JP2004118106A - 半透過型液晶表示装置およびその製造方法 - Google Patents
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Abstract
【課題】反射率と透過率の双方の機能をともに向上させた半透過型液晶表示装置を提供する。
【解決手段】液晶表示装置Aにおいて、ガラス基板1上に光反射膜2と着色層3とオーバーコート層4と透明電極5と配向膜6を順次積層するが、光反射膜2に対し光透過部7を設ける。また、ガラス基板1の他の面にマイクロレンズ17を形成する。さらにまた、ガラス基板8上にストライプ状透明電極群9と配向膜10を形成している。さらにガラス基板1とガラス基板8とを液晶層11を介して貼り合わせる。そして、ガラス基板1側にバックライト21を密着させて配設するが、このバックライト21は導光板22の端面に光源部23を配置し、導光板22の光出射面上に光散乱性の光拡散板25とレンズシート26とを順次積層している。
【選択図】図1
【解決手段】液晶表示装置Aにおいて、ガラス基板1上に光反射膜2と着色層3とオーバーコート層4と透明電極5と配向膜6を順次積層するが、光反射膜2に対し光透過部7を設ける。また、ガラス基板1の他の面にマイクロレンズ17を形成する。さらにまた、ガラス基板8上にストライプ状透明電極群9と配向膜10を形成している。さらにガラス基板1とガラス基板8とを液晶層11を介して貼り合わせる。そして、ガラス基板1側にバックライト21を密着させて配設するが、このバックライト21は導光板22の端面に光源部23を配置し、導光板22の光出射面上に光散乱性の光拡散板25とレンズシート26とを順次積層している。
【選択図】図1
Description
【0001】
【発明の属する技術分野】
本発明は反射型(反射モード)と透過型(透過モード)の双方の機能を有する半透過型液晶表示装置ならびにその製造方法に関するものである。
【0002】
【従来の技術】
近年、液晶表示装置は小型もしくは中型の携帯情報端末やノートパソコンの他に、大型かつ高精細のモニターにまで使用されている。とくに携帯情報端末などのように屋外・屋内両方にわたって使用される機器においては、外光が十分強い環境では表示装置の照明手段として積極的に外光を利用し、外光が弱い環境ではバックライトを使用するという半透過型の表示装置が主流として用いられている。
【0003】
反射型液晶表示装置には、後方に配設した基板の内面に対し凹凸形状の光反射層を形成した散乱反射型があるが、バックライトを用いないことで、周囲の光を有効に利用している。
【0004】
また、光反射層に代えて、半透過膜を形成し、バックライトを設け、反射モードや透過モードに使い分ける半透過型液晶表示装置も開発されている。
【0005】
この半透過型液晶表示装置によれば、太陽光、蛍光灯などの外部照明によって反射型の装置として用いたり、あるいはバックライトを装着して透過型の装置として使用するが、双方の機能を併せ持たせるために、半透過膜を使用している(特許文献1参照)。また、アクティブマトリクス型半透過型液晶表示装置に同様な目的で半透過膜を使用することも提案されている(特許文献2参照)。
【0006】
また、かかるハーフミラーの半透過膜を使用すると、反射率と透過率の双方の機能をともに向上させることが難しいという課題があり、この課題を解消するために、光透過用ホールを設けた反射膜を上記の半透過膜に代えて使用する半透過型液晶表示装置も提案されている(特許文献3参照)。
【0007】
【特許文献1】
特開平8−292413号公報
【特許文献2】
特開平7−318929号公報
【特許文献3】
特許第2878231号公報
【0008】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、上述したごとき半透過型液晶表示装置においては、透過モードにて光源として冷陰極管やLEDランプを使用し、他方、反射モードにおいては、室内で使用する際、光源として蛍光灯を、屋外で使用する際、光源として太陽光を利用することになり、このように透過モードと反射モードにおいて光源が異なっていた。
【0009】
また、透過モードにおいては、液晶パネルを一度通過する光路構造であることに対し、反射モードによれば、液晶パネルに入射した光が、ふたたび液晶パネル内を通過するという光路構造である。
【0010】
したがって、透過モードおよび反射モードとの双方に対し、光源が違うことで、さらには光路構造が違うことで、それぞれ独立して設計することになり、双方の特性をともに向上させることがむずかしかった。
【0011】
本発明者は叙上に鑑みて鋭意研究を重ねた結果、光反射膜に対し個々の画素に対応して光透過部を設けて、この光透過部にて透過モードとなし、光透過部以外の領域にて反射モードとなす半透過型の装置構成と、所定の部位に形成したマイクロレンズと、光出射側にプリズム板を配設したバックライトとを組み合わせることで、反射率と透過率との双方が改善されることを見出した。
【0012】
本発明は上記知見により完成されたものであり、その目的は反射率と透過率の双方の機能をともに向上させた半透過型液晶表示装置を提供することにある。
【0013】
本発明の他の目的は、かかる高性能な半透過型液晶表示装置を高い精度でもって作製して、製造歩留まりを高めて製造コストを下げ、これによって低コストかつ高信頼性の半透過型液晶表示装置が得られる製造方法を提供することにある。
【0014】
【課題を解決するための手段】
本発明の半透過型液晶表示装置は、基板の一主面上に光反射膜と透明導電材からなる一方電極と配向膜とを順次積層してなる一方部材と、透明基板上に透明導電材からなる他方電極と配向層とを順次積層してなる他方部材とを、これら一方電極と他方電極とにより各画素を形成するように液晶層を介して貼り合わせるとともに、上記光反射膜に対し個々の画素に対応して光透過部を設けて、この光透過部にて透過モードとなし、光透過部以外の領域にて反射モードとなし、さらに一方部材の基板の他主面に各光透過部に対応してそれぞれマイクロレンズを形成するとともに、一方部材の基板の他主面側に、光出射側にプリズム板を配設したバックライトを配設したことを特徴とする。
【0015】
本発明の半透過型液晶表示装置の製造方法は、基板の一主面上に画素ごとに光透過部を設けた光反射膜を形成するとともに、該基板の他主面に順次下記(a)〜(c)の各工程を経て、上記光透過部に対応してそれぞれマイクロレンズを形成し、ついで光反射膜の上に透明導電材からなる一方電極と配向膜とを順次積層してなる一方部材を作製する工程と、透明基板上に透明導電材からなる他方電極と配向層とを順次積層してなる他方部材を作製する工程と、これら一方電極と他方電極とにより各画素を形成するように液晶層を介して貼り合わせる工程と、一方部材の基板の他主面側に、光出射側にプリズム板を配設したバックライトを配設する工程とを備えて、上記光反射膜に対し個々の画素に対応して光透過部を設けて、この光透過部にて透過モードとなし、光透過部以外の領域にて反射モードとなしたことを特徴とする。
【0016】
(a)工程:一方部材の基板の他主面に感光性レジスト材料を塗着し、加熱する。
【0017】
(b)工程: 一方部材の基板の一主面に対し、露光する。
【0018】
(c)工程:前工程の感光性レジスト材料に対し現像して未感光部分のレジスト部分を除去し、その後、ポストベークして硬化せしめる。
【0019】
さらに本発明の半透過型液晶表示装置の製造方法は、基板の一主面上に画素ごとに光透過部を設けた光反射膜を形成するとともに、該基板の他主面に順次下記(a)〜(e)の各工程を経て、上記光透過部に対応してそれぞれマイクロレンズを形成し、ついで光反射膜の上に透明導電材からなる一方電極と配向膜とを順次積層してなる一方部材を作製する工程と、透明基板上に透明導電材からなる他方電極と配向層とを順次積層してなる他方部材を作製する工程と、これら一方電極と他方電極とにより各画素を形成するように液晶層を介して貼り合わせる工程と、一方部材の基板の他主面側に、光出射側にプリズム板を配設したバックライトを配設する工程とを備えて、上記光反射膜に対し個々の画素に対応して光透過部を設けて、この光透過部にて透過モードとなし、光透過部以外の領域にて反射モードとなしたことを特徴とする。
【0020】
(a)工程: 一方部材の基板の他主面に感光性レジスト材料を塗着し、加熱する。
【0021】
(b)工程: 一方部材の基板の一主面に対し、露光する。
【0022】
(c)工程: 前工程の感光性レジスト材料に対し現像して未感光部分のレジスト部分を除去し、その後、ポストベークして硬化せしめる。
【0023】
(d)工程: 一方部材の基板に対しエッチングする。
【0024】
(e)工程:残余のレジスト材を剥離する。
【0025】
以上のごとく、本発明の半透過型液晶表示装置によれば、上記構成のように、上記光反射性金属層に対し画素ごとに光透過部を設けて、この光透過部にて透過モードとなし、光透過部以外の領域にて反射モードとなし、これによって半透過型液晶表示装置としている。
【0026】
そして、本発明によれば、さらに一方部材の基板の他主面に各光透過部に対応してそれぞれマイクロレンズを形成し、さらに一方部材の基板の他主面側に、光出射側にプリズム板を配設したバックライトを配設したことで、プリズム板にて集中させた光を、さらにマイクロレンズを通して光透過部に効率的に入射させ、これによって透過モードの透過率を高めることができる。
【0027】
そして、高い透過率が得られたことで、その半面、反射モードとして用いられる光反射膜の反射領域を広げることができ、これにより、反射モードの反射率を高めることができる。
【0028】
また、本発明の半透過型液晶表示装置の製造方法によれば、上記の(b)工程において、画素ごとに光透過部を設けた光反射膜をフォトマスクとして用いたことで、高精度なフォトリソ技術を採用することになり、これにより、製造歩留まりを高めて製造コストを下げ、低コストかつ高信頼性の半透過型液晶表示装置が得られる。
【0029】
【発明の実施の形態】
本発明をSTN型単純マトリックス方式の液晶表示装置でもって図面により説明する。
【0030】
図1は本発明の半透過型液晶表示装置Aの液晶表示パネルの断面模式図であり、図2はこの装置Aの要部拡大断面図である。図3と図4はそれぞれ一方部材の基板にマイクロレンズを形成する工程図である。図5は半透過型液晶表示装置Aの断面概略図である。
【0031】
液晶表示装置Aの一方部材によれば、1はコモン側のガラス基板であり、このガラス基板1の上に、たとえばアルミニウム金属材などからなる光反射膜2を形成し、この上にカラーフィルターとして着色層3を形成し、さらに着色層3を覆うようにアクリル系樹脂からなるオーバーコート層4を被覆する。そして、オーバーコート層4の上に多数平行にストライプ状配列したITOから成る透明電極5、および一定方向にラビングしたポリイミド樹脂から成る配向膜6を順次積層する。なお、透明電極5と配向膜6との間に樹脂やSiO2等から成る絶縁膜を介在させてもよい。
【0032】
本発明においては、光反射膜2に対し赤、緑、青という個々の着色層3に対して、それぞれに光透過部7を設ける。
【0033】
かかる構成の光反射膜2は、まずガラス基板1の上にスパッタリングにより一様にアルミニウム金属膜を成膜し、次いでこのアルミニウム金属膜に対し、レジスト塗布、露光、現像、アルミニウム金属膜のエッチング、レジスト剥離という一連のフォトリソグラフィ工程によって、所要通りの形状になるように光透過部7をパターニングして取り除く。
【0034】
このように光反射膜2に対し個々の着色層3に対応して、赤、緑、青という色の違いに応じて異なる光通過面積の光透過部7を設けてもよい。かように画素ごとに光透過部を設けることで、この光透過部にて透過モードとなし、光透過部以外の領域にて反射モードとなす。
【0035】
なお、光反射膜2の材料としてAl材に代えて、AlNdなどのAl合金、Ag金属およびAg合金等の金属膜を使用してもよい。
【0036】
着色層3であるカラーフィルターは顔料分散方式、すなわちあらかじめ顔料(赤、緑、青)により調合された感光性レジストを基板上に塗布し、フォトリソグラフィにより形成してもよい。この顔料分散方式によれば、そのフォトリソグラフィにおいて同時に形成することができる。
【0037】
なお、着色層3であるカラーフィルターを形成するに当り、上記のような顔料分散方式に代えて、染色法を用いてもよい。
【0038】
つぎに他方部材においては、8はセグメント側のガラス基板であり、このガラス基板8の上には多数平行に配列したITOからなるストライプ状透明電極群9とを順次形成し、さらにストライプ状透明電極群9上に一定方向にラビングしたポリイミド樹脂からなる配向膜10を形成している。
【0039】
ついで、これらガラス基板1とガラス基板8とを、たとえば200〜260°の角度でツイストされたカイラルネマチック液晶からなる液晶層11を介して、双方のストライプ状透明電極群5、9が交差(直交)するように、シール部材(図示せず)により貼り合わせる。また、図示していないが、両ガラス基板1、8間には液晶層11の厚みを一定にするためにスペーサを多数個配している。
【0040】
さらにガラス基板8の外側にポリカーボネートからなる第1位相差板12、第2位相差板13、ヨウ素系の偏光板14とを順次積み重ね、ガラス基板1の外側にポリカーボネートからなる第3位相差板15を配置する。この配置によって、空気層による隙間が存在する。そして、第3位相差板15の上にヨウ素系の偏光板16を積み重ねているが、この配設にあたっては、アクリル系の材料からなる粘着材を塗布することで貼り付ける。
【0041】
そして、ガラス基板1側の偏光板16に対し、図5に示すごとく、バックライト21を密着させて配設する。
【0042】
同図に示すように、バックライト21はアクリル樹脂等の透明材料からなる矩形状の導光板22の端面にLEDや冷陰極管などの光源部23を配置し、半円筒状の光反射性のリフレクタ24でもって、冷陰極管などを覆っている。導光板22の光出射面上に光散乱性の光拡散板25とレンズシート26とを順次積層し、他方の主面には光反射板27を設けている。
【0043】
光拡散板25はPCやPET等の白色シートを用いて、その一面に微細な凹凸(たとえばエンボス加工)が施され、導光板22の出射光を散乱させる。
【0044】
このような構成のバックライト21の上に液晶表示パネル28を配設し、これらバックライト21および液晶表示パネル28を筺体29にて支持固定する。
【0045】
本発明によれば、以上のような構成の装置に対し、さらにガラス基板1の他主面に各光透過部7に対応してそれぞれマイクロレンズ17を形成している。
【0046】
以下、このようにマイクロレンズ17を形成したガラス基板1の製造方法を記す。この製造方法として、たとえば下記のごとく図3と図4にて2とおり述べる。
【0047】
図3は請求項2に係る製造方法であり、図4は請求項3に係る製造方法である。
【0048】
最初に図3に示す製造方法を述べる。
【0049】
この製法によれば、ガラス基板1の一主面上に画素ごとに光透過部7を設けた光反射膜2を形成し、このガラス基板1の他主面に順次下記(a)〜(c)の各工程を経て、光透過部7に対応してそれぞれマイクロレンズ17を形成し、ついで光反射膜2の上にストライプ状透明電極群5と配向膜6とを順次積層してなる一方部材を作製する工程がある。
【0050】
また、ガラス基板8の上にストライプ状透明電極群9と配向膜10とを順次積層してなる他方部材を作製する工程があり、さらにストライプ状透明電極群5とストライプ状透明電極群9とにより各画素を形成するように液晶層11を介して貼り合わせる工程がある。そして、ガラス基板1の他主面側に、光出射側にプリズム板を配設したバックライトを配設する工程もある。
【0051】
同図に示す工程図によれば、順次(a)工程乃至(c)工程からなり、フォトリソ技術でもって加工する。
【0052】
(a)工程:
Al、Al合金(AlNd等)、Ag、Ag合金(AgPd、AgPdCu、AgCuAu等)からなる光反射膜2を形成したガラス基板1の裏面に感光性レジスト材料(新日鉄化学製PR023X)18を2.0±0.5μmの厚さで塗布し、プリベークを90℃、2分間行う。
【0053】
(b)工程:
つぎにガラス基板1の光反射膜2を形成した面に対し、露光(60mj)をおこなう。この露光に当たって、フォトマスクとして光反射膜2を用いることができ、これでもって精度に高い露光をおこなうことができる。
【0054】
(c)工程:
本工程において、現像により未感光部分のレジストを除去し、光透過部7に対応した部分にマイクロレンズ17が形成される。その後、ポストベーク(230℃、60分)を行い,レジストを硬化させる。
【0055】
つぎに図4に示す他の製造方法を述べる。
【0056】
この製法によれば、ガラス基板1の一主面上に画素ごとに光透過部7を設けた光反射膜2を形成し、このガラス基板1の他主面に順次下記(a)〜(e)の各工程を経て、光透過部7に対応してそれぞれマイクロレンズ17を形成し、ついで光反射膜2の上にストライプ状透明電極群5と配向膜6とを順次積層してなる一方部材を作製する工程がある。
【0057】
また、図3に示す製法のごとく、ガラス基板8の上にストライプ状透明電極群9と配向膜10とを順次積層してなる他方部材を作製する工程、さらにストライプ状透明電極群5とストライプ状透明電極群9とにより各画素を形成するように液晶層11を介して貼り合わせる工程、ならびにガラス基板1の他主面側に、光出射側にプリズム板を配設したバックライトを配設する工程もある。
【0058】
図4に示す工程図によれば、順次(a)工程乃至(e)工程からなり、フォトリソ技術でもって加工する。
【0059】
(a)工程:
光反射膜2を形成したガラス基板1の裏面に感光性レジスト材料(新東京応化製OFPR)19を2.0±0.5μmの厚さで塗布し、プリベーク90℃、2分間行う。
【0060】
(b)工程:
つぎにガラス基板1の光反射膜2を形成した面に対し、露光(60mj)をおこなう。この露光に当たって、フォトマスクとして光反射膜2を用いることができ、これでもって精度に高い露光をおこなうことができる。
【0061】
(c)工程:
本工程において、現像により未感光部分のレジストを除去し、光透過部7に対応した部分に凸部20が形成される。その後、ポストベーク(180℃、5分)を行い,レジストを硬化させる。
【0062】
(d)工程:
バッファードフッ酸を用いて、ガラス基板1をエッチングする。なお、光反射膜2を形成した面に対し、エッチングされないように保護するとよい。
【0063】
(e)工程:
NaOHの溶液を用いて、レジストを剥離することで、ガラス基板1の裏面に光透過部7に対応してマイクロレンズ17が形成される。
【0064】
以上の各製造方法によれば、上記の(b)工程において、画素ごとに光透過部7を設けた光反射膜2をフォトマスクとして用いたことで、高精度なフォトリソ技術を採用でき、製造歩留まりを高めて製造コストを下げ、低コストかつ高信頼性の半透過型液晶表示装置Aが得られた。
【0065】
つぎに上記構成の半透過型液晶表示装置Aの作用効果を図2、図6、図7により述べる。
【0066】
図2は本発明の半透過型液晶表示装置Aの要部を示し、バックライト21からの出射光の光路を示す。また、図6と図7はそれぞれ光反射膜2の光透過部7の形状と、マイクロレンズ17の構造と、バックライト21のレンズシート26の構造との関係を示す。
【0067】
まず、図6に示す構造上の関係を述べる。
【0068】
同図において、(a)は光反射膜2の光透過部7の形状であり、3個の光透過部7が配列されている。(b)はこれら3個の光透過部7に対応するマイクロレンズ17である。(c)はレンズシート26であり、集光プリズムパターンは、鋭角90°で25μmピッチのプリズム形状を有するプリズムシートを縦方向と横方向に2枚重ねた構造である。
【0069】
以上のようにプリズムシートを縦方向と横方向に2枚重ねた構造のレンズシート26を用いることで、その通過光は、ガラス基板1に向けてほぼ垂直となり、マイクロレンズ17を通過した光が透過率が向上するように光反射膜2の光透過部7を通る。
【0070】
つぎに図7に示す構造上の関係を述べる。
【0071】
同図において、(a)は光反射膜2の光透過部7の形状であり、縦長の光透過部7が形成されている。(b)は縦長の光透過部7にそって形成したマイクロレンズ17である。(c)はレンズシート26であり、集光プリズムパターンは、鋭角90°で25μmピッチのプリズム形状を有するプリズムシートを縦方向に1枚設置した構造である。
【0072】
以上のような組み合わせでも、レンズシート26の通過光は、ガラス基板1に向けてほぼ垂直となり、マイクロレンズ17を通過した光が透過率が向上するように光反射膜2の光透過部7を通る。
【0073】
図6と図7に示すごとく、光反射膜2の光透過部7の形状と、マイクロレンズ17の構造と、バックライト21のレンズシート26の構造との関係でもって、液晶表示パネルに対し、図2に示すように入射される。
【0074】
液晶表示パネルの下側からの入射光を▲1▼▲2▼と分け、その光線の進み方を順に説明する。
【0075】
▲1▼の入射光は、マイクロレンズ17の中央付近にほぼ垂直に入射する光である。▲1▼は、そのまま、ガラス基板1の中をほぼ垂直に進行し、光透過部7とカラーフィルター3、オーバーコート4などを通過する。
【0076】
▲2▼の入射光は、マイクロレンズ17の端付近に入射する光であって、マイクロレンズ17により屈折され、光透過部7を通過し、さらにカラーフィルター3、オーバーコート4などを通過する。
【0077】
つぎに実施例を述べる。
【0078】
反射モードの場合には、液晶表示装置の表示面に対し、斜め上部15°から光(C光源)を入射させ、そして、液晶表示装置を駆動させた際(白表示、黒表示、赤表示、緑表示、青表示)の垂直方向の反射光の反射率を測定することで評価結果を得た。
【0079】
また、透過モードについては、バックライトを除く液晶パネルの裏面に対し、光(C光源)を入射させ、そして、液晶表示装置を駆動させた際(白表示、黒表示、赤表示、緑表示、青表示)の垂直方向の透過光の透過率を測定することで評価結果を得た。
【0080】
本発明の半透過型液晶表示装置Aと従来例の半透過型液晶表示装置Bの双方の光学特性を比較したところ、表1に示すような結果が得られた。
【0081】
従来例の半透過型液晶表示装置Bはマイクロレンズ17を形成しないで、その他の構成は半透過型液晶表示装置Aと同じにしている。
【0082】
同表において、Ronは白表示の時の反射率であり、Tonは白表示の時の透過率を示す。
【0083】
【表1】
【0084】
この結果から明らかなとおり、反射モードにおいては従来例も実施例における構造もほぼ同じ特性となっている。透過モードにおいては実施例における構造は従来例に比べて透過率が向上している。
【0085】
したがって、透過モードが向上したことで、光透過部7の面積を若干小さくして、反射モードにてさらに高い性能を求めることもでき、その設計自由度が高くなった。
【0086】
あるいは、このように反射モードにてさらに高い性能を求めなくても、透過モードのみを高めてもよい。
【0087】
さらには、本発明の半透過型液晶表示装置Aに対し、光反射膜2に対し個々の着色層3に対応して異なる透過面積にした光透過部7を設け、透過モードと反射モードのRGBの各画素に対し色設計をなした半透過型液晶表示装置Aとしてもよい。
【0088】
すなわち、上記構成の半透過型液晶表示装置Aにおいては、さらに光反射膜2に対し個々の着色層3に対応して、赤、緑、青という色の違いに応じて異なる光通過面積の光透過部7を設け、これによって各RGBに対し、それぞれ透過率と反射率とを違えて、透過モードと反射モードのRGBからなるホワイトバランスを独立に設定し得るように色設計をなし、このような色設計とホワイトバランス調整をおこなうことで高品質かつ高性能な半透過型液晶表示装置Aが得られる。
【0089】
なお、本発明は上記の実施形態例に限定されるものではなく、本発明の要旨を逸脱しない範囲内で種々の変更や改良等はなんら差し支えない。たとえば、上記半透過型液晶表示装置AはSTN型単純マトリックス方式であるが、この方式に代えてTFTやTFDを内設したアクティブ型の液晶表示装置でも同じ作用効果を奏する。
【0090】
【発明の効果】
以上のとおり、本発明の半透過型液晶表示装置によれば、上述したごとく、一方部材の基板の他主面に各光透過部に対応してそれぞれマイクロレンズを形成し、さらに一方部材の基板の他主面側に、光出射側にプリズム板を配設したバックライトを配設したことで、プリズム板にて集中させた光を、さらにマイクロレンズを通して光透過部に効率的に入射させ、これによって透過モードの透過率を高めることができ、これによって所要とおりに反射モードと透過モードを設計することができ、その自由度を高めることができた。
【0091】
また、本発明の半透過型液晶表示装置の製造方法によれば、上記の(b)工程において、画素ごとに光透過部を設けた光反射膜をフォトマスクとして用いたことで、高精度なフォトリソ技術を採用することになり、これにより、製造歩留まりを高めて製造コストを下げ、低コストかつ高信頼性の半透過型液晶表示装置が得られた。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の半透過型液晶表示装置の液晶表示パネルの断面模式図である。
【図2】本発明の半透過型液晶表示装置の要部拡大断面図である。
【図3】(a)〜(c)本発明に係る一方部材の基板にマイクロレンズを形成する工程図である。
【図4】(a)〜(e)本発明に係る一方部材の基板にマイクロレンズを形成する工程図である。
【図5】本発明の半透過型液晶表示装置の断面概略図である。
【図6】(a)は光反射膜の光透過部の形状を示す平面図であり、(b)はマイクロレンズの要部拡大図であり、(c)はバックライトの構造を示す要部拡大図である。
【図7】(a)は光反射膜の光透過部の形状を示す平面図であり、(b)はマイクロレンズの要部拡大図であり、(c)はバックライトの構造を示す要部拡大図である。
【図8】従来の半透過型液晶表示装置の液晶表示パネルの断面模式図である。
【符号の説明】
A・・・本発明の半透過型液晶表示装置
B・・・従来の半透過型液晶表示装置
8・・・ガラス基板
2・・・光反射膜
3・・・着色層
4・・・オーバーコート層
5、9・・・透明電極
6、10・・・配向膜
7・・・光透過部
11・・・液晶層
21・・・バックライト
25・・・光拡散板
26・・・レンズシート
17・・・マイクロレンズ
【発明の属する技術分野】
本発明は反射型(反射モード)と透過型(透過モード)の双方の機能を有する半透過型液晶表示装置ならびにその製造方法に関するものである。
【0002】
【従来の技術】
近年、液晶表示装置は小型もしくは中型の携帯情報端末やノートパソコンの他に、大型かつ高精細のモニターにまで使用されている。とくに携帯情報端末などのように屋外・屋内両方にわたって使用される機器においては、外光が十分強い環境では表示装置の照明手段として積極的に外光を利用し、外光が弱い環境ではバックライトを使用するという半透過型の表示装置が主流として用いられている。
【0003】
反射型液晶表示装置には、後方に配設した基板の内面に対し凹凸形状の光反射層を形成した散乱反射型があるが、バックライトを用いないことで、周囲の光を有効に利用している。
【0004】
また、光反射層に代えて、半透過膜を形成し、バックライトを設け、反射モードや透過モードに使い分ける半透過型液晶表示装置も開発されている。
【0005】
この半透過型液晶表示装置によれば、太陽光、蛍光灯などの外部照明によって反射型の装置として用いたり、あるいはバックライトを装着して透過型の装置として使用するが、双方の機能を併せ持たせるために、半透過膜を使用している(特許文献1参照)。また、アクティブマトリクス型半透過型液晶表示装置に同様な目的で半透過膜を使用することも提案されている(特許文献2参照)。
【0006】
また、かかるハーフミラーの半透過膜を使用すると、反射率と透過率の双方の機能をともに向上させることが難しいという課題があり、この課題を解消するために、光透過用ホールを設けた反射膜を上記の半透過膜に代えて使用する半透過型液晶表示装置も提案されている(特許文献3参照)。
【0007】
【特許文献1】
特開平8−292413号公報
【特許文献2】
特開平7−318929号公報
【特許文献3】
特許第2878231号公報
【0008】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、上述したごとき半透過型液晶表示装置においては、透過モードにて光源として冷陰極管やLEDランプを使用し、他方、反射モードにおいては、室内で使用する際、光源として蛍光灯を、屋外で使用する際、光源として太陽光を利用することになり、このように透過モードと反射モードにおいて光源が異なっていた。
【0009】
また、透過モードにおいては、液晶パネルを一度通過する光路構造であることに対し、反射モードによれば、液晶パネルに入射した光が、ふたたび液晶パネル内を通過するという光路構造である。
【0010】
したがって、透過モードおよび反射モードとの双方に対し、光源が違うことで、さらには光路構造が違うことで、それぞれ独立して設計することになり、双方の特性をともに向上させることがむずかしかった。
【0011】
本発明者は叙上に鑑みて鋭意研究を重ねた結果、光反射膜に対し個々の画素に対応して光透過部を設けて、この光透過部にて透過モードとなし、光透過部以外の領域にて反射モードとなす半透過型の装置構成と、所定の部位に形成したマイクロレンズと、光出射側にプリズム板を配設したバックライトとを組み合わせることで、反射率と透過率との双方が改善されることを見出した。
【0012】
本発明は上記知見により完成されたものであり、その目的は反射率と透過率の双方の機能をともに向上させた半透過型液晶表示装置を提供することにある。
【0013】
本発明の他の目的は、かかる高性能な半透過型液晶表示装置を高い精度でもって作製して、製造歩留まりを高めて製造コストを下げ、これによって低コストかつ高信頼性の半透過型液晶表示装置が得られる製造方法を提供することにある。
【0014】
【課題を解決するための手段】
本発明の半透過型液晶表示装置は、基板の一主面上に光反射膜と透明導電材からなる一方電極と配向膜とを順次積層してなる一方部材と、透明基板上に透明導電材からなる他方電極と配向層とを順次積層してなる他方部材とを、これら一方電極と他方電極とにより各画素を形成するように液晶層を介して貼り合わせるとともに、上記光反射膜に対し個々の画素に対応して光透過部を設けて、この光透過部にて透過モードとなし、光透過部以外の領域にて反射モードとなし、さらに一方部材の基板の他主面に各光透過部に対応してそれぞれマイクロレンズを形成するとともに、一方部材の基板の他主面側に、光出射側にプリズム板を配設したバックライトを配設したことを特徴とする。
【0015】
本発明の半透過型液晶表示装置の製造方法は、基板の一主面上に画素ごとに光透過部を設けた光反射膜を形成するとともに、該基板の他主面に順次下記(a)〜(c)の各工程を経て、上記光透過部に対応してそれぞれマイクロレンズを形成し、ついで光反射膜の上に透明導電材からなる一方電極と配向膜とを順次積層してなる一方部材を作製する工程と、透明基板上に透明導電材からなる他方電極と配向層とを順次積層してなる他方部材を作製する工程と、これら一方電極と他方電極とにより各画素を形成するように液晶層を介して貼り合わせる工程と、一方部材の基板の他主面側に、光出射側にプリズム板を配設したバックライトを配設する工程とを備えて、上記光反射膜に対し個々の画素に対応して光透過部を設けて、この光透過部にて透過モードとなし、光透過部以外の領域にて反射モードとなしたことを特徴とする。
【0016】
(a)工程:一方部材の基板の他主面に感光性レジスト材料を塗着し、加熱する。
【0017】
(b)工程: 一方部材の基板の一主面に対し、露光する。
【0018】
(c)工程:前工程の感光性レジスト材料に対し現像して未感光部分のレジスト部分を除去し、その後、ポストベークして硬化せしめる。
【0019】
さらに本発明の半透過型液晶表示装置の製造方法は、基板の一主面上に画素ごとに光透過部を設けた光反射膜を形成するとともに、該基板の他主面に順次下記(a)〜(e)の各工程を経て、上記光透過部に対応してそれぞれマイクロレンズを形成し、ついで光反射膜の上に透明導電材からなる一方電極と配向膜とを順次積層してなる一方部材を作製する工程と、透明基板上に透明導電材からなる他方電極と配向層とを順次積層してなる他方部材を作製する工程と、これら一方電極と他方電極とにより各画素を形成するように液晶層を介して貼り合わせる工程と、一方部材の基板の他主面側に、光出射側にプリズム板を配設したバックライトを配設する工程とを備えて、上記光反射膜に対し個々の画素に対応して光透過部を設けて、この光透過部にて透過モードとなし、光透過部以外の領域にて反射モードとなしたことを特徴とする。
【0020】
(a)工程: 一方部材の基板の他主面に感光性レジスト材料を塗着し、加熱する。
【0021】
(b)工程: 一方部材の基板の一主面に対し、露光する。
【0022】
(c)工程: 前工程の感光性レジスト材料に対し現像して未感光部分のレジスト部分を除去し、その後、ポストベークして硬化せしめる。
【0023】
(d)工程: 一方部材の基板に対しエッチングする。
【0024】
(e)工程:残余のレジスト材を剥離する。
【0025】
以上のごとく、本発明の半透過型液晶表示装置によれば、上記構成のように、上記光反射性金属層に対し画素ごとに光透過部を設けて、この光透過部にて透過モードとなし、光透過部以外の領域にて反射モードとなし、これによって半透過型液晶表示装置としている。
【0026】
そして、本発明によれば、さらに一方部材の基板の他主面に各光透過部に対応してそれぞれマイクロレンズを形成し、さらに一方部材の基板の他主面側に、光出射側にプリズム板を配設したバックライトを配設したことで、プリズム板にて集中させた光を、さらにマイクロレンズを通して光透過部に効率的に入射させ、これによって透過モードの透過率を高めることができる。
【0027】
そして、高い透過率が得られたことで、その半面、反射モードとして用いられる光反射膜の反射領域を広げることができ、これにより、反射モードの反射率を高めることができる。
【0028】
また、本発明の半透過型液晶表示装置の製造方法によれば、上記の(b)工程において、画素ごとに光透過部を設けた光反射膜をフォトマスクとして用いたことで、高精度なフォトリソ技術を採用することになり、これにより、製造歩留まりを高めて製造コストを下げ、低コストかつ高信頼性の半透過型液晶表示装置が得られる。
【0029】
【発明の実施の形態】
本発明をSTN型単純マトリックス方式の液晶表示装置でもって図面により説明する。
【0030】
図1は本発明の半透過型液晶表示装置Aの液晶表示パネルの断面模式図であり、図2はこの装置Aの要部拡大断面図である。図3と図4はそれぞれ一方部材の基板にマイクロレンズを形成する工程図である。図5は半透過型液晶表示装置Aの断面概略図である。
【0031】
液晶表示装置Aの一方部材によれば、1はコモン側のガラス基板であり、このガラス基板1の上に、たとえばアルミニウム金属材などからなる光反射膜2を形成し、この上にカラーフィルターとして着色層3を形成し、さらに着色層3を覆うようにアクリル系樹脂からなるオーバーコート層4を被覆する。そして、オーバーコート層4の上に多数平行にストライプ状配列したITOから成る透明電極5、および一定方向にラビングしたポリイミド樹脂から成る配向膜6を順次積層する。なお、透明電極5と配向膜6との間に樹脂やSiO2等から成る絶縁膜を介在させてもよい。
【0032】
本発明においては、光反射膜2に対し赤、緑、青という個々の着色層3に対して、それぞれに光透過部7を設ける。
【0033】
かかる構成の光反射膜2は、まずガラス基板1の上にスパッタリングにより一様にアルミニウム金属膜を成膜し、次いでこのアルミニウム金属膜に対し、レジスト塗布、露光、現像、アルミニウム金属膜のエッチング、レジスト剥離という一連のフォトリソグラフィ工程によって、所要通りの形状になるように光透過部7をパターニングして取り除く。
【0034】
このように光反射膜2に対し個々の着色層3に対応して、赤、緑、青という色の違いに応じて異なる光通過面積の光透過部7を設けてもよい。かように画素ごとに光透過部を設けることで、この光透過部にて透過モードとなし、光透過部以外の領域にて反射モードとなす。
【0035】
なお、光反射膜2の材料としてAl材に代えて、AlNdなどのAl合金、Ag金属およびAg合金等の金属膜を使用してもよい。
【0036】
着色層3であるカラーフィルターは顔料分散方式、すなわちあらかじめ顔料(赤、緑、青)により調合された感光性レジストを基板上に塗布し、フォトリソグラフィにより形成してもよい。この顔料分散方式によれば、そのフォトリソグラフィにおいて同時に形成することができる。
【0037】
なお、着色層3であるカラーフィルターを形成するに当り、上記のような顔料分散方式に代えて、染色法を用いてもよい。
【0038】
つぎに他方部材においては、8はセグメント側のガラス基板であり、このガラス基板8の上には多数平行に配列したITOからなるストライプ状透明電極群9とを順次形成し、さらにストライプ状透明電極群9上に一定方向にラビングしたポリイミド樹脂からなる配向膜10を形成している。
【0039】
ついで、これらガラス基板1とガラス基板8とを、たとえば200〜260°の角度でツイストされたカイラルネマチック液晶からなる液晶層11を介して、双方のストライプ状透明電極群5、9が交差(直交)するように、シール部材(図示せず)により貼り合わせる。また、図示していないが、両ガラス基板1、8間には液晶層11の厚みを一定にするためにスペーサを多数個配している。
【0040】
さらにガラス基板8の外側にポリカーボネートからなる第1位相差板12、第2位相差板13、ヨウ素系の偏光板14とを順次積み重ね、ガラス基板1の外側にポリカーボネートからなる第3位相差板15を配置する。この配置によって、空気層による隙間が存在する。そして、第3位相差板15の上にヨウ素系の偏光板16を積み重ねているが、この配設にあたっては、アクリル系の材料からなる粘着材を塗布することで貼り付ける。
【0041】
そして、ガラス基板1側の偏光板16に対し、図5に示すごとく、バックライト21を密着させて配設する。
【0042】
同図に示すように、バックライト21はアクリル樹脂等の透明材料からなる矩形状の導光板22の端面にLEDや冷陰極管などの光源部23を配置し、半円筒状の光反射性のリフレクタ24でもって、冷陰極管などを覆っている。導光板22の光出射面上に光散乱性の光拡散板25とレンズシート26とを順次積層し、他方の主面には光反射板27を設けている。
【0043】
光拡散板25はPCやPET等の白色シートを用いて、その一面に微細な凹凸(たとえばエンボス加工)が施され、導光板22の出射光を散乱させる。
【0044】
このような構成のバックライト21の上に液晶表示パネル28を配設し、これらバックライト21および液晶表示パネル28を筺体29にて支持固定する。
【0045】
本発明によれば、以上のような構成の装置に対し、さらにガラス基板1の他主面に各光透過部7に対応してそれぞれマイクロレンズ17を形成している。
【0046】
以下、このようにマイクロレンズ17を形成したガラス基板1の製造方法を記す。この製造方法として、たとえば下記のごとく図3と図4にて2とおり述べる。
【0047】
図3は請求項2に係る製造方法であり、図4は請求項3に係る製造方法である。
【0048】
最初に図3に示す製造方法を述べる。
【0049】
この製法によれば、ガラス基板1の一主面上に画素ごとに光透過部7を設けた光反射膜2を形成し、このガラス基板1の他主面に順次下記(a)〜(c)の各工程を経て、光透過部7に対応してそれぞれマイクロレンズ17を形成し、ついで光反射膜2の上にストライプ状透明電極群5と配向膜6とを順次積層してなる一方部材を作製する工程がある。
【0050】
また、ガラス基板8の上にストライプ状透明電極群9と配向膜10とを順次積層してなる他方部材を作製する工程があり、さらにストライプ状透明電極群5とストライプ状透明電極群9とにより各画素を形成するように液晶層11を介して貼り合わせる工程がある。そして、ガラス基板1の他主面側に、光出射側にプリズム板を配設したバックライトを配設する工程もある。
【0051】
同図に示す工程図によれば、順次(a)工程乃至(c)工程からなり、フォトリソ技術でもって加工する。
【0052】
(a)工程:
Al、Al合金(AlNd等)、Ag、Ag合金(AgPd、AgPdCu、AgCuAu等)からなる光反射膜2を形成したガラス基板1の裏面に感光性レジスト材料(新日鉄化学製PR023X)18を2.0±0.5μmの厚さで塗布し、プリベークを90℃、2分間行う。
【0053】
(b)工程:
つぎにガラス基板1の光反射膜2を形成した面に対し、露光(60mj)をおこなう。この露光に当たって、フォトマスクとして光反射膜2を用いることができ、これでもって精度に高い露光をおこなうことができる。
【0054】
(c)工程:
本工程において、現像により未感光部分のレジストを除去し、光透過部7に対応した部分にマイクロレンズ17が形成される。その後、ポストベーク(230℃、60分)を行い,レジストを硬化させる。
【0055】
つぎに図4に示す他の製造方法を述べる。
【0056】
この製法によれば、ガラス基板1の一主面上に画素ごとに光透過部7を設けた光反射膜2を形成し、このガラス基板1の他主面に順次下記(a)〜(e)の各工程を経て、光透過部7に対応してそれぞれマイクロレンズ17を形成し、ついで光反射膜2の上にストライプ状透明電極群5と配向膜6とを順次積層してなる一方部材を作製する工程がある。
【0057】
また、図3に示す製法のごとく、ガラス基板8の上にストライプ状透明電極群9と配向膜10とを順次積層してなる他方部材を作製する工程、さらにストライプ状透明電極群5とストライプ状透明電極群9とにより各画素を形成するように液晶層11を介して貼り合わせる工程、ならびにガラス基板1の他主面側に、光出射側にプリズム板を配設したバックライトを配設する工程もある。
【0058】
図4に示す工程図によれば、順次(a)工程乃至(e)工程からなり、フォトリソ技術でもって加工する。
【0059】
(a)工程:
光反射膜2を形成したガラス基板1の裏面に感光性レジスト材料(新東京応化製OFPR)19を2.0±0.5μmの厚さで塗布し、プリベーク90℃、2分間行う。
【0060】
(b)工程:
つぎにガラス基板1の光反射膜2を形成した面に対し、露光(60mj)をおこなう。この露光に当たって、フォトマスクとして光反射膜2を用いることができ、これでもって精度に高い露光をおこなうことができる。
【0061】
(c)工程:
本工程において、現像により未感光部分のレジストを除去し、光透過部7に対応した部分に凸部20が形成される。その後、ポストベーク(180℃、5分)を行い,レジストを硬化させる。
【0062】
(d)工程:
バッファードフッ酸を用いて、ガラス基板1をエッチングする。なお、光反射膜2を形成した面に対し、エッチングされないように保護するとよい。
【0063】
(e)工程:
NaOHの溶液を用いて、レジストを剥離することで、ガラス基板1の裏面に光透過部7に対応してマイクロレンズ17が形成される。
【0064】
以上の各製造方法によれば、上記の(b)工程において、画素ごとに光透過部7を設けた光反射膜2をフォトマスクとして用いたことで、高精度なフォトリソ技術を採用でき、製造歩留まりを高めて製造コストを下げ、低コストかつ高信頼性の半透過型液晶表示装置Aが得られた。
【0065】
つぎに上記構成の半透過型液晶表示装置Aの作用効果を図2、図6、図7により述べる。
【0066】
図2は本発明の半透過型液晶表示装置Aの要部を示し、バックライト21からの出射光の光路を示す。また、図6と図7はそれぞれ光反射膜2の光透過部7の形状と、マイクロレンズ17の構造と、バックライト21のレンズシート26の構造との関係を示す。
【0067】
まず、図6に示す構造上の関係を述べる。
【0068】
同図において、(a)は光反射膜2の光透過部7の形状であり、3個の光透過部7が配列されている。(b)はこれら3個の光透過部7に対応するマイクロレンズ17である。(c)はレンズシート26であり、集光プリズムパターンは、鋭角90°で25μmピッチのプリズム形状を有するプリズムシートを縦方向と横方向に2枚重ねた構造である。
【0069】
以上のようにプリズムシートを縦方向と横方向に2枚重ねた構造のレンズシート26を用いることで、その通過光は、ガラス基板1に向けてほぼ垂直となり、マイクロレンズ17を通過した光が透過率が向上するように光反射膜2の光透過部7を通る。
【0070】
つぎに図7に示す構造上の関係を述べる。
【0071】
同図において、(a)は光反射膜2の光透過部7の形状であり、縦長の光透過部7が形成されている。(b)は縦長の光透過部7にそって形成したマイクロレンズ17である。(c)はレンズシート26であり、集光プリズムパターンは、鋭角90°で25μmピッチのプリズム形状を有するプリズムシートを縦方向に1枚設置した構造である。
【0072】
以上のような組み合わせでも、レンズシート26の通過光は、ガラス基板1に向けてほぼ垂直となり、マイクロレンズ17を通過した光が透過率が向上するように光反射膜2の光透過部7を通る。
【0073】
図6と図7に示すごとく、光反射膜2の光透過部7の形状と、マイクロレンズ17の構造と、バックライト21のレンズシート26の構造との関係でもって、液晶表示パネルに対し、図2に示すように入射される。
【0074】
液晶表示パネルの下側からの入射光を▲1▼▲2▼と分け、その光線の進み方を順に説明する。
【0075】
▲1▼の入射光は、マイクロレンズ17の中央付近にほぼ垂直に入射する光である。▲1▼は、そのまま、ガラス基板1の中をほぼ垂直に進行し、光透過部7とカラーフィルター3、オーバーコート4などを通過する。
【0076】
▲2▼の入射光は、マイクロレンズ17の端付近に入射する光であって、マイクロレンズ17により屈折され、光透過部7を通過し、さらにカラーフィルター3、オーバーコート4などを通過する。
【0077】
つぎに実施例を述べる。
【0078】
反射モードの場合には、液晶表示装置の表示面に対し、斜め上部15°から光(C光源)を入射させ、そして、液晶表示装置を駆動させた際(白表示、黒表示、赤表示、緑表示、青表示)の垂直方向の反射光の反射率を測定することで評価結果を得た。
【0079】
また、透過モードについては、バックライトを除く液晶パネルの裏面に対し、光(C光源)を入射させ、そして、液晶表示装置を駆動させた際(白表示、黒表示、赤表示、緑表示、青表示)の垂直方向の透過光の透過率を測定することで評価結果を得た。
【0080】
本発明の半透過型液晶表示装置Aと従来例の半透過型液晶表示装置Bの双方の光学特性を比較したところ、表1に示すような結果が得られた。
【0081】
従来例の半透過型液晶表示装置Bはマイクロレンズ17を形成しないで、その他の構成は半透過型液晶表示装置Aと同じにしている。
【0082】
同表において、Ronは白表示の時の反射率であり、Tonは白表示の時の透過率を示す。
【0083】
【表1】
【0084】
この結果から明らかなとおり、反射モードにおいては従来例も実施例における構造もほぼ同じ特性となっている。透過モードにおいては実施例における構造は従来例に比べて透過率が向上している。
【0085】
したがって、透過モードが向上したことで、光透過部7の面積を若干小さくして、反射モードにてさらに高い性能を求めることもでき、その設計自由度が高くなった。
【0086】
あるいは、このように反射モードにてさらに高い性能を求めなくても、透過モードのみを高めてもよい。
【0087】
さらには、本発明の半透過型液晶表示装置Aに対し、光反射膜2に対し個々の着色層3に対応して異なる透過面積にした光透過部7を設け、透過モードと反射モードのRGBの各画素に対し色設計をなした半透過型液晶表示装置Aとしてもよい。
【0088】
すなわち、上記構成の半透過型液晶表示装置Aにおいては、さらに光反射膜2に対し個々の着色層3に対応して、赤、緑、青という色の違いに応じて異なる光通過面積の光透過部7を設け、これによって各RGBに対し、それぞれ透過率と反射率とを違えて、透過モードと反射モードのRGBからなるホワイトバランスを独立に設定し得るように色設計をなし、このような色設計とホワイトバランス調整をおこなうことで高品質かつ高性能な半透過型液晶表示装置Aが得られる。
【0089】
なお、本発明は上記の実施形態例に限定されるものではなく、本発明の要旨を逸脱しない範囲内で種々の変更や改良等はなんら差し支えない。たとえば、上記半透過型液晶表示装置AはSTN型単純マトリックス方式であるが、この方式に代えてTFTやTFDを内設したアクティブ型の液晶表示装置でも同じ作用効果を奏する。
【0090】
【発明の効果】
以上のとおり、本発明の半透過型液晶表示装置によれば、上述したごとく、一方部材の基板の他主面に各光透過部に対応してそれぞれマイクロレンズを形成し、さらに一方部材の基板の他主面側に、光出射側にプリズム板を配設したバックライトを配設したことで、プリズム板にて集中させた光を、さらにマイクロレンズを通して光透過部に効率的に入射させ、これによって透過モードの透過率を高めることができ、これによって所要とおりに反射モードと透過モードを設計することができ、その自由度を高めることができた。
【0091】
また、本発明の半透過型液晶表示装置の製造方法によれば、上記の(b)工程において、画素ごとに光透過部を設けた光反射膜をフォトマスクとして用いたことで、高精度なフォトリソ技術を採用することになり、これにより、製造歩留まりを高めて製造コストを下げ、低コストかつ高信頼性の半透過型液晶表示装置が得られた。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の半透過型液晶表示装置の液晶表示パネルの断面模式図である。
【図2】本発明の半透過型液晶表示装置の要部拡大断面図である。
【図3】(a)〜(c)本発明に係る一方部材の基板にマイクロレンズを形成する工程図である。
【図4】(a)〜(e)本発明に係る一方部材の基板にマイクロレンズを形成する工程図である。
【図5】本発明の半透過型液晶表示装置の断面概略図である。
【図6】(a)は光反射膜の光透過部の形状を示す平面図であり、(b)はマイクロレンズの要部拡大図であり、(c)はバックライトの構造を示す要部拡大図である。
【図7】(a)は光反射膜の光透過部の形状を示す平面図であり、(b)はマイクロレンズの要部拡大図であり、(c)はバックライトの構造を示す要部拡大図である。
【図8】従来の半透過型液晶表示装置の液晶表示パネルの断面模式図である。
【符号の説明】
A・・・本発明の半透過型液晶表示装置
B・・・従来の半透過型液晶表示装置
8・・・ガラス基板
2・・・光反射膜
3・・・着色層
4・・・オーバーコート層
5、9・・・透明電極
6、10・・・配向膜
7・・・光透過部
11・・・液晶層
21・・・バックライト
25・・・光拡散板
26・・・レンズシート
17・・・マイクロレンズ
Claims (3)
- 基板の一主面上に光反射膜と透明導電材からなる一方電極と配向膜とを順次積層してなる一方部材と、透明基板上に透明導電材からなる他方電極と配向層とを順次積層してなる他方部材とを、これら一方電極と他方電極とにより各画素を形成するように液晶層を介して貼り合わせるとともに、上記光反射膜に対し個々の画素に対応して光透過部を設けて、この光透過部にて透過モードとなし、光透過部以外の領域にて反射モードとなし、さらに一方部材の基板の他主面に各光透過部に対応してそれぞれマイクロレンズを形成するとともに、一方部材の基板の他主面側に、光出射側にプリズム板を配設したバックライトを配設した半透過型液晶表示装置。
- 基板の一主面上に画素ごとに光透過部を設けた光反射膜を形成するとともに、該基板の他主面に順次下記(a)〜(c)の各工程を経て、上記光透過部に対応してそれぞれマイクロレンズを形成し、ついで光反射膜の上に透明導電材からなる一方電極と配向膜とを順次積層してなる一方部材を作製する工程と、透明基板上に透明導電材からなる他方電極と配向層とを順次積層してなる他方部材を作製する工程と、これら一方電極と他方電極とにより各画素を形成するように液晶層を介して貼り合わせる工程と、一方部材の基板の他主面側に、光出射側にプリズム板を配設したバックライトを配設する工程とを備えて、上記光反射膜に対し個々の画素に対応して光透過部を設けて、この光透過部にて透過モードとなし、光透過部以外の領域にて反射モードとなした半透過型液晶表示装置の製造方法。
(a)工程:一方部材の基板の他主面に感光性レジスト材料を塗着し、加熱する。
(b)工程: 一方部材の基板の一主面に対し、露光する。
(c)工程:前工程の感光性レジスト材料に対し現像して未感光部分のレジスト部分を除去し、その後、ポストベークして硬化せしめる。 - 基板の一主面上に画素ごとに光透過部を設けた光反射膜を形成するとともに、該基板の他主面に順次下記(a)〜(e)の各工程を経て、上記光透過部に対応してそれぞれマイクロレンズを形成し、ついで光反射膜の上に透明導電材からなる一方電極と配向膜とを順次積層してなる一方部材を作製する工程と、透明基板上に透明導電材からなる他方電極と配向層とを順次積層してなる他方部材を作製する工程と、これら一方電極と他方電極とにより各画素を形成するように液晶層を介して貼り合わせる工程と、一方部材の基板の他主面側に、光出射側にプリズム板を配設したバックライトを配設する工程とを備えて、上記光反射膜に対し個々の画素に対応して光透過部を設けて、この光透過部にて透過モードとなし、光透過部以外の領域にて反射モードとなした半透過型液晶表示装置の製造方法。
(a)工程: 一方部材の基板の他主面に感光性レジスト材料を塗着し、加熱する。
(b)工程: 一方部材の基板の一主面に対し、露光する。
(c)工程: 前工程の感光性レジスト材料に対し現像して未感光部分のレジスト部分を除去し、その後、ポストベークして硬化せしめる。
(d)工程: 一方部材の基板に対しエッチングする。
(e)工程:残余のレジスト材を剥離する。
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JP2002284370A JP2004118106A (ja) | 2002-09-27 | 2002-09-27 | 半透過型液晶表示装置およびその製造方法 |
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Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2007256575A (ja) * | 2006-03-23 | 2007-10-04 | Toppan Printing Co Ltd | レンズアレイシート、光学シートおよびバックライト |
JP2007264640A (ja) * | 2007-04-05 | 2007-10-11 | Sharp Corp | 表示パネルの製造方法 |
US7486359B2 (en) | 2005-04-25 | 2009-02-03 | Samsung Electronics Co., Ltd. | Color filter panel having microlenses in transmission areas and method of manufacturing the same, and transflective liquid crystal display using such a color filter panel |
US7889310B2 (en) | 2006-01-18 | 2011-02-15 | Hitachi Chemical Company, Ltd. | Method for producing apertures in a diffuse reflector layer having a metal reflection film |
-
2002
- 2002-09-27 JP JP2002284370A patent/JP2004118106A/ja not_active Withdrawn
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