JP2003330016A - 液晶表示装置及びその製造方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 反射モードにおいては効率よく光を反射して
明るい表示が得られ、かつバックライトを点灯する透過
モードにおいても十分に光を透過して明るい表示を実現
することができる半透過反射型液晶表示装置において、
モアレの無い液晶表示装置を提供する。 【解決手段】 液晶層を挟んで対向する一対の基板と、
基板の外側に配設されたバックライトとを備えた半透過
反射型液晶表示装置において、一方の基板の液晶層側の
面には、少なくとも金属からなる反射層が形成されたて
おり、前記金属からなる反射層にはバックライト光を透
過するための複数の孔が設けてあり、該複数の孔の平面
配置を各画素毎にランダムに変更して配置した液晶表示
装置とする。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、液晶表示装置に関
するものであり、特に、バックライトと反射層とを具備
する半透過半反射型の液晶表示装置に用いて好適な技術
に関するものである。

【０００２】

【従来の技術】現在の携帯電話や携帯情報端末には、ほ
ぼ全ての製品に液晶表示装置が搭載されており、最近で
はこれらの携帯電子機器の多くにカラー表示の半透過反
射型液晶表示装置が搭載されている。半透過反射型液晶
表示装置は、液晶表示装置を構成する一対の透明な基板
の内側あるいは外側に、外部から入射した光を反射させ
るための反射層を備えるとともに、その背面側にバック
ライトを備えており、太陽光あるいは外部の照明を光源
として利用する反射型液晶表示装置としての反射モード
と、バックライトの光を光源として利用する透過型液晶
表示装置としての透過モードを切り替えながら使用する
ことが可能なものである。

【０００３】図１１は、従来の半透過反射型液晶表示装
置の部分断面構造の一例を示す図である。この図におい
て、従来の半透過反射型液晶表示装置１００は、ガラス
などの透明な材料からなる下側基板１１０と、上側基板
１２０を対向させて配置し、その間に液晶層１３０を封
止した構成である。下側基板１１０の液晶層１３０側の
面に、透明電極１１５、配向膜１１６が順次積層形成さ
れている。また、上側基板１２０の液晶層１３０側の面
には、透明電極１２５、配向膜１２６が順次積層形成さ
れている。上記下側基板１１０の液晶層１３０側と反対
側の面（すなわち基板１１０の外面側）には、偏光板１
１８が設けられており、その外側には表面に金属反射層
１１９ａが形成された反射層１１９が、反射層１１９ａ
を偏光板１１８側に向けて取り付けられている。また、
上側基板１２０の外面側には偏光板１２８が設けられて
いる。液晶表示装置１００の背面側には、液晶表示装置
１００において透過表示を行うためのバックライト１０
５が設けられている。上記の構成の半透過反射型液晶表
示装置１００は、例えば携帯電話の表示部として用いら
れて、外光が十分に得られる場合にはバックライト１０
５を点灯させない反射モードで動作し、外光が得られな
い環境においてはバックライト１０５を点灯させて透過
モードで動作させるようになっている。

【０００４】反射層１１９ａは、液晶層１３０に入射す
る光を反射・散乱させて、明るい表示を得られるように
するために設けられているものである。この反射層１１
９ａには、Ａｌ、Ａｇなどの反射率の高い金属材料を用
いることが好ましく、これらの金属材料をスパッタリン
グ、真空蒸着などの成膜法により形成することができ
る。金属反射層１１９ａの膜厚を８０Å〜５００Åとす
れば、金属層を通してバックライトの光を液晶層１３０
に導き、明るい表示を得ることができる。８０Åより膜
厚が薄い場合には、金属反射層１１９ａによる光の反射
率が小さすぎるために反射モード時の表示が暗くなって
しまう。金属反射層１１９ａの膜厚を厚くすると反射率
は高くなり、反射モード時の表示が明るくなる。しかし
透過モード時の光が不足して表示が暗くなるので、透過
光を確保するために金属反射層１１９ａに光を透過させ
るための細孔を設け、所定の透過率を得ることも行われ
ている。これらの細孔を設けるＬＣＤにおいては細孔パ
ターンをフォトリソグラフィ法により所定のマスクを用
いて金属反射層に形成している。

【０００５】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら各画素の
金属反射層にマスクを用いて規則的な細孔を設けると、
ＬＣＤを構成している透明電極やカラーフィルター等の
薄膜によって透過光が干渉を起こし、方向性を持った虹
状の縞模様である、いわゆるモアレが生じてきれいな表
示画面が得られない欠点がある。規則的パターンを使用
する際に僅かなネジレを生じることがあり、モアレ発生
を完全に防ぐことは困難である。本発明は上記の欠点を
解消するためになされたものであって、モアレ発生のな
い明瞭な表示画面を有する液晶表示装置を提供すること
を目的とする。

【０００６】

【課題を解決するための手段】上記課題を解決するため
本発明では、液晶層を挟んで対向する一対の基板と、該
一対の基板の一方の外側に配設された光源とを備え、前
記一対の基板のうち、一方の基板の液晶層側の面には、
少なくとも有機膜と、反射層と、オーバーコート膜と、
電極層と、配向膜とが形成されており、前記反射層には
前記光源からの光を透過させるための複数の細孔が設け
られていて、各画素における前記複数の細孔の平面的配
列が互いに異なって配置されてなる液晶表示装置とし
た。各画素における複数の細孔の平面的配列を互いに異
ならせて配置することにより、薄膜による透過光の干渉
が起こらず、モアレ発生のない明瞭な表示画面を有する
液晶表示装置とすることができる。

【０００７】本発明では前記各画素に配置された複数の
細孔は、画素内にあらかじめマトリクス状に配置された
定点上に設けることができる。平面的配列を互いに異な
らせてランダムに配置する際に、画素内にマトリクス状
に配置された定点上に配置すれば、細孔を設ける定点を
選択することによりランダム配置が容易に達成できるか
ら都合がよい。

【０００８】本発明では前記各画素に配置された前記定
点の数を個３以上、好ましくは５個以上とするのが好ま
しい。そして各画素に配置された複数の細孔の数は、定
点の数の５０％以上８０％以下とするのが適当である。
充分な この程度の細孔数を設けておけば、透過光を得
るための孔面積を確保した上で、光の干渉を起こさない
ように規則性を排除することができるからである。

【０００９】また、本発明では１画素の面積に対する前
記複数の細孔の面積の和の割合を１０〜３０％、さらに
好ましくは１５〜３０％とするのが適当である。反射モ
ード時の高反射率を確保し、かつ透過モード時に充分な
透過光の量も確保して、反射モード時と透過モード時の
画面の明るさを均衡させるためである。

【００１０】本発明では、前記金属反射層に内面が球面
の一部をなす多数の凹部が連続して形成た反射層を利用
することができる。このような反射層を利用すれば、外
光が弱い場合でも反射光を有効に利用することが可能と
なる。

【００１１】本発明の液晶表示装置の製造方法の一つ
は、液晶層を挟んで対抗する一対の基板に、少なくとも
光源と、反射層と、電極層と配向膜とを備えた反透過反
射型液晶表示装置の製造方法であって、前記反射層に直
接ランダム配列の細孔を形成する方法である。レーザビ
ームのコンピューター制御等を利用して、反射層にラン
ダム配列した細孔を直接形成する方法である。また、別
の方法として細孔をランダムに配置したフォトマスクを
作成し、該フォトマスクを使用してフォトリソグラフィ
により反射層にランダムに細孔を形成する方法を使用す
ることも可能である。この場合、あらかじめ配列した定
点からランダムに選択して細孔パターンを形成すること
もできる。フォトマスクを使用すれば、特定のブロック
につき細孔をランダム配列しておくだけで、マスクパタ
ーンを転写するのみで画素領域全域の反射層にランダム
配列の細孔を形成することができる。

【００１２】

【発明の実施の形態】次に図面を使用して本発明を具体
的に説明する。本発明は以下の実施の形態に限定される
ものではない。なお、以下の図面においては部材の構成
をわかりやすくさせるために、縮尺は必ずしも正確には
描かれていない。図１は、本発明の液晶表示装置１の全
体を上面側から見た斜視図である。図１に示すように、
下側基板１０（第１の基板）と上側基板２０（第２の基
板）とが対向配置され、シール材（図１では図示省略）
で囲まれた基板間に液晶層（図１では図示省略）が挟持
されている。下側基板１０及び上側基板２０としては、
透明ガラス、ポリカーボネート、ポリエーテルスルホ
ン、アクリル系樹脂等からなる透明基板が用いられてい
る。上側基板２０の外面側に、位相差板２７（たとえば
典型的なものとしてはλ／４板、あるいはパネルの位相
差や偏光軸の角度設定等によってはλ／４からはずれる
位相差１００〜２００ｎｍ程度のものも用いられ
る。）、偏光板２８が順次貼着されている。下側基板１
０の内面上には多数の信号電極となる透明電極２５がス
トライプ状に設けられ、それと対向する上側基板２０の
内面上には透明電極２５と直交する方向に延在する多数
の走査電極となる透明電極１５がストライプ状に設けら
れている。そして、透明電極２５と透明電極１５が交差
する部分が個々の画素１７となり、多数の画素１７がマ
トリクス状に配列した領域が表示領域１９となる。下側
基板１０の外側には、偏光板１８及び前記と同様の位相
基板を積層した光学フィルムが貼り付けてあり、さらに
バックライト５を取り付けてある。

【００１３】図２は、図１に示す液晶表示装置１の反射
基板３１と対向基板３２の構造を示す斜視図である。図
２に示すように、ガラス等からなる透明な下側基板１０
の液晶層側の表面上にアルミニウム等の金属薄膜からな
る反射層１２が設けられ、反射層１２の直上に、反射層
１２と接するようにカラーフィルター１３Ｂ，１３Ｇ，
１３Ｒが配置されている。各カラーフィルター１３Ｂ，
１３Ｇ，１３Ｒは、もう一方の上側基板２０の透明電極
２５に対向した位置にマトリクス状に形成されている。
各カラーフィルターは、青色のカラーフィルター（図示
「Ｂ」）、緑色のカラーフィルター（図示「Ｇ」）、赤
色のカラーフィルター（図示「Ｒ」）から構成されてい
る。各カラーフィルター１３Ｂ，１３Ｇ，１３Ｒは光の
３原色（Ｂ，Ｇ，Ｒ）で構成されている。また、図１及
び図２の態様では各カラーフィルター１３Ｂ，１３Ｇ，
１３Ｒは一定の間隔をあけて配置されている。

【００１４】図３は、図１に示す本発明の液晶表示装置
の端部を含む部分断面構造を模式的に示した図である。
図３において、本発明の半透過反射型の液晶表示装置１
は、液晶層３０を挟持して対向する透明なガラスなどか
らなる下側基板（第１の基板）１０と、上側基板（第２
の基板）２０とをこれら２枚の基板１０、２０の周縁部
に環状に設けられたシール材４０で接着一体化した構成
である。下側基板１０の液晶層３０側には順に、反射層
１２に凹凸の形状を与えるための有機膜１１と、液晶表
示装置１に入射した光を反射させるための反射層１２
と、カラー表示を行うためのカラーフィルタ１３Ｂ、１
３Ｇ、１３Ｒと、有機膜１１と反射層１２を被覆して保
護するとともに有機膜１１やカラーフィルタによる凹凸
を平坦化するためのオーバーコート膜１４と、液晶層３
０を駆動するための信号電極となる透明電極１５と、液
晶層３０を構成する液晶分子の配向を制御するための配
向膜１６とが積層形成されている。また、上側基板２０
の液晶層３０側には順に、走査電極となる透明電極２
５、オーバーコート膜２４、配向膜２６が積層形成され
ている。下側基板１０の液晶層３０側と反対側（下側基
板１０の外面側）に、偏光板１８が設けられており、上
側基板２０の液晶層３０側と反対側（上側基板２０の外
面側）には、位相差板２７と、偏光板２８がこの順で積
層されている。また、下側基板１０の偏光板１８の外側
には、液晶表示装置１において透過表示を行うための光
源としてのバックライト５が配設されている。

【００１５】有機膜１１は、その上に形成されている金
属膜からなる反射層１２に凹凸形状を与えて反射光を効
率よく散乱させるために設けられているものである。こ
のように金属反射層１２に凹凸形状を与えることによ
り、液晶表示装置１に入射する光を効率よく反射するこ
とができるため、反射モードにおける明るい表示を実現
することができる。

【００１６】図４は、図１に示す液晶表示装置の表示領
域内の画素配列（通常斜め配列と呼ばれる。）を示す図
である。図に示すように、表示領域１９内には光の３原
色（Ｂ，Ｇ，Ｒ）のカラーフィルターを備えた画素１７
がマトリクス状の配列されている。このような斜め配列
以外にも、主に単純マトリクスタイプのものに採用され
ているストライプ状や、千鳥格子状、デルタ配列等が知
られているが、本発明はこれらのいずれの配列にも利用
可能である。例えば図においてＡ×Ｉが赤色（Ｒ）を示
す一つの画素１７である。本発明の液晶表示装置では、
反射層に設ける細孔の配置をランダムにしてモアレを防
ぐこととした。反射層に設ける細孔の配置をランダムに
する方法の一例として、図４では太線で囲んだ１６個の
画素１７を一つのブロックとし、この１６個の画素につ
いて細孔の配置をランダムに配列する。そして、表示領
域１９全域にこのブロックを割り付け、細孔のランダム
配列を繰り返して画素領域全域にわたって細孔の配置を
ランダムに配列することとする。このような手段を採る
ことにより、細孔のランダム配置を容易に達成すること
が可能となる。

【００１７】ひとつのブロック内で細孔をランダムに配
置する方法としては、反射層となる金属膜に直接ランダ
ムに細孔を形成する方法が利用できる。反射層の細孔は
金属薄膜からなる反射層にレーザビーム等を照射して開
口することができる。レーザビームはコンピューターに
よる乱数位置情報によって制御走査する。別の方法とし
て複数の画素内に互いにランダムに細孔を配置したフォ
トマスクを作成し、該フォトマスクを使用して反射層と
なる金属膜に複数個のマスクパターンを転写して、フォ
トリソグラフィにより細孔を形成する方法が利用でき
る。この場合フォトマスクを作成するに当たり、あらか
じめ配列した定点から窄孔する位置をランダムに選択し
て細孔パターンを形成する方法が利用できる。

【００１８】図５は、あらかじめ配列した定点を利用し
て１個の画素内のランダムに配列した細孔パターンを設
ける例を示す図である。例えば図４の赤色（Ｒ）を示す
Ａ×Ｉの画素１７の中に、６×ｆ＝３６個の定点をマト
リクス状に割り付ける。この定点上に細孔を設けること
とする。細孔を設ける定点は、例えば乱数表を使用して
ランダムに割り付ける。図４に示す１６個の画素につい
て細孔をランダムに割り付ける。図６は、このようにし
て反射層の一つのブロック内の１６個の画素に、乱数表
を使用してランダムに細孔３３を割り付けた例を示して
いる。各画素１７内には３６個の定点がマトリクス状に
配列されており、このうち１８個の定点に細孔３３が明
けられている。しかも１６個の画素について細孔３３を
明ける定点の位置は全部異なっていて、細孔３３はラン
ダムに配列されている。

【００１９】細孔の数と総開口面積を決めるには、反射
モード時における反射層の面積と、透過モードにおける
透過光の通過面積とのバランスを考慮することが重要で
ある。 総開口面積を適正に選択するためには、各画素
に配置する定点の数は３以上とするのが好ましい。あま
り少ないとランダム配置をするのが困難となるからであ
る。また、あまり定点数が多い場合には、１個当たりの
開口面積が小さくなり、実際に加工が行いにくくなるた
め、定点の数は５個以上４０個程度まで、好ましくは７
個以上３０個程度までとする。そして、１個の画素に配
置された複数の細孔の数は、前記定点の数の５０％以上
８０％以下とするのが好ましい。細孔の直径にもよる
が、光の反射と透過のバランスを保ち、かつランダムに
散乱させるのに都合が良いからである。上記のような設
定の下で、１画素の面積に対する前記複数の細孔の面積
の和の割合が１０〜３０％となるように、細孔の直径と
数を設定する。

【００２０】以上の手順により１ブロックの画素につい
てランダム配列した細孔を設け、このブロックの細孔を
液晶表示装置の表示領域全域に転写して、細孔のランダ
ム配置を完成させる。

【００２１】本発明においては反射層における光の反射
効率を高めるために、内面が球面の一部をなす多数の凹
部が連続して形成されいる反射層を利用することができ
る。図７は、本発明の反射層の一実施形態を示す斜視図
であって、有機膜１１の表面に、その内面が球面の一部
をなす多数の凹部１２Ａが左右に重なり合うようにして
連続して形成されており、その面上に金属薄膜からなる
反射層１２が積層されている。反射層１２には細孔３３
が形成してある。

【００２２】上記凹部１２Ａの深さを０．１μｍ〜３μ
ｍの範囲でランダムに形成し、隣接する凹部１２Ａのピ
ッチを２μｍ〜５０μｍの範囲でランダムに配置し、上
記凹部１２Ａ内面の傾斜角を−３０度〜＋３０度の範囲
に設定することが望ましい。特に、凹部１２Ａ内面の傾
斜角分布を−３０度〜＋３０度の範囲に設定する点、隣
接する凹部１２Ａのピッチを平面全方向に対してランダ
ムに配置する点が特に重要である。なぜならば、仮に隣
接する凹部１２Ａのピッチに規則性があると、光の干渉
色が出て反射光が色付いてしまうという不具合があるか
らである。また、凹部１２Ａ内面の傾斜角分布が−３０
度〜３０度の範囲を超えると、反射光の拡散角が広がり
すぎて反射強度が低下し、明るい表示が得られない（反
射光の拡散角が空気中で３６度以上になり、液晶表示装
置内部の反射強度ピークが低下し、全反射ロスが大きく
なるからである。）からである。

【００２３】また、凹部１２Ａの深さが３μｍを超える
と、後工程で凹部１２Ａを平坦化する場合に凸部の頂上
が平坦化膜（オーバーコート膜１４）で埋めきれず、所
望の平坦性が得られなくなり、表示むらの原因となる。
隣接する凹部１２Ａのピッチが２μｍ未満の場合、有機
膜１１を形成するために用いる転写型の製作上の制約が
あり、加工時間が極めて長くなる、所望の反射特性が得
られるだけの形状が形成できない、干渉光が発生する等
の問題が生じる。また、実用上、前記転写型の製作に使
用しうる１０μｍ〜１００μｍ径の超硬合金やダイヤモ
ンド製の圧子を用いる場合、隣接する凹部１２Ａのピッ
チを２μｍ〜５０μｍとすることが望ましい。

【００２４】そして本発明の液晶表示素子において最も
好適なものは、前記液晶パネルの有する反射輝度−視角
特性が受光角に対して非対称な形状を示す液晶パネルと
組み合わせられたものである。図８は反射型液晶パネル
における光の反射の状況を模式的に示した図で、液晶パ
ネルの法線に対して光源からの光が−θの角度で入射
し、＋θの角度で反射していく。この時のθが受光角で
ある。図９は受光角θと反射輝度の関係を示した図であ
る。図中、曲線Ａはある角度範囲に反射輝度特性のピー
クを有する場合であって、受光角に対して非対称な分布
を示している。曲線Ｂはある角度範囲でほぼフラットな
反射輝度特性を有する場合であって、入射角度に対して
対象に近い分布を示している。また、曲線Ｃは従来の一
般的な液晶パネルの反射輝度特性を示すものであって、
ある受光角度に対してガウス分布の反射輝度特性を有し
ていて、反射輝度の高くなる入射角度範囲が狭い範囲に
限定されている。

【００２５】このような反射輝度特性が非対称な形状を
示す反射型液晶パネルの例は、本出願人による特願２０
００−２０１５３０，特願２００１−１９７３６０及び
特願２０００−２０１５２９に開示されている。つま
り、液晶パネル面を情報端末機器を操作して観察する際
に、比較的液晶パネル面の法線に近い角度（たとえば受
光角度０度〜３０度）で利用することが多く、反射特性
もこのような角度で明るくなるようにすることが、明る
い反射型液晶表示装置を得る上で重要である。このよう
に反射特性が制御された反射面としては、反射面表面に
形成されたランダム配列の微小凹部（又は凸部）におい
て、凹部（又は凸部）面の傾斜角分布がパネルを見込む
方向に沿った鉛直断面に関して非対称になったもので実
現することができる。

【００２６】図１０は、図７に示す反射型液晶表示装置
の有機膜１１を形成する工程を模式的に示した断面工程
図であり、符号Ａ〜Ｄは工程順を示す。まず、図１０
（Ａ）に示すように、下側基板１０上に、スピンコート
法などによりアクリル系レジストなどの感光性樹脂液を
塗布した後、プリベークして感光性樹脂層１１ａを形成
する。次に、図１０（Ｂ）に示すように、凹凸形状を有
する凹凸面２９ａと、その周縁の平坦面２９ｂとからな
る面を備える転写型２９を、前記感光性樹脂層１１ａの
表面に押しつけて、転写型２９の凹凸面２９ａの形状を
感光性樹脂層１１ａの表面に転写する。尚、この転写型
２９は、黄銅、ステンレス、工具鋼等からなる表面が平
坦な平板状の母型基材の表面に超硬合金やダイヤモンド
製の圧子を押圧して図７に示す表面形状を形成して転写
型用母型を作製し、この転写型用母型を用いてシリコン
樹脂等の材料によって型取りして作製することができ
る。また、この転写型２９は、図７に示す多数の凹部１
２Ａとは表面形状とは逆の凹凸形状である。

【００２７】次に、図１０（Ｃ）に示すように、下側基
板１０の感光性樹脂層１１ａが形成された側の裏面１０
ａ側で、転写型２９の周縁の平坦面２９ｂに相当する部
分を、フォトマスク２１で覆う。続いて、下側基板の裏
面１０ａ側から、紫外線（g,h,i線）などの光線２２を
照射し、感光性樹脂層１１ａを硬化させる。次に、図１
０（Ｄ）に示すように、フォトマスク２１を下側基板１
０から取り除き、転写型２９を感光性樹脂層１１ａから
取り外す。この時、感光性樹脂層１１ａにおいて、転写
型２９の平坦部１９ｂに対応する部分は、前記フォトマ
スク２１によって、マスクされているために硬化せず、
転写型２９を取り外す際に、転写型２９とともに取り除
かれる。その後、現像、純水リンスを行って、加熱炉、
ホットプレートなどの加熱手段により焼成する。以上の
作業により、表面に凹凸の形状を有する有機膜１１が下
側基板１０上の所定の領域に形成される。このようにし
て有機膜１１を基板１０の周縁部を除く領域に形成する
ことにより、後に形成するオーバーコート膜１４により
有機膜１１の端部まで覆うことが可能になる。これによ
り有機膜１１と外気が直接触れることを防止し、湿分に
よる有機膜１１の劣化を抑えることができる。

【００２８】金属薄膜からなる反射層１２は有機膜１１
の凹凸面上に形成する。この反射層１２には、Ａｌ、Ａ
ｇなどの反射率の高い金属材料を用いることが好まし
く、これらの金属材料をスパッタリング、真空蒸着など
の成膜法により形成することができる。また、上記Ａ
ｌ、Ａｇなどの金属材料は、必ずしもガラス製の下側基
板１０との密着性が良好でないため、オーバーコート膜
１４と基板１０との間にこの反射層１２の一部が形成さ
れていると、金属膜の剥離の原因となるおそれがある。
そのため反射層１２となる金属膜を成膜する際には、有
機膜１１が形成されていない下側基板１０の周縁部をマ
スク材で覆っておき、成膜後に前記マスク材を取り除く
処理を行い、下側基板１０上に上記金属材料の膜が成膜
されないようにすることが好ましい。反射層１２の厚さ
は、８００Å〜２５００Åの範囲であることが好まし
い。反射層１２の所定の位置に例えばレーザビームを照
射して細孔３３を設ける。上記の実施形態ではパネルの
基板に形成した反射膜にレーザビームをダイレクト照射
して加工する例を示したが、本発明はこれ以外にも開口
パターン位置をランダムにしたパターンをレーザビーム
で加工してフォトマスクとして得た後、開口パターンを
フォトリソグラフィーで形成しても良い。

【００２９】

【作用】本発明は反射層、透明電極、カラーフィルタ
ー、配向膜等の薄膜が積層されている半透過反射型カラ
ー液晶表示装置において、反射層に設ける光透過用の細
孔を平面的にランダム配置して、規則性に起因する透過
光の干渉によって生ずるモエレを防止する用にした。

【００３０】

【発明の効果】本発明によれば、反射層に設けた細孔が
各画素間で全くランダムに形成されているので、ＬＣＤ
パネルに存在する透明電極、カラーフィルター、反射層
等の種々のパターン規則性に対しても、モアレが発生し
にくい利点がある。特に反射特性が非対象になるように
制御された反射層と組み合わせることにより、明るい反
射型表示が得られ、かつモアレの皆無な表示品位の高い
液晶表示素子が得られる。また、本発明によれば、最小
繰り返しパターンのマスクを作成するには多少の手間を
要するが、一旦パターンマスクを作成しておけばフォト
リソグラフィー法により簡単に細孔のランダム配列を達
成することが可能となる。さらに、本発明の手法をルー
チン化しておけば、異なる繰り返しピッチを有するＬＣ
Ｄパターンに対しても容易に適用することが可能であ
る。

【図面の簡単な説明】

【図１】 本発明の液晶表示装置全体を上面側から見た
斜視図である。

【図２】 図１に示す液晶表示装置の反射基板と対向基
板の構造を示す斜視図である。

【図３】 図１に示す液晶表示装置の端部を含む部分断
面構造を模式的に示す図である。

【図４】 図１に示す液晶表示装置の表示領域内の画素
の配列を示す図であ

【図５】 １個の画素内の反射層に設けた定点の配列を
示す図である。

【図６】 反射層の一つのブロック内の透過孔の配列を
示す図である。

【図７】 本発明の反射層の一実施形態を示す斜視図で
ある。

【図８】 入射角の定義を説明する図である。

【図９】 入射角と反射輝度の関係を示すする図であ
る。

【図１０】 本発明の反射層の形成方法の一例を示す断
面工程図である。

【図１１】 従来の液晶表示装置の断面構造を示す図で
ある。

【符号の説明】

１，１００・・・・・液晶表示装置、５，１０５・・・・・バック
ライト、１０，１１０・・・・・下側基板、２０，１２０・・・
・・上側基板、３０，１３０・・・・・液晶層、１１・・・・・有機
膜、１２，１１９・・・・・反射層、１２Ａ・・・・・凹部、１
４，２４・・・・・オーバーコート膜、１５，２５・・・・・透明
電極、１６，２６，１１６，１２６・・・・・配向膜、１７・
・・・・画素、１８，２８，１１８，１２８・・・・・偏光板、
１９・・・・・表示領域、３１・・・・・反射基板、３２・・・・・対
向基板、３３・・・・・細孔

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き Ｆターム(参考） 2H042 DA02 DA04 DA11 DA17 DA22 DC02 DE00 2H091 FA14Y FB07 FB08 FC02 FC10 FC19 FC26 FC29 FC30 FD04 FD06 FD12 FD22 FD23 GA01 LA03 LA11 LA12 LA13 LA18

Claims (9)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 液晶層を挟んで対向する一対の基板と、
   該一対の基板の一方の外側に配設された光源とを備え、
   前記一対の基板のうち、一方の基板の液晶層側の面に
   は、少なくとも有機膜と、反射層と、オーバーコート膜
   と、電極層と、配向膜とが形成されており、前記反射層
   には前記光源からの光を透過させるための複数の細孔が
   設けられていて、各画素における前記複数の細孔の平面
   的配列が互いに異なって配置されてなることを特徴とす
   る液晶表示装置。
2. 【請求項２】 前記各画素に配置された複数の細孔は、
   該画素内にマトリクス状に配置された定点上に設けられ
   ていることを特徴とする請求項１に記載の液晶表示装
   置。
3. 【請求項３】 前記各画素に配置された前記定点の数が
   ３以上であることを特徴とする請求項１または請求項２
   に記載の液晶表示装置。
4. 【請求項４】 前記各画素に配置された複数の細孔の数
   は、前記定点の数の５０％以上８０％以下であることを
   特徴とする請求項１から請求項３のいずれか１項に記載
   の液晶表示装置。
5. 【請求項５】 １画素の面積に対する前記複数の細孔の
   面積の和の割合が１０〜３０％であることを特徴とする
   請求項１から請求項４のいずれか１項に記載の液晶表示
   装置。
6. 【請求項６】 前記反射層に内面が球面の一部をなす多
   数の凹部が連続して形成されていることを特徴とする請
   求項１から請求項５のいずれか１項に記載の液晶表示装
   置。
7. 【請求項７】 液晶層を挟んで対抗する一対の基板に、
   少なくとも光源と、反射層と、電極層と配向膜とを備え
   た反透過反射型液晶表示装置の製造方法であって、前記
   反射層に直接ランダム配列の細孔を形成することを特徴
   とする液晶表示装置の製造方法。
8. 【請求項８】 液晶層を挟んで対抗する一対の基板に、
   少なくとも光源と、反射層と、電極層と配向膜とを備え
   た反透過反射型液晶表示装置の製造方法であって、細孔
   をランダムに配置したフォトマスクを作成し、該フォト
   マスクを使用してフォトリソグラフィにより反射層にラ
   ンダムに細孔を形成することを特徴とする液晶表示装置
   の製造方法。
9. 【請求項９】 あらかじめ配列した定点からランダムに
   選択して細孔パターンを形成することを特徴とする請求
   項８に記載の液晶表示装置の形成方法。