TWI316420B - Apparatus with improved safety features for high temperature industrial processes - Google Patents

Description

1316420 六、發明說明： 【發明所屬之技術領域】 本發明一般關於高溫工業製程，更特別地關於一反應 器裝置及其相關製程之使用。 【先前技術】 用於反應器之諸如氰化氫及硝酸之化學物生產，已被 知曉一段時間。譬如，取自氨氣以及熱量在白金觸媒之前 藉由同時與空氣之反應而在其中供應之碳氫氣體之單程合 成’由Andrussow氏發表於美國第1934,838號專利。與 此製程有關之無數修改及改良，已在其他專利中說明。 為了增進效率’絕緣裝置經常被添加至反應器内部以 預防熱量流失。可是’内含反應器之材料，限制反應器可 在其中安全操作之溫度。有時，水套被置入反應器以防止 反應器過熱以及潛在之容器故障。萬一阻礙水套之作用， 溫度在外部絕緣之反應器内可能升高至造成反應器或凸緣 連接件或是其他容器元件故障之程度，使得有害化學物釋 入大氣層。外部絕緣裝置雖可增加效率，但亦可增加反應 器失效之可能性。曾經企圖在内部將反應器與耐火材料絕 緣’但是基本上耐火材料在遭受熱及機械衝擊時極易破 裂’使得難以或是不可能在不損壞耐火物質下，起動及停 止製程、或是為了維護而拆下反應器頭件。由於耐火物質 具有較低之抗拉強度，因此亦極難以保持耐火物質於懸垂 狀態’諸如置於圓頂形或錐形反應器頭件之内側表面上。 此外’諸如第1圖所示系統之傳統式反應器設計，展 4 92927LD01

I 1316420 現其特徵為流動分離之不良流動分佈。如第l圖所示’進 入配置耐火物質4之反應器2之不良流動分佈，可能造成 在反應器2左侧上之上方流動，造成在壁面8上之分解及 t 煤煙堆積6。如第1圖所示之優流喷射效果，將亦因流動 僅使用有限部分之觸媒9而造成較短之觸媒壽命。此外， 在内含高火焰供應混合物之製程中，諸如多氧HCN(氰化 氫）或多氧氨氧化反應物，第1圖中所示之流動分佈，將產 生嚴重潛在之回閃及爆震。 _ 此外，反應器頭件基本上包含一大面積之焊頸或搭接 凸緣’用以連接一圓桶、交換器或是其他可支撐反應器頭 件之裝置。大面積焊頸或搭接凸緣在設計及生產上極為昂 貴，同時密封表面必須仔細保持以確保反應器與諸如圓桶 間之適當密封。當反應器在操作中且内含諸如在 Andrussow氏製程中在之hcn之潛在有害高溫化學物時， 連接表面之維持極為重要。當必須因雉護或其他理由而移 •動反應器頭件時，操作者必須極端小心以保護凸緣免遭損 壞，使得反應器可快速置回供用。通常操作者將簡易地設 置反應於一塊木塊、一片襯墊或某些其他材料上以保護 凸緣，同時雖然一塊木塊或其他襯墊有時當適當置放時足 以保護凸緣免遭損壞，但如果操作者無法封住凸緣且將反 應器頭件直接設置於制式礙房格拇上時，在凸緣表面上之 反應器重量，將極可能使其無法使用（如果凸緣表面被刮傷 或翹曲時，其將無法適當密封）。 最後’反應ϋ頭件停置其上之制式關之實際高度， 5 92927LD01 1316420 將造成難以插入及拆去諸如觸媒、分配器、支架或是任何 其他意欲置於圓桶内部之總成件之物件。通常圓桶壁面為 4呎或更高，需要操作者爬上一平台、爬越壁面且親身進 入圓桶安裝或更換觸媒。其不僅需要時間爬入及爬出圓 桶’同時圓桶被分類為限制地區’而進入限制地區需要求 允許、呼吸空氣之供應、另一工作者之有空氣及注意以做 為一管口探視者、以及有時其他昂貴且耗時之安全預防措 施。因此，認知需要一種可消除這些預防措施需要且易於 安置觸媒之設計。 本發明用以克服、或是至少減少一項或多項上面提及 問題之影響。 【發明内容】 在一實施例中，一種用於高溫工業製程之裝置，包含 至少一凸緣式連接，其發表該至少一凸緣式連接之至少一 凸緣，其藉由至少一連接至少一凸緣之支撐突耳而免遭機 械式損壞。此裝置可另外包含一連附無至少一凸緣之冷卻 護套，冷卻護套由1/2吋管件製作。 在另一實施例中，說明一用於高溫工業製程之内含至 少一凸緣式連接之裝置，其中凸緣被一連附之1/2吋冷卻 護套冷卻。 在某些實例中，一種用於高溫工業製程之裝置，包含 一具有第一剖面尺寸之入口配管部位、一具有第二剖面尺 寸之下游製程部位、以及一連接入口配管部位與下游製程 部位之入口缓衝部位，此缓衝部位包含由耐火陶瓷纖維製 6# 92927LD01 1316420 作之内部絕緣。第二剖面尺寸可能大於第一剖面尺寸，而 内部絕緣可成形為一錐形内表面。此外，入口緩衝部位可 成形為圓頂外形。緩衝部位可為一反應器頭件，其包含― 與下游製程部位之凸緣式連接。 在某些實施例中，包含一個或多個目視玻璃管口。薄 層式速度分佈（laminar velocity profile)亦可藉由採用至少 下列方式之一者而在下游製程部位中達成：足夠長度之包 含入口配管部位之直管，用以在入口緩衝部位之上游端提 ►供層流；至少一配列於入口配管部位之CRV品牌旋轉葉 片’·一置於入口緩衝部位上游端之LAD(大角度擴散器）； 以及一置於入口缓衝部位上游端之EHD(橢圓形頭擴散 器）。 、、 另一用於高溫工業製程之實施例，包含一具有第一剖 面尺寸之製程部位、具有較第一剖面尺寸為小之第二剖面 尺寸之出口配管、以及一連接出口配管部位以及製程部位 >之出口緩衝部位，其配置一錐形出口緩衝部位之内表面。 用於高溫工業製程之另一實施例，包含一具有底部凸 緣之反應器頭件、以及一配具頂部凸緣之下游製程部位， 其中下游製程部位頂部凸緣之工作高度，介於大約2.〇及 3 · 5吸之間。 本發明另一實施例，包含一入口配管部位、一入口緩 衡部位、一製程部位、一出口緩衝部位、以及一出口配管 F件’其中内部絕緣包含於一個或多個裝置部位内’而其 中之絕緣包含耐火陶瓷纖維。在此實施例中，入口緩衝部 92927LD01 7 1316420 位另外包令—錐形内表面，而出口緩衝部位另外包含一錐 形内表面。裝置可另外包含一凸緣式連接，其具有介於入 口緩衝部位與製程部位間之第一及第二凸緣，而至少第一 及第二凸緣之一包含一連附其上之冷卻護套。 同樣地，說明一種生產氰化氳之製程，其包含如下步 驟：提供至少一碳氳化合物、至少一内含氮氣之氣體、以 及至少一内含氧氣之氣體，在一裝置中反應至少一碳氩化 合物、至少一内含氮氣之氣體、以及至少一内含氧氣之氣 體以形成氰化氫，以及藉由與至少一在裝置内之内含氧氣 氣體之同時燃燒反應而供應熱量；其中裝置包含：至少一 凸緣式連接，其中至少一凸緣式連接之至少一凸緣，藉由 至少一支撐突耳之連附至少一凸緣而免遭機械式損壞。 發表一種生產氰化氫之製程，包含：提供至少一$炭化 氫、至少一内含氮氣之氣體、以及至少一内含氧氣之氣體， 在一裝置中反應至少一碳氳化合物、至少一内含氮氣之氣 體、以及至少一内含氧氣之氣體以形成氰化氳，以及藉由 與至少一在裝置内之内含氧氣氣體之同時燃燒反應而供應 熱量。在此製程中，裝置可包含一具有第一剖面尺寸之入 口配管部位、一具有第二剖面尺寸之下游製程部位、以及 一連接入口配管部位及下游製程部位之入口缓衝部位，其 中缓衝部位包含内含耐火陶瓷纖維之内部絕緣。 在一實施例中，發表一内包一反應器頭件及内部絕緣 之裝置，其中絕緣物包含一耐火陶瓷纖維。反應器頭件適 可與一流體流動連接而便於化學製程。在此一實施例中， 8 92927LD01 1316420 25度。絕緣件壁面與—垂直線間之角度，小於大約 絕緣物而 °、9由至少將一套管同時伸越錐形反應器及 頭體入口 *夂於定位，而絕緣物可藉由一軸襯伸越反應器 此带署而進步支撐。反應器頭件可為錐形或圓頂形。 "可用以生產氰化氫或其他產品。 之罐只知例中’裝置另外包含—圍繞反應器頭件配列 开^^套。冷卻護套由一連附錐形反應器外表面之半邊 •葦吕牛構成。期盼裳置可包含反應器頭件上游之流動拉直 系乃之使用。 在實施例中，發表一反應器頭件、至少一具有一 二二，凸緣、以及一連結表面，此連結表面適可在-' 中’連結—配接凸緣，至少—支撐突耳連附· 〆一凸緣，㈣可以支撐反應ϋ頭件，其中至少一支樓: 邊及連絲㈣出，使得錢絲面與支禮突耳丨 一間隙。期望本實例可為-個或更多連附至少-凸$ 之額外級突耳，同時可以支撐反應器頭件。至少兩個，: 撐突耳-般可為U形，同時圍繞—安裝於至少一凸緣上· 冷卻護套伸出。此至少兩個支携突耳亦可為穿越其間之才 略圓孔，俾便於冷卻至少兩個支撐突耳。 在^一實施例中，發表一/5旛菜、从 反應益頭件、〜承置觸媒之ϋ 桶，其適可與反應㈣件連結，其中觸媒承置圓桶展現-介於大約2.0及大約3.5吸間之工作垂直高度，適可當角 媒承置Μ未與反應US!件連料，便一位或; 位站於Μ直徑外狀操作者提供之觸媒W他裝置。^ 92927LD01 9 1316420 * 某些應用中，操作著<能使用一吊車或其他工具協助觸媒 或其他裝置之安裝，俱操作者本身仍可留於圓桶外側。 在一實施例中發表一裝置1其包含一反應器頭件、一 觸媒支撐圓桶，適可速結反應器頭件，以及至少一熱電偶 管口’其具有一内部通道，適可置放一熱電偶或其他儀器， 此一管口以一非垂直角度安裝於觸媒承置圓桶側邊，使得 在觸媒高度與内通道間，沒有直接之瞄準線。 亦發表一種生產氣化氣之製程’其包含提供至少一碳 氫化合物、至少一内含氮氣之氣體、以及至少一内含氧氣 之氣體，在一裝置中反應至少一碳氫化合物、至少一内含 氮氣之氣體、以及至少一内含氧氣之氣體以形成氰化氫， 以及藉由與至少一在反應器内之内含氧氣氣體之同時燃燒 反應而供應熱量。在此一製程中’期盼反應器包含—反應 器頭件、一内含觸媒之圓桶構件、以及可插入反應器頭件 内之絕緣物，而此絕緣物包含耐火陶瓷纖維。 【實施方式】 雖然本發明容許各種修改及變通型式，但其特定實施 例已在圖式中藉由範例顯示，同時在此詳細說明。可是， 宜了解此時特定實施例之說明，並未期欲限制本發明為發 表之特定型式，本發明相反地涵蓋所有包含於本發明如隨 附申請專利範圍所定義之精神及範疇内之修改、同等件及 變通件。 下面說明本發明之概示實施例。為了清晰之故，本規 格中未說明實際用具之所有特性。當然宜認知在任一此種 92927LD01 10 1316420 實際實施例之發展中，必須執行無數之特定實用決定以達 成發展者之特定目標，諸如符合與系統有關及商業有關之 限制，其將隨一種應用至另一應用而變。此外，宜認知此 一發展努力可能複雜且耗時，但無論如何對熟諳本技藝者 而言，其為了本發表件之利多而為一例行任務。 現在回到圖式，尤其關於第2圖，其發表一根據本發 明一實施例之錐形反應器頭件10。錐形反應器頭件10包 含一頂部凸緣12,其在化學製程中適可連接一配接凸緣 • 13(顯示於第16圖）。頂部凸緣12鄰靠一反應器入口 14， 其視情況具有一在其内同心置放之硬質軸環16。軸環16 在第4圖及4a中更清楚地顯示，其基本上包含不錄鋼。軸 環16概略為圓筒形，其展現一外唇15而可防止軸環掉入 反應器頭件10内，同時其可密封於頂部凸緣12及配接凸 緣13之間。轴環16協助固定絕緣件40(稍後在本規格中 更詳細討論)於定位。 φ 入口 14鄰靠一錐形側壁構件18。侧壁構件18構成一 漸大區域，同時便於保持來自入口之層流流動。如果入口 處之流動為薄層時，則當側壁構件18與一垂直線20間之 角度22小於大約25度時，流動將傾向仍保持附著。在第 2圖所示實施例中，角度20大約為21度。應了解角度22 之某些改變涵蓋於本發明範疇内，亦即角度可為任何小於 大約25度者，或是任何其他可增進附著薄層流動之角度。 角度22亦可藉由改變絕緣件40自頭到腳之厚度而有效地 修改。亦應了解反應器頭件10終究可不必為錐形，其可為 11 92927LD01 1316420 任何與一大角度擴散器（LAD)或一橢圓形頭件擴散器 (EHD)之方便形狀，俾生成一類似錐形形狀之薄層流動分 佈（諸如如第20圖所示 大角度擴散器及EHD's可取自Koch-Glitscli公司。層 流提供阻止回閃之優點，而回閃可另外導致擾流/流動分 離。再次參考第1圖，當生成回閃時，將有增多回閃及在 第16圖中所示之層流範圍中不存在之爆震之危險。 多數個舉升用突耳24安裝於侧壁構件18上。最好如 第3圖所示’三個舉升用突耳24圍繞侧壁構件18之外表 面44等距隔開。舉升用突耳24展現一眼孔26，適可承接 一掛鈎、纜繩或其他舉升系統附加物（未圖式）。舉升用突 耳24經設計以支撐反應器頭件1〇之整個重量而便於其運 輸。 側壁構件18在連接頂部凸緣12之對立端接觸一底部 凸緣28。頂及底部凸緣12及28最好為焊頸式凸緣，但亦 可使用諸如搭接式凸緣之其他凸緣。熟諳本發表件效益者 將認知烊頸式凸緣特別適用於螺旋纏繞式襯墊（未圖式）， 其需要極高之定置壓力m繞式襯墊最好用於諸如鼠 化虱HCN生產之關鑑應用中。應了解被用以辨識頂部凸 緣12及底部凸緣28之”頂部”及"底部”，僅涉及反應器頭 件1〇在圖式中出現之方位。反應_件1G之方位，可修 改至任何適當位置。在第2_示之實施财，凸緣冷卻 護套30係連接至底部凸緣28，凸緣冷卻護$ %可如第2 圖及6所示，包含—直接焊合至底部凸緣28之半圓形管 92927LD01 12 1316420 件。冷卻護套30包含一入口 32以及一出口 34。出口 34 顯示於第3圖。侧壁構件18亦可包含一冷卻護套92。冷 卻護套92未顯示於第2圖中，但可自第2a圖中見到。冷 卻護套92包含一入口（未圖示）以及一出口 94。冷卻護套 92亦可在第2a圖所示形態中，包含一直接焊合至側壁構 件18上之半圓形管件。這些冷卻護套入口/出口，包含藉 由一不銹鋼編結之皮管91將其相關冷卻護套與冷卻介質 源頭連接之凸緣。在一較佳實施例中，某些護套可串聯連 # 接，亦即一護套之出口凸緣，可連接另一護套之入口凸緣。 在某些實施例中，入口/出口凸緣可被同時取消而代之以連 續配管連接冷卻介質源頭（未圖示，其可為諸如一供水 頭）。在某些實施例中，全然沒有與反應器頭件10相關連 之冷卻護套。 鄰靠底部凸緣28處有多數個目視玻璃管口 36及38。 第2圖中顯示目視玻璃管口 36之剖視圖。第3圖以上視圖 φ 發表同時具有目視玻璃管口 36及目視玻璃管口 38之較佳 實施例。在變通例中，僅有目視玻璃管口 36包含於反應器 内。在某些實施例中完全省略目視玻璃。目視玻璃管口 36 及38伸越側壁構件18而進入反應器頭件10内部。目視玻 璃36及38可讓操作者觀看内部反應。目視玻璃管口 36 及38可變通地用做為供其他儀器使用之抽樣連接件或導 管，其包含但不限定為熱電偶、壓力指示器、以及點火器。 反應器頭件10包含一鄰靠反應器内壁42之内部絕緣 體40。絕緣體40最好用鋁及/或矽陶瓷纖維製作，同時亦 13 92927LD01 1316420 可包含膠合劑。譬如，絕緣體40可包含取自Rex Roto公 司之Pyrolite商品® (包含膠合劑）、或是取自Rath

Performance Fibers 公司之陶瓷纖維組件（ceramic fiber modules)(不含膠合劑）。將絕緣體40置於反應器頭件1〇 内部，可藉由減少熱量流失而提供增多效率之優點，其無 過熱及與外絕緣體相關之反應器頭件故障之危險。雖然反 應器頭件10及其他傳統反應器可具有冷卻系統，但是一旦 冷卻系統故障時，在内部反應器1〇產生之熱量，可造成金 屬反應器之溫度增加。温度可能持續升高，直至凸緣或反 應器本身因溫度到達金屬降伏點時故障方止。當由於過熱 溫度造成反應器故障或凸緣翹曲時，含於其内之潛在危害 性化學物可能釋出。可是，藉由在反應器頭件10内侧僅採 用内部絕緣體40,反應器頭件1〇可作用為一自動散熱器， 亦即外表面44可自動散熱至大氣層。此讓反應器頭件1〇 具有自動限制其自身溫度之優點。雖然反應器頭件1〇溫度 將一旦因冷卻系統故障而起出正常操作溫度之外，但自動 散熱能力可提供次級冷卻機構；最終時，來自反應器1〇 外表面44之熱輻射，將相同於反應器内部產生之熱量，因 而達到穩定狀態。譬如’在一於反應器頭件1〇内侧採用絕 緣體40之氰化氫HCN製程中’反應器頭件10自動限制 於低於金屬降伏點之數百度華氏温度。因此，絕緣體4〇 之使用’可當一旦冷卻失效時’減少熱量流失卻不影響安 全性。實際上，在某些實施例中，可期望消除整個冷卻系 統之使用。以往反應器已在反應器壁面内部包含耐火材料 14 92927LD01 1316420 以減少能量流失至外衷 ^ θ , ’但是如同背景資料中所述，耐火 物笨重、易碎、難以給姓 维持、同％•因機械及熱衝擊而易於破 裂。内含耐火物之錐形頭件極難製作，而耐火物支撐頭件 無法為了保養或其他理由而可方便地移轉卻無弄破耐火物 之嚴重可月bf生具優點地，本發明企望採用^祕化@或 K modTM商印用於絕緣體4〇，其質輕、抗熱及抗機械衝 擊，同日7易於安裝及保持於一錐形反應器内。絕緣體 可方便地製作成-錐形以配接反應器頭件1〇，同時消入及 消出反應器部無弄破風險。Pyr〇lite @及K_M〇dTM商品耐 用而足以讓反應轉升及輸送卻無通常被-内部耐火系統 所而要之重要額外謹慎。在第2圖所示實施例中，絕緣體 4〇大體上鄰罪反應器頭件1〇内壁Μ，但是在某些實施例 中’絕緣體40經配置而讓-毛毯(未圖示)或-氣熱(未圖 示）存在於絕緣體及内壁42之間。 絕緣體40可藉由軸環16緊固於反應器1〇内。軸環 16伸入反應器頭件内，而外軸環表面17提供一硬體邊 界貼向絕緣體40上端41之停置處。轴環16亦確保導入且 含於反應器頭件1Q内之氣體，不會轉移至絕緣體40後面。 除了或變通地使用轴環16之外，在每__目視玻璃管口％ 及38之目視破璃套管48，可以伸入絕緣體4〇而固定絕緣 體於定位。可是如帛16圖所#，當反應！ 1〇被完全安裝 時’絕緣體40 +需懸置，取而代之地，其可停置於一倒入 圓桶52内側之可燒鑄耐火物5〇中。耐火物5〇可變通地包 含Pyrolite⑱商品、K_m〇dTM商品、甚或耐火磚製品。 92927LD01 15 1316420 由於在高溫及高屋下相關化學化反應之危險性， 凸緣28必彡頁小心生產及保養’使得配接表面54處於適I 密封反應器頭件H)與諸如_ 52連接之條件下。反^ 頭件！〇未受祕配合M52制，但可㈣代之直= 結内含整組式圓桶(未圖示)或其他非圓桶裝置之 器^^合反應器頭件H)使用之數種熱反應例，說明 於美國第6G⑽，769號待審暫時性專利 ，明 被併入本文參考。由於反應器碩件l〇 1 明案 量，因此如果反應器重量被配接 ：：2，:〇磅重 28可能易於損傷或催毁。至少針對二= ϋ形托架56、58及60之支撐今耳 夕數個諸如 底部凸緣職置π形托架等距圍繞 圖，而所有三個支撐突耳可見 示於第5 利多者將了解在圖式中實體化為_=熟諳本發明表件 量、間隔以及細節，均可加以改變:木之支撐突耳之數 部凸緣28之概略u形托架56。·^形托加5圖發表一連附底 28與凸緣冷卻護套30之圓周之外/采56伸越底部凸緣 參考第6圖，顯示-連附底部凸緣 之側視圖。在圖式中，底部&绝λ S之打形托架56 - | w深28鄰贵一 82。U形托架56展現一支腳64，复荞一配接圓桶凸緣 而在托架底部與配接表面之間态越配接表面54之外 於1/2吋及3吋之間，最好大約為！ 降66。間隙66介 成任何其他間隙。熟諳本發表件利夕4吋，但可視需要生 任何尺寸，只要其可保護配接夺夕將了解間隙66可為 、面54免於干擾圓桶52上 92927LD01 1316420 =二复配接裝置上反應器頭件1G之設定。當反應器ι〇被 配接:他非圓桶52件上時，間隙66可具優點地提供對 ^ 面54之保護。譬如當反應器10被置於地面時，不 可At 卩凸緣28下設定任何東西以保護配接表面54免遭 可能因配接表面與地面間之直接接觸造成之刮傷及/或其 他損壞。Π 4·, 形托罙56、58及60可支撐反應器頭件10之全 部重量，立Τ' ”不需配接表面54與地面或其他支撐表面之接 觸。熟請本發表件利多者將了解在某些多元件實施例中， 諸如併入本文參考之第ΕΡ847372(Α1)號歐洲專利中發表 之反應器，多數個支撐突耳可具效益地用以保護複式凸 緣。參考第7圖，υ形托架％、58及6〇可展現一圓孔， 用以減少每一托架質量及增進每一托架冷卻。 接著參考第9圖及10，稍詳細地顯示圓桶52。圓桶 _大體呈圓筒形，其内含觸媒68。圓桶52適可連接反應 盗頌件10 °然而’第9圖及10僅顯示圓桶部位。圓桶52 包含—頂部圓桶凸緣82以及一底部圓桶凸緣84。在某些 ^ 例中’凸緣84可藉由下方壁面100與熱交換器（未圖 不）間之連續連接而省略。圓桶52亦包含三個冷卻護套 〇、76及86)。圓桶冷卻護套70包含入口 72及出口 74。 頂°卩圓桶凸緣冷卻護套86内置其相關之入口 88及出口 9〇 〇 . 。底部圓桶凸緣冷卻護套76内置其相關之入口 78及出 母一冷卻護套70、76及86可如第1〇圖所示包含 焊合至圓桶上之半圓形管件。每一出入口 72、74、78、 8 0 、88及90包含凸緣，其以不銹鋼編結之皮管91將其相 17 9292HD01 1316420 關冷卻護套與冷卻介f源頭連接（或是串聯連接至一源 碩）。然而在某些實例中’入口/出口凸緣可同時消失而代 之以持續配管至―冷卻介質源頭(未圖示），而在其他實施 例中，可能全然沒有冷卻護套。 、 圓桶52高度具優點地經設計而便於簡易安裝及拆下 包含但不限定為期望插入圓桶内之觸媒68、分配器、支架 2其他總成之物件。如同背景部位所述，以傳統二甬安； 觸媒或其他物件將極為困難且耗時。發表於第9圖及ι〇 =圓捅52，&含—較短尺寸m，其自頂部圓桶凸緣u 至底部圓緣84大約為h5至25叹，最好為π吸。^ =如一交換器(未圖示)時，此-距離造成自地板(未圖V) ，自平台至頂部圓桶凸緣82之工作高度為2.〇至3·5呎， =子為3.0 K在2.0至3.5吸高度時，頂部圓桶凸緣可及 一 ^人體之腰部高度，同時具優點地讓—般人可觸及圓補 52内而自圓桶外側安裝或拆下諸如觸媒。帛19圖展現一 緊靠操作者之本發明實施例。如圖所見，操作者可方便地 =及：内而不必攸入桶内。結果，不再需要進入限制區 對相關允許及謹慎之需要。另外亦不需使轉子 =任他裝置讓操作者觸及且更換觸媒或其他内部物 緣82=大约關卢觸媒:其可置於圓桶内側距離頂部圓桶凸 者到逵之減但圓桶可經配置而適可在任何便於操作 距離範圍，考量自二=自™ 圓桶52村展現多數㈣奸π96&9δ，俾便於監 92927LD01 18 1316420 看反應器内諸如溫度之條^, 入一反應n，其對-諸如祕自上方旋 言可能較為困難。藉由具:由、牛10之大型體積而 熱電偶（未圖示），其安f大=；；由_ 52壁面100供應 接近。儀器管口 96及卯南 同時熱電偶可隨時被 冷卻護㈣而容同時伸越圓桶 -：直=同_之高度。然 .視線通至觸媒輕土面1〇0之角度配置’俾確保沒有直接之 於90度之角非垂直意謂儀器管口 96及98以不同 面高度。此H觸1壁1〇〇,或是管口相對觸媒非在一平 用以進-步保^口雷6及98可能具有插入其内之絕緣體， 面·] ί偶。在發表之實施例中，f σ 96與壁 卻9。度之二採用。度及度間省 送，同時如果儀;^ 應中大多數能量被輕射傳 _口儀口 ％及98垂直圓桶52而以直接視線 1 口内之i應時，熱能可能直接進人管°而融化配列於管 地靠近觸媒：i)。因此，儀器管口 96及98具優點 偶壽命。、〜置放，但未直接對準反應作用以增長熱電

儀器管· Q 但不限定' Φ 6及98可變通地用於許多其他儀器，包含 為製程分析器抽樣連接件、壓力指示器以及點火 益。 接著泉者笛 流動準ΐ : 1圖-16，發表一用以配合反應器10之 ^系統。由於相關珍貴金屬及其他觸媒之極高費 19 92927LD01 1316420 用，因此期盼在觸媒之整個表面積上誘導流動以增長其使 用可'^。在一制式反應器系統中，吾人熟知之流體喷射效 應在當其通過一突然膨脹時，將造成大多數流體概略保有 如同入口管件之同一直徑。當流體到達觸媒時，基本上中 央區域接收80至90%之流動，但最靠近壁面之觸媒區域 則甚缺流動。此外’可能造成諸如第1圖中展現之上游圖 案’同時造成反應物分解於反應器壁面。如果層流可被誘 導於入口配管内且反應器展現漸開式膨脹時，則流動將仍 然附著反應器壁面，同時引導更均勻之流動分布至整個觸 媒表面。小於大約25度之膨脹角度，將可正常地保持附著 之層流。在某些狀況下，層流可藉由在緊靠入口上游提供 至少十根平直管徑而誘導至一反應器，但是基本上之空間 限制’將只能獲得少於必需十根上游管徑之肘形配管。在 這些制式之空間受限應用中，一種諸如旋轉葉片102之流 動準直器，成為誘導層流之必需件。旋轉葉片1〇2被熟知 為—CRV®旋轉葉片商品，其可獲自Cheng Fluid系統公 司、或是Koch- Glitsch公司。熟諳本發表件利多者將了解 其他流動準直系統亦可用以誘導層流。第η圖以上視圖顯 示可搭配反應器2使用之旋轉葉片102。第16圖發表旋轉 葉片102相關反應器1〇之制式位置。旋轉葉片1〇2可如第 16圖所示經設計以補償兩個彎肘件，或是第二旋轉葉片（未 圖示）可外加於旋轉葉片102使用。第12圖-15概示旋轉葉 片102在操作時之結果。如果沒有旋轉葉片1 〇2，則流體 在當其繞過彎財件104時之速度，變得不均勻，同時造成 92927LD01 20 1316420 η園邮圖所不之机動分散。實際流冑106被改變而類似第 不之取終剖面。第13圖中所示之非均勻流動，防 ια2=流動被均勻地分配至觸媒。另—方面，旋轉葉片 帛’提供第14圖中所示之通過彎肘件刚之流動 在通過旋轉葉片1Q2之後，最後流動速度呈均句且 :。第15圖以剖視第1G第7圖顯示均勻流動。當層 二V至錐形反應器頭件1G時，流動將傾向仍飾著反應 益碩件之壁面42 ’其條件為錐形角度Μ大約為Μ度或更 】、。在此文發权實施例巾，反㈣頭件1()之錐形角度 &大約為21度。旋轉葉片1〇2配合錐形反應器忉之使用， 可具優點地增加反應效率以及觸媒之使用壽命。 在某些實施例中，一種諸如第17圖所示反應器2〇2 之反應器，可以取代錐形反應器10。反應器2〇2可為一與 現有頭件208連接之分離圓桶（2〇4及2〇6)形態，但是上面 所述之相同冷卻系统、圓桶高度、熱電偶管口、旋轉葉片 •以及内部絕緣體，仍可配合反應器202使用。反應器202 可連結一 LAD或EHD，俾產生一類似在錐形反應器丨〇中 生成之流動之有效層流。 此外，第18圖根據本發明發表用於一反應器3〇2之 第三實施例。反應器302包含一連附至短圓桶306之長形 頭件304。如同反應器202般，反應器302可連附圓桶500, 其包含如上所述之相同冷卻系統、圓桶高度、熱電偶管口、 旋轉葉片以及内部絕緣體。反應器302亦可連結一 LAD 或EHD，俾產生一類似在錐形反應器1〇中生成之流動之 21 92927LD01 1316420 錐形層流。 裝置之變::—在_頭件撕中使用LAD或咖 使用。Cl:中顯示絕緣體4〇配合一錐形内表面A 用絕緣錐形出口45之使用(或更特別地，使 形“之=出口頭件中，提供一錐形内表面。錐 /非薄層1產1多為生成層流’使得壓力降減至最小(提動 多者將了，解_增加壓力降之渦流）。熟諸本發表件利 度或錐二不：D錐形43之角度極為重要，但是出口角 度之角声^4ί要’同時可祕何大於零度且小於90 其為選；性=地’雖然凸緣47顯示於第2〇圖中，然而 狀， 间時期望耐火陶瓷纖維絕緣體可製作呈片 易於安Μ無凸緣容器内，同時接 配以生成期望之錐形内表面。 ]裝 、期盼反應器1〇、2〇2及3〇2可最適用於生產氮化氯。 用備氰化氫之製程，包含供應反應劑至一反應器（諸如 反應器1〇_、202或302)内。反應劑包含至少一碳氫化合物、 至^含氮氣體、以及至少一含氧氣體。應了解含氧氣體 可相同於含氮氣體或碳氫化合物。 至少一碳氫化合物可為脂肪族或是替代脂肪族、環脂 肪族或是替代環脂肪族、或是芳香族或替代芳香族、或是 其混合體。適當範例包含但非限定為甲烧（Ch4)、乙烯 (C2H4)、乙烷（C2H6)、丙烯（C3H6)、丙烷（C3H8)、丁烷 (CUHh))、甲醇（CH3〇H)、甲苯、石腦油（naphtha)以及甲酸 甲酯（methyl formate)。在一較佳實施例中，至少一碳氫化 92927LD01 22 1316420 合物為甲烧、或是一個或多個内含甲烧之碳氮化合物。至 少一含氮氣體包含但未限定為氨氣、甲醯或是一氧化氮 (NO)。在一較佳實施例中，至少一含氮氣體為氨氣或是具 有一種或多種含氮氣體之氨混合物。至少一含氧氣體可為 任何其含氧量適可維持燃燒之物質，俾提供熱量供吸熱氰 化氫之成形。適當之範例包含但未限定為空氣、多氧空氣、 純氧、一氧化碳(CO)、二氧化碳(co2)、或是其混合物或一 旦分解將提供氧氣之含氧化合物。適當範例包含過氧化 _ 物、酮類、醚類以及類似品。 亦期盼使用用於其他以往技藝之非Andrussow型氰化 氫HCN製備方法之已發表之反應器，其中用於氰化氫HCN 形成反應之能量，自一不同於在原位燃燒之源頭供應。此 種製程範例包含Degussa B-M-A製程、Fluohmic製程以及 微波加熱、以及誘導加熱製程。 發表之裝置亦可用於其他工業製程，包含但未限定於 φ 硝酸製造（包含藉由氨氧化製程或多氧製程之製造）、合成 氣體製造、氧化氮缓和單元、或任何其他配具吸收劑、觸 媒或熱交換器之需要高溫及高壓之製程。高壓包含任何大 於大氣壓力者，而高溫包含任何大於60°C之溫度。此外， 使用之觸媒可包含但未限定為一篩網、一支撐用觸媒、一 流體床、或是離子交換樹脂。 最後，雖然本發明已應用至氣體製程，但熟諳本發表 件利多者將了解本發明未限定於氣體製程。亦期望本發明 為工業製程，其包含在高溫及/或高壓下使用液體。 23 92927LD01 1316420 雖然本發明已參考其概示實施例而特別顯示 者將了解在不偏離本發明之精神及範嘴 為概示用，：不之改變。上述實施例僅期欲 八个且考里為本發明範疇之限制。 【圖式簡單說明】 說二 =—:=，下_ 第1圖為以往技藝反應器系統之圖式。 部分根據本發明—錐形反應闕件實施例之顯示 |刀口丨J面之前視圖。 第2a圖為第2圖中所示實施例之透視圖。 第3圖為根據第2圖設計之上視圖。 第4圖為根據本發明之一軸環之上視圖。 第4a圖為第4 ®巾所示贿之前視圖。 體凸發明—實施例之連附至錐形反應器頭 支撐犬耳之上視圖。 ® 0 4第5圖所不支樓突耳沿Α·Α連線所取之侧視 Θ為第5圖所示設計沿Β·Β連線所取之前視圖。 第9圖為置人第.5圖中所示設計之反應器之上視圖。 圖為根據本發明一實施例之圓桶部位之上視圖。 10圖為根據第9圖設計沿c_c連線所取之剖視圖。 11圖為配合第2圖錐形反應器使用之旋轉葉片之 92927LD01 24 1316420 第12圖為在一管線中未設旋轉葉片時流體流動之圖 式。 •第13圖為根據第12圖之實際流體流動之剖視圖。 第14圖為在一管線中設置旋轉葉片時流體流動之圖 式。 第15圖為根據第14圖之實際流體流動之剖視圖。 第16圖為根據本發明内置一錐形反應器頭件以及旋 轉葉片之一系統之透視圖。 ►第17圖為根據本發明一反應器變通實施例之前視圖。 第18圖為根據本發明一反應器另一變通實施例之前 視圖。 第19圖為根據第2圖之錐形反應器之圖式，其顯示 在一操作者附近。 第20圖為根據本發明成形之非選擇性觸媒還原 (NSCR)之NOx(氧化氮）減少單元之圖式。 【主要元件符號說明】 2 反應器 4 配置财火物質 6 煤煙堆積 8 壁面 9 觸媒 10 錐形反應器頭件 12 頂部凸緣 13 配接凸緣 14 反應器入口 15 外唇 16 硬質轴環 17 外軸環表面 18 錐形側壁構件 20 垂直線 22 錐形角度 24 舉升用突耳 25 92927LD01 1316420 26 眼孑L 28 底部凸緣 30 凸緣冷卻護套 32 入口 34 出口 36 玻璃管口 38 玻璃管口 40 絕緣體 41 上端 42 内壁 43 入口錐形 44 外表面 45 出口角度或錐形 47 凸緣 48 玻璃套管 50 耐火物 52 圓桶 54 配接表面 56 U形托架 58 U形托架 60 U形托架 64 支腳 66 間隙 68 觸媒 70 冷卻護套 72 入π 74 出口 76 冷卻護套 78 入口 80 出曰 82 頂部圓桶凸緣 84 底部圓桶凸緣 86 冷卻護套 88 入π 90 出口 91 皮管 92 冷卻護套 94 出曰 96 儀器管口 98 儀器管口 100 下方壁面 102 旋轉葉片 104 彎肘件 106 流動 107 剖視圖 202 反應器 204 分離圓桶 206 分離圓桶 1316420 208 頭件 302 反應 器 304 長形頭件 306 短圓 桶 402 圓頂頭件 500 圓桶 27 92927LD01

Claims (1)

1. 申凊專利範圍： 種用於*溫工業製程之裝置，包含至少-凸緣式連 小一其中該至少一凸緣式連接之至少一凸緣係藉由至 二個連_至少―凸緣之支撐突耳保護*免遭機械 損壤。 2. 3. 如申請專利範圍第】 凸緣之冷卻護套。 如申請專利範圍第2 含1/2吋管件。 項之裝置，復包含連附該至少一 項之裝置’其中該冷卻護套尚包 4.

   種用於间，皿工業製程之裝置，包含至少-凸緣式連 接，、中該凸緣疋由連附之1/2时管件冷卻護套冷卻。 種用於咼溫工業製程之裝置，包含： a) 反應器頭件，具有底部凸緣； b) 下游製程部位，具有頂部凸緣； 其中該下游製程部位頂部凸緣之工作高度係介於 大約2·0及3.5吸之間。 :申請專利範圍第5項之裝置’其中該下游製程部位 復包含至少一熱電偶管口。 .如申請專利範圍第5項之裝置，其中該反應器頭件復 包含内含耐火陶瓷纖維之内部絕緣體。 如申《月專利範圍第7項之裝置，其中該内部絕緣體包 含錐形内表面。 —種生產氰化氫之製程，包含： a)提供至少一種碳氫化合物、至少一種含氮氣 92927LD01 28 1316420 體、以及至少一種含氧氣體； b) 在裝置内反應該至少一種礙氫化合物、至少一 種含氮氣體、以及至少一種含氧氣體，用以製成氰化 氫；以及 c) 在該裝置中藉由與該至少一種含氧氣體之同 時燃燒反應以供應熱量； 其中該裝置包含：至少一凸緣式連接，其中該至 少一凸緣式連接之至少一凸緣係藉由至少一個連附該 至少一凸緣之支撐突耳保護而免遭機械式損壞。 10. —種裝置，包含： a) 反應器頭件； b) 至少一凸緣，具有圓周表面以及連結表面，該 連結表面係設計成在化學製程單元内連結配接凸緣； c) 至少一支撐突耳，其連附至少一凸緣，並能夠 支撐該反應器頭件； 其中該至少一支撐突耳自該圓周及連結表面伸 出，使得在該連結表面與該支撐突耳之間形成間隙。 11. 如申請專利範圍第10項之裝置，復包含一個或多個額 外之支撐突耳，其連附該至少一凸緣，並能夠支撐該 反應器頭件。 12. 如申請專利範圍第11項之裝置，其中至少兩個支撐突 耳大致呈U形。 13. 如申請專利範圍第12項之裝置，其中該至少兩個支撐 突耳圍繞安裝於該至少一凸緣之冷卻護套而延伸。 29 92927LD01 1316420 14.如申請專利範圍第12項之裝置，其中該至少兩個支撐 突耳具有鑽穿其間之大致圓形孔，俾便於冷卻該至少 兩個支樓突耳。 15.如申請專利範圍第10項之裝置， 致呈錐形。 1其中該反應器頭件大 16.如申請專利範圍第15項之裝置，其中介於錐形反應器 頭件壁面與垂直線間之角度小於大約25度。 30 92927LD01