸部が形成され、前
記凹凸部を有する前記感光性樹脂膜上に前記反射膜を形
成した。
【００１０】このように、一方の基板上に形成された感
光性樹脂膜の表面に多数の連続した凹凸部が形成され、
凹凸部を有する感光性樹脂膜上に反射膜を形成したの
で、凹凸形状を１工程により形成でき、かつ、光源の映
り込みを抑えるとともに良好な光散乱性を有する反射型
液晶表示素子を得ることができる。
光性樹脂膜の表面に多数の連続した凹凸部が形成され、
凹凸部を有する感光性樹脂膜上に反射膜を形成したの
で、凹凸形状を１工程により形成でき、かつ、光源の映
り込みを抑えるとともに良好な光散乱性を有する反射型
液晶表示素子を得ることができる。
【００１１】請求項２記載の反射型液晶表示素子の製造
方法は、対向する基板のうち一方の基板の表面に感光性
樹脂膜を少なくとも１層以上塗布する工程と、前記感光
性樹脂膜を大気圧から減圧状態にすることにより前記感
光性樹脂膜中の溶存気体、溶媒を蒸発させて発生する泡
により前記感光性樹脂膜の表面に多数の連続した凹凸部
を形成する工程と、前記凹凸部を有する前記感光性樹脂
膜上に反射膜を形成する工程とを含む。
方法は、対向する基板のうち一方の基板の表面に感光性
樹脂膜を少なくとも１層以上塗布する工程と、前記感光
性樹脂膜を大気圧から減圧状態にすることにより前記感
光性樹脂膜中の溶存気体、溶媒を蒸発させて発生する泡
により前記感光性樹脂膜の表面に多数の連続した凹凸部
を形成する工程と、前記凹凸部を有する前記感光性樹脂
膜上に反射膜を形成する工程とを含む。
【００１２】このように、対向する基板のうち一方の基
板の表面に感光性樹脂膜を少なくとも１層以上塗布する
工程と、感光性樹脂膜を大気圧から減圧状態にすること
により感光性樹脂膜中の溶存気体、溶媒を蒸発させて発
生する泡により感光性樹脂膜の表面に多数の連続した凹
凸部を形成する工程と、凹凸部を有する感光性樹脂膜上
に反射膜を形成する工程とを含むので、凹凸形状を１回
のフォトリソグラフィ工程により形成でき、かつ、光源
の映り込みを抑えるとともに散乱性を有する反射板形成
をすることができる。
板の表面に感光性樹脂膜を少なくとも１層以上塗布する
工程と、感光性樹脂膜を大気圧から減圧状態にすること
により感光性樹脂膜中の溶存気体、溶媒を蒸発させて発
生する泡により感光性樹脂膜の表面に多数の連続した凹
凸部を形成する工程と、凹凸部を有する感光性樹脂膜上
に反射膜を形成する工程とを含むので、凹凸形状を１回
のフォトリソグラフィ工程により形成でき、かつ、光源
の映り込みを抑えるとともに散乱性を有する反射板形成
をすることができる。
【００１３】請求項３記載の反射型液晶表示素子の製造
方法は、請求項２記載の反射型液晶表示素子の製造方法
において、感光性樹脂膜を減圧状態にする工程で、減圧
状態を５００×１．３３３２２×１０2 Ｐａ以下の圧力
にする。このように、感光性樹脂膜を減圧状態にする工
程で、減圧状態を５００×１．３３３２２×１０2 Ｐａ
以下の圧力にするので、感光性樹脂膜中の溶存気体、溶
媒を蒸発させて発生する泡により感光性樹脂膜の表面に
多数の連続した凹凸部を形成することができる。
方法は、請求項２記載の反射型液晶表示素子の製造方法
において、感光性樹脂膜を減圧状態にする工程で、減圧
状態を５００×１．３３３２２×１０2 Ｐａ以下の圧力
にする。このように、感光性樹脂膜を減圧状態にする工
程で、減圧状態を５００×１．３３３２２×１０2 Ｐａ
以下の圧力にするので、感光性樹脂膜中の溶存気体、溶
媒を蒸発させて発生する泡により感光性樹脂膜の表面に
多数の連続した凹凸部を形成することができる。
【００１４】請求項４記載の反射型液晶表示素子の製造
方法は、請求項２記載の反射型液晶表示素子の製造方法
において、感光性樹脂膜の表面に凹凸部を形成した後、
凹凸部の角を丸める熱処理工程を付加する。このよう
に、感光性樹脂膜の表面に凹凸部を形成した後、凹凸部
の角を丸める熱処理工程を付加するので、感光性樹脂膜
表面に所望の凹凸曲面を形成することができる。このた
め、反射膜は感光性樹脂膜表面の凹凸形状に沿って製膜
され、良好な光散乱性を有する反射板を形成できる。
方法は、請求項２記載の反射型液晶表示素子の製造方法
において、感光性樹脂膜の表面に凹凸部を形成した後、
凹凸部の角を丸める熱処理工程を付加する。このよう
に、感光性樹脂膜の表面に凹凸部を形成した後、凹凸部
の角を丸める熱処理工程を付加するので、感光性樹脂膜
表面に所望の凹凸曲面を形成することができる。このた
め、反射膜は感光性樹脂膜表面の凹凸形状に沿って製膜
され、良好な光散乱性を有する反射板を形成できる。
【００１５】
【発明の実施の形態】この発明の実施の形態を図１〜図
３に基づいて説明する。図１はこの発明の実施の形態の
反射型液晶表示素子の画素部分の断面図である。
３に基づいて説明する。図１はこの発明の実施の形態の
反射型液晶表示素子の画素部分の断面図である。
【００１６】図１に示すように、この反射型液晶表示素
子は、対向する基板１，８のうち一方の基板１上に反射
膜４を有する反射型液晶表示素子であって、一方の基板
１上に形成された感光性樹脂膜３の表面に多数の連続し
た凹凸部１３が形成され、凹凸部１３を有する感光性樹
脂膜３上に反射膜４を形成した。図１において、５は液
晶層、６は共通電極、７はカラーフィルタ、９は位相差
板、１０は偏光板である。
子は、対向する基板１，８のうち一方の基板１上に反射
膜４を有する反射型液晶表示素子であって、一方の基板
１上に形成された感光性樹脂膜３の表面に多数の連続し
た凹凸部１３が形成され、凹凸部１３を有する感光性樹
脂膜３上に反射膜４を形成した。図１において、５は液
晶層、６は共通電極、７はカラーフィルタ、９は位相差
板、１０は偏光板である。
【００１７】図２および図３はこの発明の実施の形態の
反射板の製造方法を説明する工程図である。図２（ａ）
のように基板１上に感光性樹脂膜３をスピンコートによ
り形成した後、減圧室内で１×１．３３３２２×１０-2
まで減圧処理を行う。図３に示すように、減圧開始直後
に感光性樹脂膜３中に溶解していた気体、溶媒が蒸発す
る際泡が発生する。その後、さらに減圧状態が維持され
ると泡が破れ、感光性樹脂膜３中の溶媒の蒸発が進み、
感光性樹脂膜３の流動性が無くなる事により、泡が発生
し破れた際の多数の連続した凹凸部１３’が残り、凹凸
層を形成する。その後、１１０℃９０秒プリベークし
た。感光性樹脂膜にはノボラック樹脂系のポジ型感光性
材料を用いた。プリベーク後の膜は４μｍの厚みとし
た。次にコンタクトホールの領域のみを露光するフォト
マスクを用いて露光を実施し、現像液で現像して図２
（ｂ）のように、コンタクトホールの個所を取り除くパ
ターニングを実施した。次に、凹凸層が形成されコンタ
クトホールをパターニングした基板を、２００℃のオー
ブンで１時間熱処理し、メルトフローさせて図２（ｃ）
のように感光性樹脂層表面に所望の凹凸曲面（滑らかな
起伏１３）を形成した。次に、図２（ｄ）のように上記
感光性樹脂層上に反射膜４としてアルミニウムを０．２
μｍの厚みで製膜し、これに画素形状にパターニングを
実施した。反射膜４は感光性樹脂層表面の凹凸形状に沿
って製膜され、光散乱性を有する反射板を形成できた。
反射板の製造方法を説明する工程図である。図２（ａ）
のように基板１上に感光性樹脂膜３をスピンコートによ
り形成した後、減圧室内で１×１．３３３２２×１０-2
まで減圧処理を行う。図３に示すように、減圧開始直後
に感光性樹脂膜３中に溶解していた気体、溶媒が蒸発す
る際泡が発生する。その後、さらに減圧状態が維持され
ると泡が破れ、感光性樹脂膜３中の溶媒の蒸発が進み、
感光性樹脂膜３の流動性が無くなる事により、泡が発生
し破れた際の多数の連続した凹凸部１３’が残り、凹凸
層を形成する。その後、１１０℃９０秒プリベークし
た。感光性樹脂膜にはノボラック樹脂系のポジ型感光性
材料を用いた。プリベーク後の膜は４μｍの厚みとし
た。次にコンタクトホールの領域のみを露光するフォト
マスクを用いて露光を実施し、現像液で現像して図２
（ｂ）のように、コンタクトホールの個所を取り除くパ
ターニングを実施した。次に、凹凸層が形成されコンタ
クトホールをパターニングした基板を、２００℃のオー
ブンで１時間熱処理し、メルトフローさせて図２（ｃ）
のように感光性樹脂層表面に所望の凹凸曲面（滑らかな
起伏１３）を形成した。次に、図２（ｄ）のように上記
感光性樹脂層上に反射膜４としてアルミニウムを０．２
μｍの厚みで製膜し、これに画素形状にパターニングを
実施した。反射膜４は感光性樹脂層表面の凹凸形状に沿
って製膜され、光散乱性を有する反射板を形成できた。
【００１８】次に、図１に示すように、上記反射板と対
向基板８の表面に、液晶材料を配向させるための配向膜
を形成したのち所定の間隙を保って貼り合わせた。対向
基板８には、あらかじめ赤（Ｒ）、緑（Ｇ）、青（Ｂ）
の各色に相当するカラーフィルタ７が画素ごとに形成さ
れてマトリクス状に配置し、さらにＩＴＯ（インジウム
錫酸化物）からなる透明電極を形成して、液晶表示素子
の共通電極６として用いる。配向膜は基板１の反射板４
側、および対向基板８の共通電極６側に形成し、これら
配向膜を形成した面を向かい合わせて約４μｍの間隙で
張り合わせ、間隙に液晶材料を封入して液晶層５を形成
した。さらに、前記対向基板の外側に位相差板９、偏光
板１０を貼って反射型液晶素子を完成させた。
向基板８の表面に、液晶材料を配向させるための配向膜
を形成したのち所定の間隙を保って貼り合わせた。対向
基板８には、あらかじめ赤（Ｒ）、緑（Ｇ）、青（Ｂ）
の各色に相当するカラーフィルタ７が画素ごとに形成さ
れてマトリクス状に配置し、さらにＩＴＯ（インジウム
錫酸化物）からなる透明電極を形成して、液晶表示素子
の共通電極６として用いる。配向膜は基板１の反射板４
側、および対向基板８の共通電極６側に形成し、これら
配向膜を形成した面を向かい合わせて約４μｍの間隙で
張り合わせ、間隙に液晶材料を封入して液晶層５を形成
した。さらに、前記対向基板の外側に位相差板９、偏光
板１０を貼って反射型液晶素子を完成させた。
【００１９】さらに、この反射型液晶表示素子を表示部
として、コンピューター用表示装置、携帯情報端末装
置、携帯電話などの反射型液晶表示装置を構成すること
ができる。
として、コンピューター用表示装置、携帯情報端末装
置、携帯電話などの反射型液晶表示装置を構成すること
ができる。
【００２０】また、この実施の形態では凹凸層を形成す
る材料として、ノボラック樹脂系のポジ型感光性材料を
用いたが、これに限定されない。すなわち、ポジ型、ネ
ガ型あるいはノボラック樹脂系、アクリル樹脂系に拘ら
ず、すくなくとも露光プロセスを用いてパターニングで
きる感光性樹脂であれば使用可能である。
る材料として、ノボラック樹脂系のポジ型感光性材料を
用いたが、これに限定されない。すなわち、ポジ型、ネ
ガ型あるいはノボラック樹脂系、アクリル樹脂系に拘ら
ず、すくなくとも露光プロセスを用いてパターニングで
きる感光性樹脂であれば使用可能である。
【００２１】また、この実施の形態では、感光性樹脂膜
３をスピンコートにより形成したが、ロールコート方
式、スリット塗布方式、ラミネート方式により形成して
もよい。
３をスピンコートにより形成したが、ロールコート方
式、スリット塗布方式、ラミネート方式により形成して
もよい。
【００２２】また、この実施の形態では凹凸層を形成す
る材料として、ノボラック樹脂系のポジ型感光性材料を
用いたが、これに限定されない。すなわち、非感光性樹
脂を用いて凹凸層を形成した後、ポジ型、ネガ型あるい
はノボラック樹脂系、アクリル樹脂系に拘らず、すくな
くとも露光プロセスを用いてパターニングできる感光性
樹脂をさらに用いて、コンタクトホールパターンを形成
した後、エッチングによりコンタクトホールを形成すれ
ば使用可能である。
る材料として、ノボラック樹脂系のポジ型感光性材料を
用いたが、これに限定されない。すなわち、非感光性樹
脂を用いて凹凸層を形成した後、ポジ型、ネガ型あるい
はノボラック樹脂系、アクリル樹脂系に拘らず、すくな
くとも露光プロセスを用いてパターニングできる感光性
樹脂をさらに用いて、コンタクトホールパターンを形成
した後、エッチングによりコンタクトホールを形成すれ
ば使用可能である。
【００２３】また、この実施の形態では、基板として透
明なガラスを用いたが、たとえばプラスチックなどの樹
脂で構成された基板を用いてもよい。また、基板は、シ
リコンなどの不透明な基板を用いることもできる。
明なガラスを用いたが、たとえばプラスチックなどの樹
脂で構成された基板を用いてもよい。また、基板は、シ
リコンなどの不透明な基板を用いることもできる。
【００２４】
【発明の効果】この発明の請求項１記載の反射型液晶表
示素子によれば、一方の基板上に形成された感光性樹脂
膜の表面に多数の連続した凹凸部が形成され、凹凸部を
有する感光性樹脂膜上に反射膜を形成したので、凹凸形
状を１工程により形成でき、かつ、光源の映り込みを抑
えるとともに良好な光散乱性を有する反射型液晶表示素
子を得ることができる。
示素子によれば、一方の基板上に形成された感光性樹脂
膜の表面に多数の連続した凹凸部が形成され、凹凸部を
有する感光性樹脂膜上に反射膜を形成したので、凹凸形
状を１工程により形成でき、かつ、光源の映り込みを抑
えるとともに良好な光散乱性を有する反射型液晶表示素
子を得ることができる。
【００２５】この発明の請求項２記載の反射型液晶表示
素子の製造方法によれば、対向する基板のうち一方の基
板の表面に感光性樹脂膜を少なくとも１層以上塗布する
工程と、感光性樹脂膜を大気圧から減圧状態にすること
により感光性樹脂膜中の溶存気体、溶媒を蒸発させて発
生する泡により感光性樹脂膜の表面に多数の連続した凹
凸部を形成する工程と、凹凸部を有する感光性樹脂膜上
に反射膜を形成する工程とを含むので、光源の映り込み
を抑え、良好な散乱性を有する反射板を作成することが
できる。また、この反射板を作成する際に、下地となる
凹凸形状を１回の露光工程で実施することができ、従来
に比べて、工程を簡略化することができる。
素子の製造方法によれば、対向する基板のうち一方の基
板の表面に感光性樹脂膜を少なくとも１層以上塗布する
工程と、感光性樹脂膜を大気圧から減圧状態にすること
により感光性樹脂膜中の溶存気体、溶媒を蒸発させて発
生する泡により感光性樹脂膜の表面に多数の連続した凹
凸部を形成する工程と、凹凸部を有する感光性樹脂膜上
に反射膜を形成する工程とを含むので、光源の映り込み
を抑え、良好な散乱性を有する反射板を作成することが
できる。また、この反射板を作成する際に、下地となる
凹凸形状を１回の露光工程で実施することができ、従来
に比べて、工程を簡略化することができる。
【００２６】請求項３では、感光性樹脂膜を減圧状態に
する工程で、減圧状態を５００×１．３３３２２×１０
2 Ｐａ以下の圧力にするので、感光性樹脂膜中の溶存気
体、溶媒を蒸発させて発生する泡により感光性樹脂膜の
表面に多数の連続した凹凸部を形成することができる。
する工程で、減圧状態を５００×１．３３３２２×１０
2 Ｐａ以下の圧力にするので、感光性樹脂膜中の溶存気
体、溶媒を蒸発させて発生する泡により感光性樹脂膜の
表面に多数の連続した凹凸部を形成することができる。
【００２７】請求項４では、感光性樹脂膜の表面に凹凸
部を形成した後、凹凸部の角を丸める熱処理工程を付加
するので、感光性樹脂膜表面に所望の凹凸曲面を形成す
ることができる。このため、反射膜は感光性樹脂膜表面
の凹凸形状に沿って製膜され、良好な光散乱性を有する
反射板を形成できる。
部を形成した後、凹凸部の角を丸める熱処理工程を付加
するので、感光性樹脂膜表面に所望の凹凸曲面を形成す
ることができる。このため、反射膜は感光性樹脂膜表面
の凹凸形状に沿って製膜され、良好な光散乱性を有する
反射板を形成できる。
【図１】この発明の実施の形態の反射板型液晶表示素子
の画素部分の断面図
の画素部分の断面図
【図２】この発明の実施の形態の反射板の製造方法を説
明する工程図
明する工程図
【図３】図２（ａ）の工程の説明図
【図４】従来の鏡面性反射板の反射特性の説明図
【図５】従来の完全均等拡散反射板の反射特性の説明図
【図６】従来の凹凸散乱反射板の反射特性の説明図
【図７】従来の凹凸散乱反射板の反射特性の説明図
１ 基板 ２ 駆動素子 ３ 感光性樹脂膜 ４ 反射膜 ５ 液晶層 ６ 共通電極 ７ カラーフィルタ ８ 対向基板 ９ 位相差板 １０ 偏光板 １１ 凹部 １２ 凸部 １３’凹凸部 １３ 滑らかな起伏
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き Ｆターム(参考） 2H042 BA04 BA13 BA15 BA20 DA02 DA11 DC01 DC08 DD10 DE04 2H091 FA16Y FC22 FC25 LA12 LA16
Claims (4)
- 【請求項１】 対向する基板のうち一方の基板上に反射
膜を有する反射型液晶表示素子であって、一方の基板上
に形成された感光性樹脂膜の表面に多数の連続した凹凸
部が形成され、前記凹凸部を有する前記感光性樹脂膜上
に前記反射膜を形成したことを特徴とする反射型液晶表
示素子。 - 【請求項２】 対向する基板のうち一方の基板の表面に
感光性樹脂膜を少なくとも１層以上塗布する工程と、前
記感光性樹脂膜を大気圧から減圧状態にすることにより
前記感光性樹脂膜中の溶存気体、溶媒を蒸発させて発生
する泡により前記感光性樹脂膜の表面に多数の連続した
凹凸部を形成する工程と、前記凹凸部を有する前記感光
性樹脂膜上に反射膜を形成する工程とを含む反射型液晶
表示素子の製造方法。 - 【請求項３】 感光性樹脂膜を減圧状態にする工程で、
減圧状態を５００×１．３３３２２×１０2 Ｐａ以下の
圧力にする請求項２記載の反射型液晶表示素子の製造方
法。 - 【請求項４】 感光性樹脂膜の表面に凹凸部を形成した
後、凹凸部の角を丸める熱処理工程を付加する請求項２
記載の反射型液晶表示素子の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2001160878A JP2002350841A (ja) | 2001-05-29 | 2001-05-29 | 反射型液晶表示素子およびその製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2001160878A JP2002350841A (ja) | 2001-05-29 | 2001-05-29 | 反射型液晶表示素子およびその製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2002350841A true JP2002350841A (ja) | 2002-12-04 |
Family
ID=19004234
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2001160878A Pending JP2002350841A (ja) | 2001-05-29 | 2001-05-29 | 反射型液晶表示素子およびその製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2002350841A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6927017B2 (en) * | 2003-12-24 | 2005-08-09 | Boe Hydis Technology Co., Ltd. | Method for fabricating reflective-type LCD |
| US7011933B2 (en) * | 2003-08-07 | 2006-03-14 | Taiwan Semiconductor Manufacturing Co., Ltd. | Method for manufacturing micro-optical mirror arrays |
| CN113985502A (zh) * | 2021-10-29 | 2022-01-28 | 京东方科技集团股份有限公司 | 一种减反膜的制备方法、减反膜结构以及显示装置 |
-
2001
- 2001-05-29 JP JP2001160878A patent/JP2002350841A/ja active Pending
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US7011933B2 (en) * | 2003-08-07 | 2006-03-14 | Taiwan Semiconductor Manufacturing Co., Ltd. | Method for manufacturing micro-optical mirror arrays |
| US6927017B2 (en) * | 2003-12-24 | 2005-08-09 | Boe Hydis Technology Co., Ltd. | Method for fabricating reflective-type LCD |
| CN100345042C (zh) * | 2003-12-24 | 2007-10-24 | 京东方显示器科技公司 | 反射型液晶显示装置的制造方法 |
| CN113985502A (zh) * | 2021-10-29 | 2022-01-28 | 京东方科技集团股份有限公司 | 一种减反膜的制备方法、减反膜结构以及显示装置 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
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