TWI327489B - Substrate coating apparatus and coating method thereof - Google Patents

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TWI327489B
TWI327489B TW096142791A TW96142791A TWI327489B TW I327489 B TWI327489 B TW I327489B TW 096142791 A TW096142791 A TW 096142791A TW 96142791 A TW96142791 A TW 96142791A TW I327489 B TWI327489 B TW I327489B
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Ogino Tadahiro
Doi Toshiya
Sawada Hideyuki
Tanabe Yuji
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Chugai Ro Kogyo Kaisha Ltd
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Description

1327489 九、發明說明: 【發明所屬之技術領域】 定厚度施行 本發明關於一種可在基板縱橫方向上依 塗佈的基板之塗佈裝置及塗佈方法。 【先前技術】 就諸如電槳顯示面板等要求高品質基板的塗佈關聯技 術,對該基板上所形成塗佈面的管理屬重要事項。特別近 年已需求超過寬2m的塗佈,習知的塗佈面管理頗難滿足 品質要求。相關聯技術的揭示習知有如專利文獻卜專利 文獻1的「狹縫式塗佈機之塗佈方法」係以針對具有「起 伏」、「翹曲」、「厚度不均」的玻璃基板,施行均勻、厚度的 光阻液塗佈為解決課題,在狹縫式㈣機巾設置非接ς 距離敎感測n ’並就整個塗佈區域預先測定狹縫式塗二 機與玻璃基板間之實際間隙,並就該整個塗佈區域運 際間隙與基準間隙的以之後,於塗佈時再根據該運& 值,使狹縫式塗佈機一邊對玻璃基板依維持一定基準間= 的方式進行升降,一邊進行塗佈。 、 (專利文獻1)曰本專利特開平10_421號公報 【發明内容】 (發明所欲解決之問題) 但是,先前技術的構造,雖可對應狹縫式塗佈機移走方 向(玻璃基板縱向)的厚度不均等施行塗佈但是卻有盔 因應狭縫式塗佈機長度方向(玻璃基板橫向)之問題。特別 係因為使狹縫式塗佈機本身進行升降,因而關於玻璃基板 312ΧΡ/發明說明書(補件)/97·〇2/96142791 6 1327489 橫向,充其量亦僅能使該狹縫式塗佈機直線性傾斜,並無 法因應玻璃基板整面形成如波浪般之厚度不均等情況的 塗佈。 本發明係有馨於上述習知問題而完成,目的在於提供一 種能在基板縱橫方向上,依一定厚度施行塗佈的基板之塗 佈裝置及塗佈方法。 (解決問題之手段) 鲁本發明的基板之塗佈裝置,係在設置於平台的基板上 方,具有沿橫向形成長條且在基板縱向移動而對該基板塗 佈之塗佈喷嘴的基板之塗佈裝置;其特徵在於,具備有: 喷嘴位置調整手段、距離感測器、及控制部;而該喷嘴位 置調整手段係在上述塗佈噴嘴沿其橫向長度隔適當間隔 設置複數個,並調整形成於該塗佈喷嘴的噴出口高度位 置;該距離感測器係在上述塗佈㈣,與上述各喷嘴=置 調整手段構成一組,並以該等喷嘴位置調整手段的各設置 #位置處一致之方式設置複數個,為了棋盤格狀測定上=基 板的表面起伏,而依該塗佈噴嘴之移動,就基板縱向在^ 數測定點測量該等塗佈喷嘴與基板之間隙量並輸出;該控 制部係從上述各距離感測器所分別輸人的複數間隙量^ 每個距離感測器計算沿基板縱向的複數平均間隙量,並依 各平均間隙量對上述各噴嘴位置調整手段進行控制。 上述控制部係不採用使上述喷嘴位置調整手段與上述 距離感測器的設置位置一致之方式,而改為當不同時,從 沿基板橫向至少2個測定點的間隙量’計算出該噴嘴位置 312χρ/發明說明書(補件)/97-02/96142791 7 ~ 並依該間隙尺寸對該嘴 調整手段之設置位置的間隙尺寸 嘴位置調整手段進行控制。 檢測上述塗佈喷嘴對於上述平台之高度並輸出檢測值 的兩度感測器’係沿該塗饰噴嘴長度方向相隔適當間隔設 置’上述控制部係為了將對上述平台將上述塗佈噴嘴姿勢 調整為水平’而由來自上述高度感測器的檢測值,對上 喷嘴位置調整手段進行控制。 上述控制部係不使用上述平均間隙量,改為使用由複數 测定點所測得之上述各間隙量'與基板縱向上相鄰接之2 測定點間所計算的間隙量之各增減量,並就各測定點由各 間隙里,依2個測定點間的各增減量,對上述各噴嘴位置 調整手段進行控制。 本發明的基板之塗佈方法,係使用上述基板之塗佈裝 置,首先使上述塗佈噴嘴在基板縱向上前進移動,並利用 上述距離感測器測量間隙量,其次’在使上述塗佈喷嘴停 _止的狀態下,利用上述控制部對上述喷嘴位置調整手段進 行控制,然後,使上述塗佈喷嘴在基板縱向上後退移動, 而對上述基板施行塗佈。 或者,使用上述基板之塗佈裝置,首先,使上述塗佈嘴 嘴在基板縱向前進移動,並利用上述距離感測器測量間隙 畺,然後,一邊利用上述控制部對上述喷嘴位置調整手段 進行控制,一邊使上述塗佈喷嘴在基板縱向後退移動,而 對上述基板施行塗佈。 (發明效果) 312XP/發明說明書(補件)/97-02/96142791 8 1327489 本發明的基板之塗佈裝置、及塗佈方法,係即使基板整 面出現如波浪之厚度不均,仍可在基板縱橫方向上依一定 厚度施行塗佈。 【實施方式】 以下,針對本發明基板之塗佈裝置及塗佈方法的較佳一 實施形態,參照所附圖式進行詳細說明。本實施形態的基 板之塗佈裝置’基本係如圖i至圖1〇所示在平台工上 所D又置的基板2上方,具有沿橫向形成長條且朝基板2 縱向進行移動而對基板2施行塗佈之塗佈喷嘴3的基板塗 佈裝置,由喷嘴位置調整手段5c〜5e、距離感測器、 及控制部7構成,而該喷嘴位置調整手段5c〜5e係在塗佈 噴觜3 _L 秩向長度(基板橫向)隔適當間隔設置複數 上所㈣的喷出口 4高度位置進行調 正,該距離感測器6c〜6e係在塗佈噴嘴3上,與各噴 置調整手段5c〜5e構成一組,且與該等噴嘴位置調整手p 二設置位置一致地設置複數個,並為了棋盤格 m基板2之表面起伏’而依塗佈喷嘴3之移動,在美 板2的縱向上’依複數敎點㈣量料塗料嘴3血二 板:間之間隙量並輸出’·該控制部7係從各距離感心 卜6e所:別輸入的複數間隙量,&每個距離感 6c〜6e計算複數j;从美杯^ 基板2縱向的平均間隙量G3〜G5,並利 用各平均量G3〜G5對各対位置㈣ 控制。 丁仅π De進仃 控制部7係當喷嘴位置調整手段卜化、與距離感剩 312XP/發明說明書(補件)/97_〇2/96142791 g (安 1327489 器6a、6b的設置位置,在塗佈喷嘴3長度方向上相里而 不-致的情況時,便從沿基板2橫向至少2測定點q的平 均間隙置G卜G2,計算出噴嘴位置調整手段心5b設置 位置的假設間隙尺寸X1、Χ2,再利用該假設間隙尺寸U、 X2對喷嘴位置調整手段5a、5b進行控制。 平台1上面係由高平面度的平坦面形成。在該平台工上 面載置玻璃製等基板2。在基板2上方設有嘴出塗佈液L 而對基板2施行塗佈處理的塗佈喷嘴3。本實施形 塗佈喷嘴3係由··左右一對腳部8、縱壁部9、斥力框竿 =及喷嘴本體U構成,而該左右—對腳部基 板Γ置於平台1橫向二側,而該縱壁部9係懸掛設置於 該專-對腳部8間,而將該等腳部8連結;該斥力框年 10係由在各腳部8上所設置的左右—對第^盘第2 位置調整手段5a、5b支撐,並在縱壁部9 置 方且?彎曲剛性;該喷嘴本體11係在斥2 圍卞的空間中設於由左右一對腳部8與縱壁部9所包 橫向形成長條,並在下端“ T狭縫狀嘴出σ4。在各腳部8與== 達佈在平二1縱向上進行往復移動 猎此塗佈賀嘴3便進行從待撼付番了 ^始在基板2縱向上前進移動,當到達返折位置 時停止,賴,從返折位置u新啟動並在基板2縱向1 312ΧΡ/發明說明書(補件)/97_〇2/96142791 ι〇 (安 進行後退移動,待返回待機位置:時便停止的往復移動。 嘴3係於喷嘴本體11長度方向二端外侧,配置 :置弟1與第2噴嘴位置調整手段5a、5b,同時配置於 本體11上方而設置S 3〜第5噴嘴位置調整手段 c〜5e。第1與第2喷嘴位置調整手段心讥係屬於利用 句服馬達13驅動之諸如滚珠螺桿形式等的千 力的情況下,於腳部8上將斥力框架㈣ 按押,而進行上拉或下押,藉此便調整喷嘴 高度位置對基板2的姿勢、或調整喷嘴本體11的喷出口4 =加第5嘴嘴位置調整手段5e〜5e係在塗佈喷嘴3的 ⑼置[^1G '^’沿基板2橫向的長度方向隔開適當間隔 :體第3〜第5嘴嘴位置調整手段5c〜5e,喷嘴 ,r 力框架10支撐。第3噴嘴位置調整手段 置於斥力框架1〇中央處,第4與第5喷嘴位置調 配詈㉟6係在第3噴嘴位置調整手段5<2二侧等間隔 。第3〜第5噴嘴位置調整手段“〜“係由套管η、 驅動部構成,而該套管14係固定於斥力框架10 上二干係對套官14朝上下方向滑動自如地設置,並 該驅動二=二’且接合於噴嘴本體U上面; 3〜第5嗜^ 並使桿15滑動移動。第 架ίο賦予。立置調整手段5c〜5e係經由套管14對斥力框 膽’發明說明書(補件购2/96142791 喷嘴本體η力❿對喷嘴本體11輸入上拉力《押下力。 、本體Π便依循桿15上升移動而上拉、或依循下降移 11 叫7489 動而押下,並彎曲變形,藉此便就噴出口 4對基板2的高 度位置進行調整。例如藉由將第3喷嘴位置調整手段化 押下,並將第4與第5噴嘴位置調整手段5d、5e上拉, 噴嘴本,11便在斥力框架1G下,朝長度方向弯曲變形呈 波浪,藉此喷出口 4高度位置便調整為基板2橫向。 距離感測器6a〜6e係在塗佈喷嘴3的縱壁部9上,設置 於喷嘴本體11相對向側的位置處。距離感測器在 本實施形態中’係設置第i距離感測器㈣ 器…台,其中,第3〜第5距離感測器 於第3〜第5喷嘴位置調整手段5c〜5e的設置位置,並分 別與該等喷嘴位置調整手段5c〜5e設置一組,第!與第2 距離感測器6a、6b係依等於第3距離感測器〜第5距離感 測器6c〜6e相互間的安裝間隔,設置成位於第】噴嘴位置 調整手段5a與第4噴嘴位置調整手段5d之間、及第5嘴 嘴位置調整手段5e與第2喷嘴位置調整手段5b之間。第 3〜第5距離感測器6c〜6e分別用於第3〜第5噴嘴位置調 整手段5c〜5e的控制,而第}與第2距離感測器以、牝 則用於靠近的第1與第2喷嘴位置調整手段5a、吒控制。 該等距離感測器6a〜6e係測定塗佈喷嘴3與基板2間之 間隙量並輸出。該等距離感測器6a〜6e係採用例如測量所 射出雷射光由基板2反射而返回為止的時間以測定距離 的雷射感測器。該等距離感測器6a〜6e係構成每隔一定時 間便測定距離,藉由使塗佈噴嘴3在基板2縱向上移動, 便在基板2縱向上,依複數測定點Q(圖示例中為n處)測 312ΧΡ/發明說明書(補件)/97-02/96142791 \7 · 1327489 定間隙量。所以,藉由於塗佈噴嘴3長度方向(基板2橫 向)設置複數的距離感測器6a〜6e,便依棋盤格狀方式測 定基板2的表面起伏。 在平台1上面,於塗佈噴嘴3的待機位置;處配設有高 $感測器17。本實施形態中,高度感測器17係在塗佈喷 嘴3長度方向上,設置成一致於距離感測器的安裝 位置處。+高度感測器17係為將塗佈喷嘴3對平台K具體 而言係噴出口 4高度)設為設定值,便檢測該高度並輸出 檢測值。本實施形態中,各高度感測器17係具備有例如 由彈簧18支撐,並依設定值M在平台(上露出的接觸器 19。該接觸器19係當反抗彈簧18而被押下並盥平么!上 並設定為輸出行程「零」的檢測值:若:由使 : = 下降’而喷出口 4周邊接觸到接觸器19並將 :二日Γ接觸器19便將該押下行程作為應檢測高度, 而輸出該檢測值。 從= 於高度感測器17與距離感測器⑽, 從以專輸人向度的檢測值與間隙量。此外,對 =設定為獲得所需膜厚的基板2上面與噴出㈠間二 :間隙量GS。控制部7尚連接於第i〜第5噴嘴 = =5广5e,並分別輪出控制量。控制 = 度感測器17的檢測值,對第卜第R +⑫㈣采自问 We進行於制,μ由於Π ^ W嘴位置調整手段 出…高二:定值:塗佈喷嘴3整個長度方向,使噴 水平。: = 將對平台1的姿勢保持 出4的^位置成為設定值例如玻璃基板 312ΧΡ/發明說明書(補件)/97-02/96142791 〇 ( 刿器t同戶(2·8mm)等)的控制量’係可利用從各高度感 分別於Φ 的檢測值進行計算,所計算得的控制量便 刀別輸出給第卜第5噴 離感測器6a★測定段5e。此時,距 面為止之尺寸(网广 不存在之位置的平台1上 、圖與圖3 _的測定點Q(〇))。 為使噴嘴本體以會發生不必要 的㈣曰w U 2喷嘴位置調整手段5a、5b Γ進=該等第1與第2喷嘴位置調整手段卜 笫仃同又一勢的控制。具體而言,依對應於第1盥 = =6a、6b設置位置的2個高度感測器17: 成為:又疋值Μ的方式,使第!與第2噴嘴位置調整手段 6“ 置:,依對應於第3〜第5距離感測器 °又置位置的3個高度感測器17成為設定值Μ的方 丄,使第3〜第5喷嘴位置調整手段5。士產生動作。控 制。”便依如上述’配合喷出口 4依設定Μ而成水平, :將距離感測器所檢測到的間隙# G(參照圖6)重置為 么零」。依此’便對嘴出口 4與距離感測器如以平 〇 1上面為基準施行尺寸控制。 再者’控制部7係從第卜第5距離感測器h★分別 ,入的複數測定點Q(1),n)之間隙量,依每個距離感測 益6a〜6e,計算出沿基板2縱向的間隙量平均值g1G5。 例如,依第3距離感測器6c之測定’獲得第3喷嘴位置 调正手& 5c 5又置位置的基板2之縱向n個間隙量資料, 312XP/發明說明書(補件 y97-02/96142791 14 < S ) 1327489 控制部7便計算出該n個間隙量 本實施形態中,計算出5個平均間隙量G=G3。所以, 便依該等平均間隙量心5全部等於 2曰控制部7 4,對第卜第5喷嘴位置調整手又曰、承夏GS的方 制部7便對第3〜第5喷嘴位置調整又手二行控制。控 第3〜第5距離感測器6c〜6e的 C e ’根據來自 間隙量G3〜G5的控制量。 ,貝;’;,輪出對應平均 . 方自因為對於第1與第2噴嘴位置調整手$5 5b而言’該等喷嘴位置調整手段53、5卜 :5a、 距離感測器6a、6b的設置_ 第1與第2 向至少2伽…,η 问’因而從沿基板2橫 個測疋點Q的平均間隙量 第1與第2噴嘴位置^ 62 #异出該等 柘?命“ 奴5a 5b之設置位置處的基 與喷出口4的假設間隙尺寸 :Χ1、Χ2作為控制量,輪出於第 ; 手段5a、5b。 μ再徂置調整 4 1列如圖8所示’在平台1上面與噴嘴本體η的噴出口 Τ仃狀態下’假設對由第3距離感測器6c(基板2的 =所測得的平均間隙量G3,由第i距離感測器6"斤 =均間隙罝G1的減量、及由第2距離感測器此所測 付=均間隙量G2的增量絕對值相等時,便對呈水平姿勢 的喷出口 4 ’將基板2表面依一次線性傾斜。此情況,若 ^第1與第2喷嘴位置調整手段5&、51)的安裝間隔設為 W[將第i與第2距離感測器⑽的安裝間隔設為ws、 由將第卜第3距離感測器6a〜6c所測得平均間隙量分別 312XP/發明說明書(補件)/97__6142791 15 Ϊ327489 =1=則t基板2外側所配置的第1與第2喷嘴位 f ” 5a、比設置位置處中假設之間隙尺寸η、χ2 便可以平台1上面為基準,由下式進行計算。 G3=(Gl+G2)/2 XI=G3 + (G1-G3) · Wm/Ws X2=G3+(G2-G3)-Wm/Ws 二喷…的上述間隙尺寸XhX2,為等於 董GS,便視為對第,與第2噴嘴位置調整 』、 行控制的控制量,從控制部7 b進 =控制里,第i與第2噴嘴位置調整手段 將斥力框架H)在腳部8上進行上拉物下, 便 ㈣手段5心助料料力㈣1G將噴嘴 進:亍上拉或押下’藉此將相對於基板2的塗佈噴 ⑸。實出口4高度位置,調整為設定間隙量叫參照圖 •之使用,塗佈裝置的本發明基板之塗佈方法 首先’在塗佈嘴嘴3的待機位” 二對第⑽”嘴位置調整手段^ : ,1。,使喷嘴本體u朝平台i下降(參 ,7 下降動作而接觸到高度感測器17, ft产威 "二7::由8該接觸所獲得之檢測值輪出於控制部7 二計算出控制量,並輪出於第卜第5 置調整手…。此時’首先,對第〗與第2嗔
S 312ΧΡ/發明說明書(補件)/97〇2/9614279】 π 行控制,設定斥力框架ϊ〇的高 度位置,其次,對第3〜第5喷嘴位 行控制,為在斥力框進行微 η彎曲變形。藉此,塗佈喷喈…:登便將噴鳥本體 上面更靠上方的設定便為較平台1 卜第5距離感測器6a〜6 :至:广:面:二第 二並將該值重置為「零」。利二的整距 ==㈣W 3的位置為基準,精密測定與基板2間之 ==塗佈喷嘴3便利用線性馬達12,從待機位置了 .==Γ本趙11的噴出σ4超出基板2塗佈結束 位置κ,在此期間中,各距離感測n lee 量基板2與料本體11㈣出口 4間之 =^塗佈嘴嘴3若到達返折位Η便暫時停止。在返 將根據由距離感測器6心所測得 控πζν〜第5喷嘴位置調整手段―的 控制篁4卜第5喷嘴位置調整手段5心便依 喷Γ嘴本體11等產生彎曲變形等,而將塗 =:r高度位置’調整為基板2表面上的- 門:!部二將計算出從各距離感測器6心所輸入的“固 貧料之加算平均’並計算出5個平均間隙量 =5 ,而計算出與設定間隙量Gs間之差。喷嘴位置調整 手& 5a〜5e的控制,具體而言’首先對第i與第2喷嘴位 312XP/發明說明書(補件),97·〇2/96142791 17 1327489 置調整手與_ ς 、b進行控制,妙 位置調整手段5c〜5 :後,再對第3〜第5喷嘴 置調整手段5a、5b,因為;:二對於第1與第2喷嘴位 根據基於由第1盥第2;基板2外側,因此便 量之平均間隙量: 寸X卜X2 ’再依該等間隙:二述:^假設之間隙尺 =的方式,利用第…::二成為設定間 5b調整塗佈喷嘴3的噴出口 *高度= 立置㈣手段5a、 其次,對於第3〜第5噴嘴位置^ : 於第1與第2喷嘴位置調整 2 5c如預估由 變動’根據由第…距離感; 量,對平均間隙量G3〜G5進行修正°,_;依6==的間隙 ⑵的方式,由控制部7進行運曾=成為仅疋間隙量 制量,輪出於第3〜第5喷嘴位;調整== 果視為控 = 5=^器一置處的平均間隙量二= 二==;:的―對喷 二 =結束將各距離感測器6a,位置的平均間隙量 5狄為一定設定間隙量GS的調整,然後,塗佈噴嘴3 便從返折位置K朝待機位置j,在基板2縱向後退移動, =喷出口 佈液L而將基板2施行塗佈(參照圖 依如上述所說明的本實施形態基板之塗佈裝置及塗佈 方法,因為具備有:喷嘴位置調整手段5c〜5e(其係在塗佈 312XP/發明說明書(補件)/97_〇2/96丨4279丨 18 丄JZ/489 噴觜3上/σ其長度隔適當間隔設置複數個,並對塗佈噴嘴 3上所形成的喷出口 4高度位置進行調整)、距離感測器 6c〜6e(其係在塗佈喷嘴3上,與各噴嘴位置調整手段 5c〜5e構成一組,且與該等噴嘴位置調整手段5c〜5e個各 個設置位置一致設置複數個,為了依棋盤格狀方式測定基 板2的表面起伏,而依循塗佈喷嘴3的移動,在基板2的 縱向上’依複數測定點Q測量該等塗伟嘴嘴3與基板2間 之間隙量並輸出)、以及該控制部7(其係從各距離感測器 C〜6e所分別輸人的複數間隙量,依每個距離感測器 c〜6e複數計算出沿基板2縱向的平均間隙量⑵〜仍並 利用各平均間隙量G3〜G^各喷嘴位置調整手段Μ" 订控制),因此便可使用依祺盤格狀方式測得的間隙量, 利用噴嘴位置調整手段5c〜5p,趑4山 ^ ⑸將賀出口 4相對於基板2 的尚度位置調整為一定的設定旦 ^ . 0 ^ ^ 心07 °又疋間隙里GS,特別係利用在 基板2檢向上設置複數的距離 雕U列斋6c〜6e、喷嘴位置調 _正又c e、以及與該等所連接的控制部7,便可在芙 板2縱橫方向上依一定厚产 土 門胳、旦与度鈿仃塗佈。又,因為使用平均 ;=广G5,因而可將控制簡單化,並能依相當精度且 均勾膑厚施行塗佈。因為使喷嘴位置調 距離感測器6c〜6e的安穿位署仅# ^ 权dc μ興 單化。 女裝位置保持一致,因而可將控制簡 再者@制。ρ即便不採用使喷嘴位置調整手段5a、 5b、與距離感測器ga、6b ###/ as / 同的情況下從沿基板2如至9置保持一致,改為不 孜向至少2個測定點Q的間隙量, 312XP/發明說明書(補件)/97-02/96142791 < * 19 * ' 1327489 。十开出嘴位置調整手段5a、5b言史置位置處的假設間隙 尺寸,並利用該假設間隙尺寸對喷嘴位置調整手段以、 5b進仃控制,因而即使喷嘴位置調整手段%、讥、與距 離感測益6a、6b的安裂位置不一致情況,亦可適當地以 • 一定膜厚施行塗佈。 ,者’檢測喷出口 4相對於平台丨的高度並輸出檢測值 .的兩度感測$ 17,係在塗佈噴嘴3長度方向上隔適舍間 # =設置,且控制部7係對平台i將喷出口 4姿勢調整:水 平,欠因而利用來自高度感測器17的檢測值,對喷嘴位置 調^手段5a〜5e進行控制,所以便可適當地實施基準位置 °周整’可提升間隙量的測定精度。 再進一步,首先使塗佈喷嘴3在基板2縱向上前進移 動,並利用距離感測器6a〜6e測量間隙量,接著在使塗佈 噴嘴3停止的狀態下,利用控制部7對喷嘴位置調整手段 5a〜5e進行控制,然後,使塗佈喷嘴3在基板2縱向上後 _退移動’並對基板2施行塗佈,@而可依較短的週期時 間’對表面起伏不同的基板2, 一片片地施行適當的均 膜厚塗佈。 圖11所示係上述實施形態的變化例。該變化例係關於 控制部7的控制,控制部7係不採用平均間隙量G卜仍, 改為使用依基板2縱向的複數測定點q所測得各間隙量, 與基板2縱向上相鄰接2個測定點Q間所計算得間隙^的 各增減量’各敎點q中根據各間隙量,❿2個測定= 間則根據各增減量,對各喷嘴位置調整手段進行控 312XP/發明說明書(補件)/97-〇2/9614279i 2〇 1327489 制。5台距離感測器6a〜6e分別依基板2縱向的n個測定 點㈧測量間隙量Gl(0甘G5(〇〜n跡G5分別係利用第 第5距離感測器所測得的間隙量,例如依上述 第3距離感測器6c所測得在測定點Q(r)處的間隙量), 因而關於各距離感測器6a〜6e,如圖所示,可從依第3距 離感測Is 6c所進行任意第測定點以卜丨)、及第 測定點Q(p)處的間隙量G3(p_1:^ G3(p),計算出該等2 點間的間隙量之增減量d(p)(換言之,基板2厚度 化:Τ(ρ)->τ(ρ-1))。 變化例中,首先使塗佈喷嘴3朝基板2縱向前進移動 並利用距離感測器6a〜6e測量間隙量G1(〇〜n)~G5(〇〜n), 然後,一邊利用控制部7對噴嘴位置調整手段5a〜k進个 =,-邊使塗佈嘴嘴3在基板2縱向上後退移動,便參 土板2施行塗佈。在施行塗佈的後退移動時,在n個各貝 Ϊ二t使所測得的各間隙量GK〇〜n)傳η),成i 又s隙罝GS的方式,控制噴嘴位置調整手段5a〜5e, 二二:定點Q間,依藉由對各測定點㈣間隙量,加減所 嗔:!==d(p),而成為設定間隙量Gs的方式,對 量成為5心逐次控制,依基板2整面的間隙 、套銘隙里GS的方式’使喷嘴本體11 —邊起伏-,而對基板2施行塗佈。依此,—邊使塗佈噴嘴3 在^板2縱向上後退移動,一邊對喷嘴位置調整手严 均:進行控制’即使基板2整面出現如波浪般的厚度: =“可在基板2縱橫方向上依—定厚度施行塗佈可在 312XP/發明說明書(補件)/97〇2/⑽汜別 1327489 基板2的縱松方向上,對基板2整面依極高精度且均勻膜 厚地施行塗佈。 上述實施形態係針對距離感測器6a〜6e依適當時間間 隔,對η個測定點Q測定間隙量的情況進行說明,但是亦 '可使用施行連續式測定的距離感測器,利用經輸入測定值 -的控制部7在適當時間間隔取樣間隙量。 【圖式簡單說明】 圖1為本發明基板之塗饰裝置較佳一實施形態的立體 示意圖。 圖2為圖1所示塗佈裝置中所設置塗佈噴嘴的腳部及縱 壁部周邊之示意俯視圖。 圖3為圖1所示基板之塗佈裝置的侧視圖。 圖4為圖3中的A方向箭視圖。 圖5為圖3中的B方向箭視圖。 圖6為表示圖1基板之塗佈裝置中所設置塗佈喷嘴,停 籲止於待機位置狀態下,依圖3中的C方向箭視圖。 圖7為表示圖1基板之塗饰裝置中,第1與第2喷嘴位 置調整手段的調整狀態圖。 圖8為說明實施圖7所示調整時的調整方法之說明圖。 圖9為§尤明圖1所示基板之塗佈襄置,在喷出口高度位 置調整狀態下的說明圖。 圖10為表示圖1基板之塗佈裝置的塗佈狀態側視圖。 圖11為說明本發明基板之塗佈裝置的變化例說明圖。 【主要元件符號說明】 312XP/發明說明書(補件)/97_〇2/96142791 22 1327489 1 2 3 4 5a 〜5e 6a 〜6e 9 10 11 12 13 14 15 17 18 19 G1-G5 GS J K L M Q XI > X2 平台 基板 塗佈喷嘴 喷出口 第1〜第5喷嘴位置調整手段 第1 ~第5距離感測器 控制部 腳部 縱壁部 斥力框架 喷嘴本體 線性馬達 伺服馬達 套管 桿 高度感測器 彈簧 接觸器 平均間隙量 設定間隙量 待機位置 返折位置 塗佈液 設定值 測定點 假設間隙尺寸 312XP/發明說明書(補件)/97-02/96142791 23

Claims (1)

  1. ^27489 十、申請專利範圍: 1. 一種基板之塗佈裝置,係在設置於平台的基板上方, 具有沿橫向形成長條且在基板縱向#動而對該基板塗佈 之塗佈喷嘴的基板之塗佈裝置;其特徵在於,其具備有: ^嘴位置調整手段,在上述塗佈喷嘴沿其橫向長度隔適 虽間隔設置複數個,並調整形成於該塗佈噴嘴的噴古 度位置; ' 同 距離感測H ’在上料佈噴嘴,與上述各㈣位置調整 手段構成一組,並以與該等喷嘴位置調整手段的各設置一 致之方式設置複數個,為了棋盤格狀測定上述基板的表面 起伙,而依該塗佈喷嘴之移動,就基板縱 測量該等塗佈噴嘴與基板之間隙量而輸出;⑽ 旦控制部,從上述各距離感測器所分別輸人的複數間隙 :’、依每個距離感測器計算沿基板縱向的複數平均間隙 =並依各平均間隙量對上述各喷嘴位置調整手段進行控 2·如中請專利範圍第丨項之基板之塗佈裝置,其中 3控制部係不㈣使上述喷嘴位置調整手段與上述距離 感測器的設置位置一致之方4, 4c ^ ^ z 式而改為备不同時’從沿基 測定點的間隙量,計算出該喷嘴位置調整 置的_尺寸,並依該 置調整手段進行㈣。 了㈣贺臂位 3.如申請專利範圍第,項之基板之塗 測上述塗料料於上料^高度並㈣㈣值的= (S ) 312XP/#HgigHg^(^^y97.〇2/9614279j 以 1^2/489 ΐί:二:沿該塗佈喷嘴長度方向相隔適當間隔設置, 調整^平部料了將對上述平台將上述㈣噴嘴姿勢 喷嘴=::=高度感測器的檢測值,對上述 測4上Γ4 V二之基板之塗佈裝置,,檢 咸制哭.、士上述平〇之尚度並輸出檢測值的高度 二二系沿該塗佈喷嘴長度方向隔適當間隔設置,上述 二,而了對上述平台將上述塗佈噴嘴姿勢調整為水 置調整手段進行控^ 的檢測值’對上述喷嘴位 5.:申請專利範圍第…項中任一項之基板之塗佈裝 使用二=!不使用上述平均間隙量,而改為 ,gll ΒΒ π"间丨糸里之各增減量,並就各 =由各間隙量’依2個測定點間的各增減 >各喷嘴位置調整手段進行控制。 这 範方法,其特徵在於:其使用申請專利 含佑— 項之基板之塗佈裝置,首先使上述 测反!向上前進移動,並利用上述距離感測器 ί 人’在使上述塗佈喷嘴停止的狀態下,利 :上述控制部對上料嘴位置調整手段進行 =述塗佈噴嘴在基板縱向後退移動,而對上述基板^ 申請專利 7· —種基板之塗佈方法,其特徵在於··其使用 3i2XP/發明說明書(補件)/97-02/96142791 25 ( S 1327489 範圍第5項之基板之塗佈裝置,首先,使上述塗佈喷嘴在 基板縱向前進移動,並利用上述距離感測器測量間隙量, 然後,一邊利用上述控制部對上述喷嘴位置調整手段進行 控制,一邊使上述塗佈喷嘴在基板縱向後退移動,而對上 述基板施行塗佈。
    312XP/發明說明書(補件)/97-02/96142791 26
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