JPH11326900A - 反射型液晶表示素子の反射基板およびその製造方法 - Google Patents
反射型液晶表示素子の反射基板およびその製造方法Info
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- JPH11326900A JPH11326900A JP11101161A JP10116199A JPH11326900A JP H11326900 A JPH11326900 A JP H11326900A JP 11101161 A JP11101161 A JP 11101161A JP 10116199 A JP10116199 A JP 10116199A JP H11326900 A JPH11326900 A JP H11326900A
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 不均一な散布により光の干渉を避け光利用効
率を高められる反射型液晶表示素子の反射基板を提供す
る。 【解決手段】 扁平な基材４００と、その基材４００の
片面にスペーサを分散塗布し、熱を加えて融着させて形
成される不均一なパターンの屈曲層４０２と、その屈曲
層４０２の上部に形成される不均一なパターンの反射膜
４０４とからなる。
率を高められる反射型液晶表示素子の反射基板を提供す
る。 【解決手段】 扁平な基材４００と、その基材４００の
片面にスペーサを分散塗布し、熱を加えて融着させて形
成される不均一なパターンの屈曲層４０２と、その屈曲
層４０２の上部に形成される不均一なパターンの反射膜
４０４とからなる。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は反射型液晶表示素子
の反射基板およびその製造方法に関する。さらに詳しく
は、液晶表示素子の外部から入射した外部入射光の反射
効率を高めることができる反射型液晶表示素子の反射基
板およびその製造方法に関する。
の反射基板およびその製造方法に関する。さらに詳しく
は、液晶表示素子の外部から入射した外部入射光の反射
効率を高めることができる反射型液晶表示素子の反射基
板およびその製造方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】液晶表示素子（Liquid Crystal Displa
y）は、低駆動電圧および低消費電力、液晶パネルの平
坦性などによって、デジタル腕時計、ポケットベル、携
帯電話またはノートブックコンピューターなどに多様に
適用されている平板ディスプレーであり、配列方向の変
化により入射光の反射特性が変化する液晶の誘電異方性
によって求める文字や映像を具現する。このような液晶
表示素子には、液晶セルの基板の裏面にバックライトを
採用して光を局部的に透過させて文字や数字などを表示
する透過型（Transmissive Type）と液晶セルの基板の
一面にフィルム状の反射板を採用して前面基板から入射
した光を反射させる反射型（Reflective Type）とがあ
る。
y）は、低駆動電圧および低消費電力、液晶パネルの平
坦性などによって、デジタル腕時計、ポケットベル、携
帯電話またはノートブックコンピューターなどに多様に
適用されている平板ディスプレーであり、配列方向の変
化により入射光の反射特性が変化する液晶の誘電異方性
によって求める文字や映像を具現する。このような液晶
表示素子には、液晶セルの基板の裏面にバックライトを
採用して光を局部的に透過させて文字や数字などを表示
する透過型（Transmissive Type）と液晶セルの基板の
一面にフィルム状の反射板を採用して前面基板から入射
した光を反射させる反射型（Reflective Type）とがあ
る。
【０００３】その中で、反射型液晶表示素子は液晶表示
素子に入射した外部入射光を再び前面に反射させてその
外部入射光が液晶セルを通過して透明電極によって信号
処理された画像を表現する方式であるが、信号処理され
た画像が高い輝度を得るためには外部入射光の均一な反
射が求められている。
素子に入射した外部入射光を再び前面に反射させてその
外部入射光が液晶セルを通過して透明電極によって信号
処理された画像を表現する方式であるが、信号処理され
た画像が高い輝度を得るためには外部入射光の均一な反
射が求められている。
【０００４】従来の反射型液晶表示素子の一般的な構造
を図６に示す。
を図６に示す。
【０００５】従来の反射型液晶表示素子は、一定な間隔
でお互いに対向して配置された上部および下部基材２、
４を含み、上部基材２の下面には必要ならばカラーフィ
ルター（図示せず）を形成し、下部基材４の上面には反
射層６と拡散層８が積層されている。
でお互いに対向して配置された上部および下部基材２、
４を含み、上部基材２の下面には必要ならばカラーフィ
ルター（図示せず）を形成し、下部基材４の上面には反
射層６と拡散層８が積層されている。
【０００６】また、上部基材２と下部基材４とのあいだ
に透明電極１０ａ、１０ｂと絶縁層１２ａ、１２ｂおよ
び配向層１４ａ、１４ｂが順次積層されている。このよ
うに設けられた上部および下部基材２、４は図示してい
ないシリング手段によってアセンブリされて、その間に
液晶１６を注入して密封されている。
に透明電極１０ａ、１０ｂと絶縁層１２ａ、１２ｂおよ
び配向層１４ａ、１４ｂが順次積層されている。このよ
うに設けられた上部および下部基材２、４は図示してい
ないシリング手段によってアセンブリされて、その間に
液晶１６を注入して密封されている。
【０００７】なお、上部基材２の外部には偏光板１８と
拡散板２０が付着されている。とくにＳＴＮ−ＬＣＤの
場合には上部基材２の上面または下面にリターデーショ
ンフィルムをさらに設置することもできる。
拡散板２０が付着されている。とくにＳＴＮ−ＬＣＤの
場合には上部基材２の上面または下面にリターデーショ
ンフィルムをさらに設置することもできる。
【０００８】このように形成された反射型液晶表示素子
はＴＮ方式およびＳＴＮ方式すべて偏光板１８によって
直線偏光で入射した外部(自然)光の約５０％だけを画像
表示に使用することになるので、光利用効率が低いとい
う問題点がある。
はＴＮ方式およびＳＴＮ方式すべて偏光板１８によって
直線偏光で入射した外部(自然)光の約５０％だけを画像
表示に使用することになるので、光利用効率が低いとい
う問題点がある。
【０００９】このような問題点を改善するための従来の
例として、特開平４−２４３２２６号公報には反射板自
体が光拡散効果をもつようにして光利用効率を向上させ
た反射型液晶表示装置が開示されている。
例として、特開平４−２４３２２６号公報には反射板自
体が光拡散効果をもつようにして光利用効率を向上させ
た反射型液晶表示装置が開示されている。
【００１０】この反射型液晶表示素子は図７に図示した
ように、基材４の片面に光感光性樹脂をコーティング
し、フォトマスクを用いてパターニングすることにより
同じ形状をもつ多数の微細な凸部６０を形成し、その凸
部６０を熱処理し、その上に反射膜６２を形成した反射
板６４を設けている。
ように、基材４の片面に光感光性樹脂をコーティング
し、フォトマスクを用いてパターニングすることにより
同じ形状をもつ多数の微細な凸部６０を形成し、その凸
部６０を熱処理し、その上に反射膜６２を形成した反射
板６４を設けている。
【００１１】しかし、このような反射板６４は、フォト
マスクを用いたパターニング工程によって、凸部６０の
形状が均一に形成されるので、かえって反射光の干渉が
生じて光利用効率が低下するという問題点がある。ま
た、均一な凸部６０を形成するためには、露光装置やフ
ォトマスクなどを使用しなければならないため、その製
造工程が複雑であり、製品の不良率が増大するという問
題点がある。
マスクを用いたパターニング工程によって、凸部６０の
形状が均一に形成されるので、かえって反射光の干渉が
生じて光利用効率が低下するという問題点がある。ま
た、均一な凸部６０を形成するためには、露光装置やフ
ォトマスクなどを使用しなければならないため、その製
造工程が複雑であり、製品の不良率が増大するという問
題点がある。
【００１２】従来公知された他の例として、特開平９−
２５８２１９号公報は、光を反射する面に凹凸を形成し
て、該凹凸に対する接線の傾斜角が２゜未満になってい
る領域の面積と基板面積に対する比率を２０〜６０％以
下にした反射層構造をもつ液晶表示素子を開示してい
る。
２５８２１９号公報は、光を反射する面に凹凸を形成し
て、該凹凸に対する接線の傾斜角が２゜未満になってい
る領域の面積と基板面積に対する比率を２０〜６０％以
下にした反射層構造をもつ液晶表示素子を開示してい
る。
【００１３】しかし、この液晶表示素子は、前述の反射
板６４の構造と同様にフォトマスクを利用して凹凸形状
を均一に形成するので、反射光の干渉によって光利用効
率が低下するとともに、また凹凸の平坦度を２０〜６０
％範囲で制御するために、正確で複雑な製造工程が求め
られる結果、製品の不良率が増大するという問題点があ
る。
板６４の構造と同様にフォトマスクを利用して凹凸形状
を均一に形成するので、反射光の干渉によって光利用効
率が低下するとともに、また凹凸の平坦度を２０〜６０
％範囲で制御するために、正確で複雑な製造工程が求め
られる結果、製品の不良率が増大するという問題点があ
る。
【００１４】
【発明が解決しようとする課題】本発明は、このような
問題点を解決するために、不均一な散布により光の干渉
を避け光利用効率を高められる反射型液晶表示素子の反
射基板および、フォトマスクと露光装備を使用しなく
て、その製造を容易に実現できる反射型液晶表示素子の
反射基板の製造方法を提供することを目的とする。
問題点を解決するために、不均一な散布により光の干渉
を避け光利用効率を高められる反射型液晶表示素子の反
射基板および、フォトマスクと露光装備を使用しなく
て、その製造を容易に実現できる反射型液晶表示素子の
反射基板の製造方法を提供することを目的とする。
【００１５】
【課題を解決するための手段】前記目的を達成するため
に本発明の反射型液晶表示素子の反射基板は、扁平な基
材と、その基材の片面にスペーサを分散塗布し、熱を加
えて融着させて形成された不均一なパターンの屈曲層
と、その屈曲層の上部に形成される不均一なパターンの
反射膜とからなることを特徴とする。
に本発明の反射型液晶表示素子の反射基板は、扁平な基
材と、その基材の片面にスペーサを分散塗布し、熱を加
えて融着させて形成された不均一なパターンの屈曲層
と、その屈曲層の上部に形成される不均一なパターンの
反射膜とからなることを特徴とする。
【００１６】前記スペーサが熱硬化性樹脂、またはコア
とその表面に塗布される熱硬化性樹脂とからなるのが好
ましい。
とその表面に塗布される熱硬化性樹脂とからなるのが好
ましい。
【００１７】前記コアがシリカまたはプラスチックであ
るのが好ましい。
るのが好ましい。
【００１８】前記スペーサの直径が１〜１０μｍ程度で
あるのが好ましい。
あるのが好ましい。
【００１９】前記反射膜の表面粗さが６゜〜１０゜の範
囲であるのが好ましい。
囲であるのが好ましい。
【００２０】前記屈曲層と反射膜とのあいだに平坦化層
をさらに形成するのが好ましい。
をさらに形成するのが好ましい。
【００２１】また本発明の反射型液晶表示素子の反射基
板の製造方法は、扁平な基材の片面に熱硬化性樹脂から
作製されている定型または非定型の多数のスペーサを分
散塗布工程と、そのスペーサに熱を加えて硬化させて不
均一なパターンの屈曲層を形成する工程と、その屈曲層
の上に入射光を反射させる反射膜を形成する工程を含む
ことを特徴とする。
板の製造方法は、扁平な基材の片面に熱硬化性樹脂から
作製されている定型または非定型の多数のスペーサを分
散塗布工程と、そのスペーサに熱を加えて硬化させて不
均一なパターンの屈曲層を形成する工程と、その屈曲層
の上に入射光を反射させる反射膜を形成する工程を含む
ことを特徴とする。
【００２２】前記スペーサの分散塗布工程が、熱硬化性
樹脂を硬化させて１０μｍ以下の定型または非定型で作
って、それを純水またはイソプロピルアルコールと混合
したのち、ランダムに分散塗布することを特徴とするの
が好ましい。
樹脂を硬化させて１０μｍ以下の定型または非定型で作
って、それを純水またはイソプロピルアルコールと混合
したのち、ランダムに分散塗布することを特徴とするの
が好ましい。
【００２３】前記反射膜を形成する前に、前記屈曲層の
上に熱硬化性樹脂をスピンコーティングして平坦化層を
形成する工程をさらに含むのが好ましい。
上に熱硬化性樹脂をスピンコーティングして平坦化層を
形成する工程をさらに含むのが好ましい。
【００２４】さらに本発明の反射型液晶表示素子の反射
基板の製造方法は、扁平な基材の片面にコアの表面に熱
硬化性樹脂が塗布された多数のスペーサを分散塗布する
工程と、そのスペーサに熱を加えて熱硬化性樹脂を溶融
させ、再び硬化させてコアの周りに熱硬化性樹脂が融着
された形態で屈曲層を形成する工程と、その屈曲層の上
に入射光を反射させる反射膜を形成する工程を含む。
基板の製造方法は、扁平な基材の片面にコアの表面に熱
硬化性樹脂が塗布された多数のスペーサを分散塗布する
工程と、そのスペーサに熱を加えて熱硬化性樹脂を溶融
させ、再び硬化させてコアの周りに熱硬化性樹脂が融着
された形態で屈曲層を形成する工程と、その屈曲層の上
に入射光を反射させる反射膜を形成する工程を含む。
【００２５】前記反射膜を形成する前に、前記屈曲層の
上に熱硬化性樹脂をスピンコーティングして平坦化層を
形成する工程をさらに含むのが好ましい。
上に熱硬化性樹脂をスピンコーティングして平坦化層を
形成する工程をさらに含むのが好ましい。
【００２６】
【発明の実施の形態】以下、本発明を具現する望ましい
実施の形態を添付した図面に基づいて詳しく説明する。
実施の形態を添付した図面に基づいて詳しく説明する。
【００２７】本発明において、反射型液晶表示素子の構
造は図６に示した従来の液晶表示素子と同じであるので
その詳細な説明は簡略する。
造は図６に示した従来の液晶表示素子と同じであるので
その詳細な説明は簡略する。
【００２８】図１は本発明の反射型液晶表示素子の反射
基板の一実施の形態を示している。
基板の一実施の形態を示している。
【００２９】まず、お互い対向する上部および下部基材
はその内面に透明電極と配向層をそれぞれ積層して、そ
のあいだに液晶を注入したのち、密封して反射型液晶表
示素子がアセンブリされている。このとき、上部基材の
上面または下面には、ＳＴＮ−ＬＣＤの場合、リターデ
ーションフィルムをさらに設置できて、カラーを具現す
るために上部基材の下面にカラーフィルタをさらに設置
することもできる。
はその内面に透明電極と配向層をそれぞれ積層して、そ
のあいだに液晶を注入したのち、密封して反射型液晶表
示素子がアセンブリされている。このとき、上部基材の
上面または下面には、ＳＴＮ−ＬＣＤの場合、リターデ
ーションフィルムをさらに設置できて、カラーを具現す
るために上部基材の下面にカラーフィルタをさらに設置
することもできる。
【００３０】前記のような反射型液晶素子において、本
発明の反射基板は図１に図示したように、前記上部基材
に対向する扁平な下部基材４００を含んでおり、その下
部基材４００の上面に不均一なパターンの屈曲層 ４０
２を形成して、再びその屈曲層４０２の上面に不均一な
パターンの反射膜４０４を形成した構成にされている。
発明の反射基板は図１に図示したように、前記上部基材
に対向する扁平な下部基材４００を含んでおり、その下
部基材４００の上面に不均一なパターンの屈曲層 ４０
２を形成して、再びその屈曲層４０２の上面に不均一な
パターンの反射膜４０４を形成した構成にされている。
【００３１】ここで、本発明の反射基板は、表面がその
まま光拡散機能をもつように形成されることで、光の干
渉を排除するために不均一なパターンとして形成され
る。同時にその製造を容易にするために、図２（ａ）〜
（ｃ）に図示したような分散塗布方法を利用して製造す
る。
まま光拡散機能をもつように形成されることで、光の干
渉を排除するために不均一なパターンとして形成され
る。同時にその製造を容易にするために、図２（ａ）〜
（ｃ）に図示したような分散塗布方法を利用して製造す
る。
【００３２】もう少し具体的に説明すると、本発明の反
射基板は、光感光性樹脂を塗布してフォトマスクを利用
して反射板を形成する従来の方法とは違い、図２（ａ）
に図示したように扁平な基材４００の上面に熱硬化性樹
脂から作製されている定型または非定型の多数のスペー
サ４０６を分散塗布して、不均一なパターンを形成する
ためのベース構造および容易な製造工程を実現してい
る。
射基板は、光感光性樹脂を塗布してフォトマスクを利用
して反射板を形成する従来の方法とは違い、図２（ａ）
に図示したように扁平な基材４００の上面に熱硬化性樹
脂から作製されている定型または非定型の多数のスペー
サ４０６を分散塗布して、不均一なパターンを形成する
ためのベース構造および容易な製造工程を実現してい
る。
【００３３】前記スペーサ４０６は、熱硬化性樹脂を初
期硬化（prebaking）させて１０μｍ以下の粉末形態に
作ったものであり、その形状は必ず均一にする必要がな
くて、定型または非定型で作ることができる。そのスペ
ーサ４０６は純水またはイソプロピルアルコール（isop
ropyl alcohol）に混合されたのち、前記基材４００の
表面にランダムに分散塗布される。熱硬化性樹脂として
は、アクリル系樹脂やゴム系樹脂を用いることができ
る。
期硬化（prebaking）させて１０μｍ以下の粉末形態に
作ったものであり、その形状は必ず均一にする必要がな
くて、定型または非定型で作ることができる。そのスペ
ーサ４０６は純水またはイソプロピルアルコール（isop
ropyl alcohol）に混合されたのち、前記基材４００の
表面にランダムに分散塗布される。熱硬化性樹脂として
は、アクリル系樹脂やゴム系樹脂を用いることができ
る。
【００３４】前記スペーサ４０６が塗布された基材４０
０は、オーブンに投入されハードベーキング（hard bak
ing）されることにより、前記スペーサ４０６が溶融お
よび硬化されて、図２（ｂ）のように不均一なパターン
の屈曲層４０２が形成される。
０は、オーブンに投入されハードベーキング（hard bak
ing）されることにより、前記スペーサ４０６が溶融お
よび硬化されて、図２（ｂ）のように不均一なパターン
の屈曲層４０２が形成される。
【００３５】続けて、屈曲層４０２の上面にアルミニウ
ム、アルミニウム合金またはクロムなどを蒸着して図２
（ｃ）のように均一な厚さをもつ反射膜４０４を形成す
る。
ム、アルミニウム合金またはクロムなどを蒸着して図２
（ｃ）のように均一な厚さをもつ反射膜４０４を形成す
る。
【００３６】このように製造された本発明の反射基板
は、反射膜４０４の表面形状によって反射率特性が変化
するようになり、本発明の反射基板の反射率特性を全領
域に対する表面粗さ（Surface Roughness）ｋで表示す
る。ここで、表面粗さｋは、表面の荒い程度を示すもの
であり、つぎの数学式で定義することができる。
は、反射膜４０４の表面形状によって反射率特性が変化
するようになり、本発明の反射基板の反射率特性を全領
域に対する表面粗さ（Surface Roughness）ｋで表示す
る。ここで、表面粗さｋは、表面の荒い程度を示すもの
であり、つぎの数学式で定義することができる。
【００３７】
【数１】
【００３８】このとき、Ｌは計算に使用される反射の全
領域の表面の長さであり、ｄｘは表面傾斜角αに当たる
水平方向の距離である。
領域の表面の長さであり、ｄｘは表面傾斜角αに当たる
水平方向の距離である。
【００３９】図３は前記表面粗さｋの変化、ｋ１＝４
°、ｋ２＝５°、ｋ３＝６°、ｋ４＝７°、ｋ５＝８
°、ｋ６＝１０°、ｋ７＝１２°、ｋ８＝１４°による
反射率特性を計算して、それを図表で表示したものであ
る。図３において、縦軸は反射率（Reflectance）であ
り、横軸は反射光の射出角度（Outgoing Angle）であ
る。このとき、入射光は基材４００の垂直方向を０゜と
すると、−３０゜方向に入射して、反射光は０゜〜５０
゜方向に出射する。
°、ｋ２＝５°、ｋ３＝６°、ｋ４＝７°、ｋ５＝８
°、ｋ６＝１０°、ｋ７＝１２°、ｋ８＝１４°による
反射率特性を計算して、それを図表で表示したものであ
る。図３において、縦軸は反射率（Reflectance）であ
り、横軸は反射光の射出角度（Outgoing Angle）であ
る。このとき、入射光は基材４００の垂直方向を０゜と
すると、−３０゜方向に入射して、反射光は０゜〜５０
゜方向に出射する。
【００４０】一般的に相対値に表示される反射膜４０４
の反射率特性は図示したように、表面粗さｋに反比例し
て著しく変化するのがわかる。しかし反射率特性が最大
値になるｋ＝４゜または５゜の場合には、反射膜４０４
がほとんど平面の状態になるので、反射率特性が高い反
面、光の拡散効果がわるくて採択し難い。
の反射率特性は図示したように、表面粗さｋに反比例し
て著しく変化するのがわかる。しかし反射率特性が最大
値になるｋ＝４゜または５゜の場合には、反射膜４０４
がほとんど平面の状態になるので、反射率特性が高い反
面、光の拡散効果がわるくて採択し難い。
【００４１】それにしたがって、本発明ではスペーサ４
０６のサイズを１〜１０μｍの範囲で変化させて、その
密度を２０〜５０％の範囲で変化させながら反射率特性
を測定した。その結果、前記表面粗さ値がｋ＝６゜〜１
０゜の範囲で最も良い反射率特性と光の拡散効果を得る
ことができる。
０６のサイズを１〜１０μｍの範囲で変化させて、その
密度を２０〜５０％の範囲で変化させながら反射率特性
を測定した。その結果、前記表面粗さ値がｋ＝６゜〜１
０゜の範囲で最も良い反射率特性と光の拡散効果を得る
ことができる。
【００４２】また前記表面粗さｋが１０゜以上の場合に
は、反射膜４０４の屈曲があまり大きい状態になって反
射率特性がわるくなって採択し難い。
は、反射膜４０４の屈曲があまり大きい状態になって反
射率特性がわるくなって採択し難い。
【００４３】このような本発明の反射基板の製造方法
は、前記反射膜４０４の表面粗さを制御するための方法
で、図４のように屈曲層４０２と反射膜４０４とのあい
だに平坦化層４０８をさらに形成することができる。平
坦化層４０８は屈曲層４０４の形成に使用した熱硬化性
樹脂と同一または類似のものを使用してスピンコーティ
ング方式で塗布できて、屈曲層４０２が形成された基材
４００を回転させながら、その上面に溶液状態の樹脂を
注いで遠心力によって所定の厚さの平坦化層４０８を形
成する。
は、前記反射膜４０４の表面粗さを制御するための方法
で、図４のように屈曲層４０２と反射膜４０４とのあい
だに平坦化層４０８をさらに形成することができる。平
坦化層４０８は屈曲層４０４の形成に使用した熱硬化性
樹脂と同一または類似のものを使用してスピンコーティ
ング方式で塗布できて、屈曲層４０２が形成された基材
４００を回転させながら、その上面に溶液状態の樹脂を
注いで遠心力によって所定の厚さの平坦化層４０８を形
成する。
【００４４】一方、本発明の反射基板は他の方法で製造
することもできる。すなわち、図５（ａ）〜（ｂ）に図
示したように、コア４１０の表面に熱硬化性樹脂４１２
を塗布してスペーサ４０６ａを形成して、そのスペーサ
４０６ａを利用して下部基材４００の上面に不均一なパ
ターンの屈曲層４０２を形成することができる。
することもできる。すなわち、図５（ａ）〜（ｂ）に図
示したように、コア４１０の表面に熱硬化性樹脂４１２
を塗布してスペーサ４０６ａを形成して、そのスペーサ
４０６ａを利用して下部基材４００の上面に不均一なパ
ターンの屈曲層４０２を形成することができる。
【００４５】前記スペーサ４０６ａを構成するコア４１
０は、シリカまたはプラスチックを利用して定型または
非定型で形成されたもので、そのコア４１０は屈曲層を
形成するために、熱硬化性樹脂を溶融および硬化すると
きにもその形態をそのまま維持する。
０は、シリカまたはプラスチックを利用して定型または
非定型で形成されたもので、そのコア４１０は屈曲層を
形成するために、熱硬化性樹脂を溶融および硬化すると
きにもその形態をそのまま維持する。
【００４６】本実施の形態では、図５（ａ）のように扁
平な基材４００の上面にコア４１０の表面に熱硬化性樹
脂４１２が塗布された多数のスペーサ４０６ａを分散塗
布して、それをオーブンに投入し、ついでハードベーキ
ング（hard baking）して熱硬化性樹脂４１２を溶融お
よび硬化させて、図５（ｂ）のようにコア４１０の周り
に熱硬化性樹脂４１２ａが融着された形態で屈曲層４０
２を形成することができる。
平な基材４００の上面にコア４１０の表面に熱硬化性樹
脂４１２が塗布された多数のスペーサ４０６ａを分散塗
布して、それをオーブンに投入し、ついでハードベーキ
ング（hard baking）して熱硬化性樹脂４１２を溶融お
よび硬化させて、図５（ｂ）のようにコア４１０の周り
に熱硬化性樹脂４１２ａが融着された形態で屈曲層４０
２を形成することができる。
【００４７】続けて屈曲層４０２の上面にアルミニウ
ム、アルミニウム合金またはクロムなどを蒸着して均一
な厚さをもつ反射膜４０４を形成して、本発明の反射基
板を得ることができる。
ム、アルミニウム合金またはクロムなどを蒸着して均一
な厚さをもつ反射膜４０４を形成して、本発明の反射基
板を得ることができる。
【００４８】前記のように製造された本実施の形態にお
ける反射基板は、前述したように反射膜４０４の表面粗
さによって反射率の特性が変化するため、その表面粗さ
ｋは６゜〜１０゜の範囲が望ましい。
ける反射基板は、前述したように反射膜４０４の表面粗
さによって反射率の特性が変化するため、その表面粗さ
ｋは６゜〜１０゜の範囲が望ましい。
【００４９】また本発明の反射基板の製造方法は、前記
反射膜４０４の表面粗さを制御するための方法で、反射
膜４０４と屈曲層４０２とのあいだに平坦化層をさらに
形成することもできる。
反射膜４０４の表面粗さを制御するための方法で、反射
膜４０４と屈曲層４０２とのあいだに平坦化層をさらに
形成することもできる。
【００５０】
【発明の効果】以上述べたように、本発明の反射型液晶
表示素子の反射基板は従来の問題点を実質的に解消して
いる。
表示素子の反射基板は従来の問題点を実質的に解消して
いる。
【００５１】すなわち本発明の反射基板は、不均一なパ
ターンの屈曲層および反射膜を形成し、反射基板がその
まま光拡散機能をもつようにして光の干渉を避けてい
る。その結果、光の利用効率を高めることによって、画
面の輝度および視認性を向上させることができる。
ターンの屈曲層および反射膜を形成し、反射基板がその
まま光拡散機能をもつようにして光の干渉を避けてい
る。その結果、光の利用効率を高めることによって、画
面の輝度および視認性を向上させることができる。
【００５２】また本発明の反射基板の製造方法は、スペ
ーサをランダムに分散塗布することにより、従来の製造
工程より工程が容易で簡素化できて、反射型液晶表示素
子の製造の生産性を向上させることができる。
ーサをランダムに分散塗布することにより、従来の製造
工程より工程が容易で簡素化できて、反射型液晶表示素
子の製造の生産性を向上させることができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の反射型液晶表示素子の反射基板を図示
した断面図である。
した断面図である。
【図２】本発明の反射基板を形成する工程を説明した断
面図である。
面図である。
【図３】本発明の反射基板の反射効率を説明する図面で
ある。
ある。
【図４】本発明の反射基板の他の実施の形態を図示した
断面図である。
断面図である。
【図５】本発明の反射基板を形成する他の実施の形態を
図示した断面図である。
図示した断面図である。
【図６】従来の反射型液晶表示素子の一般的な構造を図
示した断面図である。
示した断面図である。
【図７】従来の液晶表示素子の反射板を図示した断面図
である。
である。
２ 上部基材 ４ 下部基材 ６ 反射層 １６ 液晶 ４００ 基材 ４０２ 屈曲層 ４０４ 反射膜 ４０６、４０６ａ スペーサ ４０８ 平坦化層 ４１０ コア ４１２、４１２ａ 熱硬化性樹脂
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 金 仙花 大韓民国ソウル市永登浦区堂山洞３街394 三益アパート１−205 (72)発明者 崔 榮溢 大韓民国ソウル市冠岳区新林一洞414−21 (72)発明者 申 鉉億 大韓民国京畿道軍浦市山本洞ハンラ住公ア パート410−906
Claims (11)
- 【請求項１】 扁平な基材と、その基材の片面にスペー
サを分散塗布し、熱を加えて融着させて形成される不均
一なパターンの屈曲層と、その屈曲層の上部に形成され
る不均一なパターンの反射膜とからなる反射型液晶表示
素子の反射基板。 - 【請求項２】 前記スペーサが熱硬化性樹脂、またはコ
アとその表面に塗布される熱硬化性樹脂とからなること
を特徴とする請求項１記載の反射型液晶表示素子の反射
基板。 - 【請求項３】 前記コアがシリカまたはプラスチックで
あることを特徴とする請求項２記載の反射型液晶表示素
子の反射基板。 - 【請求項４】 前記スペーサの直径が１〜１０μｍ程度
であることを特徴とする請求項２記載の反射型液晶表示
素子の反射基板。 - 【請求項５】 前記反射膜の表面粗さｋが６゜〜１０゜
の範囲であることを特徴とする請求項１または２記載の
反射型液晶表示素子の反射基板。 - 【請求項６】 前記屈曲層と反射膜とのあいだに平坦化
層をさらに形成することを特徴とする請求項１記載の反
射型液晶表示素子の反射基板。 - 【請求項７】 扁平な基材の片面に熱硬化性樹脂から作
製されている定型または非定型の多数のスペーサを分散
塗布する工程と、そのスペーサに熱を加え、硬化させて
不均一なパターンの屈曲層を形成する工程と、その屈曲
層の上に入射光を反射させる反射膜を形成する工程を含
むことを特徴とする反射型液晶表示素子の反射基板の製
造方法。 - 【請求項８】 前記スペーサの分散塗布工程が、熱硬化
性樹脂を硬化させて１０μｍ以下の定型または非定型で
作って、それを純水またはイソープロピルアルコールと
混合したのち、ランダムに分散塗布することを特徴とす
る請求項７記載の反射型液晶表示素子の反射基板の製造
方法。 - 【請求項９】 前記反射膜を形成する前に、前記屈曲層
の上に熱硬化性樹脂をスピンコーティングして平坦化層
を形成する工程をさらに含むことを特徴とする請求項７
記載の反射型液晶表示素子の反射基板の製造方法。 - 【請求項１０】 扁平な基材の片面にコアの表面に熱硬
化性樹脂が塗布された多数のスペーサを分散塗布する工
程と、そのスペーサに熱を加えて熱硬化性樹脂を溶融さ
せ、再び硬化させてコアの周りに熱硬化性樹脂が融着さ
れた形態で屈曲層を形成する工程と、その屈曲層の上に
入射光を反射させる反射膜を形成する工程を含むことを
特徴とする反射型液晶表示素子の反射基板の製造方法。 - 【請求項１１】 前記反射膜を形成する前に、前記屈曲
層の上に熱硬化性樹脂をスピンコーティングして平坦化
層を形成する工程をさらに含むことを特徴とする請求項
１０記載の反射型液晶表示素子の反射基板の製造方法。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| KR1998-12544 | 1998-04-09 | ||
| KR1019980012544A KR100291917B1 (ko) | 1998-04-09 | 1998-04-09 | 반사형액정표시소자 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH11326900A true JPH11326900A (ja) | 1999-11-26 |
Family
ID=19536015
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP11101161A Pending JPH11326900A (ja) | 1998-04-09 | 1999-04-08 | 反射型液晶表示素子の反射基板およびその製造方法 |
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| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US6184956B1 (ja) |
| JP (1) | JPH11326900A (ja) |
| KR (1) | KR100291917B1 (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2013061645A (ja) * | 2011-09-09 | 2013-04-04 | Samsung Electronics Co Ltd | フォトニック結晶構造体、その製造方法、フォトニック結晶構造体を用いた反射型カラーフィルタ及びディスプレイ装置 |
Families Citing this family (15)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR100521267B1 (ko) * | 1998-07-06 | 2006-03-03 | 삼성전자주식회사 | 반사형 액정표시장치 및 그 제조방법 |
| KR100482464B1 (ko) | 1999-09-09 | 2005-04-14 | 비오이 하이디스 테크놀로지 주식회사 | 경량을 갖는 반사판 및 이를 이용한 반사형 액정 표시 장치 |
| JP3626652B2 (ja) * | 2000-01-21 | 2005-03-09 | 日本電気株式会社 | 反射型液晶表示装置及びその製造方法 |
| JP4502441B2 (ja) * | 2000-02-16 | 2010-07-14 | 共同印刷株式会社 | 接着剤による透明導電膜の支持方法および層構成 |
| US6307612B1 (en) * | 2000-06-08 | 2001-10-23 | Three-Five Systems, Inc. | Liquid crystal display element having a precisely controlled cell gap and method of making same |
| US7583335B2 (en) * | 2000-06-27 | 2009-09-01 | Citizen Holdings Co., Ltd. | Liquid crystal display device |
| JP2002350840A (ja) * | 2001-05-28 | 2002-12-04 | Hitachi Ltd | 反射型液晶表示装置 |
| TW525020B (en) * | 2001-07-27 | 2003-03-21 | Chi Mei Optoelectronics Corp | Liquid crystal display |
| JP3842604B2 (ja) * | 2001-09-21 | 2006-11-08 | 株式会社日立製作所 | 液晶表示装置 |
| US20040046908A1 (en) * | 2002-09-10 | 2004-03-11 | Toppoly Optoelectronics Corp. | Liquid crystal display device with multiple dielectric layers |
| KR101074413B1 (ko) * | 2003-08-28 | 2011-10-17 | 엘지디스플레이 주식회사 | 액정표시패널의 제조방법 및 장치 |
| US20080002249A1 (en) * | 2006-07-03 | 2008-01-03 | Wintek Corporation | Manufacturing method for the bump refective layer |
| TWI350415B (en) * | 2006-11-03 | 2011-10-11 | Chimei Innolux Corp | Liquid crystal panel and liquid crystal display device using the same |
| KR20140066449A (ko) * | 2012-11-23 | 2014-06-02 | 삼성디스플레이 주식회사 | 반사 시트, 백라이트 유닛, 액정 표시 장치 및 그 제조 방법 |
| CN104820253A (zh) * | 2015-05-19 | 2015-08-05 | 武汉华星光电技术有限公司 | 显示装置及其反射片 |
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US4023889A (en) * | 1975-02-24 | 1977-05-17 | Morgan Adhesives Company | Retroreflective laminate |
| US4401494A (en) * | 1979-07-25 | 1983-08-30 | Pernicano Vincent S | Reflective garment and method of manufacturing same |
| JPH01120530A (ja) * | 1987-11-04 | 1989-05-12 | Alps Electric Co Ltd | 液晶素子およびその製造方法 |
| US5207852A (en) * | 1991-02-06 | 1993-05-04 | Minnesota Mining And Manufacturing Company | Method for making permeable retroreflective sheeting |
| JPH07234402A (ja) * | 1994-02-22 | 1995-09-05 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 反射型液晶表示器とその製法 |
| KR100268006B1 (ko) * | 1997-05-22 | 2000-10-16 | 구본준 | 액정표시소자용반사판의제조방법 |
-
1998
- 1998-04-09 KR KR1019980012544A patent/KR100291917B1/ko not_active IP Right Cessation
-
1999
- 1999-04-07 US US09/287,606 patent/US6184956B1/en not_active Expired - Fee Related
- 1999-04-08 JP JP11101161A patent/JPH11326900A/ja active Pending
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2013061645A (ja) * | 2011-09-09 | 2013-04-04 | Samsung Electronics Co Ltd | フォトニック結晶構造体、その製造方法、フォトニック結晶構造体を用いた反射型カラーフィルタ及びディスプレイ装置 |
| US10302818B2 (en) | 2011-09-09 | 2019-05-28 | Samsung Electronics Co., Ltd. | Photonic crystal structure, method of manufacturing the photonic crystal structure, reflective color filter, and display apparatus employing the photonic crystal structure |
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| Publication number | Publication date |
|---|---|
| KR19990079770A (ko) | 1999-11-05 |
| KR100291917B1 (ko) | 2001-06-01 |
| US6184956B1 (en) | 2001-02-06 |
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