JP4658346B2 - 反射板および液晶表示装置 - Google Patents
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Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は液晶表示装置など表示用に用いる反射板ならびに反射型もしくは半透過型の液晶表示装置に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】
近年、液晶表示装置は小型もしくは中型の携帯情報端末やノートパソコンの他に、大型かつ高精細のモニターにまで使用されている。さらにバックライトを使用しない反射型液晶表示装置の技術も開発されており、薄型、軽量および低消費電力化に優れている。
【０００３】
反射型液晶表示装置には、後方に配設した基板の内面に対し凹凸形状の光反射層を形成した散乱反射型があるが、バックライトを用いないことで、周囲の光を有効に利用している。
【０００４】
また、光反射層に代えて、半透過膜を形成し、バックライトを設け、反射モードや透過モードに使い分ける半透過型液晶表示装置も開発されている。この半透過型液晶表示装置についても、反射モードに使用することで、反射型液晶表示装置であると言える。
【０００５】
このような散乱反射型の液晶表示装置１として図４０に示す。
液晶表示装置１において、ガラス基板２の上に樹脂からなるほぼ半球状の凸部３を多数配列することで、凸状配列群を形成し、凸状配列群上に金属からなる光反射層４を被覆し、光反射層４上にカラーフィルタ５を形成し、カラーフィルタ５の上にオーバーコート層６を被覆し、オーバーコート層６上にＩＴＯなどからなる透明電極７を帯状に複数配列し、さらに配向膜８を被覆する。
【０００６】
また、ガラス基板９上にＩＴＯなどからなる透明電極１０を帯状に複数配列し、さらに配向膜１１を被覆する。そして、双方の基板２、９を液晶１２を介して対向配設し、液晶１２はシール部材１３により囲まれた領域内に充填され、ガラス基板９の外面に第１位相差フィルム１４と第２位相差フィルム１５と偏光板１６とを順次形成する。
【０００７】
上記構成の液晶表示装置１においては、太陽光や蛍光灯などの外光が偏光板１６、第１位相差フィルム１４、第２位相差フィルム１５、さらにガラス基板９などを通過し、液晶１２やカラーフィルタ５などを通して光反射層４に到達し、その反射光が出射される。
【０００８】
しかしながら、この液晶表示装置１によれば、ガラス基板２上に形成した凸状配列群は、その凸部３が均等な半球状であることで、その散乱反射板は光学的に等方な凹凸形状となり、これによって、不必要な光散乱が多くなり、人が視認する方向とは別の方向にも散乱されている。
【０００９】
この課題を解消するために、上記散乱反射板に対し非対称軸を有する凹部または凸部を形成したり、傾斜角度分布を非対称にする技術が提案されている（特開平１０−１７７１０６号参照）。
【００１０】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、この提案の反射板によれば、ある程度の散乱特性の異方性はだすことはできたが、いまだ液晶表示装置を用いる使用者にとって、その液晶パネルに対する横方向において、その散乱を小さくすることはできず、表示画面の輝度が満足し得る程度にまで至っておらず、さらに優れた視認性が求められる。
【００１１】
しかも、この反射板においては、その製法上、大変微細な凹凸形状に対し、さらに複雑に加工しなければならず、そのために散乱特性の制御がむずかしくなり、製造歩留まりが低下する原因になっていた。
【００１２】
その上、近年、携帯電話や情報端末などの携帯端末に用いる反射型液晶表示装置や半透過型液晶表示装置においては、それを使用する者にとって、その入射光の方角は重要な要件になっており、液晶パネルの小型化に伴って見やすさは、市場の大きな評価基準になっている。
【００１３】
しかしながら、表示画面に対し、その斜め上方から光入射することが多い携帯端末用液晶表示装置において、いまだ十分に満足し得る程度にまで改善されていないと言える。
【００１４】
したがって本発明の目的は、入射光の反射特性を容易に制御し、所要とおりの散乱特性を達成した高性能な反射板を提供することにある。
【００１５】
本発明の他の目的は、製造上のバラツキがなく、製造歩留まりを高め、一定の優れた品質を達成した低コストの反射板を提供することにある。
【００１６】
さらに本発明の他の目的は、かかる本発明の反射板を用いて、入射光に対する反射性能や散乱性能を高めることで、使用性能を高め、これによって、とくに携帯端末などの小型液晶パネルに好適な高性能かつ低コストな液晶表示装置を提供することにある。
【００１７】
【課題を解決するための手段】
本発明の反射板は、基板と、前記基板上に設けられており、かつ滑らかに連続的に形成された複数の蛇行状帯部と、前記基板上に設けられており、かつ隣接する前記蛇行状帯部間が滑らかに連続的に接続された接続部と、前記蛇行状帯部および前記接続部上に設けられており、かつ滑らかに連続的に形成された光反射層と、を備え、複数の前記蛇行状帯部の長手方向は同一方向に揃っており、かつ複数の前記蛇行状帯部の蛇行形状は一様に揃っている。
【００２１】
【発明の実施の形態】
以下、本発明を図面にて詳述する。
【００２２】
（例１）
反射板の製造方法
図１は本発明の反射板の製造方法を示し、（ａ）〜（ｄ）は各工程である。
【００２３】
（ａ）工程
透明なガラス基板１７（厚さ0.55mm）上に感光性樹脂１８を厚さ1.5±0.5μmで塗布する。次に、105±10℃で3分間プリベークする。この感光性樹脂１８には、たとえばＪＳＲ株式会社製のPC405Gを使用する。
【００２４】
（ｂ）工程
フォトマスク１９を用いて波長３６５ｎｍの紫外線光でもってプロキシミティー露光する。
図２はフォトマスク１９の平面図であり、ガラス基板などの透明基板上にＣｒ等で形成された遮光パターンＳを形成したものである。
【００２５】
この遮光パターンＳによれば、多数の蛇行した帯状部をなし、各帯状部の長手方向は同一方向に揃っている。また、その蛇行形状は一様にそろっている。
【００２６】
（ｃ）工程
次に現像と露光とベークとを行い、ガラス基板１７の上に蛇行状帯部２０を形成する。
すなわち、前工程のプロキシミティー露光の光の周り込みを利用して、現像後には、パターンの角がとれて、なめらかな曲面が得られる。現像液には、ＪＳＲ製のPD523AD（濃度0.25±0.1％）を使用し、50±10秒（20℃）の現像を行った。
【００２７】
そして、全面露光を行い、感光性樹脂の未反応成分をなくし、脱色を行い、その後、さらにポストベーク220±10℃（15分）を行うことにより、樹脂を硬化させる。
【００２８】
（ｄ）工程
しかる後に、蛇行状帯部２０の上にＡｌ，Ａｌ合金（たとえば、ＡｌＣＭｇ，ＡｌＴｉ，ＡｌＮｄ）、Ａｇ合金（たとえば、ＡｇＰｄ，ＡｇＰｄＣｕ，ＡｇＲｕＣｕ）などから金属光反射層もしくは誘電体ミラーを成膜する。本例では、ＡｇＰｄ膜を１５０ｎｍの厚みでもってスパッタリング法により成膜し、光反射層２１とした。
【００２９】
かくして（ａ）工程〜（ｄ）工程を経て本発明の反射板Ｐが得られる。
【００３０】
反射板Ｐの構成
反射板Ｐの構成を図３に示す。同図（ａ）は反射板の平面図であり、（ｂ）は同図（ａ）にて切断面線Ａ−Ａによる断面図、（ｃ）は同図（ａ）にて切断面線Ｂ−Ｂによる断面図である。
【００３１】
図３の（ｂ）、（ｃ）から明らかなとおり、蛇行状帯部２０には平坦部がなく滑らかに連続的な形状となっている。したがって、この蛇行状帯部２０上の光反射層２１についても、その形状は平坦部がなく滑らかに連続的な構成である。
【００３２】
次に、この反射板Ｐの光学特性評価について説明する。
図４に示すように光反射層２１上に液晶層を想定して、アクリル系合成樹脂などからなる屈折率n＝1.5程度の樹脂２２を塗布し、さらにガラス基板２３を貼り合わせることで、仮想の液晶パネル２４を構成し、そして、測定は入射光を垂直方向から１５°傾けた方向から入射し、３６０°回転しながら、受光部は垂直方向で反射率測定を行う。
【００３３】
ここで、入射光の方向を決めるには、図５に示すように、実際に液晶表示装置の使用者を見る向きを考えて上下方向を設定し、液晶パネル２４の右方を０°、上方を９０°、左方を１８０°、下方を２７０°と規定する。
【００３４】
反射板として図３に示す反射板Ｐと、従来例の２種類の反射板を図６に示すように用意する。なお、反射板の蛇行状帯部２０や凸状配列群は連続して滑らかになっているので、同図に示す形状と寸法は、それを作製するために用いるフォトマスクの遮光パターンにて示す。
【００３５】
同図（a）は従来例（a）の反射板であって、前述した液晶表示装置１に設けた散乱反射板と同構成であり、反射板Ｐにおいて蛇行状帯部２０に代えて、凸部が均等な半球状（円径：６μｍ）である凸状配列群を形成したものである。
【００３６】
同図（ｂ）は従来例（b）の反射板であって、円形の凸部である従来例（a）の反射板に対し、さらに楕円（長辺：短辺＝２：１）の凸部でもって凸状配列群を形成したものである。この楕円の長辺は１２μｍ、短辺は６μｍである。
【００３７】
そして、同図（ｃ）は本発明の反射板Ｐにおける蛇行状帯部２０（帯幅：６μｍ）であり、その帯形状を３とおりに変えることで、実施例１‐▲１▼、実施例１‐▲２▼、実施例１‐▲３▼を作製した。
【００３８】
これら３種類の実施例１‐▲１▼、‐▲２▼、‐▲３▼については、下記のように区分している。
【００３９】
図７に示す蛇行状帯部２０（帯幅：６μｍ）の帯状形状において、ｘ方向（蛇行状帯部２０の配列方向）に微小な線分で分割し、その傾き角度θを求める。そして、帯状形状の各部位すべてにおいて、この傾き角度θを求め、分布を求めたものを、帯状形状の傾き角度分布とする。
【００４０】
図８〜１０は、その傾き角度分布図である。
これらの図の横軸は帯状形状の傾き角（度）であり、縦軸は帯状形状の各部位の存在する頻度（存在比率）である。
【００４１】
図８は実施例１‐▲１▼の傾き角度分布を示し、‐45°〜45°まで帯状形状の傾き角度分布が一定である。図９は実施例１‐▲２▼の傾き角度分布を示し、-60°〜60°まで帯状形状の傾き角度分布が一定である。
【００４２】
また、図１０は実施例１‐▲３▼の傾き角度分布を示し、‐90°〜0°までは帯状形状の傾き角度分布が一定の傾きで増加し、0°〜90°までは帯状形状の傾き角度分布が一定の傾きで減少している。
【００４３】
以上のように実施例１‐▲１▼、実施例１‐▲２▼、実施例１‐▲３▼の３種類の本発明の反射板と、従来例（a）の反射板と、従来例（b）の反射板を作製し、これらを図４に示す光学特性評価方法でもって反射特性を測定すると、図１１〜図１３に示すような結果が得られた。
【００４４】
図１１は実施例１‐▲１▼の反射板の測定結果であり、比較例として従来例（a）（b）の各反射板の測定結果も示す。
【００４５】
同図から明らかなとおり、従来例（a）では入射する方向に依存せず、0°〜360°にわたって一定であり、従来例（b）においては、楕円の長辺方向が、その短辺方向に比べて、反射する面積が大きくなり、その分、明るくなり、これにより、長辺方向付近では、従来例（a）の如き円パターンに比べ明るい反射率となっている。
【００４６】
これに対し、実施例１‐▲１▼では、画面に対する視認者における横方向（左右方向）にて不用となるようにしている。
すなわち、反射・半透過型パネルを使用する場合、入射光は横方向に比べて上方向から入射することが多く、そのために上方向からの入射光がより有効に利用されるようにするのがよいが、そこで、横方向の散乱や反射をゼロにして、その分を上方向の散乱や反射に上乗せさせている。
【００４７】
さらに詳しく述べると、図７に示す如く傾き角度θ４５°以上になるような傾斜部分がないため、０±４５°、１８０±４５°の範囲で、反射率が０となっている。この分が、４５〜１３５°、２２５〜３１５°の部分にて上乗せとなり、従来例（a）に比べて光利用効率が２倍高まっていることがわかる。
【００４８】
図１２は実施例１‐▲２▼の反射板の測定結果であり、図１３は実施例１‐▲３▼の反射板の測定結果であり、同様に比較例として従来例（a）（b）の各反射板の測定結果も示す。
【００４９】
実施例１−▲２▼は、図７に示す如く傾き角度θが６０°以上に傾いた部分がないため、０±３０°、１８０±３０°の範囲で、反射率が０となっている。この分が、３０〜１５０°、２１０〜３３０°の部分にて上乗せとなり、従来例（a）に比べて光利用効率が１．５倍高まっていることがわかる。
【００５０】
実施例１−▲３▼の場合は、０°〜９0°の範囲では、反射率が従来例（a）に比べ、ゼロから２倍と一定の傾きで大きくなり、９０°〜１８０°の範囲では、反射率が従来例（a）に比べ、２倍からゼロと一定の傾きで小さくなり、１８０°〜２７０°の範囲では、反射率が従来例（a）に比べ、ゼロから２倍と一定の傾きで大きくなり、９０°〜１８０°の範囲では、反射率が従来例（a）に比べ、２倍からゼロと一定の傾きで小さくなっている。
【００５１】
かくして本発明の反射板Ｐによれば、蛇行状帯部２０の帯状形状の傾き角度分布を制御することによって、容易に入射方向の反射特性を制御することができる。また、この帯状形状の傾き角度分布は、フォトマスクの設計により決定されることで、その分布には製造上のバラツキがなく、一定の優れた品質が達成できた。
【００５２】
反射板の他の製造方法
反射板の他の２つの製造方法をそれぞれ図１４と図１５により説明する。
図１４に示す反射板の製造方法において、（ａ）〜（ｅ）は各工程である。
【００５３】
（ａ）工程
透明なガラス基板２５（厚さ0.55mm）上にＪＳＲ製の感光性樹脂２６（PC405G）を厚さ0.5±0.2μmで塗布する。次にこの樹脂を105±10℃で3分間プリベークする。
【００５４】
（ｂ）工程
フォトマスクを用いてステッパ−にて露光する。一例として図２に示しているようにＣｒ等で形成された遮光パターンＳを形成したフォトマスク１９を使用してもよい。この遮光パターンＳは、多数の蛇行した帯状部により構成され、各帯状部の長手方向は同一方向をそろっている。
【００５５】
（ｃ）工程
次に現像によりガラス基板２５の上に断面が矩形型のパターンの蛇行状帯部２７を形成する。
【００５６】
現像液には、ＪＳＲ製のPD523AD（濃度0.25±0.1％）を使用し、現像時間は50±10秒（25℃）である。
【００５７】
（ｄ）工程
次に、基板全面に透明樹脂２８（ＪＳＲ製ＮＮ５２５）を１μｍの膜厚で塗布を行い、１００±１０℃でプリベークを行い、これにより、蛇行状帯部２７の矩形型パターンが滑らかに連続的となった。さらに、ポストベーク220±10℃（15分）を行うことにより、透明樹脂２８が硬化する。
【００５８】
（ｅ）工程
前工程により得られた蛇行状帯部２７の上にＡｌ，Ａｌ合金（たとえば、ＡｌＣＭｇ，ＡｌＴｉ，ＡｌＮｄ）、Ａｇ合金（たとえば、ＡｇＰｄ，ＡｇＰｄＣｕ，ＡｇＲｕＣｕ）などから金属光反射層もしくは誘電体ミラーからなる光反射層２９を成膜する。本例では、ＡｇＰｄ膜を１５０ｎｍの膜厚にてスパッタにより成膜した。
【００５９】
かくして（ａ）工程〜（ｅ）工程を経て得られた本発明の反射板においては、蛇行状帯部２７には平坦部がなく滑らかに連続的な形状となり、これによって透明樹脂２８の表面も平坦部がなく連続的に滑らかになっており、その上の光反射層２９についても、同様に滑らかに連続的な構成になっている。
【００６０】
また、図１５に示す反射板の製造方法においては、（ａ）〜（ｄ）は各工程からなる。
【００６１】
（ａ）工程
透明なガラス基板３０（厚さ0.55mm）上にＵＶ硬化樹脂３１を厚さ0.5±0.2μmで塗布する。この樹脂３１に対し所望な帯状形状が形成された型３２でもって押圧する。
【００６２】
（ｂ）工程
次に紫外線光（ＵＶ光）をガラス基板３０を通して露光量１０００±３００ｍＪ／ｃｍ2でもって照射し、これにより、ＵＶ硬化樹脂３１を硬化させる。
【００６３】
（ｃ）工程
型３２をガラス基板３０より剥がし双方を分離することで、所望な帯状形状の蛇行状帯部３３が得られる。
【００６４】
（ｄ）工程
そして、蛇行状帯部３３の上にＡｌ，Ａｌ合金（たとえば、ＡｌＣＭｇ，ＡｌＴｉ，ＡｌＮｄ）、Ａｇ合金（たとえば、ＡｇＰｄ，ＡｇＰｄＣｕ，ＡｇＲｕＣｕ）などから金属光反射層もしくは誘電体ミラーを成膜し光反射層３４とする。本例では、ＡｇＰｄ膜を１５０ｎｍの厚みでもってスパッタリングにより成膜した。
【００６５】
かくして（ａ）工程〜（ｄ）工程を経て得られた本発明の反射板においては、蛇行状帯部３３は型３２の構成にしたがって、平坦部がなく滑らかに連続的な形状となり、その上の光反射層３４についても、同様に滑らかに連続的な構成になっている。
【００６６】
（例２）
（例１）に示す反射板は、蛇行状帯部の横断面形状が、その帯部の中心線に対しほぼ対称になっているが、これに代えて、そのような蛇行状帯部の横断面形状が、その帯部の中心線に対し非対称に偏心させている。
【００６７】
この反射板の製造方法は、前述した図１に示す工程と基本的には同じであり、以下、図１を引用して各工程を述べる。
【００６８】
（ａ）工程
透明なガラス基板１７（厚さ0.55mm）上に感光性樹脂１８を厚さ1.5±0.5μmで塗布する。次に、105±10℃で3分間プリベークする。この感光性樹脂１８には、たとえばＪＳＲ製のPC405Gを使用する。
【００６９】
（ｂ）工程
図２に示すフォトマスクとは遮光パターンが異なるフォトマスク１９を用いて波長３６５ｎｍの紫外線光でもってプロキシミティー露光する。
【００７０】
図１６はこのフォトマスク１９の平面図であり、ガラス基板などの透明基板上にＣｒ等で形成された遮光パターンＳを形成したものである。
【００７１】
この遮光パターンＳによれば、多数の蛇行した帯状部をなし、各帯状部の長手方向は同一方向に揃っている。また、各帯状部の片側には、多数の短冊状部が付与されている。これを図１７に示す。
【００７２】
同図（a）は遮光パターンＳの要部拡大図であり、（ｂ）は図１７（a）のフォトマスクを用いて作製した蛇行状帯部を示す概要平面図である。また、（ｃ）は図１７（ｂ）に示す切断面線▲３▼―▲４▼による断面図である。
【００７３】
図１７（a）に示す遮光パターンＳにおいては、その帯状の片側の辺▲１▼には、多数の短冊状の形状が付与され、これにより、▲１▼側辺の解像度を落とし、他方の▲２▼側辺に対し、その解像度に差をつけている。
【００７４】
図１７（ｃ）の断面▲３▼−▲４▼における断面図から明かなとおり、蛇行状帯部２０のピークの位置を▲４▼側に近づけている。多数の短冊状部を帯状パターンの▲１▼側辺に形成することにより、▲１▼側辺の反射に寄与する面積が増加し、これにより、▲１▼側辺の反射率が向上する。
【００７５】
なお、このように反射率を向上させる遮光パターンは短冊状に限定されるものではなく、その他の様々な形状にしてもよい。たとえば、図１８に示すように、（ａ）帯状部の片側に無数の三角形を配置したり、（ｂ）三角形状体を帯状に配置して、帯状部をなくしたものであってもよい。
【００７６】
（ｃ）工程
次に現像と露光とベークとを行い、ガラス基板１７の上に蛇行状帯部２０を形成する。
【００７７】
すなわち、前工程のプロキシミティー露光の光の周り込みを利用して、現像後には、パターンの角がとれて、なめらかな曲面が得られる。現像液には、ＪＳＲ製のPD523AD（0.25±0.1％）を使用し、50±10秒（20℃）の現像を行った。
【００７８】
そして、全面露光を行い、感光性樹脂の未反応成分をなくし、脱色を行い、その後、さらにポストベーク220±10℃（15分）を行うことにより、樹脂を硬化させる。
【００７９】
（ｄ）工程
しかる後に、蛇行状帯部２０の上にＡｌ，Ａｌ合金（たとえば、ＡｌＣＭｇ，ＡｌＴｉ，ＡｌＮｄ）、Ａｇ合金（たとえば、ＡｇＰｄ，ＡｇＰｄＣｕ，ＡｇＲｕＣｕ）などから金属光反射層もしくは誘電体ミラーを成膜する。本例では、ＡｇＰｄ膜を１５０ｎｍの厚みでもってスパッタリング法により成膜し、光反射層２１とした。
【００８０】
かくして（ａ）工程〜（ｄ）工程を経て本発明の反射板Ｐが得られる。
【００８１】
次に、このようにして作製した反射板Ｐの光学特性評価を（例１）にて図４と図５に示す方法でもって行った。
【００８２】
この反射板には、図１９に示すように３種類の反射板における各フォトマスクの遮光パターンである。
【００８３】
同図（ａ）は図６（ａ）に示す従来例（ａ）の反射板のパターンであり、図１９の（ｃ）は図６（ｃ）の反射板であって、（例１）の反射板Ｐにおける蛇行状帯部２０であり、図１９の(d)は本例の反射板Ｐにおける蛇行状帯部２０である。なお、反射板の蛇行状帯部２０や凸状配列群は連続して滑らかになっているので、同図に示す形状と寸法は、それを作製するために用いるフォトマスクの遮光パターンにて示す。
【００８４】
図１９(d)は本発明の反射板Ｐにおける蛇行状帯部２０（帯幅：６μｍ）であり、その短冊状形状を３とおりに変えることで、図２０に示すように実施例２‐▲１▼、実施例２‐▲２▼、実施例２‐▲３▼を作製した。これら各例とも帯状部の傾き角度分布が‐60°〜60°にわたって一定である実施例１―▲２▼と同じものを用いた。
【００８５】
図２０（ａ）に示す実施例２―▲１▼においては、実施例１−▲２▼の帯状部に対し、長さ３μｍ、幅４μｍの多数の短冊状部が４μｍ間隔で配置されている。
【００８６】
同図（ｂ）に示す実施例２―▲２▼では、実施例１−▲２▼の帯状部に、長さ６μｍ、幅４μｍの多数の短冊状部が４μｍ間隔で配置されている。
【００８７】
同図（ｃ）に示す実施例２―▲３▼では、実施例１−▲２▼の帯状部に、長さ９μｍ、幅４μｍの多数の短冊状部が４μｍ間隔で配置されている。
【００８８】
以上のように実施例２‐▲１▼、実施例２‐▲２▼、実施例２‐▲３▼の３種類の本発明の反射板と、前述した実施例１‐▲２▼と、従来例（a）の反射板とを作製し、これらを図４に示す光学特性評価方法でもって反射特性を測定すると、図２１〜図２３に示すような結果が得られた。
【００８９】
図２１は実施例２‐▲１▼の反射板の測定結果であり、比較例の従来例（a）と参考例の実施例１‐▲２▼の各反射板の測定結果も示す。
【００９０】
図２２は実施例２‐▲２▼の反射板の測定結果を、図２３は実施例２‐▲３▼の反射板の測定結果を示す。
【００９１】
これらの各図から明らかなとおり、従来例（a）においては、入射する方向に依存せず、０°〜３６０°にわたって一定であるが、これに対し、実施例１‐▲２▼、ならびに実施例２‐▲１▼、実施例２‐▲２▼、実施例２‐▲３▼は、ともに図７に示す如く傾き角度θが６０°以上に傾いた部分がないため、０±３０°、１８０±３０°の範囲で、反射率が０となっていて、３０〜１５０°、２１０〜３３０°の部分のみが存在することがわかる。
【００９２】
また、図２１によれば、実施例２‐▲１▼と実施例１‐▲２▼とを対比するに、実施例１−▲２▼では３０〜１５０°と２１０〜３３０°の各範囲において、双方とも反射率が同じ大きさである。しかしながら、実施例２‐▲１▼においては、２１０〜３３０°の範囲に比べ３０〜１５０°の範囲の方が反射率が大きくなっている。
【００９３】
図２２においても、実施例１−▲２▼では３０〜１５０°と２１０〜３３０°の各範囲において、双方とも反射率が同じ大きさであるが、実施例２‐▲２▼においては、２１０〜３３０°の範囲に比べ３０〜１５０°の範囲の方が反射率が大きくなっている。
【００９４】
図２３においても、実施例１−▲２▼では３０〜１５０°と２１０〜３３０°の各範囲において、双方とも反射率が同じ大きさであるが、実施例２‐▲３▼においては、２１０〜３３０°の範囲に比べ３０〜１５０°の範囲の方が反射率が大きくなっている。
【００９５】
さらにまた、３０〜１５０°の反射率については、実施例２‐▲１▼、実施例２‐▲２▼、実施例２‐▲３▼との間で比べても、実施例２‐▲１▼＜実施例２‐▲２▼＜実施例２‐▲３▼の順で大きくなる。すなわち、帯状部に付加した多数の短冊状部の長さが大きくなるにしたがって、３０〜１５０°の範囲での反射率が大きくなる。
【００９６】
かくして本発明の反射板Ｐによれば、帯状部に付加する形状によって、０°〜１８０°の範囲と１８０°〜３６０°の範囲とに対し、双方の間にて反射率の比率を変えることができ、加えて反射率の程度も変えることができる。
【００９７】
反射板の他の製造方法
反射板の他の２つの製造方法をそれぞれ図２４・図２５と図２６により説明する。
【００９８】
図２４・図２５に示す反射板の製造方法によれば、（ａ）〜（ｈ）は各工程からなる。
【００９９】
（ａ）工程
透明なガラス基板３５（厚さ0.55mm）上に感光性樹脂３６（ＪＳＲ製PC405G）を厚さ0.5±0.2μmで塗布する。
【０１００】
（ｂ）工程
次に、105±10℃で3分間プリベークし、フォトマスク３７を用いてステッパ−にて露光する。
【０１０１】
図２６（ａ）はフォトマスク３７の平面図であり、そのガラス基板上にＣｒ等で形成された遮光パターン３８が形成されたものを使用する。
【０１０２】
この遮光パターン３８によれば、多数の蛇行した帯状部をなし、各帯状部の長手方向は同一方向に揃っている。
【０１０３】
（ｃ）工程
次に現像を行い、断面が矩形型の帯状パターンが得られる。そのために現像液には、ＪＳＲ製のPD523AD（0.25±0.1％）を使用し、50±10秒（25℃）の現像を行った。さらに、ポストベーク220±10℃（15分）を行うことにより樹脂を硬化させ、帯状部３９を形成した。
【０１０４】
（ｄ）工程
そして、前記の感光性樹脂３６の厚みに比べて、薄くして感光性樹脂４０（ＪＳＲ製のPC405G）を厚さ0.25±0.1μmで塗布し、105±10℃で3分間プリベークした。
【０１０５】
（ｅ）工程
フォトマスク３７を用いてステッパ−にて露光する。
【０１０６】
このフォトマスク３７は図２６（ａ）に示すような遮光パターン３８が形成されたものを使用し、図２６（ｂ）は、このフォトマスク３７を用いて、２回露光した場合の露光部位を示す。２回目の露光位置は、１回目の露光位置から上方向にずらしている。
【０１０７】
（ｆ）工程
現像を行い、断面が矩形型の帯状パターンが得られる。現像液には、ＪＳＲ製のPD523AD（0.25±0.1％）を使用し、50±10秒（25℃）の現像を行った。さらに、ポストベーク220±10℃（15分）を行うことにより、樹脂が硬化し、これにより、帯状部３９にそった第２の帯状部４１を形成した。
【０１０８】
（ｇ）工程
基板全面に透明樹脂４２（ＪＳＲ製ＮＮ５２５）を１μｍの膜厚で塗布を行い、１００±１０℃でプリベークを行った。これにより、矩形型のパターンが滑らかに連続的となった。さらに、ポストベーク220±10℃（15分）を行うことにより、透明樹脂４２を硬化させる。
【０１０９】
（ｈ）工程
透明樹脂４２の上にＡｌ，Ａｌ合金（たとえば、ＡｌＣＭｇ，ＡｌＴｉ，ＡｌＮｄ）、Ａｇ合金（たとえば、ＡｇＰｄ，ＡｇＰｄＣｕ，ＡｇＲｕＣｕ）などから金属光反射層もしくは誘電体ミラーを成膜する。本例では、ＡｇＰｄを１５０ｎｍの厚みでもってスパッタリングにより成膜し、光反射層４３とした。
【０１１０】
かくして（ａ）工程〜（ｈ）工程を経て得られた本発明の反射板Ｐについても、透明樹脂４２には平坦部がなく滑らかに連続的な形状となり、これによって、その上の光反射層４３についても、同様に滑らかに連続的な構成になっている。
【０１１１】
そして、この構成において、さらに蛇行状帯部の横断面形状が、その帯部の中心線に対し非対称に偏心させているので、帯状部の形状によって、０°〜１８０°の範囲と１８０°〜３６０°の範囲とに対し、双方の間にて反射率の比率を変えることができる。
【０１１２】
また、図２７に示す反射板の製造方法においては、（ａ）〜（ｄ）は各工程からなる。
【０１１３】
（ａ）工程
透明なガラス基板４４（厚さ0.55mm）上にＵＶ硬化樹脂４５を厚さ0.5±0.2μmで塗布し、所望な帯状形状が形成された型４６にて押圧する。
【０１１４】
（ｂ）工程
紫外線光でもって露光量１０００±３００ｍＪ／ｃｍ2にて光照射することにより、ＵＶ硬化樹脂４５が硬化する。
【０１１５】
（ｃ）工程
ガラス基板４４から型４６を剥がすことで、所望な蛇行状帯部４７が形成された基板が得られれる。
【０１１６】
（ｄ）工程
そして、蛇行状帯部４７の上にＡｌ，Ａｌ合金（たとえば、ＡｌＣＭｇ，ＡｌＴｉ，ＡｌＮｄ）、Ａｇ合金（たとえば、ＡｇＰｄ，ＡｇＰｄＣｕ，ＡｇＲｕＣｕ）などから金属光反射層もしくは誘電体ミラーを成膜し光反射層４８とする。本例では、ＡｇＰｄを１５０ｎｍの厚みでもってスパッタリングにより成膜した。
【０１１７】
かくして（ａ）工程〜（ｄ）工程を経て得られた本発明の反射板Ｐにおいては、蛇行状帯部４７は型４６の構成にしたがって、平坦部がなく滑らかに連続的な形状となり、その上の光反射層４８についても、同様に滑らかに連続的な構成になっている。
【０１１８】
そして、この構成において、さらに蛇行状帯部の横断面形状が、その帯部の中心線に対し非対称に偏心させているので、蛇行状帯部４７の形状によって、０°〜１８０°の範囲と１８０°〜３６０°の範囲とに対し、双方の間にて反射率の比率を変えることができる。
【０１１９】
（例３）
（例１）と（例２）における反射板を作製するには、双方とも現像工程を経ているが、本例では現像工程を経ないで作製する方法を図２８〜図３１により説明する。
【０１２０】
図２８に示す反射板Ｐの製造方法においては、（ａ）〜（ｄ）は各工程からなる。
【０１２１】
（ａ）工程
透明なガラス基板４９（厚さ0.55mm）上に新日本製鉄化学製の感光性樹脂５０（V-259PR）を厚さ5.0±0.5μmにて塗布し、100±10℃で3分間プリベークする。
【０１２２】
（ｂ）工程
フォトマスク５１を用いてプロキシミティー露光する。
【０１２３】
このフォトマスク５１の例を図２９と図３０により示す。
【０１２４】
図２９に示すフォトマスク５１においては、Ｃｒ等の遮光パターンが形成されたものを使用し、その遮光パターンは、多数の蛇行した帯状形状であり、非成膜部分である各帯状部の長手方向は同一方向を向くように配置されている。
【０１２５】
また、図３０に示す他のフォトマスク５１においては、図２９に示す遮光パターンの各帯状部の片側辺に対し、多数の短冊状の形状が付与され、これにより、片側辺部の解像度を低下させ、その反対側の辺側部との間にて解像度差をつけ、蛇行状帯部のピークの位置を、その反対側の辺側部に近づけている。
【０１２６】
このように多数の短冊状形状を帯状部の片側辺部に形成することで、その部分での光反射に寄与する面積が増加し、反射率が上がる。
【０１２７】
かかる帯状形状に付与するパターンは短冊状以外に、図３１に示すように、帯状部の片側に多数の三角形を配置したり、帯状部でなくても三角形を帯状に配置しても同様な効果が得られる。
【０１２８】
（ｃ）工程
ポストベークを220±10℃の温度でもって１５分間を行うことで、樹脂の感光された部分と感光されていない部分で、膜の硬化後の膜厚が異なることから、凹凸が形成され、所望な蛇行状帯部５２が形成された基板が得られれる。
【０１２９】
（ｄ）工程
そして、蛇行状帯部５２の上にＡｌ，Ａｌ合金（たとえば、ＡｌＣＭｇ，ＡｌＴｉ，ＡｌＮｄ）、Ａｇ合金（たとえば、ＡｇＰｄ，ＡｇＰｄＣｕ，ＡｇＲｕＣｕ）などから金属光反射層もしくは誘電体ミラーを成膜し光反射層５３とする。本例では、ＡｇＰｄを１５０ｎｍの厚みでもってスパッタリングにより成膜した。
【０１３０】
かくして（ａ）工程〜（ｄ）工程を経て得られた本発明の反射板Ｐにおいては、蛇行状帯部５２は平坦部がなく滑らかに連続的な形状となり、その上の光反射層５３についても、同様に滑らかに連続的な構成になっている。
【０１３１】
そして、この構成において、さらに蛇行状帯部の横断面形状が、その帯部の中心線に対し非対称に偏心させているので、蛇行状帯部５２の形状によって、０°〜１８０°の範囲と１８０°〜３６０°の範囲とに対し、双方の間にて反射率の比率を変えることができる。
【０１３２】
（例４）
（例１）〜（例３）の各反射板Ｐを液晶表示装置に使用する場合を説明する。
【０１３３】
図３２はこの液晶表示装置５４の断面図である。
この液晶表示装置５４はカラー表示用の反射型であり、５５はコモン側のガラス基板（０．５５ｍｍ厚）、５６はセグメント側のガラス基板（０．５５ｍｍ厚）であって、ガラス基板５５の一主面上にアクリル系樹脂材などからなる樹脂でもって前記蛇行状帯部である帯状凸部５７を多数配列し、この帯状凸状配列群上に銀合金ＡｇｘＰｄｙ（ｘ=99.0 ｙ=1.0）からなる膜でもって厚み１５０ｎｍの光反射層５８を被覆している。
【０１３４】
そして、光反射層５８上にアクリル系樹脂材などからなる樹脂のカラーフィルタ５９を形成している。さらにアクリル系樹脂からなるオーバーコート層６０と、多数平行に配列したＩＴＯからなる透明電極６１を形成している。この透明電極６１上に一定方向にラビングしたポリイミド樹脂からなる配向膜６２を形成している。
【０１３５】
また、ガラス基板５６上に多数平行に配列したＩＴＯからなる透明電極６３と、一定方向にラビングしたポリイミド樹脂からなる配向膜６４とを順次形成している。透明電極６３と配向膜６４との間にＳｉＯ2からなる絶縁層を介在させてもよい。
【０１３６】
そして、双方の基板をＳＴＮなどの液晶６５を介してシール部材６６により貼り合わせる。さらにガラス基板５６の外側にポリカーボネイトなどからなる第１位相差フィルム６７と第２位相差フィルム６８とヨウ素系の偏光板６９とを順次形成する。
【０１３７】
上記構成の反射型の液晶表示装置５４において、太陽光、蛍光灯などの外部照明による入射光はガラス基板５６を通過し、液晶６５、カラーフィルタ５９などを通して光反射層５８に到達し、光反射層５８にて光反射され、その反射光が出射される。
【０１３８】
また、本例の反射型液晶表示装置５４の使用者は、その装置と対面しながら用いるに当り、通常、上下方向の視野角、とくに上方向の視野角でもって使用している。よって、蛇行状帯部である帯状凸部５７の帯状部は、パネルに対し横方向に配列する。
【０１３９】
すなわち、携帯情報端末等で用いられる反射型液晶表示装置５４では、入射光はパネルの横方向から入射されることに比べ、上方から入射されることが多く、そのために蛇行状帯部（帯状凸部５７）の長手方向をパネル横方向に設置することで、上方からの入射光を有効に利用することができる。
【０１４０】
加えて、実施例２―▲１▼、実施例２―▲２▼、実施例２―▲３▼ならびに（例３）に示す如く、蛇行状帯部の横断面形状が、その帯部の中心線に対し非対称に偏心している場合には、そのピークの位置を、反射型液晶表示装置５４の下側にして、上方からの入射光を実施例１に比べ有効に利用している。
【０１４１】
本発明者は従来例（ａ）、実施例１―▲２▼および実施例２―▲２▼を用意し、その光学特性を評価実験したところ、表１に示すような結果が得られた。
【０１４２】
評価測定については、それぞれの反射板を用いた反射型液晶表示装置を作製し、蛍光灯が２ｍ間隔に１５本配列されたオフィスの中央付近に、その装置を配して表示性能を調べている。
【０１４３】
一般的な人が反射型液晶表示装置を使用する状況において、その人が見る角度を上方向・下方向にずらし、これによって画面の明暗状態を調べている。
【０１４４】
その評価を◎、○、△、×の４通りに判定基準を定め、◎印はたいへん明るい場合であり、○印はやや明るい場合、△印はやや暗い場合、×印は顕著に暗い場合である。
【０１４５】
【表１】
【０１４６】
この表から明かなとおり、実施例１―▲２▼の反射板を搭載した反射型液晶表示装置では上下方向ともに明るかった。また、実施例２―▲２▼の反射板を搭載した反射型液晶表示装置では上方向のみが従来より明るい特性をもった反射型液晶表示装置が得られた。
【０１４７】
（例５）
（例１）〜（例３）の各反射板Ｐを他の液晶表示装置に使用する場合を説明する。
【０１４８】
図３３はこの液晶表示装置７０の断面図である。
このカラー表示用の反射型の液晶表示装置７０において、７１はコモン側のガラス基板（０．５５ｍｍ厚）、７２はセグメント側のガラス基板（０．５５ｍｍ厚）であって、ガラス基板７１の一主面上にアクリル系樹脂材などからなる樹脂でもって前記蛇行状帯部である帯状凸部７３を多数配列し、この帯状凸状配列群上に銀合金ＡｇｘＰｄｙ（ｘ=99.0 ｙ=1.0）からなる膜でもって厚み１５０ｎｍの光反射電極７４を被覆している。この光反射電極７４はストライプ状に多数個配列されている。
【０１４９】
この光反射電極７４の上に一定方向にラビングしたポリイミド樹脂からなる配向膜７５を形成している。
【０１５０】
一方のガラス基板７２の上にはアクリル系樹脂材などからなる樹脂のカラーフィルタ７６を形成し、さらにアクリル系樹脂からなるオーバーコート層７７と、多数平行に配列したＩＴＯからなる透明電極７８と、一定方向にラビングしたポリイミド樹脂からなる配向膜７９とを順次形成している。透明電極７８と配向膜７９との間にＳｉＯ2からなる絶縁層を介在させてもよい。
【０１５１】
そして、両基板７１、７２をＳＴＮなどの液晶８０を介してシール部材８１により貼り合わせる。その際、光反射電極７４と透明電極７８とを交差させる。
【０１５２】
さらにガラス基板７２の外側にポリカーボネイトなどからなる第１位相差フィルム８２と第２位相差フィルム８３とヨウ素系の偏光板８４とを順次形成する。
【０１５３】
上記構成の反射型の液晶表示装置７０において、太陽光、蛍光灯などの外部照明による入射光はガラス基板７２を通過し、カラーフィルタ７６、液晶８０などを通して光反射電極７４に到達し、光反射電極７４にて光反射され、その反射光が出射される。
【０１５４】
また、本例の反射型液晶表示装置７０についても、使用者はその装置と対面しながら用いるに当り、通常、上下方向の視野角、とくに上方向の視野角でもって使用している。よって、蛇行状帯部である帯状凸部７３の帯状部は、パネルに対し横方向に配列する。
【０１５５】
加えて、実施例２―▲１▼、実施例２―▲２▼、実施例２―▲３▼ならびに（例３）に示す如く、蛇行状帯部の横断面形状が、その帯部の中心線に対し非対称に偏心している場合には、そのピークの位置を、反射型液晶表示装置７０の下側にして、上方からの入射光を実施例１に比べ有効に利用している。
【０１５６】
本発明者は従来例（ａ）、実施例１―▲２▼および実施例２―▲２▼を用意し、その光学特性を評価実験したところ、表２に示すような結果が得られた。
【０１５７】
評価測定については、それぞれの反射板を用いた反射型液晶表示装置７０を作製し、（例４）に記載されているように表示性能を調べている。
【０１５８】
【表２】
【０１５９】
この表から明かなとおり、実施例１―▲２▼の反射板を搭載した反射型液晶表示装置では上下方向ともに明るかった。また、実施例２―▲２▼の反射板を搭載した反射型液晶表示装置では上方向のみが従来より明るい特性をもった反射型液晶表示装置が得られた。
【０１６０】
（例６）
（例４）および（例５）に示す液晶表示装置５４、７０によれば、各画素がマトリックス状に配列されているので、それらに用いる反射板構造において、蛇行状帯部を形成した一矩形状の領域でもってブロックと成すとともに、各ブロックをマトリックス状に配列するに当り、所定の構成にすることで、画素との間にて表示上干渉しなくなる。なお、各ブロックをマトリックス状に配列する理由は、これによってマスクの関係で、現実的に実効があるためである。
【０１６１】
この点を図３４と表３でもって説明する。
同図（ａ）は１画素のピッチが８０μｍ×２４０μｍの液晶表示装置に対し、それに使用する反射板における各ブロックのマトリックス状配列を示す。一ブロック（サイズａ×ｂの矩形状）を取りだし、その拡大図として同図（ｂ）も示す。
【０１６２】
なお、図３４（ａ）（ｂ）は、双方とも反射板を作製するのに使用するフォトマスクでもって図示する。
【０１６３】
また、１画素の一方向では８０μｍのピッチであることに対し、他方向では、その３倍の２４０μｍピッチになっているが、各画素にはそれぞれ赤のカラーフィルター、青のカラーフィルターおよび緑のカラーフィルターを一列に配列することから、それら一連の配列を含むためである。
【０１６４】
そして、各ブロックのサイズａ、ｂをそれぞれ変えることで、表示特性を測定したところ、すなわち反射型液晶表示装置の表示を目視観察して評価すると、表３に示すような結果が得られた。
【０１６５】
この評価には、蛍光灯が２ｍ間隔に１５本配列されたオフィスの中央付近にて、反射型液晶表示装置の表示性能を調べている。
【０１６６】
一般的な人が液晶表示装置を使用する際に、その人の見る角度を疲れにくい通常の状態にして、干渉の発生具合を目視にて確認した。
【０１６７】
その評価を○、△、×の３通りの判定基準を定め、○印は干渉がない場合、△印はやや干渉が見られた場合、×印は顕著に干渉が見られた場合である。
【０１６８】
【表３】
【０１６９】
かくして、この表から明らかなとおり、表示の干渉をなくすためには、縦方向、横方向ともブロックサイズの縦サイズ、横サイズの約数の大きさにすればよいことが分かる。
【０１７０】
以下、このようにブロックサイズを画素の送りピッチの公約数の大きさにする理由を図３５〜図３９に示す液晶表示装置でもって説明する。これら各図は主要部材の模式図であり、図３５は液晶表示装置８９の要部斜視図であり、図３７は液晶表示装置８９に対する入射光と反射光の光路を示す。
【０１７１】
また、図３６は液晶表示装置９０の要部斜視図であり、図３８と図３９は液晶表示装置９０に対する入射光と反射光の光路を示す。
【０１７２】
双方の液晶表示装置８９、９０とも、８５は信号側ＩＴＯ電極、８６は走査側ＩＴＯ電極、８７はカラーフィルター、８８は反射板である。
【０１７３】
図３５と図３７に示す液晶表示装置８９によれば、蛇行状帯部（帯状凸部）を形成した反射板８８の各ブロックのサイズが１００μｍ×１００μｍの矩形状であり、そのようなブロックがマトリックス状に配列されている。そして、信号側ＩＴＯ電極８５とカラーフィルター８７の配列ピッチが８０μｍである場合には、隣接するＩＴＯ電極の隙間、隣接するカラーフィルターの隙間が、双方の配置関係上対応しなくなり、これにより、図３７に示すように各ＩＴＯ電極間での反射光量はＡ・Ｂ・Ｃ・Ｄのように変わってくる。
【０１７４】
そして、ブロックサイズとＩＴＯ電極ピッチの最小公倍数である４００μｍピッチで周期的に反射光量Ａ・Ｂ・Ｃ・Ｄが生じ、これに伴って干渉縞が発生する。
【０１７５】
このような干渉縞は、信号側ＩＴＯ電極８５やカラーフィルター８７以外に、走査側ＩＴＯ電極８６についても同様に発生する。
【０１７６】
すなわち、マトリックス状に配列されている各ブロックのサイズが１００μｍ×１００μｍの矩形状である反射板８８に対し、走査側ＩＴＯ電極８６のピッチが２４０μｍであれば、最小公倍数である１２００μｍのピッチでもって周期的に各電極間に、干渉縞が見える。
【０１７７】
かかる課題を解消するために、図３６と図３８と図３９に示す液晶表示装置９０を用いるとよい。
【０１７８】
蛇行状帯部（帯状凸部）を形成した反射板８８の各ブロックのサイズが８０μｍ×８０μｍの矩形状であり、そのようなブロックがマトリックス状に配列されている。そして、信号側ＩＴＯ電極８５とカラーフィルター８７の配列ピッチが８０μｍである場合には、隣接するＩＴＯ電極の隙間、隣接するカラーフィルターの隙間が、双方の配置関係上対応し、これにより、図３８に示すように各ＩＴＯ電極間での反射光量は一定のＥになり、その結果、干渉縞が生じなくなる。
【０１７９】
そして、走査側ＩＴＯ電極８６についても、そのピッチは２４０μｍになることで、隣接するＩＴＯ電極の隙間が、ブロックの配置関係上対応し、これにより、図３９に示すように各ＩＴＯ電極間での反射光量は一定のＦになり、その結果、干渉縞が生じなくなる。
【０１８０】
以上のとおり、蛇行状帯部を形成した反射板８８の各ブロックのピッチＰ１と、ＩＴＯ電極やカラーフィルターの配列ピッチＰ２との間にて、
Ｐ１／Ｐ２＝ｎ又はＰ２／Ｐ１＝ｎ（ｎ＝１、２、３・・・整数）に設定することで、干渉縞が発生しなくなった。
【０１８１】
なお、本発明は上記実施形態例に限定されるものではなく、本発明の要旨を逸脱しない範囲内で種々の変更や改良等はなんら差し支えない。
【０１８２】
たとえば、本例では単純マトリクス構造のＳＴＮタイプでもって述べ、このタイプではＩＴＯストライプ電極構造を形成しているが、これに代えて、この構成を変えることで、ＴＦＴ、ＭＩＭ構造などのアクティブマトリクス構造にしてもよい。
【０１８３】
【発明の効果】
以上のとおり、本発明の反射板によれば、基板と、前記基板上に設けられており、かつ滑らかに連続的に形成された複数の蛇行状帯部と、前記基板上に設けられており、かつ隣接する前記蛇行状帯部間が滑らかに連続的に接続された接続部と、前記蛇行状帯部および前記接続部上に設けられており、かつ滑らかに連続的に形成された光反射層と、を備え、複数の前記蛇行状帯部の長手方向は同一方向に揃っており、かつ複数の前記蛇行状帯部の蛇行形状は一様に揃っているので、その蛇行状帯部の形状や構成を設計するだけで、入射光の反射特性を容易に制御し、所要のとおりの錯乱特性を達成し、さまざまな表示に使用することができた。
【０１８４】
また、本発明の反射板においては、現像や露光などのフォトリソの技術やプリント技術を用いていることで、製造上のバラツキがなく、製造歩留まりを高め、一定の優れた品質を達成した低コストの反射板が提供できた。
【０１８５】
さらに本発明の液晶表示装置によれば、本発明の反射板を用いることで、入射光に対する反射性能や散乱性能が高められ、その使用性能を高め、これによって、とくに携帯端末などの小型液晶パネルに好適な高性能かつ低コストな液晶表示装置が提供できた。
【０１８６】
さらにまた、本発明の液晶表示装置においては、反射板をマトリックス状にブロック化し、各ブロックの配列ピッチＰ１と画素ピッチＰ２とが、Ｐ１／Ｐ２＝ｎ又はＰ２／Ｐ１＝ｎ（ｎ＝１、２、３・・・整数）にしたことで、干渉縞がなくなり、優れた表示品質が得られた。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の反射板の製造工程図であって、（ａ），（ｂ），（ｃ），（ｄ）は各工程の説明図である。
【図２】本発明の反射板の製造に使用するフォトマスクの平面図ある。
【図３】（ａ）は本発明の反射板の平面図であり、（ｂ）は（ａ）の反射板における切断面線Ａ−Ａの断面図、（ｃ）は（ａ）の反射板における切断面線Ｂ−Ｂの断面図である。
【図４】反射板の光学特性評価方法を示す説明図である。
【図５】液晶表示装置の向きと光学特性評価の方位角との位置関係を示す説明図である。
【図６】（ａ），（ｂ），（ｃ）はそれぞれフォトマスクパターンの拡大図である。
【図７】蛇行状帯部の蛇行形状の傾き角度を示す説明図である。
【図８】蛇行状帯部の蛇行形状の傾き角度と、その頻度（比率）との関係を示すデータ図である。
【図９】他の蛇行状帯部の蛇行形状の傾き角度と、その頻度（比率）との関係を示すデータ図である。
【図１０】さらに他の蛇行状帯部の蛇行形状の傾き角度と、その頻度（比率）との関係を示すデータ図である。
【図１１】反射板に対する光入射の方位角と、その反射率との関係を示す線図である。
【図１２】他の反射板に対する光入射の方位角と、その反射率との関係を示す線図である。
【図１３】さらに他の反射板に対する光入射の方位角と、その反射率との関係を示す線図である。
【図１４】本発明の反射板の他の製造工程図であって、（ａ），（ｂ），（ｃ），（ｄ），（ｅ）は各工程の説明図である。
【図１５】本発明の反射板の他の製造工程図であって、（ａ），（ｂ），（ｃ），（ｄ）は各工程の説明図である。
【図１６】本発明の反射板の製造に使用する他のフォトマスクの平面図ある。
【図１７】他のフォトマスクパターンの拡大図であり、（a）は遮光パターンの要部拡大図、（ｂ）は（a）のフォトマスクを用いて作製した蛇行状帯部を示す概要平面図、（ｃ）は（ｂ）に示す切断面線▲３▼―▲４▼による断面図である。
【図１８】（ａ）（ｂ）はそれぞれフォトマスクの遮光パターンの要部拡大図である。
【図１９】（ａ）（ｂ）（ｃ）はそれぞれフォトマスクの遮光パターンの要部拡大図である。
【図２０】（ａ）（ｂ）（ｃ）はそれぞれフォトマスクの遮光パターンの要部拡大図である。
【図２１】反射板に対する光入射の方位角と、その反射率との関係を示す線図である。
【図２２】他の反射板に対する光入射の方位角と、その反射率との関係を示す線図である。
【図２３】さらに他の反射板に対する光入射の方位角と、その反射率との関係を示す線図である。
【図２４】本発明の反射板の他の製造工程図であって、（ａ），（ｂ），（ｃ），（ｄ）は各工程の説明図である。
【図２５】本発明の反射板の他の製造工程図であって、（ｅ），（ｆ），（ｇ），（ｈ）は各工程の説明図である。
【図２６】（ａ）はフォトマスクの平面図であり、（ｂ）はこのフォトマスクを用いた場合の露光部位を示す基板側の平面図である。
【図２７】本発明の反射板の他の製造工程図であって、（ａ），（ｂ），（ｃ），（ｄ）は各工程の説明図である。
【図２８】本発明の反射板の他の製造工程図であって、（ａ），（ｂ），（ｃ），（ｄ）は各工程の説明図である。
【図２９】本発明の反射板の製造に使用する他のフォトマスクの平面図ある。
【図３０】本発明の反射板の製造に使用する他のフォトマスクの平面図ある。
【図３１】他のフォトマスクの遮光パターンの要部拡大図である。
【図３２】本発明の液晶表示装置の断面図である。
【図３３】本発明の他の液晶表示装置の断面図である。
【図３４】（ａ）は反射板を作製するのに使用するフォトマスクの平面図であり、（ｂ）は反射板の各ブロックに対応するフォトマスクの要部拡大図である。
【図３５】反射型液晶表示装置の模式図である。
【図３６】他の反射型液晶表示装置の模式図である。
【図３７】反射型液晶表示装置の要部構成を示す説明図である。
【図３８】他の反射型液晶表示装置の要部構成を示す説明図である。
【図３９】他の反射型液晶表示装置の要部構成を示す説明図である。
【図４０】従来の反射型液晶表示装置の断面図である。
【符号の説明】
Ｐ・・・反射板
１７、２５、３０、３５、４４、４９・・・ガラス基板
１８、２６、３６、４０、５０・・・感光性樹脂
１９、３７、５１・・・フォトマスク
２０、４７、５２・・・蛇行状帯部
２１、２７、２９、３４、４３、４８、５３、５８・・・光反射層
２４・・・液晶パネル
２８・・・透明樹脂
３８、Ｓ・・・遮光パターン
３９、４１・・・帯状部
５４・・・液晶表示装置
【発明の属する技術分野】
本発明は液晶表示装置など表示用に用いる反射板ならびに反射型もしくは半透過型の液晶表示装置に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】
近年、液晶表示装置は小型もしくは中型の携帯情報端末やノートパソコンの他に、大型かつ高精細のモニターにまで使用されている。さらにバックライトを使用しない反射型液晶表示装置の技術も開発されており、薄型、軽量および低消費電力化に優れている。
【０００３】
反射型液晶表示装置には、後方に配設した基板の内面に対し凹凸形状の光反射層を形成した散乱反射型があるが、バックライトを用いないことで、周囲の光を有効に利用している。
【０００４】
また、光反射層に代えて、半透過膜を形成し、バックライトを設け、反射モードや透過モードに使い分ける半透過型液晶表示装置も開発されている。この半透過型液晶表示装置についても、反射モードに使用することで、反射型液晶表示装置であると言える。
【０００５】
このような散乱反射型の液晶表示装置１として図４０に示す。
液晶表示装置１において、ガラス基板２の上に樹脂からなるほぼ半球状の凸部３を多数配列することで、凸状配列群を形成し、凸状配列群上に金属からなる光反射層４を被覆し、光反射層４上にカラーフィルタ５を形成し、カラーフィルタ５の上にオーバーコート層６を被覆し、オーバーコート層６上にＩＴＯなどからなる透明電極７を帯状に複数配列し、さらに配向膜８を被覆する。
【０００６】
また、ガラス基板９上にＩＴＯなどからなる透明電極１０を帯状に複数配列し、さらに配向膜１１を被覆する。そして、双方の基板２、９を液晶１２を介して対向配設し、液晶１２はシール部材１３により囲まれた領域内に充填され、ガラス基板９の外面に第１位相差フィルム１４と第２位相差フィルム１５と偏光板１６とを順次形成する。
【０００７】
上記構成の液晶表示装置１においては、太陽光や蛍光灯などの外光が偏光板１６、第１位相差フィルム１４、第２位相差フィルム１５、さらにガラス基板９などを通過し、液晶１２やカラーフィルタ５などを通して光反射層４に到達し、その反射光が出射される。
【０００８】
しかしながら、この液晶表示装置１によれば、ガラス基板２上に形成した凸状配列群は、その凸部３が均等な半球状であることで、その散乱反射板は光学的に等方な凹凸形状となり、これによって、不必要な光散乱が多くなり、人が視認する方向とは別の方向にも散乱されている。
【０００９】
この課題を解消するために、上記散乱反射板に対し非対称軸を有する凹部または凸部を形成したり、傾斜角度分布を非対称にする技術が提案されている（特開平１０−１７７１０６号参照）。
【００１０】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、この提案の反射板によれば、ある程度の散乱特性の異方性はだすことはできたが、いまだ液晶表示装置を用いる使用者にとって、その液晶パネルに対する横方向において、その散乱を小さくすることはできず、表示画面の輝度が満足し得る程度にまで至っておらず、さらに優れた視認性が求められる。
【００１１】
しかも、この反射板においては、その製法上、大変微細な凹凸形状に対し、さらに複雑に加工しなければならず、そのために散乱特性の制御がむずかしくなり、製造歩留まりが低下する原因になっていた。
【００１２】
その上、近年、携帯電話や情報端末などの携帯端末に用いる反射型液晶表示装置や半透過型液晶表示装置においては、それを使用する者にとって、その入射光の方角は重要な要件になっており、液晶パネルの小型化に伴って見やすさは、市場の大きな評価基準になっている。
【００１３】
しかしながら、表示画面に対し、その斜め上方から光入射することが多い携帯端末用液晶表示装置において、いまだ十分に満足し得る程度にまで改善されていないと言える。
【００１４】
したがって本発明の目的は、入射光の反射特性を容易に制御し、所要とおりの散乱特性を達成した高性能な反射板を提供することにある。
【００１５】
本発明の他の目的は、製造上のバラツキがなく、製造歩留まりを高め、一定の優れた品質を達成した低コストの反射板を提供することにある。
【００１６】
さらに本発明の他の目的は、かかる本発明の反射板を用いて、入射光に対する反射性能や散乱性能を高めることで、使用性能を高め、これによって、とくに携帯端末などの小型液晶パネルに好適な高性能かつ低コストな液晶表示装置を提供することにある。
【００１７】
【課題を解決するための手段】
本発明の反射板は、基板と、前記基板上に設けられており、かつ滑らかに連続的に形成された複数の蛇行状帯部と、前記基板上に設けられており、かつ隣接する前記蛇行状帯部間が滑らかに連続的に接続された接続部と、前記蛇行状帯部および前記接続部上に設けられており、かつ滑らかに連続的に形成された光反射層と、を備え、複数の前記蛇行状帯部の長手方向は同一方向に揃っており、かつ複数の前記蛇行状帯部の蛇行形状は一様に揃っている。
【００２１】
【発明の実施の形態】
以下、本発明を図面にて詳述する。
【００２２】
（例１）
反射板の製造方法
図１は本発明の反射板の製造方法を示し、（ａ）〜（ｄ）は各工程である。
【００２３】
（ａ）工程
透明なガラス基板１７（厚さ0.55mm）上に感光性樹脂１８を厚さ1.5±0.5μmで塗布する。次に、105±10℃で3分間プリベークする。この感光性樹脂１８には、たとえばＪＳＲ株式会社製のPC405Gを使用する。
【００２４】
（ｂ）工程
フォトマスク１９を用いて波長３６５ｎｍの紫外線光でもってプロキシミティー露光する。
図２はフォトマスク１９の平面図であり、ガラス基板などの透明基板上にＣｒ等で形成された遮光パターンＳを形成したものである。
【００２５】
この遮光パターンＳによれば、多数の蛇行した帯状部をなし、各帯状部の長手方向は同一方向に揃っている。また、その蛇行形状は一様にそろっている。
【００２６】
（ｃ）工程
次に現像と露光とベークとを行い、ガラス基板１７の上に蛇行状帯部２０を形成する。
すなわち、前工程のプロキシミティー露光の光の周り込みを利用して、現像後には、パターンの角がとれて、なめらかな曲面が得られる。現像液には、ＪＳＲ製のPD523AD（濃度0.25±0.1％）を使用し、50±10秒（20℃）の現像を行った。
【００２７】
そして、全面露光を行い、感光性樹脂の未反応成分をなくし、脱色を行い、その後、さらにポストベーク220±10℃（15分）を行うことにより、樹脂を硬化させる。
【００２８】
（ｄ）工程
しかる後に、蛇行状帯部２０の上にＡｌ，Ａｌ合金（たとえば、ＡｌＣＭｇ，ＡｌＴｉ，ＡｌＮｄ）、Ａｇ合金（たとえば、ＡｇＰｄ，ＡｇＰｄＣｕ，ＡｇＲｕＣｕ）などから金属光反射層もしくは誘電体ミラーを成膜する。本例では、ＡｇＰｄ膜を１５０ｎｍの厚みでもってスパッタリング法により成膜し、光反射層２１とした。
【００２９】
かくして（ａ）工程〜（ｄ）工程を経て本発明の反射板Ｐが得られる。
【００３０】
反射板Ｐの構成
反射板Ｐの構成を図３に示す。同図（ａ）は反射板の平面図であり、（ｂ）は同図（ａ）にて切断面線Ａ−Ａによる断面図、（ｃ）は同図（ａ）にて切断面線Ｂ−Ｂによる断面図である。
【００３１】
図３の（ｂ）、（ｃ）から明らかなとおり、蛇行状帯部２０には平坦部がなく滑らかに連続的な形状となっている。したがって、この蛇行状帯部２０上の光反射層２１についても、その形状は平坦部がなく滑らかに連続的な構成である。
【００３２】
次に、この反射板Ｐの光学特性評価について説明する。
図４に示すように光反射層２１上に液晶層を想定して、アクリル系合成樹脂などからなる屈折率n＝1.5程度の樹脂２２を塗布し、さらにガラス基板２３を貼り合わせることで、仮想の液晶パネル２４を構成し、そして、測定は入射光を垂直方向から１５°傾けた方向から入射し、３６０°回転しながら、受光部は垂直方向で反射率測定を行う。
【００３３】
ここで、入射光の方向を決めるには、図５に示すように、実際に液晶表示装置の使用者を見る向きを考えて上下方向を設定し、液晶パネル２４の右方を０°、上方を９０°、左方を１８０°、下方を２７０°と規定する。
【００３４】
反射板として図３に示す反射板Ｐと、従来例の２種類の反射板を図６に示すように用意する。なお、反射板の蛇行状帯部２０や凸状配列群は連続して滑らかになっているので、同図に示す形状と寸法は、それを作製するために用いるフォトマスクの遮光パターンにて示す。
【００３５】
同図（a）は従来例（a）の反射板であって、前述した液晶表示装置１に設けた散乱反射板と同構成であり、反射板Ｐにおいて蛇行状帯部２０に代えて、凸部が均等な半球状（円径：６μｍ）である凸状配列群を形成したものである。
【００３６】
同図（ｂ）は従来例（b）の反射板であって、円形の凸部である従来例（a）の反射板に対し、さらに楕円（長辺：短辺＝２：１）の凸部でもって凸状配列群を形成したものである。この楕円の長辺は１２μｍ、短辺は６μｍである。
【００３７】
そして、同図（ｃ）は本発明の反射板Ｐにおける蛇行状帯部２０（帯幅：６μｍ）であり、その帯形状を３とおりに変えることで、実施例１‐▲１▼、実施例１‐▲２▼、実施例１‐▲３▼を作製した。
【００３８】
これら３種類の実施例１‐▲１▼、‐▲２▼、‐▲３▼については、下記のように区分している。
【００３９】
図７に示す蛇行状帯部２０（帯幅：６μｍ）の帯状形状において、ｘ方向（蛇行状帯部２０の配列方向）に微小な線分で分割し、その傾き角度θを求める。そして、帯状形状の各部位すべてにおいて、この傾き角度θを求め、分布を求めたものを、帯状形状の傾き角度分布とする。
【００４０】
図８〜１０は、その傾き角度分布図である。
これらの図の横軸は帯状形状の傾き角（度）であり、縦軸は帯状形状の各部位の存在する頻度（存在比率）である。
【００４１】
図８は実施例１‐▲１▼の傾き角度分布を示し、‐45°〜45°まで帯状形状の傾き角度分布が一定である。図９は実施例１‐▲２▼の傾き角度分布を示し、-60°〜60°まで帯状形状の傾き角度分布が一定である。
【００４２】
また、図１０は実施例１‐▲３▼の傾き角度分布を示し、‐90°〜0°までは帯状形状の傾き角度分布が一定の傾きで増加し、0°〜90°までは帯状形状の傾き角度分布が一定の傾きで減少している。
【００４３】
以上のように実施例１‐▲１▼、実施例１‐▲２▼、実施例１‐▲３▼の３種類の本発明の反射板と、従来例（a）の反射板と、従来例（b）の反射板を作製し、これらを図４に示す光学特性評価方法でもって反射特性を測定すると、図１１〜図１３に示すような結果が得られた。
【００４４】
図１１は実施例１‐▲１▼の反射板の測定結果であり、比較例として従来例（a）（b）の各反射板の測定結果も示す。
【００４５】
同図から明らかなとおり、従来例（a）では入射する方向に依存せず、0°〜360°にわたって一定であり、従来例（b）においては、楕円の長辺方向が、その短辺方向に比べて、反射する面積が大きくなり、その分、明るくなり、これにより、長辺方向付近では、従来例（a）の如き円パターンに比べ明るい反射率となっている。
【００４６】
これに対し、実施例１‐▲１▼では、画面に対する視認者における横方向（左右方向）にて不用となるようにしている。
すなわち、反射・半透過型パネルを使用する場合、入射光は横方向に比べて上方向から入射することが多く、そのために上方向からの入射光がより有効に利用されるようにするのがよいが、そこで、横方向の散乱や反射をゼロにして、その分を上方向の散乱や反射に上乗せさせている。
【００４７】
さらに詳しく述べると、図７に示す如く傾き角度θ４５°以上になるような傾斜部分がないため、０±４５°、１８０±４５°の範囲で、反射率が０となっている。この分が、４５〜１３５°、２２５〜３１５°の部分にて上乗せとなり、従来例（a）に比べて光利用効率が２倍高まっていることがわかる。
【００４８】
図１２は実施例１‐▲２▼の反射板の測定結果であり、図１３は実施例１‐▲３▼の反射板の測定結果であり、同様に比較例として従来例（a）（b）の各反射板の測定結果も示す。
【００４９】
実施例１−▲２▼は、図７に示す如く傾き角度θが６０°以上に傾いた部分がないため、０±３０°、１８０±３０°の範囲で、反射率が０となっている。この分が、３０〜１５０°、２１０〜３３０°の部分にて上乗せとなり、従来例（a）に比べて光利用効率が１．５倍高まっていることがわかる。
【００５０】
実施例１−▲３▼の場合は、０°〜９0°の範囲では、反射率が従来例（a）に比べ、ゼロから２倍と一定の傾きで大きくなり、９０°〜１８０°の範囲では、反射率が従来例（a）に比べ、２倍からゼロと一定の傾きで小さくなり、１８０°〜２７０°の範囲では、反射率が従来例（a）に比べ、ゼロから２倍と一定の傾きで大きくなり、９０°〜１８０°の範囲では、反射率が従来例（a）に比べ、２倍からゼロと一定の傾きで小さくなっている。
【００５１】
かくして本発明の反射板Ｐによれば、蛇行状帯部２０の帯状形状の傾き角度分布を制御することによって、容易に入射方向の反射特性を制御することができる。また、この帯状形状の傾き角度分布は、フォトマスクの設計により決定されることで、その分布には製造上のバラツキがなく、一定の優れた品質が達成できた。
【００５２】
反射板の他の製造方法
反射板の他の２つの製造方法をそれぞれ図１４と図１５により説明する。
図１４に示す反射板の製造方法において、（ａ）〜（ｅ）は各工程である。
【００５３】
（ａ）工程
透明なガラス基板２５（厚さ0.55mm）上にＪＳＲ製の感光性樹脂２６（PC405G）を厚さ0.5±0.2μmで塗布する。次にこの樹脂を105±10℃で3分間プリベークする。
【００５４】
（ｂ）工程
フォトマスクを用いてステッパ−にて露光する。一例として図２に示しているようにＣｒ等で形成された遮光パターンＳを形成したフォトマスク１９を使用してもよい。この遮光パターンＳは、多数の蛇行した帯状部により構成され、各帯状部の長手方向は同一方向をそろっている。
【００５５】
（ｃ）工程
次に現像によりガラス基板２５の上に断面が矩形型のパターンの蛇行状帯部２７を形成する。
【００５６】
現像液には、ＪＳＲ製のPD523AD（濃度0.25±0.1％）を使用し、現像時間は50±10秒（25℃）である。
【００５７】
（ｄ）工程
次に、基板全面に透明樹脂２８（ＪＳＲ製ＮＮ５２５）を１μｍの膜厚で塗布を行い、１００±１０℃でプリベークを行い、これにより、蛇行状帯部２７の矩形型パターンが滑らかに連続的となった。さらに、ポストベーク220±10℃（15分）を行うことにより、透明樹脂２８が硬化する。
【００５８】
（ｅ）工程
前工程により得られた蛇行状帯部２７の上にＡｌ，Ａｌ合金（たとえば、ＡｌＣＭｇ，ＡｌＴｉ，ＡｌＮｄ）、Ａｇ合金（たとえば、ＡｇＰｄ，ＡｇＰｄＣｕ，ＡｇＲｕＣｕ）などから金属光反射層もしくは誘電体ミラーからなる光反射層２９を成膜する。本例では、ＡｇＰｄ膜を１５０ｎｍの膜厚にてスパッタにより成膜した。
【００５９】
かくして（ａ）工程〜（ｅ）工程を経て得られた本発明の反射板においては、蛇行状帯部２７には平坦部がなく滑らかに連続的な形状となり、これによって透明樹脂２８の表面も平坦部がなく連続的に滑らかになっており、その上の光反射層２９についても、同様に滑らかに連続的な構成になっている。
【００６０】
また、図１５に示す反射板の製造方法においては、（ａ）〜（ｄ）は各工程からなる。
【００６１】
（ａ）工程
透明なガラス基板３０（厚さ0.55mm）上にＵＶ硬化樹脂３１を厚さ0.5±0.2μmで塗布する。この樹脂３１に対し所望な帯状形状が形成された型３２でもって押圧する。
【００６２】
（ｂ）工程
次に紫外線光（ＵＶ光）をガラス基板３０を通して露光量１０００±３００ｍＪ／ｃｍ2でもって照射し、これにより、ＵＶ硬化樹脂３１を硬化させる。
【００６３】
（ｃ）工程
型３２をガラス基板３０より剥がし双方を分離することで、所望な帯状形状の蛇行状帯部３３が得られる。
【００６４】
（ｄ）工程
そして、蛇行状帯部３３の上にＡｌ，Ａｌ合金（たとえば、ＡｌＣＭｇ，ＡｌＴｉ，ＡｌＮｄ）、Ａｇ合金（たとえば、ＡｇＰｄ，ＡｇＰｄＣｕ，ＡｇＲｕＣｕ）などから金属光反射層もしくは誘電体ミラーを成膜し光反射層３４とする。本例では、ＡｇＰｄ膜を１５０ｎｍの厚みでもってスパッタリングにより成膜した。
【００６５】
かくして（ａ）工程〜（ｄ）工程を経て得られた本発明の反射板においては、蛇行状帯部３３は型３２の構成にしたがって、平坦部がなく滑らかに連続的な形状となり、その上の光反射層３４についても、同様に滑らかに連続的な構成になっている。
【００６６】
（例２）
（例１）に示す反射板は、蛇行状帯部の横断面形状が、その帯部の中心線に対しほぼ対称になっているが、これに代えて、そのような蛇行状帯部の横断面形状が、その帯部の中心線に対し非対称に偏心させている。
【００６７】
この反射板の製造方法は、前述した図１に示す工程と基本的には同じであり、以下、図１を引用して各工程を述べる。
【００６８】
（ａ）工程
透明なガラス基板１７（厚さ0.55mm）上に感光性樹脂１８を厚さ1.5±0.5μmで塗布する。次に、105±10℃で3分間プリベークする。この感光性樹脂１８には、たとえばＪＳＲ製のPC405Gを使用する。
【００６９】
（ｂ）工程
図２に示すフォトマスクとは遮光パターンが異なるフォトマスク１９を用いて波長３６５ｎｍの紫外線光でもってプロキシミティー露光する。
【００７０】
図１６はこのフォトマスク１９の平面図であり、ガラス基板などの透明基板上にＣｒ等で形成された遮光パターンＳを形成したものである。
【００７１】
この遮光パターンＳによれば、多数の蛇行した帯状部をなし、各帯状部の長手方向は同一方向に揃っている。また、各帯状部の片側には、多数の短冊状部が付与されている。これを図１７に示す。
【００７２】
同図（a）は遮光パターンＳの要部拡大図であり、（ｂ）は図１７（a）のフォトマスクを用いて作製した蛇行状帯部を示す概要平面図である。また、（ｃ）は図１７（ｂ）に示す切断面線▲３▼―▲４▼による断面図である。
【００７３】
図１７（a）に示す遮光パターンＳにおいては、その帯状の片側の辺▲１▼には、多数の短冊状の形状が付与され、これにより、▲１▼側辺の解像度を落とし、他方の▲２▼側辺に対し、その解像度に差をつけている。
【００７４】
図１７（ｃ）の断面▲３▼−▲４▼における断面図から明かなとおり、蛇行状帯部２０のピークの位置を▲４▼側に近づけている。多数の短冊状部を帯状パターンの▲１▼側辺に形成することにより、▲１▼側辺の反射に寄与する面積が増加し、これにより、▲１▼側辺の反射率が向上する。
【００７５】
なお、このように反射率を向上させる遮光パターンは短冊状に限定されるものではなく、その他の様々な形状にしてもよい。たとえば、図１８に示すように、（ａ）帯状部の片側に無数の三角形を配置したり、（ｂ）三角形状体を帯状に配置して、帯状部をなくしたものであってもよい。
【００７６】
（ｃ）工程
次に現像と露光とベークとを行い、ガラス基板１７の上に蛇行状帯部２０を形成する。
【００７７】
すなわち、前工程のプロキシミティー露光の光の周り込みを利用して、現像後には、パターンの角がとれて、なめらかな曲面が得られる。現像液には、ＪＳＲ製のPD523AD（0.25±0.1％）を使用し、50±10秒（20℃）の現像を行った。
【００７８】
そして、全面露光を行い、感光性樹脂の未反応成分をなくし、脱色を行い、その後、さらにポストベーク220±10℃（15分）を行うことにより、樹脂を硬化させる。
【００７９】
（ｄ）工程
しかる後に、蛇行状帯部２０の上にＡｌ，Ａｌ合金（たとえば、ＡｌＣＭｇ，ＡｌＴｉ，ＡｌＮｄ）、Ａｇ合金（たとえば、ＡｇＰｄ，ＡｇＰｄＣｕ，ＡｇＲｕＣｕ）などから金属光反射層もしくは誘電体ミラーを成膜する。本例では、ＡｇＰｄ膜を１５０ｎｍの厚みでもってスパッタリング法により成膜し、光反射層２１とした。
【００８０】
かくして（ａ）工程〜（ｄ）工程を経て本発明の反射板Ｐが得られる。
【００８１】
次に、このようにして作製した反射板Ｐの光学特性評価を（例１）にて図４と図５に示す方法でもって行った。
【００８２】
この反射板には、図１９に示すように３種類の反射板における各フォトマスクの遮光パターンである。
【００８３】
同図（ａ）は図６（ａ）に示す従来例（ａ）の反射板のパターンであり、図１９の（ｃ）は図６（ｃ）の反射板であって、（例１）の反射板Ｐにおける蛇行状帯部２０であり、図１９の(d)は本例の反射板Ｐにおける蛇行状帯部２０である。なお、反射板の蛇行状帯部２０や凸状配列群は連続して滑らかになっているので、同図に示す形状と寸法は、それを作製するために用いるフォトマスクの遮光パターンにて示す。
【００８４】
図１９(d)は本発明の反射板Ｐにおける蛇行状帯部２０（帯幅：６μｍ）であり、その短冊状形状を３とおりに変えることで、図２０に示すように実施例２‐▲１▼、実施例２‐▲２▼、実施例２‐▲３▼を作製した。これら各例とも帯状部の傾き角度分布が‐60°〜60°にわたって一定である実施例１―▲２▼と同じものを用いた。
【００８５】
図２０（ａ）に示す実施例２―▲１▼においては、実施例１−▲２▼の帯状部に対し、長さ３μｍ、幅４μｍの多数の短冊状部が４μｍ間隔で配置されている。
【００８６】
同図（ｂ）に示す実施例２―▲２▼では、実施例１−▲２▼の帯状部に、長さ６μｍ、幅４μｍの多数の短冊状部が４μｍ間隔で配置されている。
【００８７】
同図（ｃ）に示す実施例２―▲３▼では、実施例１−▲２▼の帯状部に、長さ９μｍ、幅４μｍの多数の短冊状部が４μｍ間隔で配置されている。
【００８８】
以上のように実施例２‐▲１▼、実施例２‐▲２▼、実施例２‐▲３▼の３種類の本発明の反射板と、前述した実施例１‐▲２▼と、従来例（a）の反射板とを作製し、これらを図４に示す光学特性評価方法でもって反射特性を測定すると、図２１〜図２３に示すような結果が得られた。
【００８９】
図２１は実施例２‐▲１▼の反射板の測定結果であり、比較例の従来例（a）と参考例の実施例１‐▲２▼の各反射板の測定結果も示す。
【００９０】
図２２は実施例２‐▲２▼の反射板の測定結果を、図２３は実施例２‐▲３▼の反射板の測定結果を示す。
【００９１】
これらの各図から明らかなとおり、従来例（a）においては、入射する方向に依存せず、０°〜３６０°にわたって一定であるが、これに対し、実施例１‐▲２▼、ならびに実施例２‐▲１▼、実施例２‐▲２▼、実施例２‐▲３▼は、ともに図７に示す如く傾き角度θが６０°以上に傾いた部分がないため、０±３０°、１８０±３０°の範囲で、反射率が０となっていて、３０〜１５０°、２１０〜３３０°の部分のみが存在することがわかる。
【００９２】
また、図２１によれば、実施例２‐▲１▼と実施例１‐▲２▼とを対比するに、実施例１−▲２▼では３０〜１５０°と２１０〜３３０°の各範囲において、双方とも反射率が同じ大きさである。しかしながら、実施例２‐▲１▼においては、２１０〜３３０°の範囲に比べ３０〜１５０°の範囲の方が反射率が大きくなっている。
【００９３】
図２２においても、実施例１−▲２▼では３０〜１５０°と２１０〜３３０°の各範囲において、双方とも反射率が同じ大きさであるが、実施例２‐▲２▼においては、２１０〜３３０°の範囲に比べ３０〜１５０°の範囲の方が反射率が大きくなっている。
【００９４】
図２３においても、実施例１−▲２▼では３０〜１５０°と２１０〜３３０°の各範囲において、双方とも反射率が同じ大きさであるが、実施例２‐▲３▼においては、２１０〜３３０°の範囲に比べ３０〜１５０°の範囲の方が反射率が大きくなっている。
【００９５】
さらにまた、３０〜１５０°の反射率については、実施例２‐▲１▼、実施例２‐▲２▼、実施例２‐▲３▼との間で比べても、実施例２‐▲１▼＜実施例２‐▲２▼＜実施例２‐▲３▼の順で大きくなる。すなわち、帯状部に付加した多数の短冊状部の長さが大きくなるにしたがって、３０〜１５０°の範囲での反射率が大きくなる。
【００９６】
かくして本発明の反射板Ｐによれば、帯状部に付加する形状によって、０°〜１８０°の範囲と１８０°〜３６０°の範囲とに対し、双方の間にて反射率の比率を変えることができ、加えて反射率の程度も変えることができる。
【００９７】
反射板の他の製造方法
反射板の他の２つの製造方法をそれぞれ図２４・図２５と図２６により説明する。
【００９８】
図２４・図２５に示す反射板の製造方法によれば、（ａ）〜（ｈ）は各工程からなる。
【００９９】
（ａ）工程
透明なガラス基板３５（厚さ0.55mm）上に感光性樹脂３６（ＪＳＲ製PC405G）を厚さ0.5±0.2μmで塗布する。
【０１００】
（ｂ）工程
次に、105±10℃で3分間プリベークし、フォトマスク３７を用いてステッパ−にて露光する。
【０１０１】
図２６（ａ）はフォトマスク３７の平面図であり、そのガラス基板上にＣｒ等で形成された遮光パターン３８が形成されたものを使用する。
【０１０２】
この遮光パターン３８によれば、多数の蛇行した帯状部をなし、各帯状部の長手方向は同一方向に揃っている。
【０１０３】
（ｃ）工程
次に現像を行い、断面が矩形型の帯状パターンが得られる。そのために現像液には、ＪＳＲ製のPD523AD（0.25±0.1％）を使用し、50±10秒（25℃）の現像を行った。さらに、ポストベーク220±10℃（15分）を行うことにより樹脂を硬化させ、帯状部３９を形成した。
【０１０４】
（ｄ）工程
そして、前記の感光性樹脂３６の厚みに比べて、薄くして感光性樹脂４０（ＪＳＲ製のPC405G）を厚さ0.25±0.1μmで塗布し、105±10℃で3分間プリベークした。
【０１０５】
（ｅ）工程
フォトマスク３７を用いてステッパ−にて露光する。
【０１０６】
このフォトマスク３７は図２６（ａ）に示すような遮光パターン３８が形成されたものを使用し、図２６（ｂ）は、このフォトマスク３７を用いて、２回露光した場合の露光部位を示す。２回目の露光位置は、１回目の露光位置から上方向にずらしている。
【０１０７】
（ｆ）工程
現像を行い、断面が矩形型の帯状パターンが得られる。現像液には、ＪＳＲ製のPD523AD（0.25±0.1％）を使用し、50±10秒（25℃）の現像を行った。さらに、ポストベーク220±10℃（15分）を行うことにより、樹脂が硬化し、これにより、帯状部３９にそった第２の帯状部４１を形成した。
【０１０８】
（ｇ）工程
基板全面に透明樹脂４２（ＪＳＲ製ＮＮ５２５）を１μｍの膜厚で塗布を行い、１００±１０℃でプリベークを行った。これにより、矩形型のパターンが滑らかに連続的となった。さらに、ポストベーク220±10℃（15分）を行うことにより、透明樹脂４２を硬化させる。
【０１０９】
（ｈ）工程
透明樹脂４２の上にＡｌ，Ａｌ合金（たとえば、ＡｌＣＭｇ，ＡｌＴｉ，ＡｌＮｄ）、Ａｇ合金（たとえば、ＡｇＰｄ，ＡｇＰｄＣｕ，ＡｇＲｕＣｕ）などから金属光反射層もしくは誘電体ミラーを成膜する。本例では、ＡｇＰｄを１５０ｎｍの厚みでもってスパッタリングにより成膜し、光反射層４３とした。
【０１１０】
かくして（ａ）工程〜（ｈ）工程を経て得られた本発明の反射板Ｐについても、透明樹脂４２には平坦部がなく滑らかに連続的な形状となり、これによって、その上の光反射層４３についても、同様に滑らかに連続的な構成になっている。
【０１１１】
そして、この構成において、さらに蛇行状帯部の横断面形状が、その帯部の中心線に対し非対称に偏心させているので、帯状部の形状によって、０°〜１８０°の範囲と１８０°〜３６０°の範囲とに対し、双方の間にて反射率の比率を変えることができる。
【０１１２】
また、図２７に示す反射板の製造方法においては、（ａ）〜（ｄ）は各工程からなる。
【０１１３】
（ａ）工程
透明なガラス基板４４（厚さ0.55mm）上にＵＶ硬化樹脂４５を厚さ0.5±0.2μmで塗布し、所望な帯状形状が形成された型４６にて押圧する。
【０１１４】
（ｂ）工程
紫外線光でもって露光量１０００±３００ｍＪ／ｃｍ2にて光照射することにより、ＵＶ硬化樹脂４５が硬化する。
【０１１５】
（ｃ）工程
ガラス基板４４から型４６を剥がすことで、所望な蛇行状帯部４７が形成された基板が得られれる。
【０１１６】
（ｄ）工程
そして、蛇行状帯部４７の上にＡｌ，Ａｌ合金（たとえば、ＡｌＣＭｇ，ＡｌＴｉ，ＡｌＮｄ）、Ａｇ合金（たとえば、ＡｇＰｄ，ＡｇＰｄＣｕ，ＡｇＲｕＣｕ）などから金属光反射層もしくは誘電体ミラーを成膜し光反射層４８とする。本例では、ＡｇＰｄを１５０ｎｍの厚みでもってスパッタリングにより成膜した。
【０１１７】
かくして（ａ）工程〜（ｄ）工程を経て得られた本発明の反射板Ｐにおいては、蛇行状帯部４７は型４６の構成にしたがって、平坦部がなく滑らかに連続的な形状となり、その上の光反射層４８についても、同様に滑らかに連続的な構成になっている。
【０１１８】
そして、この構成において、さらに蛇行状帯部の横断面形状が、その帯部の中心線に対し非対称に偏心させているので、蛇行状帯部４７の形状によって、０°〜１８０°の範囲と１８０°〜３６０°の範囲とに対し、双方の間にて反射率の比率を変えることができる。
【０１１９】
（例３）
（例１）と（例２）における反射板を作製するには、双方とも現像工程を経ているが、本例では現像工程を経ないで作製する方法を図２８〜図３１により説明する。
【０１２０】
図２８に示す反射板Ｐの製造方法においては、（ａ）〜（ｄ）は各工程からなる。
【０１２１】
（ａ）工程
透明なガラス基板４９（厚さ0.55mm）上に新日本製鉄化学製の感光性樹脂５０（V-259PR）を厚さ5.0±0.5μmにて塗布し、100±10℃で3分間プリベークする。
【０１２２】
（ｂ）工程
フォトマスク５１を用いてプロキシミティー露光する。
【０１２３】
このフォトマスク５１の例を図２９と図３０により示す。
【０１２４】
図２９に示すフォトマスク５１においては、Ｃｒ等の遮光パターンが形成されたものを使用し、その遮光パターンは、多数の蛇行した帯状形状であり、非成膜部分である各帯状部の長手方向は同一方向を向くように配置されている。
【０１２５】
また、図３０に示す他のフォトマスク５１においては、図２９に示す遮光パターンの各帯状部の片側辺に対し、多数の短冊状の形状が付与され、これにより、片側辺部の解像度を低下させ、その反対側の辺側部との間にて解像度差をつけ、蛇行状帯部のピークの位置を、その反対側の辺側部に近づけている。
【０１２６】
このように多数の短冊状形状を帯状部の片側辺部に形成することで、その部分での光反射に寄与する面積が増加し、反射率が上がる。
【０１２７】
かかる帯状形状に付与するパターンは短冊状以外に、図３１に示すように、帯状部の片側に多数の三角形を配置したり、帯状部でなくても三角形を帯状に配置しても同様な効果が得られる。
【０１２８】
（ｃ）工程
ポストベークを220±10℃の温度でもって１５分間を行うことで、樹脂の感光された部分と感光されていない部分で、膜の硬化後の膜厚が異なることから、凹凸が形成され、所望な蛇行状帯部５２が形成された基板が得られれる。
【０１２９】
（ｄ）工程
そして、蛇行状帯部５２の上にＡｌ，Ａｌ合金（たとえば、ＡｌＣＭｇ，ＡｌＴｉ，ＡｌＮｄ）、Ａｇ合金（たとえば、ＡｇＰｄ，ＡｇＰｄＣｕ，ＡｇＲｕＣｕ）などから金属光反射層もしくは誘電体ミラーを成膜し光反射層５３とする。本例では、ＡｇＰｄを１５０ｎｍの厚みでもってスパッタリングにより成膜した。
【０１３０】
かくして（ａ）工程〜（ｄ）工程を経て得られた本発明の反射板Ｐにおいては、蛇行状帯部５２は平坦部がなく滑らかに連続的な形状となり、その上の光反射層５３についても、同様に滑らかに連続的な構成になっている。
【０１３１】
そして、この構成において、さらに蛇行状帯部の横断面形状が、その帯部の中心線に対し非対称に偏心させているので、蛇行状帯部５２の形状によって、０°〜１８０°の範囲と１８０°〜３６０°の範囲とに対し、双方の間にて反射率の比率を変えることができる。
【０１３２】
（例４）
（例１）〜（例３）の各反射板Ｐを液晶表示装置に使用する場合を説明する。
【０１３３】
図３２はこの液晶表示装置５４の断面図である。
この液晶表示装置５４はカラー表示用の反射型であり、５５はコモン側のガラス基板（０．５５ｍｍ厚）、５６はセグメント側のガラス基板（０．５５ｍｍ厚）であって、ガラス基板５５の一主面上にアクリル系樹脂材などからなる樹脂でもって前記蛇行状帯部である帯状凸部５７を多数配列し、この帯状凸状配列群上に銀合金ＡｇｘＰｄｙ（ｘ=99.0 ｙ=1.0）からなる膜でもって厚み１５０ｎｍの光反射層５８を被覆している。
【０１３４】
そして、光反射層５８上にアクリル系樹脂材などからなる樹脂のカラーフィルタ５９を形成している。さらにアクリル系樹脂からなるオーバーコート層６０と、多数平行に配列したＩＴＯからなる透明電極６１を形成している。この透明電極６１上に一定方向にラビングしたポリイミド樹脂からなる配向膜６２を形成している。
【０１３５】
また、ガラス基板５６上に多数平行に配列したＩＴＯからなる透明電極６３と、一定方向にラビングしたポリイミド樹脂からなる配向膜６４とを順次形成している。透明電極６３と配向膜６４との間にＳｉＯ2からなる絶縁層を介在させてもよい。
【０１３６】
そして、双方の基板をＳＴＮなどの液晶６５を介してシール部材６６により貼り合わせる。さらにガラス基板５６の外側にポリカーボネイトなどからなる第１位相差フィルム６７と第２位相差フィルム６８とヨウ素系の偏光板６９とを順次形成する。
【０１３７】
上記構成の反射型の液晶表示装置５４において、太陽光、蛍光灯などの外部照明による入射光はガラス基板５６を通過し、液晶６５、カラーフィルタ５９などを通して光反射層５８に到達し、光反射層５８にて光反射され、その反射光が出射される。
【０１３８】
また、本例の反射型液晶表示装置５４の使用者は、その装置と対面しながら用いるに当り、通常、上下方向の視野角、とくに上方向の視野角でもって使用している。よって、蛇行状帯部である帯状凸部５７の帯状部は、パネルに対し横方向に配列する。
【０１３９】
すなわち、携帯情報端末等で用いられる反射型液晶表示装置５４では、入射光はパネルの横方向から入射されることに比べ、上方から入射されることが多く、そのために蛇行状帯部（帯状凸部５７）の長手方向をパネル横方向に設置することで、上方からの入射光を有効に利用することができる。
【０１４０】
加えて、実施例２―▲１▼、実施例２―▲２▼、実施例２―▲３▼ならびに（例３）に示す如く、蛇行状帯部の横断面形状が、その帯部の中心線に対し非対称に偏心している場合には、そのピークの位置を、反射型液晶表示装置５４の下側にして、上方からの入射光を実施例１に比べ有効に利用している。
【０１４１】
本発明者は従来例（ａ）、実施例１―▲２▼および実施例２―▲２▼を用意し、その光学特性を評価実験したところ、表１に示すような結果が得られた。
【０１４２】
評価測定については、それぞれの反射板を用いた反射型液晶表示装置を作製し、蛍光灯が２ｍ間隔に１５本配列されたオフィスの中央付近に、その装置を配して表示性能を調べている。
【０１４３】
一般的な人が反射型液晶表示装置を使用する状況において、その人が見る角度を上方向・下方向にずらし、これによって画面の明暗状態を調べている。
【０１４４】
その評価を◎、○、△、×の４通りに判定基準を定め、◎印はたいへん明るい場合であり、○印はやや明るい場合、△印はやや暗い場合、×印は顕著に暗い場合である。
【０１４５】
【表１】
この表から明かなとおり、実施例１―▲２▼の反射板を搭載した反射型液晶表示装置では上下方向ともに明るかった。また、実施例２―▲２▼の反射板を搭載した反射型液晶表示装置では上方向のみが従来より明るい特性をもった反射型液晶表示装置が得られた。
【０１４７】
（例５）
（例１）〜（例３）の各反射板Ｐを他の液晶表示装置に使用する場合を説明する。
【０１４８】
図３３はこの液晶表示装置７０の断面図である。
このカラー表示用の反射型の液晶表示装置７０において、７１はコモン側のガラス基板（０．５５ｍｍ厚）、７２はセグメント側のガラス基板（０．５５ｍｍ厚）であって、ガラス基板７１の一主面上にアクリル系樹脂材などからなる樹脂でもって前記蛇行状帯部である帯状凸部７３を多数配列し、この帯状凸状配列群上に銀合金ＡｇｘＰｄｙ（ｘ=99.0 ｙ=1.0）からなる膜でもって厚み１５０ｎｍの光反射電極７４を被覆している。この光反射電極７４はストライプ状に多数個配列されている。
【０１４９】
この光反射電極７４の上に一定方向にラビングしたポリイミド樹脂からなる配向膜７５を形成している。
【０１５０】
一方のガラス基板７２の上にはアクリル系樹脂材などからなる樹脂のカラーフィルタ７６を形成し、さらにアクリル系樹脂からなるオーバーコート層７７と、多数平行に配列したＩＴＯからなる透明電極７８と、一定方向にラビングしたポリイミド樹脂からなる配向膜７９とを順次形成している。透明電極７８と配向膜７９との間にＳｉＯ2からなる絶縁層を介在させてもよい。
【０１５１】
そして、両基板７１、７２をＳＴＮなどの液晶８０を介してシール部材８１により貼り合わせる。その際、光反射電極７４と透明電極７８とを交差させる。
【０１５２】
さらにガラス基板７２の外側にポリカーボネイトなどからなる第１位相差フィルム８２と第２位相差フィルム８３とヨウ素系の偏光板８４とを順次形成する。
【０１５３】
上記構成の反射型の液晶表示装置７０において、太陽光、蛍光灯などの外部照明による入射光はガラス基板７２を通過し、カラーフィルタ７６、液晶８０などを通して光反射電極７４に到達し、光反射電極７４にて光反射され、その反射光が出射される。
【０１５４】
また、本例の反射型液晶表示装置７０についても、使用者はその装置と対面しながら用いるに当り、通常、上下方向の視野角、とくに上方向の視野角でもって使用している。よって、蛇行状帯部である帯状凸部７３の帯状部は、パネルに対し横方向に配列する。
【０１５５】
加えて、実施例２―▲１▼、実施例２―▲２▼、実施例２―▲３▼ならびに（例３）に示す如く、蛇行状帯部の横断面形状が、その帯部の中心線に対し非対称に偏心している場合には、そのピークの位置を、反射型液晶表示装置７０の下側にして、上方からの入射光を実施例１に比べ有効に利用している。
【０１５６】
本発明者は従来例（ａ）、実施例１―▲２▼および実施例２―▲２▼を用意し、その光学特性を評価実験したところ、表２に示すような結果が得られた。
【０１５７】
評価測定については、それぞれの反射板を用いた反射型液晶表示装置７０を作製し、（例４）に記載されているように表示性能を調べている。
【０１５８】
【表２】
この表から明かなとおり、実施例１―▲２▼の反射板を搭載した反射型液晶表示装置では上下方向ともに明るかった。また、実施例２―▲２▼の反射板を搭載した反射型液晶表示装置では上方向のみが従来より明るい特性をもった反射型液晶表示装置が得られた。
【０１６０】
（例６）
（例４）および（例５）に示す液晶表示装置５４、７０によれば、各画素がマトリックス状に配列されているので、それらに用いる反射板構造において、蛇行状帯部を形成した一矩形状の領域でもってブロックと成すとともに、各ブロックをマトリックス状に配列するに当り、所定の構成にすることで、画素との間にて表示上干渉しなくなる。なお、各ブロックをマトリックス状に配列する理由は、これによってマスクの関係で、現実的に実効があるためである。
【０１６１】
この点を図３４と表３でもって説明する。
同図（ａ）は１画素のピッチが８０μｍ×２４０μｍの液晶表示装置に対し、それに使用する反射板における各ブロックのマトリックス状配列を示す。一ブロック（サイズａ×ｂの矩形状）を取りだし、その拡大図として同図（ｂ）も示す。
【０１６２】
なお、図３４（ａ）（ｂ）は、双方とも反射板を作製するのに使用するフォトマスクでもって図示する。
【０１６３】
また、１画素の一方向では８０μｍのピッチであることに対し、他方向では、その３倍の２４０μｍピッチになっているが、各画素にはそれぞれ赤のカラーフィルター、青のカラーフィルターおよび緑のカラーフィルターを一列に配列することから、それら一連の配列を含むためである。
【０１６４】
そして、各ブロックのサイズａ、ｂをそれぞれ変えることで、表示特性を測定したところ、すなわち反射型液晶表示装置の表示を目視観察して評価すると、表３に示すような結果が得られた。
【０１６５】
この評価には、蛍光灯が２ｍ間隔に１５本配列されたオフィスの中央付近にて、反射型液晶表示装置の表示性能を調べている。
【０１６６】
一般的な人が液晶表示装置を使用する際に、その人の見る角度を疲れにくい通常の状態にして、干渉の発生具合を目視にて確認した。
【０１６７】
その評価を○、△、×の３通りの判定基準を定め、○印は干渉がない場合、△印はやや干渉が見られた場合、×印は顕著に干渉が見られた場合である。
【０１６８】
【表３】
かくして、この表から明らかなとおり、表示の干渉をなくすためには、縦方向、横方向ともブロックサイズの縦サイズ、横サイズの約数の大きさにすればよいことが分かる。
【０１７０】
以下、このようにブロックサイズを画素の送りピッチの公約数の大きさにする理由を図３５〜図３９に示す液晶表示装置でもって説明する。これら各図は主要部材の模式図であり、図３５は液晶表示装置８９の要部斜視図であり、図３７は液晶表示装置８９に対する入射光と反射光の光路を示す。
【０１７１】
また、図３６は液晶表示装置９０の要部斜視図であり、図３８と図３９は液晶表示装置９０に対する入射光と反射光の光路を示す。
【０１７２】
双方の液晶表示装置８９、９０とも、８５は信号側ＩＴＯ電極、８６は走査側ＩＴＯ電極、８７はカラーフィルター、８８は反射板である。
【０１７３】
図３５と図３７に示す液晶表示装置８９によれば、蛇行状帯部（帯状凸部）を形成した反射板８８の各ブロックのサイズが１００μｍ×１００μｍの矩形状であり、そのようなブロックがマトリックス状に配列されている。そして、信号側ＩＴＯ電極８５とカラーフィルター８７の配列ピッチが８０μｍである場合には、隣接するＩＴＯ電極の隙間、隣接するカラーフィルターの隙間が、双方の配置関係上対応しなくなり、これにより、図３７に示すように各ＩＴＯ電極間での反射光量はＡ・Ｂ・Ｃ・Ｄのように変わってくる。
【０１７４】
そして、ブロックサイズとＩＴＯ電極ピッチの最小公倍数である４００μｍピッチで周期的に反射光量Ａ・Ｂ・Ｃ・Ｄが生じ、これに伴って干渉縞が発生する。
【０１７５】
このような干渉縞は、信号側ＩＴＯ電極８５やカラーフィルター８７以外に、走査側ＩＴＯ電極８６についても同様に発生する。
【０１７６】
すなわち、マトリックス状に配列されている各ブロックのサイズが１００μｍ×１００μｍの矩形状である反射板８８に対し、走査側ＩＴＯ電極８６のピッチが２４０μｍであれば、最小公倍数である１２００μｍのピッチでもって周期的に各電極間に、干渉縞が見える。
【０１７７】
かかる課題を解消するために、図３６と図３８と図３９に示す液晶表示装置９０を用いるとよい。
【０１７８】
蛇行状帯部（帯状凸部）を形成した反射板８８の各ブロックのサイズが８０μｍ×８０μｍの矩形状であり、そのようなブロックがマトリックス状に配列されている。そして、信号側ＩＴＯ電極８５とカラーフィルター８７の配列ピッチが８０μｍである場合には、隣接するＩＴＯ電極の隙間、隣接するカラーフィルターの隙間が、双方の配置関係上対応し、これにより、図３８に示すように各ＩＴＯ電極間での反射光量は一定のＥになり、その結果、干渉縞が生じなくなる。
【０１７９】
そして、走査側ＩＴＯ電極８６についても、そのピッチは２４０μｍになることで、隣接するＩＴＯ電極の隙間が、ブロックの配置関係上対応し、これにより、図３９に示すように各ＩＴＯ電極間での反射光量は一定のＦになり、その結果、干渉縞が生じなくなる。
【０１８０】
以上のとおり、蛇行状帯部を形成した反射板８８の各ブロックのピッチＰ１と、ＩＴＯ電極やカラーフィルターの配列ピッチＰ２との間にて、
Ｐ１／Ｐ２＝ｎ又はＰ２／Ｐ１＝ｎ（ｎ＝１、２、３・・・整数）に設定することで、干渉縞が発生しなくなった。
【０１８１】
なお、本発明は上記実施形態例に限定されるものではなく、本発明の要旨を逸脱しない範囲内で種々の変更や改良等はなんら差し支えない。
【０１８２】
たとえば、本例では単純マトリクス構造のＳＴＮタイプでもって述べ、このタイプではＩＴＯストライプ電極構造を形成しているが、これに代えて、この構成を変えることで、ＴＦＴ、ＭＩＭ構造などのアクティブマトリクス構造にしてもよい。
【０１８３】
【発明の効果】
以上のとおり、本発明の反射板によれば、基板と、前記基板上に設けられており、かつ滑らかに連続的に形成された複数の蛇行状帯部と、前記基板上に設けられており、かつ隣接する前記蛇行状帯部間が滑らかに連続的に接続された接続部と、前記蛇行状帯部および前記接続部上に設けられており、かつ滑らかに連続的に形成された光反射層と、を備え、複数の前記蛇行状帯部の長手方向は同一方向に揃っており、かつ複数の前記蛇行状帯部の蛇行形状は一様に揃っているので、その蛇行状帯部の形状や構成を設計するだけで、入射光の反射特性を容易に制御し、所要のとおりの錯乱特性を達成し、さまざまな表示に使用することができた。
【０１８４】
また、本発明の反射板においては、現像や露光などのフォトリソの技術やプリント技術を用いていることで、製造上のバラツキがなく、製造歩留まりを高め、一定の優れた品質を達成した低コストの反射板が提供できた。
【０１８５】
さらに本発明の液晶表示装置によれば、本発明の反射板を用いることで、入射光に対する反射性能や散乱性能が高められ、その使用性能を高め、これによって、とくに携帯端末などの小型液晶パネルに好適な高性能かつ低コストな液晶表示装置が提供できた。
【０１８６】
さらにまた、本発明の液晶表示装置においては、反射板をマトリックス状にブロック化し、各ブロックの配列ピッチＰ１と画素ピッチＰ２とが、Ｐ１／Ｐ２＝ｎ又はＰ２／Ｐ１＝ｎ（ｎ＝１、２、３・・・整数）にしたことで、干渉縞がなくなり、優れた表示品質が得られた。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の反射板の製造工程図であって、（ａ），（ｂ），（ｃ），（ｄ）は各工程の説明図である。
【図２】本発明の反射板の製造に使用するフォトマスクの平面図ある。
【図３】（ａ）は本発明の反射板の平面図であり、（ｂ）は（ａ）の反射板における切断面線Ａ−Ａの断面図、（ｃ）は（ａ）の反射板における切断面線Ｂ−Ｂの断面図である。
【図４】反射板の光学特性評価方法を示す説明図である。
【図５】液晶表示装置の向きと光学特性評価の方位角との位置関係を示す説明図である。
【図６】（ａ），（ｂ），（ｃ）はそれぞれフォトマスクパターンの拡大図である。
【図７】蛇行状帯部の蛇行形状の傾き角度を示す説明図である。
【図８】蛇行状帯部の蛇行形状の傾き角度と、その頻度（比率）との関係を示すデータ図である。
【図９】他の蛇行状帯部の蛇行形状の傾き角度と、その頻度（比率）との関係を示すデータ図である。
【図１０】さらに他の蛇行状帯部の蛇行形状の傾き角度と、その頻度（比率）との関係を示すデータ図である。
【図１１】反射板に対する光入射の方位角と、その反射率との関係を示す線図である。
【図１２】他の反射板に対する光入射の方位角と、その反射率との関係を示す線図である。
【図１３】さらに他の反射板に対する光入射の方位角と、その反射率との関係を示す線図である。
【図１４】本発明の反射板の他の製造工程図であって、（ａ），（ｂ），（ｃ），（ｄ），（ｅ）は各工程の説明図である。
【図１５】本発明の反射板の他の製造工程図であって、（ａ），（ｂ），（ｃ），（ｄ）は各工程の説明図である。
【図１６】本発明の反射板の製造に使用する他のフォトマスクの平面図ある。
【図１７】他のフォトマスクパターンの拡大図であり、（a）は遮光パターンの要部拡大図、（ｂ）は（a）のフォトマスクを用いて作製した蛇行状帯部を示す概要平面図、（ｃ）は（ｂ）に示す切断面線▲３▼―▲４▼による断面図である。
【図１８】（ａ）（ｂ）はそれぞれフォトマスクの遮光パターンの要部拡大図である。
【図１９】（ａ）（ｂ）（ｃ）はそれぞれフォトマスクの遮光パターンの要部拡大図である。
【図２０】（ａ）（ｂ）（ｃ）はそれぞれフォトマスクの遮光パターンの要部拡大図である。
【図２１】反射板に対する光入射の方位角と、その反射率との関係を示す線図である。
【図２２】他の反射板に対する光入射の方位角と、その反射率との関係を示す線図である。
【図２３】さらに他の反射板に対する光入射の方位角と、その反射率との関係を示す線図である。
【図２４】本発明の反射板の他の製造工程図であって、（ａ），（ｂ），（ｃ），（ｄ）は各工程の説明図である。
【図２５】本発明の反射板の他の製造工程図であって、（ｅ），（ｆ），（ｇ），（ｈ）は各工程の説明図である。
【図２６】（ａ）はフォトマスクの平面図であり、（ｂ）はこのフォトマスクを用いた場合の露光部位を示す基板側の平面図である。
【図２７】本発明の反射板の他の製造工程図であって、（ａ），（ｂ），（ｃ），（ｄ）は各工程の説明図である。
【図２８】本発明の反射板の他の製造工程図であって、（ａ），（ｂ），（ｃ），（ｄ）は各工程の説明図である。
【図２９】本発明の反射板の製造に使用する他のフォトマスクの平面図ある。
【図３０】本発明の反射板の製造に使用する他のフォトマスクの平面図ある。
【図３１】他のフォトマスクの遮光パターンの要部拡大図である。
【図３２】本発明の液晶表示装置の断面図である。
【図３３】本発明の他の液晶表示装置の断面図である。
【図３４】（ａ）は反射板を作製するのに使用するフォトマスクの平面図であり、（ｂ）は反射板の各ブロックに対応するフォトマスクの要部拡大図である。
【図３５】反射型液晶表示装置の模式図である。
【図３６】他の反射型液晶表示装置の模式図である。
【図３７】反射型液晶表示装置の要部構成を示す説明図である。
【図３８】他の反射型液晶表示装置の要部構成を示す説明図である。
【図３９】他の反射型液晶表示装置の要部構成を示す説明図である。
【図４０】従来の反射型液晶表示装置の断面図である。
【符号の説明】
Ｐ・・・反射板
１７、２５、３０、３５、４４、４９・・・ガラス基板
１８、２６、３６、４０、５０・・・感光性樹脂
１９、３７、５１・・・フォトマスク
２０、４７、５２・・・蛇行状帯部
２１、２７、２９、３４、４３、４８、５３、５８・・・光反射層
２４・・・液晶パネル
２８・・・透明樹脂
３８、Ｓ・・・遮光パターン
３９、４１・・・帯状部
５４・・・液晶表示装置
Claims (4)
- 基板と、
前記基板上に設けられており、かつ滑らかに連続的に形成された複数の蛇行状帯部と、
前記基板上に設けられており、かつ隣接する前記蛇行状帯部間が滑らかに連続的に接続された接続部と、
前記蛇行状帯部および前記接続部上に設けられており、かつ滑らかに連続的に形成された光反射層と、を備え、
複数の前記蛇行状帯部の長手方向は同一方向に揃っており、かつ複数の前記蛇行状帯部の蛇行形状は一様に揃っている、反射板。 - 前記蛇行状帯部は、片側に複数の短冊状部が設けられている、請求項１に記載の反射板。
- 一方基板と、
前記一方基板に対向して配置された他方基板と、
前記一方基板と前記他方基板との間に介在した液晶層と、
前記一方基板または前記他方基板に設けられた、請求項１または２に記載の反射板と、を備えた液晶表示装置。 - 前記液晶表示装置は、マトリックス状に複数の画素が配列形成されており、
前記反射板をマトリックス状にブロック化し、各ブロックの配列ピッチＰ１と画素ピッチＰ２とが下記の関係にある、請求項３に記載の液晶表示装置。
Ｐ１／Ｐ２＝ｎ、又は、Ｐ２／Ｐ１＝ｎ
（ｎ＝１、２、３・・・整数）
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