TWI312640B

TWI312640B -

Info

Publication number: TWI312640B
Application number: TW91121037A
Authority: TW
Inventors: Takashi Miyazawa
Original assignee: Seiko Epson Corporatio
Priority date: 2001-09-14
Filing date: 2002-09-13
Publication date: 2009-07-21
Also published as: KR100561019B1; JP2003187974A; KR20050118252A; JP4345278B2; US20030072890A1; TW200626001A; US20060141136A1; CN100424586C; KR20030023562A; CN1405630A; KR100548685B1

Description

1312640 A7 B7 五、發明説明（1 ) 【發明所屬之技術範圍】 (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 本發明係有關可適用於做爲顯示器、顯示光源等使用之光電裝置之製造方法的圖案化方法、膜形成方法、圖案化裝置、有機電激發光元件之製造、彩色濾色片之製造方法、光電裝置和該製造方法、電子裝置和該製造方法、及電子機器。近年以來，做爲替換爲液晶顯示器之自發光型顯示器 ’於發光層使用有機物之有機電激發光元件之開發正在加速之中。於如此之有機電激發光元件之製造中，將發光層形成材料等之機能性材料形成成爲所期望之圖案的圖案方法，乃其中之重要的技術之一。做爲有機電激發光元件之有機物所成發光層之形成步驟’主要有將低分子材料以蒸著法成膜之方法（例如，參照非專利文獻1 )，和塗佈高分子材料之方法（例如，參照非專利文獻2)。經濟部智慧財產局員工消費合作社印製做爲彩色化手段，則進行使用低分子系材料時，越過所定圖案之光罩，將不同之發光色之發光材料，蒸著於所期望之畫素對應部分加以形成之光罩蒸著法。另一方面，使用高分子系材料之時，由於可微細且容易進行圖案化之故，使用噴墨法而彩色化的情事倍受矚目，對於如此噴墨法所成有機電激發光元件之製作被加以揭示者，在於以往爲人所眾知（例如，參照專利文獻1〜專利文獻4) 又，有機電激發光元件中，爲提升發光效率、耐久性，有揭示將正孔植入層或正孔輸送層形成於陽極和發光層 4 - 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（210X297公釐） 1312640 經濟部智慧財產局消費合作杜印製 A7 五、發明説明（2 ) 間者（例如參照非專利文獻1) 【專利文獻1】日本特開平7-235278號公報【專利文獻2】日本特開平10-12377號公報【專利文獻3】日本特開平1 1 -403 58號公報【專利文獻4】日本特開平1 1 -54270號公報【非專利文獻1】

Appl.Phys.Lett.51(12)、21 Setember 1987、p.913 【非專利文獻2】

Appl .Phys. Lett · 7 1 ( 1 )、7 July 1997、p . 3 4 【爲解決發明之課題】然而，於如此有機電激發光元件等之製造中，由於對於各構成要表之材料的多樣化等等，以期望提供提高材料之選擇自由度的新圖案化方法。在此，本發明係提供提高材料之選擇自由度的新圖案化方法的同時，可提供膜形成方法、.使用前述圖案化方法之有機電激發光元件之製造方法和彩色濾色片之製造方法、更且光電裝置和該製造方法、電子機器。本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（210X297公釐） -5 f請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁}

1312640 A7 _B7 五、發明説明（3 ) 【爲解決課題之手段】 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 爲達成前述目的之本發明之圖案方法，其特徵係於第1 之基體之上方配置材料層，於該材料層經由照射光線，將該材料層之材料向第1之基體轉移，形成期望之圖案的材料部。根據此圖案方法時，以高能量照射光線時，經由照射之物質之一部分成爲分子狀飛散之原理，光線照射之材料層之材料，則轉移至第1之基體上。因此，將光線之照射對應於所期望圖案進行時，於第1之基體上，可容易且正確形成所期望圖案之材料部。又，對於材料層之材料，可不特別加以限定，可提高材料之選擇自由度。又，於前述圖案化方法中，將光線自前述第1之基體側透過該第I之基體，照射於前述材料層爲佳。根據此時，例如於成爲光線之照射面之材料層之表面側，經由位有第1之基體，飛散材料層之材料，則易於轉移至該第1之基體側，因此，於第1之基體上，可將材料部良好地加以圖案化。經濟部智慧財產局員工消費合作社印製又，於前述圖案化方法，其中，前述材料層配置於第2 之基體上爲佳。根據此時，僅需將具備材料層之第2之基體，重疊於第1之基體上，即可進行光線照射所成之圖案化處理，達處理之簡化。又，於前述圖案化方法中，前述材料層預先圖案化於前述第2之基體上加以形成，對應形成於前述第2之基體本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4规格（210X297公釐） _ 6 _ 1312640 A7 __B7 _ 五、發明説明（4 ) 上的圖案’於第1之基體上形成期望圖案之材料部爲佳。 (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 根據此時’例如將不同之材料做爲材料層，經由形成於第2之基體上，可以一個工程，圖案化複數材料，達圖案化工程之效率化。又’於前述圖案化方法，其中，使用對應於預先所期望之圖案所形成光照射用光罩’經由將光線之照射透過該光照射用光罩加以進行，將前述材料層之材料轉移至前述第1之基體上，形成所期望之材料部爲佳。根據此時，例如對於一個材料，進行圖案化後，經由移動光罩，圖案化其他之材料，又，對應於材料，準備複數光罩’分開使用此光罩，經由圖案化複數之材料，達圖案化工程之效率化。又’於前述圖案化方法，其中，前述雷射光線係脈衝光線爲佳，此時雷射光線係脈衝光線爲佳。經濟部智慧財產局員工消費合作社印製根據此時，例如經由照射安定之高能量之光線，可進行良好之圖案化。又，雷射光線係在直進性優異之故，形成正確圖案。然而，在此，雷射光線非僅指經由雷射振盪產生之光，亦包含高頻波產生或波長變換之結果所產生之光。又，雷射光線爲脈衝光線時，脈衝寬度短時，即使無線性吸收，經由非線性光學效果於物質可吸收光線。因此 ’於基體透過脈衝光線，照射於材料層冒，於基體存在線形吸收時，以透鏡等適切設定光線之焦點距離時，於前述材料層幾近選擇性可吸收光線。本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（210 X 297公釐） _ 7 _ 1312640 A7 B7 五、發明説明（5 ) 又，於前述圖案化方法，其中，經由對於前述光線之前述材料層的照射，激勵前述材料層之前述材料之非線形光學現象’將前述材料轉移至前述第1之基體上爲佳。 (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 如此，利用非線性光學效果時，經由非線性光學效果激發之現象（非線性光學現象）之產生機率，爲較脈衝強度（每單位面積之瓦特數）之1次方爲大之故，將材料層之脈衝強度經由較通過脈衝光線之材料層外之層充分爲大，可使材料層之現象之產生機率較通過脈衝光線之材料層以外之部分之產生機率充分變大。更且利用高次之非線形光學效果時，可將所期望位置之現象之產生機率較所期望位置以外之產生機率明顯提高。又，於前述圖案化方法，其中，前述材料層雖爲電極材料，但亦有較佳之情形。根據此時，例如將有機電激發光元件之畫素電極（陽極），以ITO製作之時，如以往，將此經由強酸之蝕刻，加以圖案化時，於元件上之其他之金屬2配線，有腐蝕等之不良影響，根據本方法時，無需使用強酸，可經由圖案化，可迥避前述不妥。經濟部智慧財產局員工消費合作社印製又，於前述圖案化方法，其中，前述材料層爲構成有機電激發光元件之電子輸送層、正孔輸送層、發光層中之至少一個之形成材料爲佳。根據此時，可容易且正確形成電子輸送層、正孔輸送層或發光層，而且可將該形成材料以高自由度加以選擇。又，於前述圖案化方法，其中，於前述第1之基體之本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（210X297公釐） _ 8 1312640 A7 B7 五、發明説明（6 ) ^ 最上層形成受容層，於即述受容層上，配置包含光學材料的光學材料層，於前述光學材料層經由照射光線，將前述光學材料向前述受容層內轉移爲佳。根據此時，對於光學材料，不特別加以限定，可將此轉移至受容層內，因此，可提高光學材料之選擇自由度。本發明之膜形成方法，其特徵係於第i之基體之上方配置材料膜，於該材料膜部分照射光線，將前述材料膜之即述光線所照射之部分的材料，轉移至前述第1之基體上〇根據此時，於第1之基體上，可將材料容易地轉移，又，對於材料層之材料，不特別加以限定，可提高光學材料之選擇自由度。本發明之另一膜形成方法，其特徵係於第1之基板之上方’配置形成所定之圖案的材料膜，經由於前述材料膜照射光線，將前述材料膜之材料轉移至前述第1之基體上 Ο 根據此時，於第1之基體上，可將材料層之材料，轉移至對應於該材料層之所定圖案的狀態。又，對於材料層之材料，不特別加以限定，可提高光學材料之選擇自由度〇本發明之圖案化裝置，屬於於材料層照射光線，將該材料層之材料轉移至基體上，形成期望圖案之材料部的圖案化裝置，其特徵係具備照射前述光線之光照射機構，和保持前述基體之保持機構。本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（210X297公釐） f請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) -訂經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 1312640 A7 B7 五、發明説明（7 ) (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 根據此圖案裝置時，以高能量照射光線時，經由照射之物質之一部分成爲分子狀飛散之原理，經由光線照射機構，於材料層照射光線，可將材料層之材料轉移示保持於保持機構之基體上。因此，將光線之照射對應於所期望圖案進行時，於基體上，可容易且正確形成所期望圖案之材料部。又，對於材料層之材料，可不特別加以限定，可提高材料之選擇自由度。又，於前述圖案化裝置，其中，於前述光照射機構，具備爲掃瞄光線照射位置之掃瞄部爲佳。根據此時，基體固定於保持手段時，經由掃瞄光線照射位置，於基體上可容易且正確形成所期望圖案之材料部〇又，於前述圖案化裝置，其中，具備將自前述光照射機構所照射之光線，爲對於基體選擇性照射之光照射用光罩爲佳。經濟部智慧財產局員工消費合作社印製根據此時，基體固定於保持手段時，經由使用光照射用光罩，將自前述光照射機構照射之光線對於基體，可選擇性照射，經由此，於基體上可容易且正確形成所期望圖案之材料部。本發明之有機電激發光元件之製造方法，其特徵係使用前述圖案化方法，形成電子輸送層、正孔輸送層、發光層中之至少一個。根據此製造方法時，可容易且正確形成電子輸送層、正孔輸送層或發光層，而且可將該形成材料以高自由度力口 10- 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) Α4規格（210Χ297公釐） 1312640 A7 ________B7 五、發明説明（8 ) 以選擇，可達所得有機電激發光元件之品質提升或成本之減低。 (請先聞讀背面之注意事項再填寫本頁) 本發明之彩色濾色片之製造方法，其特徵係將前述材料層經由彩色濾色片材料加以形成，使用前述圖案化方法 ’或前述圖案化裝置，圖案化彩色濾色片。根據此製造方法時，可容易且正確形成彩色濾色片，而且可將該形成材料以高自由度加以選擇，可達所得彩色濾色片之品質提升或成本之減低。本發明光電裝置之製造方法，其特徵係前述圖案化方法，彩色濾色片之製造方法或前述圖案化裝置，圖案化構成要素之至少一部分。根據此製造方法時’可容易且正確形成所期望圖案之材料部’或彩色瀘色片，而且可將該形成材料以高自由度加以選擇’可達所得材料部或彩色濾色片之品質提升或成本之減低。經濟部智慧財產局員工消費合作社印製本發明之另一光電裝置之製造方法，其特徵係將構成有機電激發光元件之發光層之形成材料中之主材料，預先於第1之基體上形成期望之圖案，之後，將前述發光層之形成材料中之客材料’使用前述圖案化方法，或前述圖案化裝置，轉移至前述主材料所成圖案中，於該主材料中形成具有客材料的發光層。根據此製造方法時’例如將對應於紅、藍、綠之客材料’分爲預先形成主材料所成圖案之所期望之位置，經由轉移，可容易且正確形成所期望圖案，且呈現所期望顏色 -11 - 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（210X297公| ) 1312640 A7 B7 五、發明説明（9 ) 之發光層。本發明之光電裝置，其特徵係經由前述光電裝置之製造方法所得。 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 根據此光電裝置時’可達成所得之材料部或彩色濾色片之品質提升，更且成本之減低，或本發明之電子裝置之製造方法，其特徵係使用前述圖案化方法，或前述圖案化裝置，圖案化構成要素之至少一部分。根據此電子裝置之製造方法，可容易且正確形成構成要素’而且可將該形成材料以高自由度加以選擇，可達所得電子裝置之品質提升或成本之減低。本發明之電子裝置，其特徵係經由前述圖案化方法，或前述圖案化裝置，圖案化構成要素之至少一部分。根據此電子裝置，可容易且正確形成構成要素，而且可將該形成材料以高自由度加以選擇，可達所得品質提升或成本之減低。本發明之電子機器，其特徵係將前述光電裝置，做爲顯示手段而具備者。經濟部智慧財產局員工消費合作社印製此電子機器中，尤其對於該顯示手段，可達如前述所得材料部或彩色濾色片之品質提升，更且可達成本之減低 ’或可容易且正確形成所期望圖案，且呈現所期望顏色之發光層。【發明之實施形態】本紙張尺度適用中國國家標準（CNS > A4規格（210X297公釐） 1312640 A7 B7 五、發明説明（ίο ) 以下，詳細說明本發明。 (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 首先’對於本發明之圖案化裝置加以說明。圖1顯示本發明之圖案化裝置之一例圖。圖1中，符號50係圖案化裝置。此圖案化裝置50係於材料層51，照射光線，將材料層51之材料，移轉至基體52上，於基體52上，爲形成所期望圖案之材料部者，具備照射前述光線之光照射機構53 ’和保持前述基體52之保持機構54加以構成。前述材料層51係例如如圖1所示，成膜於第2之基體 55之表面，或經由機械性的保持，設於第2之基體55之表面者，第2之基體55經由適切之治具等（未圖示）等，經由配置固定於處理室56，材料層51本身配置固定於處理室 56內。於處理室56連接真空泵等之減壓手段（未圖示），由此’可將處理室內調整至所期望之減壓氣氛（包含高真空氣氛）。又，於處理室56,及第2之基體55，各設置加熱器（未圖示），可將處理室56內、及第2之基體55之表面之材料層5 1，加熱至所期望之溫度。經濟部智慧財產局員工消費合作社印製做爲形成前述材料層51之材料，雖未特別加以限定，對應目的之形成要素，可使用任意者，例如做爲金屬單體，可使用鐵、銅、鎳、金、銀、錳、鈷等。又，做爲合金，可使用鎳鐵、鐵錳、鈷鐵、銥錳等。做爲介電質係可使用 K2Si03、ZrSi〇4、Na2Si03等之矽酸化合物，或TiO、 Ti203、Ti02 等之氧化鈦、BaTi〇4、BaTi〇3、Ba2Ti9O20、 BaTijOu > CaTi03、SrTi03、PbTi03、MgTi03、ZrTi02、 SnTi04 ' Al2Ti05、FeTi03等之鈦酸化合物、氧化鍩（Zr02) -13- 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（210X297公釐） 1312640 A7 B7 五、發明説明（11 ) 、BaZr03、ZrSi〇4、PbZr03、MgZr03、K2Zr03 等錯氧化物、更且 PZT[Pb(Zr，Ti)03]、PLZT[(Pb，La)(Zr，Ti)〇3]、 SBT[Sr(Bi，Ta)0]、SBN[Sr(Bi，Nb)0]等。 (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 又，做爲形成材料層51之材料，使用有機材料、例如聚芴或該衍生物’聚亞苯基乙烯或該衍生物，更且可使用各種色素等，又，可使用蛋白質等之活體物質。將蛋白質等之活體物質，做爲材料層51之材料使用之時，例如將此以適切之溶媒加以混件，將此於取樣板上乾燥，做爲材料層51亦可。又於處理室56內，設置保持圖案體之基體52的保持機構5 4。此保持機構5 4係於本例中如後所述，由基體5 2 側照射光線之故，經由由如圖1所示玻璃等所成透光性（透明）之平台加以構成。然而，做爲此保持機構54，只要可保持基體52者，無需特別加以限定，可使用種種之形式。例如，爲可進行自基體52側之光線照射，可使用僅支持基體 52之周邊部的環狀之保持台，或僅就角落部複數處加以支持的複數之塊狀保持台，更且挾持基體52之側面保持此之挾持體等。經濟部智慧財產局員工消費合作社印製於如此保持機構54,經由移動此，將保持於此之基體 52,連接可移動於水平方向及垂直方向之移動機構57。經由如此之構成，保持訃保持機構54之基體52係與前述材料層51對向，且成爲充分接近之狀態加以配置。然而，對於移動機構57，做爲僅進行水平方向和垂直方向之任一方之移動加以構成亦可。唯，於該情形下，將保持於保持機本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（210 X 297公釐） _ «14 1312640 A7 B7___ 五、發明説明（12 ) (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 構54之基體54，與材料層51對向之時，基體52之表面十分接近材料層51之表面地加以構成爲佳。然而’圖1中’ 雖打開保持機構54之表面和材料層51之間加以顯示’此乃爲方便於後加以說明，實際上，基體54之表面和材料層 51之表面之間隔只有些微，爲非常的接近。光照射機構53係配設於處理室56內，或配設於處理室56外，具備照射光線之光源53a，更且，本例中，具備爲掃瞄自光源53a照射之光線的照射位置的掃瞄部53b。光源53a係做爲照射之光線，該波長或強度則透過基體52等，照射前述材料層51者則被預先選擇使用。又，對於該能量強度，照射之材料層51之材料的一部分則成爲分子狀地加以飛散，向該照射面側，即向基體52側移轉擴散，預先加以調整。做爲具有如此能量強度之光線，雖可.使用水銀燈光線、鹵素燈光線、氙氣燈光線等之定常光源光線，但以雷射光線最爲適切。做爲雷射光線，則可適於使用準分子雷射、Nd:YAG雷射、鈦藍寶石雷射、及經由此等雷射光線之高頻波、或參量波長變換所產生之光線等。經濟部智慧財產局員工消費合作杜印製

5 Ml V 又，做爲如此之光線，採用雷射光線之時，將此成爲脈衝光線爲佳，於此時，做爲脈衝寬度，期望爲20ns以下爲佳，爲200ps以下時爲較佳，2〇〇fs以下爲更佳。脈衝寬度愈短時，即使無線形吸收，亦可經由非線形光學效果於物質吸收光線。因此，使用非線形光學效果時，於基體透過脈衝光線’照射於材料層時，於基體存在線形吸收時，於透鏡適切設定光線之焦點距離時，於前.述材料層可幾近本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（210X297公釐） ~ - 1312640 A7 B7 五 '發明説明（13 ) 選擇性吸收光線。在此，做爲非線形光學回應，例如可列舉高頻波產生、泡克爾（Pockels)效果、克爾（Kerr)效果、2光子吸收等之多光子吸收等，其中’以利用多光子吸收爲佳。然而，例如’將光照射機構53配設於處理室56之外時等，對於該光源53a，依需要經由組合稜鏡或透鏡等之光學零件（未圖示），適切調整該光路徑或焦慮距離亦可。經由如此構成之圖案化裝置50，於基體52上，形成所期望圖案之材料部’首先，將具有對應於形成圖案之材料部的材料層51的第2之基體55，配置固定於所定位置。然後，將基體52保持固定於保持機構54，更且驅動移動機構 57，將基體52配合於對向於材料層51之位置。更且，依需要，將處理室56內，及/或第2之基體55 ’加熱至所期望溫度的同時，減壓處理室56內。然後，對於處理室56內之壓力，不特別加以限定，例如在於大氣壓之下，或做爲真空氣氛亦可，當然成爲此等之間的範圍的減壓氣氛亦可。然後，由光照射機構5 3之光源5 3 a，如圖1中實線所示’將光線照射於材料層51之表層部。然後，向如此材料層51表層部的照射，係適切調整光線之種類及該能量強度或波長’經由產生非線形光學效果，透過基體52，到達材料層5 1之表層部。結果’材料層51被照射之部分，經由成爲分子狀地飛散’此材料層5 1之材料則如圖1中之虛線所示移轉擴散至本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（210X297公釐） (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製

-16- 1312640 A7 B7 五、發明説明（14 ) 基體52之所定處，由此，材料層51之材料堆積於52.之所 (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 定處。因此，經由掃瞄部53b，掃瞄自光源53a照射之光線照射位置，經由對應所期望照射位置之圖案，於本發明，可將成爲材料部之圖案，形成於基體52上。然而，於圖1中，將由光源53之光線光路徑，對於材料層51記錄成傾斜狀，但此乃爲了說明由材料層51之材料的移轉擴散者，對於材料層51，成爲垂直照射光線亦可〇於如此圖案化裝置50中，將光照射機構53所成光線之照射，經由對應所期望之圖案加以進行，於52.上可容易且正確形成所期望圖案之材料部。又，對於材料層51之材料，未特別加以限定，可提高材料之選擇自由度。圖2係顯示本發明之圖案化裝置之其他之例圖。圖2 中符號60係圖案化裝置，此圖案化裝置60與圖1所示圖案化裝置50可同之處，係代替於光照射機構53設置爲掃瞄光線之照射位置之掃瞄部53b，設置將光線對於基體52 選擇性照射的光照射用光罩6 1。經濟部智慧財產局員工消費合作社印製即，本例之圖案化裝置60中，於保持之保持機構54 之基體52和材料層5 1間，設置光照射用光罩61。此光照射用光罩61係於適切位置具有一個或複數之開口 61a的金屬等所成者，於開口 61a通過光線，於開口 61a以外成爲遮蔽光線之構成。然而，開口 61a係對應所期望之圖案而形成。又，光照射用光罩61係對於基體52或保持此之保持 -17- 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（210X297公釐） 1312640 A7 B7 五、發明説明（15 ) 機構54，例如經由磁性或其他之機械性固定手段加以固定〇然而，圖2中，雖將光照射用光罩61配設於材料層51 和基體52間，但亦可配設於基體52和保持機構54間，或配設於保持機構54之下側》經由如此構成之圖案化裝置60，於基體52上形成所期望圖案之材料部，首先，與先前之例同樣地，將具有材料層51之第2之基體55,配置固定於所定位置。又，將基體 52保持固定於保持機構54，更且將光照射用光罩61對於基體52設定於所期望之位置，於該狀態，將此等對於材料層51，向所定位置移動。更且，對應需求，將處理室56內及/或第2之基體55 ，設定於所期望溫度的同時，減壓處理室56內。然而，於此之處理中，無需特別調整溫度或減壓，可在常溫、常壓下進行亦可。唯’光照射用光罩61由於溫度而產生展開之時，適切調整溫度以抑制此爲佳。之後，由光照射機構53之光源53a照射光線，如圖2 實線所示，通過光照射用光罩61之開口 61a，到達材料層 5 1之表層部。結果，與先前之例同樣地，材料層51被照射之部分經由成爲分子狀飛散’此材料層51之材料則向基體52側移轉擴散。結果，於材料層51和基體52之間，設置光照射用光罩61之故，擴散之材料則僅開口 61a選擇性通過，於其他部分則被遮蔽。因此，將來自光源5 3 a照射之光線的本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（210X297公釐） 7Z '~ 〈請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁} 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 b 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 1312640 A7 __B7 五、發明説明（16 ) 照射位置，經由對應開口 61 a，於本發明中，可將成爲材料部，形成於基體52上。於圖案化裝置60中，經由設置光照射用光罩61，於基體52上可容易且正確形成所期望之圖案。又，對於材料層 5 1之材料，由於未特別限定，材料之選擇自由度則變得很尚。然而，本發明之圖案化裝置係可不限定於圖1、圖2所不之例，採用種種之形態，例如具備爲掃瞄由光源53a照射之光線的照射位置的掃瞄部5 3 b，和光照射用光罩61之雙方亦可。接著，雖將使用前述圖案化裝置之本發明之圖案化方法，根據適用於使用有機電激發光元件之主動矩陣型之顯示裝置（光電裝置）之製造時之例加以說明，在此之前，對於經由此製造所得之光電裝置，使用圖3、圖4說明該槪略構成。於圖3、圖4中，符號1係顯示裝置，此顯示裝置1係如電路圖之圖3所示，於透明之基板上，各配線複數之掃瞄線1 3 1，和向對於此等掃瞄線1 3 1交叉方向延伸之複數之信號線1 3 2，和於此等信號線1 3 2並列延伸之複數之共通供電線1 3 3，於掃猫線1 3 1及信號線1 3 2之各父點，設置畫素 (畫素範圍素）1A而構成者。對於信號線132，設置具備偏移暫存器、位準偏移器、視訊線、類比開關的資料側驅動電路3。另一方面，對於掃瞄線131，設置具備偏移暫存器及位 ^本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（210X297公釐） Μ (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁)

19- 1312640 A7 _B7_ 五、發明説明（17 ) (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 準偏移器的掃瞄側驅動電路4。又’於各畫素範圍1A’設置藉由掃瞄線131，掃瞄信號供予閘極電極之第1之薄膜電晶體142，和藉由此第1之薄膜電晶體142，保持由信號線 132供給之畫像信號的保持容量cap’和經由保持容量cap 保持之畫像信號，則供予閘極電極之第2之薄膜電晶體143 ，和藉由此第2之薄膜電晶體143,電氣連接於共通供電線 i 3 3時，自共通供電線1 3 3流入驅動電流之畫素電極1 4 1、和挾於此畫素電極141和對向電極154間之發光部140。於如此之構成之下，驅動掃瞄線131之第1之薄膜電晶體M2成爲開啓時，此時之信號線132之電位保持於保持容量cap，對應該保持容量cap之狀態，決定第2之薄膜電晶體143之導通狀態。然後，藉由第2之薄膜電晶體143 之通道，由共通供電線133向晝素電極141流入電流，更且通過發光元件140,於對向電極154經由流入電流，發光部1 40係對應此流動之電流量而發光。經濟部智慧財產局員工消費合作社印製91^ 在此，各畫素1A之平面構造係如除去對向電極或有機電激發光元件元件的狀態下之擴大平面圖之圖4所示，平面形狀爲長方形之畫素電極1 4 1之四邊，成爲經由信號線 I32、共通供電線I33、掃瞄線131及未圖示之其他之畫素電極用之掃瞄線所包圍而配置。接著，做爲使用於如此液晶裝置1之有機電激發光元件元件之製造方法，對於適用本發明之圖案化方法或本發明之膜形成方法時之第1之例，使用圖5~圖8加以說明》然而’於圖5〜圖8，爲了簡化說明，僅對於單—之畫素ία 本纸張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（210X297公釐） 1312640 A7 ____B7_ 五、發明説明（18 ) 加以說明。首先、於本發明準備成爲第1之基體之基部的基板。在此，於有機電激發光元件中，可將後述發光層所成發光，由基板側取出，又，可自與基板相反側取出構成。將發光光線，由基板側取出之構成之時，做爲基板材料，使用玻璃，或石英、樹脂等之透明乃至半透明者，尤其適於使用便宜之鈉玻璃。使用鈉玻璃之時，於此施以矽塗佈，則具有於弱鹼具有保護鈉玻璃之效果，更且，具有令基板之平坦性變好之效果。又，於基板配置包含顏色濾色片膜或發光性物與介電質反射膜，控制發光色亦可。又，自與基板相反側取出發光光線之構成之厝，基板可爲不透明，此時，可使用於氧化鋁等之陶瓷、不鏽鋼等之金屬薄片，施以表面氧化等之絕緣處理者，熱硬化性樹脂、熱塑性樹脂等。本例中，做爲基板，如圖5(a)所示準備鈉玻璃等所成透明基板121。然後，對此，依需要將TEOS(四乙氧矽烷）或氧氣，做爲原料，經由電漿CVD法，形成厚度約 2 0 0〜5 0 0nm之矽氧化膜所成基材保護膜（未圖示）。接著，如圖5(b)所示，圖案化半導體（多晶矽膜）200，成爲島狀之半導體膜210，對於該表面，將TEOS或氧氣等做爲原料，經由電漿CVD法，形成厚度約60〜150NM之矽氧化膜或氮化膜等所成閘絕緣膜220。然而，TFT陣列基板 210係成爲圖3所示之第2之薄膜電晶體143之通道範圍及本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（210X297公釐） (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 9 1312640 A7 B7 五、發明説明（19 ) (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 源極·汲極範圍者，在於不同截面位置上，形成第1之薄膜電晶體142之通道範圍及源極·汲極範圍之半導體帶。即，於圖5~圖8所示製造工程中，二種類之電晶體142、 143雖同時製作，但因爲爲同樣之手續之故，於以下之說明中’關於電晶體，則僅對於第2之電晶體143加以說明，對於第1之薄膜電晶體142則省略該說明。接著，如圖5(c)所示，將包含鋁、钽、鉬、鈦、鎢等之金屬的導電膜，經由濺鍍法形成後，將此圖案化，形成閘極電極1 4 3 A。接著，於此狀態，植入高濃度之磷離子，於半導體膜 210，對於閘極電極143A，自我整合地形成源極·汲極範圍143a、143b。然而，未能導入不純物之部分則成爲通道範圍1 4 3 c。接著，如圖5(d)所示，形成層間絕緣膜230後，形成連接孔23 2、234，於此等連接孔232、234內，埋入中繼電極 236 、 238 ° 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製接著，如圖5(e)所示，於層間絕緣膜230上，形成信號線132、共通供電線133及掃瞄線（未示於圖5)。此時，包圍於此等處乃如後述，形成發光層等之畫素，第2之薄膜電晶體143不位於包圍於前述之各配線處的正下方地，形成各配線》然後，被覆各配線之上面地，形成層間絕緣膜240，於對應於中繼電極236之位置，形成連接孔（未圖示），於該連接孔內，埋入ITO等之導電性材料。本纸張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（210X297公釐） _ 22 1312640 A7 _ _B7_ 五、發明説明（2〇) (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 接著，連續於此連接孔內之導電性材料地，於使用本發明之圖案化方法成爲畫素1A之位置，即於包圍於信號線 132、共通供電線133及掃瞄線之處，圖案化ITO等之透明電極材料，形成畫素電極14 1。於此畫素電極141之形成，預先示於圖6(a)地，預先示於圖6(a)地，將攙雜ITO或氟所成Sn02，更且將ZnO或聚苯胺等之透明電極材料所成材料層10,成膜於合成樹脂等之薄膜所成第2之基體11上。在此做爲第2之基體11，例如使用0.1mm之厚度之聚對苯二甲酸乙二醇酯。又，對於此材料層10之形成，例如採用浸漬法、旋塗法、噴墨法、蒸著法。接著，將如此準備之第2之基體11，如圖6(b)所示，該材料層10成於內側地，配置於前述連接孔內埋入導電性材料之狀態的透明基板1 2 1之表面上，即配置於形成信號線132、共通供電線133及掃瞄線（未圖示）之側。經濟部智慧財產局員工消費合作社印製接著，如圖6(c)所示，照射透明基板121之背面側，即由與第2之基體1 1相反之側照射光線，於與前述畫素 1 A所成處對向的材料層1 0之表面，照射此光線。對於此光線，該波長或強度則透過透明基板1 2 1、及閘極絕緣膜 22〇、層間絕緣膜230等，照射前述材料層10加以選擇的同時，對於該能量強度，照射之材料層1 0之材料的一部分飛散成爲分子狀，該照射面側，即向透明基板1 2 1 (透明基板）側移轉擴散，而預先調整爲佳。做爲具有如此能量強度之光線，雖可使用水銀燈光線、鹵素燈光線、氙氣燈光線 -23- iy^本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（210X297公釐） 1312640 A7 ______B7 五、發明説明（21 ) 等之定常光源光線，最適於使用雷射光線。做爲雷射光線，例如可適切使用準分子雷射、Nd:YAG雷射、鈦藍寶石雷射、及此等雷射光線之高頻波，或參量波長變換所產生之 (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 光線等。照射具有如此具有高能量之光線時，光線乃透過透明基板121、及閘極絕緣膜220、層間絕緣膜230等，照射於前述材料層10。結果，材料層10之照射部分經由成爲分子狀飛散，此材料層10之材料則向前述畫素1A處移轉擴散，由此，材料層10之形成材料則堆積於畫素1A所成之處。因此，經由將光線之照射對應於所期望之畫素電極圖案加以進行，如圖5(e)所示，於本發明形成成爲材料部之畫素電極141。在此，對於畫素電極141之膜厚，經由調整光線之照射時間等，成爲適切厚度地加以控制。又，例如，使用水晶式膜厚監視器，經由監視發光強度或吸光強度等之分光學性資料，成爲最佳之膜厚（適切厚度）地加以控制。經濟部智慧財產局員工消費合作社印製然而，對於向前述連接孔之導電性材料之埋入，亦可使用圖6所示之圖案化方法進行。即，於連接孔內，埋入導電性材料，形成中繼電極23 6、238時，於此等連接孔之開口部上，配置前述之第2之基體11，將該材料層1〇朝向連接孔側。然後，如前所述，於材料層10經由照射高能量之光線，將材料層10之材料移轉至連接孔內，形成中繼電極 236 ' 238 ° 接著，如圖7(a)所示，包圍畫素電極141地，形成間隔壁150。此間隔壁15〇係做爲分隔構件而工作，例如以聚 -24- 19¾本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（210X297公釐） 1312640 A 7 B7 五、發明説明（22 ) (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 醯亞胺或氧化矽、氮化矽、氧氮化矽等之絕緣性材料加以形成者爲佳。對於間隔壁150之膜厚，例如成爲1〜2 μηι之高度而形成。如此地，經由形成間隔壁150，於畫素1 Α之畫素電極141之上面和間隔壁150間，形成充分高度之階差。然而，本例中，於形成畫素電極141後，形成了間隔壁150，形成間隔壁150之後，形成畫素電極141亦可。如此地，形成間隔壁1 5 0之後，於前述畫素1 A內，圖案化正孔輸送層之形成材料，如圖7所示，於畫素電極141 上，在於本發明，形成成爲材料部之正孔輸送層140A。經濟部智慧財產局員工消費合作社印製在此正孔輸送層140A之形成時，與前述之畫素電極 141之形成之時同樣，預先示於圖6(a)，準備將材料層10 成膜於第2之基體11上者。在此，做爲成爲材料層1〇之正孔輸送層之形成材料，不特別加以限定，可使用公知者，例如可列舉吡唑啉衍生物 '烯丙胺衍生物、芪衍生物、三苯基二胺衍生物等。具體而言，例示於記載於日本特開昭63-70 257號、同63-1758 60號公報、日本特開平 2-135359 號、同 2-135361 號、同 2-209988 號、同 3-37992 號、同3-152 184號公報，較佳爲三苯基二胺衍生物，其中又以4,4’-雙（N(3-甲基苯基）-N·苯胺基）二苯基爲佳。然而，代替正孔輸送層，形成正孔注入層亦可，更且將正孔注入層和正孔輸送層兩者加以形成亦可。此時，做爲正孔注入層之形成材料，例如可列舉銅酞菁（CuPc)、或聚四氫苯硫基苯撐之聚亞苯基乙烯、1，1-雙-(4-N,N-二甲胺 -25- 196本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（210X297公釐） 1312640 A7 ____B7 五、發明説明（23 ) 苯基）環己烷、三（8-羥基喹啉酚）鋁等，而以使用銅菁 (CuPc)爲佳。 (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 又，做爲第2之基體11，與畫素電極14ι之形成同樣地’使用聚對苯二甲酸乙二醇酯。又，對於前述材料層10 之形成，不特別加以限定，可採用種種之方法，例如採用使用蒸著法，或熔媒的旋塗法、噴墨法、浸漬法，刷毛塗法等，塗佈於第2之基體11上之方法。接著，將經由如此準備之第2之基體1 1，如圖6(b)所示’該材料層10成爲內側地，配置於透明基板121之表面側。

接著’如圖6(c)所示，由透明基板121之背面側，將雷射光線等’對應於期望之正孔輸送層140A之圖案加以發射’於與前述畫素1A處對向的材料層1〇表面，照射此光線。由此，飛散此材料層1 0之材料，即飛散正孔輸送層 140A之形成材料，移轉至成爲前述畫素ία之處，將此形成材料經由堆積於畫素電極Ml上，形成正孔輸送層丨40 A 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製然而’對於使用於此正孔輸送層1 4 0 A之形成的光線，與前述晝素電極Ml之情形同樣，使用各種定常光源光線或雷射光線。又，對於正孔輸送層140A之膜厚，經由調整光線之照射時間等，成爲適切厚度地加以控制。又，如前述，使用水晶式膜厚馬達，經由監視發光強度或吸光強度之分光學資料，成爲最佳膜厚（適切的厚度）地加以控制亦可。 -26- 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS )八4规格（2丨0><297公釐） 1312640 A7 B7 五、發明説明（24 ) 在此，代替如此正孔輸送層140A之形成，使用前述銅 (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 酞菁（CuPc)等，形成正孔注入層亦可。又，特別於正孔輸送層140A之形成前，將正孔注入層形成於畫素電極141側，更且形成正孔輸送層140A者爲佳。如此地，經由將正孔注入層伴隨正孔輸送層140A之形成，可控制驅動DA.之上昇的同時，可使驅動壽命（半衰期）變長。如此地，形成正孔輸送層140A時，接著於前述畫素 1A圖案化發光層之形成材料，如圖7(C)所示於正孔輸送層 140A上，於本發明形成成爲材料部的發光層140B。經濟部智慧財產局員工消費合作社印製於此發光層140B之形成時，與前述畫素電極141之形成時同樣地，準備將材料層10成膜於第2之基體11上。在此，做爲成爲材料層10之發光層之形成材料，不特別加以限定，可使用低分子之有機發光色素或高分子發光材料、即可使用各種螢光物質或磷光物質所成發光物質。於成爲發光物質之共軛系高分子中，包含芳烯乙烯構造者尤其爲佳。於低分子發光體中，例如可使用記載於萘衍生物、蒽衍生物、茈衍生物、聚甲基系、咕噸系 '香豆素系、喹啉藍系等之色素類、8-氫基喹啉及該衍生物之金屬配位化合物 '芳香族胺、四苯基環戊烯衍生物，或日本特開昭57-5 1781、同59-1943 93號公報的公知者。做爲發光層之形成材料，使用高分子發光材料時，於側鏈可使用具有發光基之高分子，較佳爲將共軛系構造包含於主鏈者’尤其聚噻吩 '聚-p-苯擦、聚芳稀乙烧、聚苟及該衍生物爲佳。其中，又以聚芳烯乙烯及該衍生物爲佳 -27- 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（210X297公嫠） 1312640 kl B7 五、發明説明（26 )【化1】

R38 闩41

R36

R46 ^44 ^45

R50 1^51 \ R57 R61 ^62 R67 ^49—' ^—^52 Rs6一< ^~*只58 闩60 —^ ^~^63 ^66-^ 卜卩68

^47 R54 ^53

^71 R73闩队 ν^Ν^74 'v^iNv^R76 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 訂經濟部智慧財產局員工消費合作社印製

Rsa

^84^85 Rg〇 ^91 ^83—ζ, ^-F?86 ^89 —^ ^92 R82—^ ^~R87 ^88—( jN ，⑵ 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（210X297公釐） 29- 1312640 A7 B7 五、發明説明（27 ) (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) (R1-R92係各別獨立，自氫 '碳數1~20之烷基、烷氧基及烷硫基；碳數6〜18之芳基及芳氧基、以及碳數4~1 4 之雜環化合物所成群選擇之基。）此等中，亞苯基，置換亞苯基、雙亞苯基、置換雙亞苯基，萘二基、置換萘二基、蒽9，10-二基、置換蒽9, 10-二基、吡啶-2,5-二基、置換吡啶-2,5-二基、噻嗯烯基。化學式（1)之R、R’爲對於氫或氰基以外之置換基時記述時，做爲碳數1~20之烷基，可列舉甲基、乙基、丙基' 丁基、戊基、己基、庚基、辛基、癸基、十二烷基等，尤以甲基、乙基、戊基、己基、庚基、辛基爲佳。做爲芳基係例示4-C1〜C12烷氧苯基（C1〜C12係顯示碳數1〜12。以下亦相同），4-Cl~C12烷苯基、1-萘基、2-萘基等》經濟部智慧財產局員工消費合作社印製自溶媒可溶性之觀點，化學式（1)之Ar則具有自1個以上之碳數4〜20之烷基、烷氧基及烷硫基、碳數6〜18之芳基及芳氧基、以及碳數4〜14之雜環化合物選擇之基爲佳》做爲此等之置換基，係例示有以下者。做爲碳數4〜20 之烷基，可列舉丁基、戊基、己基、庚基、辛基、癸基、十二烷基等，尤以戊基、己基、庚基、辛基爲佳。又，做爲數4〜2〇之烷氧基，可列舉丁氧基、戊氧基、己氧基、庚氧基、辛氧基、癸氧基、十二烷氧基等，尤以戊氧基、己氧基、庚氧基、辛氧基爲佳。又，做爲數4〜20之烷硫基，可列舉丁硫基、戊硫基、己硫基、庚硫基、辛硫基、癸硫基、十二烷硫基等，尤以戊硫基、己硫基、庚硫基、辛硫基爲佳。做爲芳基，例示有苯基、4-C1〜C12烷氧苯基、4- -30- 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（210X297公釐） 1312640 Α7 Β7 五、發明説明（28 ) C1〜C 12烷苯基、1-萘基、2-萘基等。做爲芳氧基’例示有苯氧基。做爲雜環化合物基’例示有2-噻嗯基、2吡咯基、2-呋喃基、2·、3-或4_吡啶基等。此等置換基之數係雖會由於與該高分子發光材料之分子量重覆之單位構成而不同，由得溶解性高之高分子發光材料之觀點’此等之置換基每分子量600，爲1個者爲佳。然而，前述高分子發光材料係爲無規則、絮狀物或接枝共聚物亦可，具有此等中間構造之高分子’例如帶有絮狀性之無規則共聚物亦可。自得發光之量子產率高之高分子發光材料之觀點’經由完全之無規則共聚物’帶有絮狀性之無規則共聚物或絮狀性接枝共聚物爲佳。又’在此形成之有機電激發光元件係利用自薄膜之發光’該高分子發光材料係使用以固體狀態具有發光者。使用該高分子發光材料，形成材料層10之時，於使用溶媒之時，適切使用氯仿、二氯甲烷、二氯乙烷' 四氫呋喃、甲苯、二甲苯等。雖會根據使用高分子發光材料之構造或分子量，通常係於此等之溶媒，可成0.1 Wt%以上溶解 0 又，做爲前述高分子發光材料，分子量以聚苯乙烯換算，爲103~107者爲佳，此等之聚合度係經由重覆構造或該比例而變化。自成膜性之點，一般而言，重覆構成之合計數較佳爲4〜10000，更且以5~3000爲優，尤以1〇~2000爲佳。做爲如此高分子發光材料之合成法，雖未特別加以限 292本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（210X297公釐） Μ (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 訂經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 1312640 A7 B7 五、發明説明（29 ) 定，例如於芳烯基，結合2個醛基的二醛基化合物，和於 (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 芳烯基結合2個鹵化甲基之化合物’和三苯基膦所得二鎏鹽魏迪希（Wittig)反應。又’做爲其他之合成法，例示有自於芳烯基結合2個鹵化甲基的化合物之脫鹵化氫法。更且，例示由在於芳烯基將結合2個鹵化甲基之化合物之鎏鹽，以鹼加以聚合所得之中間體，經由熱處理，得該高分子發光材料之鎏鹽分解法。不論何者之合成法，做爲單體，加以具有芳烯基以外之骨格的化合物，經由改變該存在此例，可改變含於生成之高分子發光材料之重覆單位構3之故，化學式（1)所示之重覆單元則成爲50%以上地加以加減處理，而共聚合亦可。此等之中，魏迪希（Wittig)反應之方法則在於反應之控制或產率上爲佳。經濟部智慧財產局員工消費合作社印製更且，具體而言，說明前述高分子發光材料之1例之芳烯基乙烯基系共聚物之合成法。例如，經由魏迪希 (Wittig)反應，得高分子發光材料時，例如，首先將雙（鹵化甲基）化合物，更具體而言將2,5-二辛氧基-P-苯二甲基普洛咪，於N、N-二甲基醛胺溶媒中，與三苯基膦反應，合成鎏鹽，將此與醛化合物，更具體而言，例如將對苯二甲醛，例如於乙醇中，使用乙醇鋰經由縮合之魏迪希（Wittig)反應，可得包含亞苯基乙烯基和2,5-二辛氧烷-P-亞苯基乙烯基之高分子發光材料。此時，爲得共聚物，使2種類以上之二鎏鹽及/或2種類以上之二醛化合物進行反應亦可。將此等之高分子發光材料做爲發光層之形成材料使用之時，該純度會影響發光特性之故，期望進行合成後，經 -32- 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) Μ規格（210X297公釐） 1312640 A 7 B7 五、發明説明（3G ) 由色譜儀所成分離等之純化處理。 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 又，做爲前述高分發光材料所成發光層之形成材料’ 爲進行全彩顯示，紅、綠、藍之三色之發光層形成材料貝g 各成膜於第2之基體11，而成爲材料層10使用。即’於本例中，準備呈紅色之發光層形成材料做爲材料層10形成之第2之基體11、呈綠色之發光層形成材料做爲材料層10形成之第2之基體11、呈藍色之發光層形成材料做爲材料層 1 〇形成之第2之基體1 1之3種類，使用此等如後所述，經由順序進行圖案化，各形成呈紅色之發光層1 40B、呈綠色之發光層140B、呈藍色之發光層140B。又，對於第2之基體11，與畫素電極141之形成時同樣地，使用聚對苯二甲酸乙二醇酯薄膜。又，對於前述材料層10之形成，無需特別之限1，可採用種種之方法，例如採用使用溶媒，將此以刷毛塗抹等，於第2之基體11上塗佈之方法。經濟部智慧財產局員工消費合作社印製接著，將如此準備之第2之基體11，如圖6所示，使該材料層1 0在於內側，配置於透明基板1 2 1之表面側。然而，在此之透明基板121之「透明」之意義係對於使用光線，具有光學性透過性的意義。例如，如鈦藍寶石雷射，使用800nm程度之近紅外之光線時，即使人類的眼睛所見並非透明，亦亦有可透過充分光線之情形，因此，對於如此使用峙光線，具有光學性透過性者，在此可做爲透明基板121加以使用。惟，將發光層140B之發光光線，透過此透明基板121加以射出時，做爲此透明基板121，需要具有本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（210X297公釐） .33 1312640 A7 _____B7_ 五、發明説明（32 ) (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 送層之形成材料，未特別加以限定，可例示噁二唑衍生物 '惠n二甲烷及該衍生物、二苯基二氰乙烯及該衍生物、二吩醌衍生物、8_羥基哇啉及該衍生物之金屬配位化合物等°具體而言，與前之正孔輸送層之形成材料同樣地，例示記載於日本特開昭63-70257號、同63- 1 75860號公報、日本特開平2- 1 3 53 59號、同2- 1 3 53 6 1號、同2-209988號、同3-37992號、同3- 1 52 1 84號公報等。尤其，2-(4-聯苯基）-5-(4-t-丁基苯基）-i，3,4-噁二唑、苯醌、蒽醌、三（8-喹啉酚）鋁爲佳。然而，將前述正孔輸送層140 A之形成材料或電子輸送層l4〇C之形成材料混合於發光層140B之形成材料，做爲發光層形成材料加以使用亦可，此時，對於正孔輸送層形成材料或電子輸送層形成材料之使用量，會因爲使用之化合物之種類等而不同，於不阻礙充分成膜性和發光特性之量範圍，考量此等適切加以決定。通常，對於發光層形成材料，成爲1〜40重量％，更且較佳爲2〜30重量％。經濟部智慧財產局員工消費合作社印製如此，形成電子輸送層140C時，接著，如圖8(b)所示，於透明基板121之表面整體，或於條紋狀，形成對向電極154,可得有機電激發光元件。於此對向電極154之形成，尤其將此形成於透明基板121之表面整體時，蒸著法雖可適切使用，於形成於條紋狀之時，使用前述之畫素電極 141之形成方法、即使用圖6(a)〜（c)所示之本發明之圖案化法加以進行爲佳。根據本發明之圖案化法（膜形成方法），經由使用金屬或有機或無機導電材料，可容易形成配線圖案本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（210X297公釐） _ 35 _ 1312640 A7 _B7_ 五、發明説明（33 ) (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 。然而，本發明之圖案化法（膜形成方法）係不限於將對向電極154形成成爲條紋狀之時，當然可採用形成於透明基板 1 2 1之表面整體之情形。在此，對於如此對向電極154，當然可以Al、Mg、Li 、Ca等之單體材料或Mg:Ag(10:l合金）之合金材料所成1 層加以形成亦可，做爲2層或3層所成金屬（包含合金）層加以形成亦可。具體而言，可使用Li20(0.5iun程度）/Α1或 LiF(0.5nm程度）/Al ' MgF2/Al之堆積構造者。然而，將對向電極154以2層之金屬層加以形成之時，由發光層14〇Β側依第1之金屬層、第2之金屬層之順序堆積的構成時，對於發光層14〇Β側之第1之金屬層，係成爲工作函數超過3.7eV的金屬，且20nm以下之厚度者爲佳。又，對於連接於第1之金屬層之第2之金屬層，成爲工作函數超過3.7eV以下的金屬（包含合金）爲佳。更且，將對向電極154以3層之金屬層形成之時，將第〗之金屬層、第2之金屬膜，與前述之2層構成相同之時，將第3之金屬層，選自白金、銀、金、鎳、鈦、鉬、銥或銘的金屬爲佳。經濟部智慧財產局員工消費合作社印製在此，做爲使用於第1之金屬層之金屬，超過工作函數3.7Ev者時，不特別加以限制，選自白金、銀、金、鎮、鈦、鉬、銥、鋁、銃、鉛、鋅的金屬爲佳，更佳爲白金、銀、金、銥、鋁。第1之金屬層之厚度爲2 0 nm以下即可，較佳爲2〇nm以下lnm以上，更佳爲1 〇nm以下2nm以上。做爲第1之金屬層之形成方法，可採用本發明之圖案化 -36- 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（210X297公釐） 1312640 A7 B7 五、發明説明（34 ) 方法、或蒸著法、濺鍍法等。 (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 做爲對向電極154之第2之金屬層使用之金屬係工作函數3.7eV以下的金屬（包含合金）即可，具體而言，可列舉鋰、緦、鈣、鎂或包含此等之合金，較佳爲鋰、緦、鈣、或包含此等之合金，更佳爲鋰、或包含此等之合金。於該第2之金屬層使用合金之時，包含有工作函數3.7eV以下的金屬時，則不特別加以限定，可列舉工作函數3.7eV以下的金屬和銀、金、白金、鋁、銥等之合金。具體而言，可列舉鋰鋁合金、鋰銀合金、鉀鋁合金、鉀銀合金、鉀銥合金等。該合金之組成比（工作函數3.7eV以上之金屬和工作函數3.7eV以下之金屬的組成比）係選擇對向電極154整體、即第1、第2及第3之金屬層之工作函數3.7eV以下的金屬組成比成爲0.005%以上99.9%以下的合金，較佳爲 0.005%以上10%以下，更佳爲1%以上2%以下。該厚度係較佳爲10nm以上lOOOnm以下，更佳爲20nm以上200nm 以下。做爲第2之金屬層之形成方法，可採用本發明之圖案化方法，或蒸著法、濺鍍法等。經濟部智慧財產局員工涓費合作社印製對向電極154之第3之金屬層係由於空氣中氧化或腐朽強之貴金屬，或形成不動體之過渡金屬，或揚氏率小的金屬或合金所成。具體而言，由選自白金、銀、金、白金、鋁、銥、鋁之金屬薄膜所成，更佳爲銥、鋁。做爲背光 153之第3之金屬層之形成方法，可採用本發明之圖案化方法’或蒸著法、濺鍍法等。對於此第3之金屬層之厚度，雖未特別加以限定，形成蒸著法或濺鍍法等之時，過薄之 -37 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) M規格（2丨〇><297公釐）經濟部智慧財產局員工消費合作社印製10吟 -.·-\ 1312640 A7 ___B7_ 五、發明説明（36 ) 。又，爲進行先前形成層之光吸收，經由改變光線之入射方向，於電晶體照射光線之時，形成光遮斷膜爲佳》又，如此對於電晶體之不良影響，或爲避免先前形成之層之光吸收’非由透明基板121向第2之基體11之材料層1〇照射光線，與透明基板121之相反側，即由第2之基體1 1之背面側向該表面側之材料層1 〇之表面部，照射光線，飛散該材料，轉移示透明基板121側亦可。惟，此時 ’對於第2之基體11，需將此經由透明或非透明之材料加以形成。又，於本例中，將畫素電極141、正孔輸送層140 A、發光層14〇Β、電子輸送層l4〇C以本發明之圖案化方法加以形成，更且對於對向電極154，可採用本發明之圖案化方法’不將此等全部以本發明之圖案化方法形成，，形成至少一個亦可。又，將材料層10非於第2之基體11上，以單體形成之時，例如做爲電極材料，直接使用金屬箔時等，不使用第2之基體11，將由此金屬箔所成材料層1〇，直接配置於透明基板1 2 1上，進行圖案化亦可· 於如此本發明之圖案方法中，經由照射光線，將材料層之材料可向透明基板1；21移轉，經由將光線之照射對應所期望圖案加以進行，於透明基板121上，可容易且正確形成所期望圖案之材料部，可提高材料之選擇自由度，因此，當然可適用種種之圖案，於一個構成要素之圖案中，可不限制使用之材料，可由多種材料任意選擇，進行圖案本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4规格（210X297公釐） --- (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁)

1312640 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 A7 _____B7 五、發明説明（37 ) 化。又，將光線，由透明基板1 2 1側，透過該透明基板1 2 1 ，照射材料層之故，於成爲光線之照射面之材料層之表面側，經由位有透明基板121，飛散材料層之材料易於轉移至該透明基板121側，因此，於透明基板121上可進行良好之圖案化。又，做爲照射之光線，尤其使用雷射光線，經由照射安定之高能量之光線，進行良好之圖案。又，將材料層經由成爲ITO等之透明電極材料，或一般之金屬所成電極材料，例如如前述，將有機電激發光元件之畫素電極141，以ITO製作之時，不進行每每以往圖案之強酸之蝕刻，於元件上之其他之金屬配線，不會有腐蝕等之不良影響。又’經由形成構成有機電激發光元件之正孔輸送層 14〇Α、發光層MOB、電子輸送層140C，可將此等正孔輸送層140A、發光層140B、電子輸送層140C容易且正確地形成’而且可將該形成材料以高的自由度加以選擇。又’使用如此圖案化方法之有機電激發光元件之製造方法，容易且正確地形成正孔輸送層140A、發光層140B、電子輸送層l4〇C，而且，可將該形成材料，以高自由度加以選擇’可達所得有機電激發光元件之品質提升或成本之減低化。接著，做爲有機電激發光元件之製造方法，對於適用本發明之圖案化方法時之第2例加以說明。本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（210X297公釐) .4〇 - (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁)

1312640 A7 B7 五、發明説明（38 ) (請先閲讀背面之注意事項苒填寫本頁) 即，本例中，如圖9(a)所示，將對應於紅、綠、藍之發光層之形成材料所成材料層10R(紅對應）、10G(綠對應）、1〇Β(藍對應），形成於第2之基體11，使用此第2之基體 11，與先前之例同樣地’圖案化紅、綠、藍之各發光層 140B，加以形成。在此，對於如此第2之基體11上之各材料層1 OR、 10G、1B，不特別加以限定，雖可採用以往公知之方法，可適切採用，尤其，可適切採用使用圖10(a)所示噴墨噴頭30 之噴墨法。噴墨噴頭30係如圖10(a)所示’例如具備不鏽鋼製之噴嘴板32，和振動板33，兩者藉由分割部分（儲存板）34加以接合。噴嘴板3 2和振動板3 3間，經由分割部分3 4 ’形成複數之空間35和聚液區36。各空間35和聚液區36之內部，係被墨水所滿溢，各空間35和聚液區36係藉由供給口 37成爲連通者。又，於噴嘴板32中’由空間35噴射墨水之噴嘴孔3 8，於配列於一列的狀態，複數加以形成。另一方面，於振動板33，於聚液區30形成爲供給墨水之孔 39 ° 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製又，於與對向於振動板33之空間35之面相反側之面上，接合圖10(b)所示之壓電元件40。此壓電元件40係位於一對之電極41間，當通電時，此則突出於外側彎曲地加以構成。然後，於如此構成之下’接合壓電元件40之振動板33則與壓電元件4〇成爲一體，同時向外側彎曲’由此，增大空間35之容積。因此，相當於增大空間35內之容本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（210X297公釐） _ - 1312640 A7 B7___ 五、發明説明（39 ) 積部分的墨水，則由聚液區3ό藉由供給口 37而流入。又，由如此狀態解除壓電元件40通電時，壓電元件4〇和振動板3 3皆回到原本的形狀。因此，空間3 5亦回到原來之容積之故，空間35內部之墨水壓力則上昇’自噴嘴孔38 向基板，吐出墨水之液滴42。然而，做爲噴墨噴頭30之噴墨方式’使用前述之壓電元件40的壓電噴墨型式以外的方式亦可，例如做爲能量產生元件，採用使用電熱變換體亦可。使用如此構成之噴墨噴頭30，將前述發光層之各形成材料，於所定位置，即於對應形成有機電激發光元件之各發光層之位置的位置，規則性地加以排列，將此等加以形成。然後，將如此所得第2之基體1 1，與先前之例同樣地，配置於透明基板121上的同時，將各材料層10R、10G、 10B對應於透明基板121上之各畫素1A加以配置。之後，與先前之例同樣地，於各材料層10R、10G、 10B照射光射，於正孔輸送層140A，將紅、綠、藍所成各色之發光層140B，形成成所期望之圖案，即形成呈所期望之排列。如此圖案化方法中，預先將對應於紅、綠、藍之各發光層的形成材料，經由形成於做爲各材料層10R、10G、 10B之第2之基體11上，經由使用此第2之基體11，無需交換該第2之基體11，可以一個工程，圖案化所有3色之材料，因此，可達圖案工程之效率化》然而，於第2之基體11上，形成發光層140B之形成本纸張尺度適财賴家鱗（0叫纟4胁（21〇\297公釐)_ ' (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 訂經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 31 •1-h· 2 Ί\ 1312640 A7 B7 五、發明説明（40 ) (請先聞讀背面之注意事項再填寫本頁) 材料所成材料層10R、10G、10B時，如圖9(b)所示，預先於此等材料層10R、10G、10B之形成處，形成適切高度之凸部12，於此上形成材料層l〇R、10G、10B爲佳》在此，對於凸部12,於透明基板121，與由相當於包圍於間隔壁 1 5〇成爲凹部之畫素1A的深度，即自間隔壁150之頂部至正孔輸送層140A表面的深度的高度，減去形成材料層1 0R 、l〇G、10B之高度部分的高度幾近一致的高度（較佳爲較此略低的高度）爲佳。又，對於凸部12之形狀，於此形成材料層10R、10G、10B之狀態，嵌合於包圍於前述間隔壁 B0之凹部的形狀爲佳。成爲如此高度及形狀時，如圖9(C)所示，將第2之基體11之凸部12，經由嵌合於包圍於透明基板121之間隔壁 150之凹部（成爲畫素1A之處），可使此第2之基體1】之透明基板121上之配置及該定位，即於成爲畫素1A處，對應各材料層10R、10G、10B之定位變得容易，可達工程之效率化或所得發光層104B之位置精度的提升。經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 4 在此，如此地，於第2之基體11，形成凸部12之時，對於此凸部1 2，例如將聚醯亞胺等之有機材料，以前述之噴墨法，吐出塗佈成爲所定之排列，固化此等，可成爲凸部12。又，如此形成凸部12之時，於此凸部12之頂部，施以親墨水處理（對於自噴墨頭吐出之液體材料的親液處理），又，於此以外的部分，經由施以排墨處理（對於自噴墨頭吐出之液體材料的排液處理），發光層之形成材料則選擇性塗佈於凸部12上，材料層l〇R、l〇G、10B則於所期望位本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（210X297公釐） _ 43 _ 1312640 \ 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製15"^?- A7 ____B7__ 五、發明説明（41 ) 置，選擇性形成爲佳。如此親墨水處理及排墨水處理中，首先做爲排墨水處理’例如採用將凸部12之表面，以氟系化合物等，進行表面處理的方法。做爲氟系化合物係例如CF4、SF5、CHF3等 ’做爲表面處理，例如可列舉電漿處理β又，做爲親墨水處理，採用先前於排墨水處理之部分，經由進行再度UV照射處理，切斷前述氟化合物所成聚合膜之聚合，成爲親墨水化之方法。. 經由如此處理方法，親墨水處理凸部12之表面（頂部），於此以外之處，8步2排墨水處理時，預先於形成凸部 12之第2之基體11，塗佈氟系化合物，經由電漿聚合等，聚合此，於第2之基體11表面，形成氟系聚合膜。之後，預先使用準備光照射用之光罩，僅於凸部12之表面（頂部） ’選擇性照射紫外線，親墨水化照射之凸部1 2之表面（頂部）。如此，僅將凸部12之表面（頂部）親墨水化時，如前述，以噴墨法，於此等凸部12上，將發光層之各形成材料，成爲所定排列吐出塗佈，固化此等，而成爲材料層i 0R、 10G、1 OB ’此時，凸部12之表面（頂部）係由於親墨水化之故’到此著墨之墨水（發光層材料）則於凸部12表面一樣地附著的同時，於排墨水化之部分，即於凸部12之側面，則不會流動而脫落。因此，發光層材料則僅於凸部1 2之表面 (頂部），經由選擇性附著固化，如前所述於材料層i 0R、 10G、10B向下之狀態，配合於透明基板121。本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（210X297公釐） _ 44 (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁)

1312640 A7 B7 五、發明説明（42 ) 接著，做爲有機電激發光元件元件之製造方法，對於適用本發明之圖案化方法時之第3之例加以說明。此例與先前之第1、2例不同之處，係照射光線進行圖案化時，使用選擇光線照射之光照射用之光罩的部分。即，本例中，例如形成正孔輸送層140A、發光層140B 電子輸送層140C時，預先如圖11(a)所示，形成配置全部（或一半等之一部分）之畫素1A和於各對應之位置，形成配置開口部（或透明部）1 3，將其他之部分準備遮光部之光罩 14。然後，與第1之例同樣，於透明基板121上，配置第2 之基材10之後，將前述光罩14,於定位於透明基板121之背面側（光線照射側）的狀態，即開口部13成爲對應於各畫素1 A之位置地加以設定，於此狀態，照射光線。此時，尤其圖案化正孔輸送層140A及電子輸送層140C時，將此等以全部之畫素1 A共通地形成，可不特別選擇性照射光線而進行。因此，做爲光源，使用可進行面發光者之時，可同時進行於複數之畫素1A之圖案化（正孔輸送層140A或電子輸送層140C之形成），可更促進圖案化工程之效率化。又，於圖案化發光層140B之時，使用圖11(a)所示光罩14，於對應紅 '綠、藍之各畫素1A的每開口部13，選擇性照射光線，形成各色之發光層140B亦可，但紅、綠、藍之各畫素1A之絕對位置不同，排列圖案一致之時，如圖 11(b)所示，於與一個顏色之發光層之排列圖案對應之位置，形成配置開口部（或透明部）1 3，將其他之部分準備遮光部本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（210X297公釐） (請先聞讀背面之注意事項再填寫本頁)

、1T 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 45- 1312640 A7 B7 五、發明説明（43 ) 之光罩15。 (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 然後，與第1例同樣，例如將形成紅色之材料層之第2 之基體10,配置於透明基板121上之後，將前述光罩14位置配合於透明基板1 2 1之背面側（光線照射側）之狀態，即開口部13對應於紅色之畫素1A的位置地加以設定，於此狀態照射光線。此時，對應於開口部1 3之畫素1 A乃所有成爲紅色之畫素1A之故，無需特別選擇照射光線，可進行圖案化（發光層之形成）。如此地，形成紅色之發光層時，將第2之基體12，例如改變爲形成綠色之材料層者，或移動前述光罩14，該開口部13對應於綠色之畫素1A之位置地，重新設定。然後，於此狀態，與紅色之時同樣地照射光線，形成綠色之發光層。接著，將第2之基體12,改變爲形成藍色之材料層者 ’又再移動前述光罩14，該開口部13對應於藍色之畫素 1A之位置地，重新設定。然後，於此狀態，與藍色之時同樣地照射光線，形成藍色之發光層。經濟部智慧財產局員工消費合作社印製使用如此光罩15之方法中，與以蒸著法圖案化之時不同，於光罩1 5單純照射光線之故，可將一個光罩使用複數材料的圖案，因此，在成本上有利的同時，單純移動光罩可進行圖案化不同顏色之發光層140B，可達圖案化工程之效率化。然而，於使用如此光罩15之發光層140B之圖案化，做爲移動光罩15之機構，例如可適切使用揭示於日本特許本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（210X297公釐） _ 1312640 A7 B7 五、發明説明（44 ) 第30 1 9095號之具有以脈衝控制馬達驅動所成之移動量調整機能的控制裝置。 (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 又，對於圖案化用之光照射用光罩，如前述光罩14, 將正孔輸送層140A、發光層140B、電子輸送層I40C之圖案化全部兼用，又，如光罩15，不兼具發光層140B之所有顏色之圖案，於每材料準備專用之光罩，使用該光罩，進行圖案亦可。於此時，例如於各材料所成圖案，欲改變大小或形狀之時，將各圖案，圖案化成爲期望或大小或形狀。接著，做爲有機電激發光元件之製造方法，對於適用本發明之圖案化方法時之第4之例加以說明。此例，與先前之第1、2、3之例不同，形成發光層 14 0B之時，將該材料經由添加分散主/客系之發光材料，即於主材料添加分散客材料的發光材料加以形成。做爲如此發光材料，做爲主材料，例如包含高分子有機化合物或低分子材料，又做爲客材料包含爲改變所得之發光層之發光特性之螢光物質，或燐光物質者可適切地被使用。經濟部智慧財產局員工消費合作社印製做爲高分子有機化合物，溶解性之低材料時，例如塗佈前驅體後，如以下之化學式（3)所示，經由加熱硬化，生成共軛系高分子有機電激發光層所成發光層者。例如，前驅體之鎏鹽時，經由加熱處理，脫離鎏基，成爲共軛系高分子有機化合物等。又，溶解性之高材料中，將材料直接塗佈後，除去溶 -47- 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（210X297公釐）

PPV 1312640 A7 __ B7 五、發明説明（45 ) 媒，成爲發光層者。【化2】 150°CX4hr .⑶ όα 前述之高分子有機化合物係固體具有強螢光，可形成均質之固體超薄膜。而且，富於形成能，與ΙΤΟ電極之密著性亦高，更且，固化之後，形成強固之共軛系高分子膜〇做爲如此高分子有機化合物，例如較佳爲聚芳烯乙烯。聚芳烯乙烯係可溶於水系溶媒或有機溶媒，容易進行塗佈於第2之基體11時之塗佈液的調製，更且於一定條件下，可聚合物化之故，可得光學性高品質之薄膜。做爲如此之聚芳烯乙烯，可列舉ppv(聚（對亞苯基乙烯 ))、ΜΟ-PPV(聚（2,5-二甲氧基-1,4-亞苯基乙烯））、CN-PPV( 聚（2,5-雙己氧基-1，4-亞苯基-(1-氰乙烯）））、1^11-??¥(聚（2-甲氧基-5-(2，-乙基己氧基-對亞苯基乙烯）））等PPV衍生物、 PTV(聚（2,5-噻嗯烯乙烯））等聚烷基噻吩）、PFV(聚（2,5-呋喃烯乙烯）、聚（對苯烯）、聚烷基芴（具體而言如化學式（6)所示之聚烷基芴系共聚物）爲佳。 PPV等具有強螢光，形成二重結合之π電子，於聚合本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) Α4規格（210 X 297公釐） _ 48 - ---------„—訂------ (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 ^ 1312640 A7 B7 五、發明説明（46 ) 物鏈上，爲非極在化之導電性高分子之故，可得高性能之有機電激發光元件。化3

PPV

Hi3C5〇 CN OC6H13

CN 0C6Hi3 0C6Hi3 CN_PPV (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁)

och3 CH=CH-)^- H3C0

MO-PPV

經濟邹智慧財產局員工消費合作社印製 G

MEH-PPV •⑷ 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（210X297公釐） _ 49 - 1312640 A7 B7 五、發明説明（48 【化5】

髮齡试锻齡 _ 51 (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁)

1312640 A7 B7 五、發明説明（49 ) 然而，於前述PPV薄膜之外，使用可得形成發光層之 (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 高分子有機化合物或低分子有機化合物，即於本例中使用做爲主材料者除了使用例如鋁啉酚配位化合物（Alq3)或二苯乙烯聯苯基，更且化學式（7)所示BeBq2或Zn(OXZ)2，然後TPD、ALO、DPVBi等以往一般所使用者之外，可列舉使用吡唑啉二聚物、喹嗪羧酸、全氯化苯并噁英鎗，苯并吡喃喹嗪、紅螢烯 '菲繞啉銪配位化合物等、包含此等之1 種或2種以上之有機電激發光元件用組成物。【化6】

經濟部智慧財產局員工消費合作社印製另一方面，做爲添加於如此主材料之客材料，如前所述，可列舉有螢光物質或燐光物質等之發光色素。尤其發光色素可變化發光層之發光特性，例如做爲發光層之發光效率的提升，或爲改變發光波長（發光色）之手段爲有效的。即，發光色素非單純做爲發光層材料者，可做爲擔任發光 -52- 223本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（210X297公釐） 1312640 A7 B7 五、發明説明（5(5 ) 機能本身之色素材料加以利用。例如，將於共軛系高分子有機化合物分子上之載體再結合所生成之激發子之能量，移至發光色素分子。此時，發光係僅自螢光量子效率高之發光色素分子產生，增加發光層之電流量子效率。因此，於發光層次形成材料中，經由加上發光色素，同時發光層之發光光譜成爲螢光分子之故，做爲改變發光色之手段亦爲有效。然而，在此所稱電流量子效率，係根據發光機能，考量發光性能之尺度，經由下式加以定義。 7? e =放出光子之能量/輸入電能然後，經由發光色素之攙雜所成光吸收極大波長之變換，例如可發光紅、綠、藍之3原色，可得該結果之全彩色顯示體。更且，經由攙雜發光色素，可大幅提升電激發光元件之發光效率。做爲發光色素，形成發光紅色之發色光之發光層時，使用雷射色素之DCM-1，或若旦明或若旦明衍生物、貝尼林等爲佳。將此等之發光色素，經由攙雜於PPV等主材料，可形成發光楮，此等之發光色素爲水溶性之時，攙雜於具有水溶性之PPV前驅體之鎏鹽，之後，加熱處理時，可更進行均勻之發光層之形成。做爲發光色素，具體而言，可列舉若旦明B、若旦明B基質、若旦明6G、若旦明101 過氯酸鹽等，將此等混合2種以上者亦可。又，形成發光綠色之發光色的發光層時，使用喹吖酮 -----L----- (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 訂經濟部智慧財產局員工消費合作社印製本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（210X297公釐） 53- 1312640 A7 ____B7_ 五、發明説明（51 ) (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 、紅螢烯、DC JT及該衍生物爲佳。對於此發光色素，與前述發光色素同樣，經由攙雜於PPV等主材料，雖可形成發光層，此等之發光色素爲水溶性時，攙雜於具有水溶性之 PPV前驅體之鎏鹽，之後，進行加熱處理，可更進行均勻發光層之形成。又，形成發光藍色之發光色的發光層時，使用二苯乙烯聯苯及該衍生物爲佳。對於此發光色素，與前述發光色素同樣，雖經由攙雜於PPV等主材料，可形成發光層，此等之發光色素爲水溶性時，攙雜於具有水溶性之PPV前驅體之鎏鹽，之後，進行加熱處理，可更進行均句發光層之形成。 . 又，做爲具有藍色之發色光之其他之發光色素，可列舉香豆素及該衍生物。此等之中香豆素係該本身雖不溶於溶媒者，經由適切選擇置換基，增加溶解性，可溶於溶媒。做爲如此發光色素，具體而言，可列舉香豆素-1、香豆素-6、香豆素-7、香豆素120、香豆素138、香豆素152、香豆素153、香豆素311'香豆素314、香豆素3 34、香豆素337、香豆素343等。經濟部智慧財產局員工消費合作社印製又，做爲具有其他之藍色之發色光的發光色素，可列舉四苯基丁二烯（TPB)或TPB衍生物、DPVBi等。此等之發光色素係與前述紅色發光色素同樣，可溶於水溶液，又與 ppv相溶性爲佳，容易進行發光層之形成。對於以上之發光色素，各色僅使用1種亦可，又’混合2種以上加以使用亦可。本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（210X297公釐） 1312640 A7 B7 五、發明説明（52 ) 然而，做爲如此發光色素，可使用化學式（8)所示者，或化學式（9)所示者，更且化學式（10)所示者。

本纸張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（210X 297公釐） -55 1312640 A7 B7 五、發明説明（53【化8】

本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) Α·4規格（210X297公釐） -56- 1312640

A

7 B 五 54 /IV 明説1 明 9發化 H3

_一3

no - N

o=c

(請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製

Q 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（210X 297公釐） -57 - 1312640 A7 B7 五、發明説明（55 ) 對於此等之發光色素，對於前述共軛系高分子有機化合物等所成主材料，經由後述之方法添加0.5〜10wt%爲佳。添加過多發光色素之添加量時，所得發光層之耐氣候性及耐久性的維持則變得困難，另一方面，添加量過少時，添加前述發光色素所產生之效果則並不充分》又，做爲添加於主材料之客材料的燐光物質，適於使用化學式（11)所示 Ir(ppy)3、Pt(thpy)2、PtOEP 等。化10 -- (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 一 > 3

Mppy)3 2Pt(thpy)2

訂經濟部智慧財產局員工消費合作社印製然而’將前述化學式（11)所示燐光物質成爲客材焊之時 ’做爲主材料，尤其適用學式（12)所示CBP、DCTA、TCPB 或前述 DPVBi、Alq3。又’對於前述發光色素和燐光物質，將此等共同做爲客材料’添加於主材料亦可。 Q- 本纸張尺度制巾ϋ國家標準（CNS ) A4^ ( 21〇χ297公釐） 58 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 1312640 A7 ___B7 五、發明説明（56 ) 【化11】

光層】4〇B’首先準備主材料所成材料層的第2之基體Η，和形成客材料所成材料層之第2之基體U。在此，對於此等第2之基體，基本上，令主材料共通，準備1種之主材料用第2之基體η，另一方面，對於主材料，準備紅、綠、藍之3種。此此，對於此等第2之基體11，如圖9(a)所示’預先圖案化該材料層亦可，或如圖6(a)所示，做爲單一層構造亦可。如此’準備形成各材料層之第2之基體11時，首先將由主材料形成材料層之第2之基體11，配置於透明基板 121上，與第1之例同樣地，照射光線，如圖12(a)所示’ 於各畫素1A之正孔輸送層i4〇a上，形成主材料層l4〇b。接著’代替自此主材料形成材料層之第2之基體11，配置由客材料形成材料層之第2之基體11中之一個（例如

Cy\ ^ ^中國國家標準（CNS >八4雕（21〇X 297公董 59- (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁)

1312640 A7 __B7_ 五、發明説明（57 ) (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 紅色用），同樣地，照射光線，由材料層飛散客材料，將此經由轉移擴散於主材料層140b中，將前述主材料層140b 如圖12(b)所示，成爲發光層140B »以下，同樣地對於其他之2色之客材料，於此經由照射光線，轉移擴散於各主材料層14 0b中，形成發光層14 0B。此時，對於形成主材料所成材料層之第2之基體11，如前述第2之例所示，如圖9(a)所示，預先圖案化成平面狀態，或圖9(b)所示，於凸部12上圖案化，於此照射光線而圖案化亦可，如第3例所示，使用光照射用之光罩14加以圖案化亦可。同樣地，對於形成對應各色之客材料所成材料層的第2 之基體1 1，如以前述第2之例所示，如圖9(a)所示，預先圖案化成平面狀態，或圖9(b)所示，於凸部12上圖案化，於此照射光線而圖案化亦可，如第3例所示，使用光照射用之光罩14加以圖案化的同時，將此移動，順序圖案化其他顏色亦可。經濟部智慧財產局員工消費合作社印製;3v 又，尤其，對於形成客材料所成材料層的第2之基體 11’將紅、綠、藍之各色之材料層，圖案化於同一之第2 之基體上，使用此以一次光照射工程，進行向主材料層 14 0b之各客材料之添加擴散亦可。然而’將前述主材料或客材料所成材料層，圖案化於第2之基體11上時，將此等材料溶解或分散於溶媒成爲墨水’將此墨水自前述噴墨頭30吐出，於第2之基體11形成材料層爲佳。本紙張尺度適财關家料（CNS )八4祕（210X297公釐)7^ 1312640 Α7 Β7 五、發明説明（58 ) (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 做爲如此之溶媒，具體而言，可列舉水、甲醇、乙醇等之具有與水相溶性之醇、Ν,Ν·二甲基甲醯胺（DMF)、N-甲基吡咯烷酮（ΝΜΡ)、二甲基咪唑啉（DMI)、二甲基亞碾 (DMSO)等之有機溶媒或無機溶媒，適切混合此等2種以上溶媒者亦可。更且，於前述主材料或客材料中，依需要添加濕潤劑亦可，更且添加其他之添加劑或被膜安定化材料亦可。如此，將主材料和客材料另外圖案化（材料之轉移），形成此等主/客材料所成發光層140Β之方法，將對應於紅、藍、綠的客材料，經由分成各預先形成之主材料層140Β所期望之位置加以轉移，可容易且正確形成所期望之圖案且期望之顏色發光之發光層，因此，在成本上，工程之效率化上，成爲有利之方法。即，在以往時，對於此等主/客材料，經由使用光罩之共蒸著法進行圖案化，於此時難以進行各色之分開。（於此共蒸著法中，使用蒸著用之光罩進行爲普通的，由於爲蒸著，難以於光罩經由蒸著材料，多數次重覆使用光罩。因此，在成本或工程之效率化等上有不利的情形。）經濟部智慧財產局員工消費合作社印製又，主材料於各色爲共通之時，將同樣主材料，塗佈或蒸著於透明基板121之全面，之後，以前述之本發明之方法，將對應R、G、B之客材料，轉移至主材料中，形成發光層。又，如此地，主材料於各色爲共通之時，無需將客材料層特別加以圖案化，經由旋塗法、蒸著法等，形成客材料層，使用本發明之方法，於客材料層導入發光色素 Μ 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS > Α4規格（21 ΟΧ297公釐） 61 - 1312640 A7 B7 五、發明説明（59 ) 亦可。然而，於前述第1、2、3、4之例，做爲發光層140B 之下層，形成正孔輸送層140A，做爲上層形成電子輸送層 140C，但本發明不限定於此，例如僅形成此正孔輸送層 140A和電子輸送層140C中之一方亦可，又，代替正孔輸送層140A，形成正孔注入層亦可，更且僅發光層140B單獨形成亦可。又，附加於前述正孔注入層（未圖示）' 正孔輸送層 14〇Α、發光層140B、電子輸送層l4〇C，將孔保護層例如形成於發光層14〇Β之對向電極I54側，以達成發光層 1 4〇B之長壽命化亦可。做爲如此孔保護層之形成材料，例如雖使用化學式（13)所示BCP或使用化學式（14)所示BAlq ，在長壽命化下，B Alq者爲佳。【化12】 (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製

233本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（210X297公釐） -拟_ 1312640 A7 B7 五、發明説明（6Q )

(請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 又’本發明之圖案化方法中，非僅適用於前述例示之有機電激發光元件之構成要素之形成，可適用於種種用途。例如，可適用於液晶顯示裝置等之各種顯示裝置（光電裝置）之彩色濾色片之形成（圖案）。即’將彩色濾色片材料，例如形成如圖6(a)所示，塗佈於第2之基體Π上或經由噴墨法等圖案之材料層10，於圖6(c)所示之形態’將此第2之基體11，配置於第1之基體（形成顯示裝置之構成要件的透明基板）上，於材料層10 照射光線，經由飛散材料，將此轉移至第1之基體上，形成彩色濾色片之圖案。經濟部智慧財產局員工消費合作社印製在此’做爲彩色濾色片材料，例如於聚胺基甲酸酯寡聚物或聚甲基甲基丙烯酸酯寡聚物，分散紅 '綠或藍之各色之無機顏料後，做爲低沸點溶劑，加上環己酮及乙酸乙酯’做爲高沸點溶劑，加上丁基卡必醇乙酸酯，更且依需要’將非離子系界面活性劑做爲分散劑加以添加，將黏度使用調整於所定之範圍者。然而，做爲自如此材料所得彩色濾色片，透過所期望之顏色，或發光或反射所期望之色 -63- 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) Α4規格（210Χ297公釐） 1312640 A7 B7 五、發明説明（61 ) 之光。於如此彩色濾色片之製造方法中，經由前述本發明之圖案化方法’圖案化彩色濾色片之故，可容易且正確形成 (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 彩色濾色片，而且可將該形成材料，以高自由度加以選擇 ’可達成所得彩色濾色片之品質提升或成本之減低。又，經由如此之方法，形成彩色濾色片，或經由前述圖案化方法’形成有機電激發光元件之各構成要件的光電裝置之製造方法，可容易且正確形成所期望圖案之材料部（正孔輸送層14〇Α或發光層140B、電子輸送層l4〇c等）或彩色濾色片，且將該形成材料以高自由度加以選擇，可達成所得材料部或彩色濾色片之品質提升，更且成本之減低〇又，如此所得之光電裝置中，可達成所得材料部或彩色濾色片之品質提升，更且成本之減低，或可容易且正確形成所期望圖案且呈現所期望顏色的發光層》經濟部智慧財產局員工消費合作社印製又，本發明之圖案化方法係可適用各種電子裝置之製造方法，及經由此製造方法所得電子裝置。即，將電子裝置之構成要素之至少一部分，經由本發明之圖案化方法或使用本發明之圖案化方法加以圖案化，成爲本發明之電子裝置或此製造方法。做爲適用電子裝置，不特別加以限定，可使用種種之情形。例如，可列舉具有記憶體或TFT(薄膜電晶體）、二極體等之各種電子元件。根據如此電子裝置和該製造方法，可容易且正確形成

Db本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（210X297公釐） 1312640 A7 B7 五、發明説明（62 ) 構成要素，而且可將該形成材料以高自由度加以選擇，達成品質提升或成本之減低。 (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 接著，對於具備使用前述例之有機電激發光元件，或彩色濾色片的光電裝置的電子機器之具體例加以說明。圖13(a)係顯示攜帶電話機之一例的斜視圖。圖13(a) 中，500係顯示攜帶電話機，501係圖3、圖4所示之顯示裝置所成顯示部（顯示手段），或使用前述彩色濾色片之顯示部（顯示手段）。圖13(b)係顯示文字處理機、個人電腦等之攜帶型資訊處理裝置之一例的斜視圖。於圖13(b)中，600係資訊處理裝置、601係鍵盤等之輸入部、603係資訊處理本體、602 係顯示前述圖3、圖4所示顯示裝置所成顯示部（顯示手段）、或使用前述彩色濾色片之顯示部（顯示手段）。圖13(c)係顯示手錶型電子機器之一例的斜視圖。於圖 13(c)中，700係手錶本體、701係顯示前述圖3、圖4所示顯示裝置所成顯示部（顯示手段）、或使用前述彩色濾色片之顯示部（顯示手段）。示於圖13(a)〜（c)之電子機器係具備前述光電裝置者，經濟部智慧財產局員工消費合作社印製具備得優異顯示品質之顯示手段的電子機器。 » 【發明之效果】如以上所說明’本發明之圖案化方法係於第1之基體上’配置材料層，於該材料層經由照射光線，將該材料層之材料’轉移至第1之基體，形成所期望圖案之材料部之 -65- 2 Jb本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（210X297公釐） 1312640 A7 B7 五、發明説明（63 ) 方法，經由以高能量照射光線時，照射之物質之一部分飛 (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 散成分子狀的原理，將照射光線之材料層之材料，轉移至第1之基體上的方法。因此，經由將光線之照射對應於所期望之圖案加以進行，於第1之基體上，可容易且正確形成所期望之圖案之材料部。又，對於材料層之材料，未特別加以限定，提高材料之選擇自由度。本發明之圖案化裝置係具備照射光線之光照射機構，和保持基體之保持機構之故，經由光照射機構，於材料層照射光線，將材料層之材料轉移至保持於保持機構之基體上。因此，將光線之照射對應於所期望之圖案加以進行，於基體上，可容易且正確進行所期望圖案之材料部。又，對於材料層之材料，未特別加以限定，可將材料之選擇自由度提高。經濟部智慧財產局員工消費合作社印製本發明之有機電激發光元件之製造方法，係使用前述圖案化方法，形成電子輸送層、正孔輸送層、發光層中之至少一個之故，可容易且正確形成此等電子輸送層、正孔輸送層或發光層，而且可將該形成材料以高自由度加以選擇之故’達成所得有機電激發光元件之品質提升或成本之減低。本發明之光電裝置之製造方法，係使用前述圖案化方法’或彩色濾色片之製造方法，圖案化構成要素之至少一部之故’可容易且正確形成所期望圖案之材料部，或彩色濾色片’而且可將該形成材料以高自由度加以選擇之故，達成所得材料部或彩色據色片之品質提升，且成本之減低 -66- 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（210X297公釐） 1312640 A7 B7 五、發明説明（65 ) 材料部或彩色濾色片之品質提升，更且成本之減低，或可容易且正確形成所期望圖案，且所期望顏色之發光層。【圖面之簡單說明】【圖1】本發明之圖案化裝置之一例的槪略構成圖。【圖2】本發明之圖案化裝置之其他一例的槪略構成圖〇【圖3】顯示本發明之光電裝置之配置部之電路圖^ 【圖4】顯示圖3所示光電裝置之畫素部之平面構造的擴大平面圖。【圖5】（a)〜（e)係於圖3、圖4所示之光電裝置之製造方法，將適用本發明之圖案化方法時之第1之例，依工程順序加以說明的主要部分截面圖。【圖6】（a)〜（c)係將本發明之圖案化方法，依工程順序加以說明的主要部分截面圖。【圖7】（a)~(c)係持續於圖5，將工程依順序加以說明的主要部分側截面圖。【圖8】（a)、（b)係持續於圖7，將工程依順序加以說明的主要部分側截面圖。【圖9】於圖3、圖4所示之光電裝置之製造方法，將適用本發明之圖案化方法時之第2之例，依工程順序加以說明者’（a)係第2之基體之主要部分平面圖，（b)係與示於 (a)不同之第2之基體之主要側截面圖，（c)係顯示將示於（b) 之第2之基體’配置於透明基板上之狀態的主要側截面圖 (請先S讀背面之注$項再填窝本頁) <Tr 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製

本紙張尺度適用中國國家榡率（CNS)八4狀（2丨0><297公麓） -68- 1312640 A7 ______B7_ 五、發明説明（66 ) 0 【圖10】爲說明噴墨頭之槪略構成之圖，（a)係主要部斜視圖，（b)係主要部側截面圖。【圖11】（a)(b)係爲說明使用於本發明之光照射用之光罩的主要部平面圖。【圖12】（a)(b)係爲說明將主/客材料，順序地分配圖案化時之方法之主要部側截面圖。【圖13】顯示具備電激發光顯示器之電子機器之具體例圖，（a)顯示適用於攜帶電話時之一例的斜視圖，（b)顯示適用於資訊處理裝置時之一例的斜視圖、（Ο顯示適用於手錶型電子機器時之一例的斜視圖。【符號之說明】 (請先間讀背面之注意事項再填寫本1·) 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 1 顯示裝置 10 材料層 11 第2之基體 14、15 (光照射用）光罩 50 ' 60 圖案化裝置 5 1 材料層 52 基體 53 光照射機構 53a 光源 53b 掃瞄部 54 保持機構本紙張尺度適用中國國家標準（CNS > A4規格（2丨0X297公釐） -69 - 1312640 A7 五、發明説明（67 ) 55 第2之基體 61 光照射用光罩 12 1 透明基板 14 1 畫素電極 140A 正孔輸送層 140B 發光層 140b 主材料層 140C 電子輸送層 154 對向電極經濟部智慧財產局員工消費合作社印製;4M, (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁)

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Claims

Α8 Β8 C8 D8 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製六、申請專利範圍第9 1 1 2 1 0 3 7號專利申請案中文申請專利範圍修正本民國97年9月22日修正 1. 一種圖案化方法，其特徵係包含在於第1之基體;^ 上方，在形成於最上層之受容層上方配置材料層之第1 χ 程，和經由在於該材料層照射脈衝光線，將含於該材料層之材料，轉移至前述受容層內之第2工程。 2. —種圖案化方法，其特徵乃包含在於形成於第1 $ 基體上方之最上層之受容層之上方，配置材料層之第1 0：程，和在於前述材料層，經由進行脈衝光線之照射，將含於前述材料層之材料，轉移至前述受容層之第2工程；於前述第2之工程中，前述脈衝光線在前述材料層之脈衝強度乃較通過入射至前述材料層之前的媒質之前述脈衝強度爲大者。 3. 如申請專利範圍第1項或第2項之圖案化方法，其中，從前述第1之基體側，向前述材料層照射脈衝光線者〇 4·如申請專利範圍第1項或第2項之圖案化方法，其中，將前述脈衝光線透過前述第1基體照射於前述材料層〇 5 .如申請專利範圍第3項之圖案化方法，其中，前述材料層預先圖案化於前述第2之基體上加以形成，對應形成於前述第2之基體上的圖案，於第1之基體上形成期望本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) Α4规格（210X297公釐）^ (請先閎讀背面之注意事項再_ 叫！、-° Ψ. A8 B8 C8 D8 1312640 六、申請專利範圍圖案之材料部。 6 ·如申請專利範圍第1項或第2項之圖案化方法’其中’使用對應於預先所期望之圖案所形成光照射用光罩’ 經由將光線之照射透過該光照射用光罩加以進行，將前述材料層之材料轉移至前述第1之基體上，形成所期望之材料部。 7. 如申請專利範圍第1項或第2項之圖案化方法，其中，前述光線爲紅外線。 8. 如申請專利範圍第1項或第2項之圖案化方法，其中’前述光線係雷射光線。 9 ·如申請專利範圍第7項之圖案化方法，其中，前述雷射光線係脈衝光線。 1 0·如申請專利範圍第1項或第2項之圖案化方法，其中，經由對於前述光線之前述材料層的照射，激勵前述材料層之前述材料之非線形光學現象，將前述材料轉移M 前述第1之基體上。 11.如申請專利範圍第1項或第2項之圖案化方法，其中，前述材料層爲電極材料。 1 2.如申請專利範圍第1項或第2項之圖案化方法，其中’前述材料層爲構成有機電激發光元件之電子輸送層、正孔輸送層、發光層中之至少一個之形成材料。 1 3 .如申請專利範圍第1項之圖案化方法，其中，於前述第1之基體之最上層形成受容層’於前述受容層上，配置包含光學材料的光學材料層，於前述光學材料層終由 ^氏張尺度適用中國國家^準（CNS ) A4規格（2丨〇><297公釐） ^ --- -2 - (請先閲讀背面之注意事項再^^本貰) 訂 f. 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 A8 B8 C8 D8 1312640 夂、申請專利範圍照射光線，將前述光學材料向前述受容層內轉移。 14. 一種膜形成方法，其特徵係於第〗之基板之上方 ’配置形成所定之圖案的材料膜，經由於前述材料膜照射脈衝光線，將前述材料膜之材料轉移至前述第1之基體上，於即述第2之工程中’前述脈衝光線在前述材料層之脈衝強度乃較通過入射至前述材料層之前的媒質之前述脈衝強度爲大者。 1 5 ·如申請專利範圍第丨項或第2項之圖案化方法，其中，經由前述第2之工程，於前述第丨之基板形成圖案者。 1 6 ·如申請專利範圍第丨項或第2項之圖案化方法，其中，前述媒質乃前述第1之基板者。 (請先閲·#背面之注意事項再本頁)

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經濟部智慧財產局員工消費合作社印製張 -紙本用準標家嫠公 7 9 2