JP2918037B1 - カラー有機ｅｌディスプレイとその製造方法 - Google Patents
カラー有機ｅｌディスプレイとその製造方法Info
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- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims description 42
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims abstract description 54
- 239000011368 organic material Substances 0.000 claims abstract description 52
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 claims abstract description 36
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims abstract description 36
- 239000011521 glass Substances 0.000 claims abstract description 27
- 230000005525 hole transport Effects 0.000 claims abstract description 26
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 34
- 239000000463 material Substances 0.000 claims description 23
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 claims description 15
- 230000001678 irradiating effect Effects 0.000 claims description 7
- 238000003825 pressing Methods 0.000 claims description 5
- 238000010030 laminating Methods 0.000 claims 1
- 229910001092 metal group alloy Inorganic materials 0.000 claims 1
- 239000003086 colorant Substances 0.000 abstract description 6
- 239000010408 film Substances 0.000 description 22
- 238000000859 sublimation Methods 0.000 description 16
- 230000008022 sublimation Effects 0.000 description 16
- 238000007740 vapor deposition Methods 0.000 description 10
- APLQAVQJYBLXDR-UHFFFAOYSA-N aluminum quinoline Chemical compound [Al+3].N1=CC=CC2=CC=CC=C12.N1=CC=CC2=CC=CC=C12.N1=CC=CC2=CC=CC=C12 APLQAVQJYBLXDR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 8
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 7
- -1 tris (8 -Quinolinol) aluminum Chemical compound 0.000 description 6
- 239000002019 doping agent Substances 0.000 description 5
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 5
- YLYPIBBGWLKELC-UHFFFAOYSA-N 4-(dicyanomethylene)-2-methyl-6-(4-(dimethylamino)styryl)-4H-pyran Chemical compound C1=CC(N(C)C)=CC=C1C=CC1=CC(=C(C#N)C#N)C=C(C)O1 YLYPIBBGWLKELC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 238000011109 contamination Methods 0.000 description 4
- 238000005530 etching Methods 0.000 description 4
- 238000000206 photolithography Methods 0.000 description 4
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 3
- 238000012864 cross contamination Methods 0.000 description 3
- 238000005401 electroluminescence Methods 0.000 description 3
- 238000005192 partition Methods 0.000 description 3
- 238000007738 vacuum evaporation Methods 0.000 description 3
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NRCMAYZCPIVABH-UHFFFAOYSA-N Quinacridone Chemical compound N1C2=CC=CC=C2C(=O)C2=C1C=C1C(=O)C3=CC=CC=C3NC1=C2 NRCMAYZCPIVABH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910004298 SiO 2 Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 2
- 230000008021 deposition Effects 0.000 description 2
- 230000006866 deterioration Effects 0.000 description 2
- 125000000040 m-tolyl group Chemical group [H]C1=C([H])C(*)=C([H])C(=C1[H])C([H])([H])[H] 0.000 description 2
- 125000002080 perylenyl group Chemical group C1(=CC=C2C=CC=C3C4=CC=CC5=CC=CC(C1=C23)=C45)* 0.000 description 2
- CSHWQDPOILHKBI-UHFFFAOYSA-N peryrene Natural products C1=CC(C2=CC=CC=3C2=C2C=CC=3)=C3C2=CC=CC3=C1 CSHWQDPOILHKBI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 2
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 2
- VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N Chromium Chemical compound [Cr] VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OAICVXFJPJFONN-UHFFFAOYSA-N Phosphorus Chemical compound [P] OAICVXFJPJFONN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 1
- XAGFODPZIPBFFR-OUBTZVSYSA-N aluminium-28 atom Chemical compound [28Al] XAGFODPZIPBFFR-OUBTZVSYSA-N 0.000 description 1
- 238000005452 bending Methods 0.000 description 1
- 230000000740 bleeding effect Effects 0.000 description 1
- 229910052804 chromium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011651 chromium Substances 0.000 description 1
- 238000010549 co-Evaporation Methods 0.000 description 1
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 1
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 1
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 1
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 1
- 150000004985 diamines Chemical class 0.000 description 1
- 238000009826 distribution Methods 0.000 description 1
- 238000001704 evaporation Methods 0.000 description 1
- 230000008020 evaporation Effects 0.000 description 1
- 238000005755 formation reaction Methods 0.000 description 1
- 239000011261 inert gas Substances 0.000 description 1
- 229910017464 nitrogen compound Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000002830 nitrogen compounds Chemical class 0.000 description 1
- 150000002894 organic compounds Chemical class 0.000 description 1
- 229920002120 photoresistant polymer Polymers 0.000 description 1
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 1
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 1
- 238000000926 separation method Methods 0.000 description 1
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 1
- 230000002195 synergetic effect Effects 0.000 description 1
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10K—ORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
- H10K59/00—Integrated devices, or assemblies of multiple devices, comprising at least one organic light-emitting element covered by group H10K50/00
- H10K59/30—Devices specially adapted for multicolour light emission
- H10K59/35—Devices specially adapted for multicolour light emission comprising red-green-blue [RGB] subpixels
-
- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05B—ELECTRIC HEATING; ELECTRIC LIGHT SOURCES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; CIRCUIT ARRANGEMENTS FOR ELECTRIC LIGHT SOURCES, IN GENERAL
- H05B33/00—Electroluminescent light sources
- H05B33/12—Light sources with substantially two-dimensional radiating surfaces
- H05B33/14—Light sources with substantially two-dimensional radiating surfaces characterised by the chemical or physical composition or the arrangement of the electroluminescent material, or by the simultaneous addition of the electroluminescent material in or onto the light source
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10K—ORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
- H10K71/00—Manufacture or treatment specially adapted for the organic devices covered by this subclass
- H10K71/10—Deposition of organic active material
- H10K71/18—Deposition of organic active material using non-liquid printing techniques, e.g. thermal transfer printing from a donor sheet
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10K—ORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
- H10K85/00—Organic materials used in the body or electrodes of devices covered by this subclass
- H10K85/30—Coordination compounds
- H10K85/321—Metal complexes comprising a group IIIA element, e.g. Tris (8-hydroxyquinoline) gallium [Gaq3]
- H10K85/324—Metal complexes comprising a group IIIA element, e.g. Tris (8-hydroxyquinoline) gallium [Gaq3] comprising aluminium, e.g. Alq3
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10K—ORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
- H10K85/00—Organic materials used in the body or electrodes of devices covered by this subclass
- H10K85/60—Organic compounds having low molecular weight
- H10K85/611—Charge transfer complexes
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- Engineering & Computer Science (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Electroluminescent Light Sources (AREA)
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Abstract
【要約】
【課題】 発光性有機材料を高精度に配置し、３色独立
発光を可能としたカラー有機ＥＬディスプレイを提供す
ることにある。 【解決手段】 ＩＴＯ膜１２上に正孔輸送層１４を形成
した基板１０と、凸状突起部１８内部が空洞である金属
シート１６表面に発光性有機材料２０を成膜し、正孔輸
送層１４表面と金属シート１６凸状突起１８をガラス板
２２で圧着した後、凸状突起部１８内部と同等の開口部
を設けた遮蔽板を介して、レーザー光を突起内部へ照射
し、凸状突起１８表面の発光性有機材料を昇華させて、
正孔輸送層１４表面へ転写する工程を３色発光素子の領
域に合わせて行う。
発光を可能としたカラー有機ＥＬディスプレイを提供す
ることにある。 【解決手段】 ＩＴＯ膜１２上に正孔輸送層１４を形成
した基板１０と、凸状突起部１８内部が空洞である金属
シート１６表面に発光性有機材料２０を成膜し、正孔輸
送層１４表面と金属シート１６凸状突起１８をガラス板
２２で圧着した後、凸状突起部１８内部と同等の開口部
を設けた遮蔽板を介して、レーザー光を突起内部へ照射
し、凸状突起１８表面の発光性有機材料を昇華させて、
正孔輸送層１４表面へ転写する工程を３色発光素子の領
域に合わせて行う。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、有機化合物材料の
エレクトロルミネッセンスを利用したカラー有機ＥＬデ
ィスプレイ及びその製造方法に関する。
エレクトロルミネッセンスを利用したカラー有機ＥＬデ
ィスプレイ及びその製造方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】このカラー有機ＥＬディスプレイによる
有機エレクトロルミネッセンス表示装置では、カラー発
光素子を形成すべく各発光性有機材料を微細なパターン
として透明電極上へ選択的に形成することが重要な要素
の一つとなっている。
有機エレクトロルミネッセンス表示装置では、カラー発
光素子を形成すべく各発光性有機材料を微細なパターン
として透明電極上へ選択的に形成することが重要な要素
の一つとなっている。
【０００３】この目的のために、通常発光性有機材料を
選択的に蒸着成膜する場合、金属シートに開口部を設け
たシャドウマスク法という手法が採用されている（図１
０）。図１０によれば、透明なガラス基板１０１の下
に、透明な陽極１０２が配置され、その下に有機蛍光体
薄膜や有機正孔輸送層１０３が積層され、その下に選択
的に選択されて蒸着された金属製の陰極１０６が積層さ
れている。さらに、微小な空隙を設けてシャドウマスク
となる金属シート１０４が配置され、蒸着により積層さ
れた蒸着膜１０６が積層されている。また、蒸着材１０
５が下方から蒸着され、選択的に選択された金属製の陰
極１０６と、シャドウマスクの金属シート１０４に積層
された蒸着膜１０６とが残部として示されている。な
お、陽極１０２も陰極１０６とクロスして行と列の形態
で選択的に配置されており、画像用に発光させるため
に、陽極１０２と陰極１０６に画像形成用の走査電圧を
印加する。
選択的に蒸着成膜する場合、金属シートに開口部を設け
たシャドウマスク法という手法が採用されている（図１
０）。図１０によれば、透明なガラス基板１０１の下
に、透明な陽極１０２が配置され、その下に有機蛍光体
薄膜や有機正孔輸送層１０３が積層され、その下に選択
的に選択されて蒸着された金属製の陰極１０６が積層さ
れている。さらに、微小な空隙を設けてシャドウマスク
となる金属シート１０４が配置され、蒸着により積層さ
れた蒸着膜１０６が積層されている。また、蒸着材１０
５が下方から蒸着され、選択的に選択された金属製の陰
極１０６と、シャドウマスクの金属シート１０４に積層
された蒸着膜１０６とが残部として示されている。な
お、陽極１０２も陰極１０６とクロスして行と列の形態
で選択的に配置されており、画像用に発光させるため
に、陽極１０２と陰極１０６に画像形成用の走査電圧を
印加する。
【０００４】しかしながら、この手法では、発光素子領
域の微細化にともなう金属シートの微細化加工、および
金属シートの撓みや延びによって、発光素子領域への正
確な蒸着成膜が困難であることや、金属シートと正孔輸
送層との接触による素子部破壊が生じ、発光素子が大き
くなり精細性に欠ける、また非発光素子発生によって視
認性が悪く、且つ製造歩留まりが低下する原因となる。
このため、表示装置の視認性および製造方法に関し、十
分とは言えず、金属シートに開口部を設けたシャドウマ
スク法を採用することは、好ましくない。
域の微細化にともなう金属シートの微細化加工、および
金属シートの撓みや延びによって、発光素子領域への正
確な蒸着成膜が困難であることや、金属シートと正孔輸
送層との接触による素子部破壊が生じ、発光素子が大き
くなり精細性に欠ける、また非発光素子発生によって視
認性が悪く、且つ製造歩留まりが低下する原因となる。
このため、表示装置の視認性および製造方法に関し、十
分とは言えず、金属シートに開口部を設けたシャドウマ
スク法を採用することは、好ましくない。
【０００５】そこで、例えば特開平２−１７６７０７号
公報には、加熱エンボス面の使用によるカラーフィルタ
ーアレイ素子の製法に関し、それぞれ異なる色の昇華性
色素からなる複数の供与材料と、色素受容層を保有する
支持体からなる受容素子を使用し、各供与材料を受容素
子と順次対面接触させ、加熱されたエンボス面との接触
によりパターン状に加熱して、色素パターンを受容層に
転写することによる、支持体上に保有される反復モザイ
クパターン状着色剤のアレイを製造する方法が開示され
ている。
公報には、加熱エンボス面の使用によるカラーフィルタ
ーアレイ素子の製法に関し、それぞれ異なる色の昇華性
色素からなる複数の供与材料と、色素受容層を保有する
支持体からなる受容素子を使用し、各供与材料を受容素
子と順次対面接触させ、加熱されたエンボス面との接触
によりパターン状に加熱して、色素パターンを受容層に
転写することによる、支持体上に保有される反復モザイ
クパターン状着色剤のアレイを製造する方法が開示され
ている。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、熱伝導
性の良好な金属シートに対して、加熱型ローラーによる
エンボス面の加熱は、逆に熱伝導性が良好であるがため
に、エンボス面の凹凸全体を熱することから、エンボス
面における昇華性材料の昇華転写の点において、エンボ
ス面以外も昇華されて転写してしまい、新たに受容素子
への供与材料の相互汚染を引き起こし、色純度が低下す
るという問題をもたらしている。
性の良好な金属シートに対して、加熱型ローラーによる
エンボス面の加熱は、逆に熱伝導性が良好であるがため
に、エンボス面の凹凸全体を熱することから、エンボス
面における昇華性材料の昇華転写の点において、エンボ
ス面以外も昇華されて転写してしまい、新たに受容素子
への供与材料の相互汚染を引き起こし、色純度が低下す
るという問題をもたらしている。
【０００７】更に、加熱型ローラーとエンボス付き金属
を接触させて熱伝導を行うことから、高度な接触面精度
が要求され、製造歩留まりが低下する。しかも、昇華性
材料は加熱する温度管理が重要であるために、ローラー
形状の加熱方式では昇華ムラを生ずる。
を接触させて熱伝導を行うことから、高度な接触面精度
が要求され、製造歩留まりが低下する。しかも、昇華性
材料は加熱する温度管理が重要であるために、ローラー
形状の加熱方式では昇華ムラを生ずる。
【０００８】このようなことから、上記公報に記載の従
来例をカラー有機ＥＬディスプレイへ適応することを考
えてみると、素子発光色のバラツキおよび非発光素子の
形成という問題を発生して採用することができない。
来例をカラー有機ＥＬディスプレイへ適応することを考
えてみると、素子発光色のバラツキおよび非発光素子の
形成という問題を発生して採用することができない。
【０００９】本発明の主な目的の一つは、エレクトロル
ミネッセンスの発光素子領域におけるカラー発光性有機
材料の相互汚染を引き起こすことなく、選択性に優れた
カラー有機ＥＬディスプレイの製造方法を提供すること
にある。
ミネッセンスの発光素子領域におけるカラー発光性有機
材料の相互汚染を引き起こすことなく、選択性に優れた
カラー有機ＥＬディスプレイの製造方法を提供すること
にある。
【００１０】また、本発明の主な他の目的は、カラー発
光性有機材料を昇華させる手法にレーザー光を用いて、
特定の領域を加熱することで、安定した温度管理による
カラー発光性有機材料の昇華を実施できるカラー有機Ｅ
Ｌディスプレイの製造方法を提供することにある。
光性有機材料を昇華させる手法にレーザー光を用いて、
特定の領域を加熱することで、安定した温度管理による
カラー発光性有機材料の昇華を実施できるカラー有機Ｅ
Ｌディスプレイの製造方法を提供することにある。
【００１１】
【課題を解決するための手段】本発明によるカラー有機
ＥＬディスプレイの製造方法は、カラー３色独立発光を
可能とする、少なくとも一方が透明または半透明の対抗
する一対の電極間に発光性有機材料を形成するという構
成に対し、予め発光性有機材料が蒸着成膜された高熱伝
導性の凸状突起を有する転写基板と、前記転写基板を透
明導電膜基板または透明導電膜上に形成された正孔輸送
層の上に圧着する工程と、前記圧着時に転写基板の凸状
突起内部を選択的に加熱することを特徴としている。
ＥＬディスプレイの製造方法は、カラー３色独立発光を
可能とする、少なくとも一方が透明または半透明の対抗
する一対の電極間に発光性有機材料を形成するという構
成に対し、予め発光性有機材料が蒸着成膜された高熱伝
導性の凸状突起を有する転写基板と、前記転写基板を透
明導電膜基板または透明導電膜上に形成された正孔輸送
層の上に圧着する工程と、前記圧着時に転写基板の凸状
突起内部を選択的に加熱することを特徴としている。
【００１２】また、本発明は、有機発光材料を積層した
カラー有機ＥＬディスプレイの製造方法において、第１
の電極はガラス基板に積層して正孔輸送層を積層する第
１の基板の製造工程と、ガラス板に先端が平坦で中空の
突起部を有する金属シートを積層しさら有機発光材料を
積層した第２の基板の製造工程と、前記第１の基板の前
記正孔輸送層と前記第２の基板の有機発光材料を対面押
圧視する対面工程と、前記対面工程の後に前記第２の基
板の前記ガラス板方向からレーザ光を照射して前記突起
部を昇温して前記有機発光材料を前記第１の基板に転写
する転写工程を有することを特徴とする。
カラー有機ＥＬディスプレイの製造方法において、第１
の電極はガラス基板に積層して正孔輸送層を積層する第
１の基板の製造工程と、ガラス板に先端が平坦で中空の
突起部を有する金属シートを積層しさら有機発光材料を
積層した第２の基板の製造工程と、前記第１の基板の前
記正孔輸送層と前記第２の基板の有機発光材料を対面押
圧視する対面工程と、前記対面工程の後に前記第２の基
板の前記ガラス板方向からレーザ光を照射して前記突起
部を昇温して前記有機発光材料を前記第１の基板に転写
する転写工程を有することを特徴とする。
【００１３】さらに、本発明によれば、凸状突起を加熱
するためにレーザー光を用いることから、微細化した発
光素子領域に対して選択的な加熱が可能となりカラー３
色独立発光を特徴として有する視認性の良い高精細・高
視野角のカラー有機ＥＬディスプレイが得られる。
するためにレーザー光を用いることから、微細化した発
光素子領域に対して選択的な加熱が可能となりカラー３
色独立発光を特徴として有する視認性の良い高精細・高
視野角のカラー有機ＥＬディスプレイが得られる。
【００１４】このように、予め発光性有機材料が蒸着成
膜された高熱伝導性の凸状突起を有する転写基板を設け
ている。この凸状突起は、発光性有機材料を選択的に発
光素子領域へ昇華転写するという役目を果たす。
膜された高熱伝導性の凸状突起を有する転写基板を設け
ている。この凸状突起は、発光性有機材料を選択的に発
光素子領域へ昇華転写するという役目を果たす。
【００１５】従って、カラー３色発光性有機材料の相互
汚染からなる色純度の悪化を防止するという効果が得ら
れる。
汚染からなる色純度の悪化を防止するという効果が得ら
れる。
【００１６】また、凸状突起表面と正孔輸送層表面を圧
着した状態で凸状突起内部へ加熱源のレーザー光を照射
し凸状突起表面に成膜した発光性有機材料を加熱した結
果として、発光性有機材料が昇華され透明導電膜上に形
成された正孔輸送層表面に転写される。
着した状態で凸状突起内部へ加熱源のレーザー光を照射
し凸状突起表面に成膜した発光性有機材料を加熱した結
果として、発光性有機材料が昇華され透明導電膜上に形
成された正孔輸送層表面に転写される。
【００１７】従って、凸状突起表面以外はレーザー光が
照射されないので照射部との温度勾配が生じて発光性有
機材料は昇華されずにそのままの状態で残り、他の発光
素子への汚染が無く色純度が向上するという効果を奏す
る。
照射されないので照射部との温度勾配が生じて発光性有
機材料は昇華されずにそのままの状態で残り、他の発光
素子への汚染が無く色純度が向上するという効果を奏す
る。
【００１８】
【発明の実施の形態】本発明の上記および他の目的、特
徴および利点を明確にすべく、添付した図面を参照しな
がら、本発明の実施の形態を以下に詳述する。
徴および利点を明確にすべく、添付した図面を参照しな
がら、本発明の実施の形態を以下に詳述する。
【００１９】［第１の実施形態］図１を参照すると、本
発明による第１の実施形態として、発光性有機材料２０
を昇華転写する際の平面図および断面図が示されてい
る。図１（ｂ）の製造段階の、図１（ｃ）の製造結果の
各図は、図１（ａ）のＡ−Ａ線にそれぞれ沿った断面図
である。
発明による第１の実施形態として、発光性有機材料２０
を昇華転写する際の平面図および断面図が示されてい
る。図１（ｂ）の製造段階の、図１（ｃ）の製造結果の
各図は、図１（ａ）のＡ−Ａ線にそれぞれ沿った断面図
である。
【００２０】ディスプレイの表示面となるガラス基板１
０上には、透明導電膜のＩＴＯ膜１２および正孔輸送層
１４が形成されている。一方、図１（ｂ）を参照して、
転写基板は金属シート１６に発光素子領域に平面形状を
合わせた高さ５０ミクロン以下の突起部１８があり、突
起部１８の厚みは熱伝導効率を考慮して１０ミクロン前
後となっている。この状態で発光性有機材料２０を金属
シート１６上に真空蒸着によって成膜する。この金属シ
ート１６上には、可視光域の光線に対して透明性の高い
ガラス板２２が設けられ、ガラス板２２の自重によっ
て、ガラス基板１０上へ圧着される。
０上には、透明導電膜のＩＴＯ膜１２および正孔輸送層
１４が形成されている。一方、図１（ｂ）を参照して、
転写基板は金属シート１６に発光素子領域に平面形状を
合わせた高さ５０ミクロン以下の突起部１８があり、突
起部１８の厚みは熱伝導効率を考慮して１０ミクロン前
後となっている。この状態で発光性有機材料２０を金属
シート１６上に真空蒸着によって成膜する。この金属シ
ート１６上には、可視光域の光線に対して透明性の高い
ガラス板２２が設けられ、ガラス板２２の自重によっ
て、ガラス基板１０上へ圧着される。
【００２１】そして、本発明に従って、発光素子領域と
同等の開口部を設けた遮蔽板２４を介して、レーザー光
２６をガラス基板１０上のディスプレイとなるべき領域
全面を照射している。
同等の開口部を設けた遮蔽板２４を介して、レーザー光
２６をガラス基板１０上のディスプレイとなるべき領域
全面を照射している。
【００２２】そのレーザー光２６は光束の直進性がある
ためにマスク２４の開口部通過後であっても光の散乱は
発生せず突起部１８の内部のみを照射する。照射部はレ
ーザー光２６が熱変換され、突起部１８表面の発光性有
機材料２０が昇華し、接している正孔輸送層１４の表面
へ転写する。
ためにマスク２４の開口部通過後であっても光の散乱は
発生せず突起部１８の内部のみを照射する。照射部はレ
ーザー光２６が熱変換され、突起部１８表面の発光性有
機材料２０が昇華し、接している正孔輸送層１４の表面
へ転写する。
【００２３】かかる突起部１８の内部側壁においては、
熱勾配が発生してレーザー光２６の照射部よりも低温と
なっているので、発光性有機材料２０の昇華が抑制され
る。
熱勾配が発生してレーザー光２６の照射部よりも低温と
なっているので、発光性有機材料２０の昇華が抑制され
る。
【００２４】従って、不図示の隣接するカラー発光性有
機材料２０間の相互汚染防止という効果がもたらされ
る。
機材料２０間の相互汚染防止という効果がもたらされ
る。
【００２５】本実施形態のカラー有機ＥＬディスプレイ
の製造方法は、図１に示す方法によって製造される。即
ち、第１の実施の形態として、透明導電膜としてＩＴＯ
膜１２を１２０ｎｍの膜厚で形成した後、正孔輸送材料
１４としてＮ，Ｎ‘―ジフェニルーＮ、Ｎ'―ジ（３−
メチルフェニル）―１，１‘―ビフェニルー４，４'―
ジアミンを真空蒸着により５０ｎｍの膜厚で正孔輸送層
１４をＩＴＯ膜１２上に一様に形成する（図１
（ｂ））。
の製造方法は、図１に示す方法によって製造される。即
ち、第１の実施の形態として、透明導電膜としてＩＴＯ
膜１２を１２０ｎｍの膜厚で形成した後、正孔輸送材料
１４としてＮ，Ｎ‘―ジフェニルーＮ、Ｎ'―ジ（３−
メチルフェニル）―１，１‘―ビフェニルー４，４'―
ジアミンを真空蒸着により５０ｎｍの膜厚で正孔輸送層
１４をＩＴＯ膜１２上に一様に形成する（図１
（ｂ））。
【００２６】転写基板となる金属シート１６は、板厚２
００ミクロンの銅板を用いて、フォトリソグラフィーと
エッチングにより１００ミクロン×１００ミクロンの平
面形状で、高さ５０ミクロンの突起部１８を形成する。
次にフォトリソグラフィーとエッチングによって、突起
部１８の裏面を突起内部厚みが１０ミクロンとなるべく
形成する。金属シート１６及び突起部１８の表面に赤色
を発光する発光性有機材料２０として、アルミキノリン
錯体にドーパントとして４−ジシアノメチレンー２−メ
チルー６―（ｐ―ジメチルアミノスチリル）―４Ｈ―ピ
ラン（ＤＣＭ、ドーピング濃度５ｗｔ％）を２５ｎｍ共
蒸着し、さらに電子輸送層２０としてアルミキノリン錯
体を３５ｎｍの膜厚となるべく蒸着により２層形成し
た。基板１０上の発光素子領域となるＩＴＯ１２表面と
金属シート１６の突起部１８を位置合わせした後、接触
させ、ガラス板２２を載せて金属シート１６の突起部１
８と基板１０を圧着する。
００ミクロンの銅板を用いて、フォトリソグラフィーと
エッチングにより１００ミクロン×１００ミクロンの平
面形状で、高さ５０ミクロンの突起部１８を形成する。
次にフォトリソグラフィーとエッチングによって、突起
部１８の裏面を突起内部厚みが１０ミクロンとなるべく
形成する。金属シート１６及び突起部１８の表面に赤色
を発光する発光性有機材料２０として、アルミキノリン
錯体にドーパントとして４−ジシアノメチレンー２−メ
チルー６―（ｐ―ジメチルアミノスチリル）―４Ｈ―ピ
ラン（ＤＣＭ、ドーピング濃度５ｗｔ％）を２５ｎｍ共
蒸着し、さらに電子輸送層２０としてアルミキノリン錯
体を３５ｎｍの膜厚となるべく蒸着により２層形成し
た。基板１０上の発光素子領域となるＩＴＯ１２表面と
金属シート１６の突起部１８を位置合わせした後、接触
させ、ガラス板２２を載せて金属シート１６の突起部１
８と基板１０を圧着する。
【００２７】その後、８０ミクロン×８０ミクロンの開
口部を設けた遮蔽板２４を突起部１８と合うように位置
合わせを行い、波長１０００ｎｍのＹＡＧレーザー源に
よるレーザー光２６を遮蔽板２４全面に照射する。突起
部１８の温度を５００℃となる時に照射を止めると突起
部１８上の発光性有機材料２０は昇華し、正孔輸送層１
４表面に転写される（図１（ｃ））。
口部を設けた遮蔽板２４を突起部１８と合うように位置
合わせを行い、波長１０００ｎｍのＹＡＧレーザー源に
よるレーザー光２６を遮蔽板２４全面に照射する。突起
部１８の温度を５００℃となる時に照射を止めると突起
部１８上の発光性有機材料２０は昇華し、正孔輸送層１
４表面に転写される（図１（ｃ））。
【００２８】本実施形態による方法では、発光性有機材
料２０が成膜された支持体の裏面へレーザー光を選択的
に照射して、照射部分を加熱し、支持体表面の発光性有
機材料２０を昇華するという工程を採用しているので、
隣接部分へのにじみも生ぜず、安定した温度管理が可能
となる。従って、熱分布の制御という利点も得られる。
料２０が成膜された支持体の裏面へレーザー光を選択的
に照射して、照射部分を加熱し、支持体表面の発光性有
機材料２０を昇華するという工程を採用しているので、
隣接部分へのにじみも生ぜず、安定した温度管理が可能
となる。従って、熱分布の制御という利点も得られる。
【００２９】［第２の実施形態］本発明による第２の実
施形態として、図２を参照しつつ、カラーディスプレイ
構造の製造方法について説明する。
施形態として、図２を参照しつつ、カラーディスプレイ
構造の製造方法について説明する。
【００３０】正孔輸送層１４までの製造工程は、前記第
１の実施形態と同様に形成する。金属シート１６の突起
部１８はカラー３色が配置されるように、突起平面寸法
１００ミクロン×１００ミクロン、色配列ピッチ３００
ミクロンとして形成し、突起部１８高さ５０ミクロン、
突起部１８内部厚み１０ミクロンとし、赤色発光性有機
材料として、アルミキノリン錯体にドーパントとして４
−ジシアノメチレンー２−メチルー６―（ｐ―ジメチル
アミノスチリル）―４Ｈ―ピラン（ＤＣＭ、ドーピング
濃度５ｗｔ％）を２５ｎｍ共蒸着、電子輸送層としてア
ルミキノリン錯体を３５ｎｍの膜厚となるべく蒸着によ
り形成した。次に、発光素子部と突起部１８の位置合わ
せを行った後、ガラス板２２を載せ、突起１８内部と同
じ寸法の開口部を設けた遮蔽板２４を介して、波長１０
００ｎｍのＹＡＧレーザーを照射し、正孔輸送層１４上
へ昇華転写する（図２（ａ））。
１の実施形態と同様に形成する。金属シート１６の突起
部１８はカラー３色が配置されるように、突起平面寸法
１００ミクロン×１００ミクロン、色配列ピッチ３００
ミクロンとして形成し、突起部１８高さ５０ミクロン、
突起部１８内部厚み１０ミクロンとし、赤色発光性有機
材料として、アルミキノリン錯体にドーパントとして４
−ジシアノメチレンー２−メチルー６―（ｐ―ジメチル
アミノスチリル）―４Ｈ―ピラン（ＤＣＭ、ドーピング
濃度５ｗｔ％）を２５ｎｍ共蒸着、電子輸送層としてア
ルミキノリン錯体を３５ｎｍの膜厚となるべく蒸着によ
り形成した。次に、発光素子部と突起部１８の位置合わ
せを行った後、ガラス板２２を載せ、突起１８内部と同
じ寸法の開口部を設けた遮蔽板２４を介して、波長１０
００ｎｍのＹＡＧレーザーを照射し、正孔輸送層１４上
へ昇華転写する（図２（ａ））。
【００３１】次に、緑色発光性有機材料として、金属シ
ート１６を交換して突起部１８上へホストにトリス（８
−キノリノール）アルミニウム（アルミキノリン錯
体）、ドーパントとしてキナクリドン（ドーピング濃度
５ｗｔ％）を２５ｎｍ共蒸着し、続いて電子輸送層とし
てトリス（８−キノリノール）アルミニウムを３０ｎｍ
の厚みで蒸着により形成した。次に、赤色発光性有機材
料に隣接して位置合わせを行い、ガラス板２２を基板１
０に押圧して、突起部１８上にレーザ光を照射して、前
記赤色発光性有機材料と同様の方法で緑色発光素子領域
へ昇華転写する。
ート１６を交換して突起部１８上へホストにトリス（８
−キノリノール）アルミニウム（アルミキノリン錯
体）、ドーパントとしてキナクリドン（ドーピング濃度
５ｗｔ％）を２５ｎｍ共蒸着し、続いて電子輸送層とし
てトリス（８−キノリノール）アルミニウムを３０ｎｍ
の厚みで蒸着により形成した。次に、赤色発光性有機材
料に隣接して位置合わせを行い、ガラス板２２を基板１
０に押圧して、突起部１８上にレーザ光を照射して、前
記赤色発光性有機材料と同様の方法で緑色発光素子領域
へ昇華転写する。
【００３２】更に、青色発光性有機材料として、金属シ
ートを交換して突起部１８上へペリレンを２５ｎｍ蒸着
し、電子輸送層としてトリス（８−キノリノール）アル
ミニウムを３５ｎｍの厚みで蒸着し、前記赤色発光性有
機材料と同様の方法で、青色発光素子領域へ昇華転写
し、カラー３色独立の発光素子アレイを得る。
ートを交換して突起部１８上へペリレンを２５ｎｍ蒸着
し、電子輸送層としてトリス（８−キノリノール）アル
ミニウムを３５ｎｍの厚みで蒸着し、前記赤色発光性有
機材料と同様の方法で、青色発光素子領域へ昇華転写
し、カラー３色独立の発光素子アレイを得る。
【００３３】次に陰極として、ＩＴＯ膜１４、発光素子
領域と直交するように、ＡＬ：Ｌｉ２８を共蒸着により
３０ｎｍ、その後アルミニウムのみを１００ｎｍ蒸着
し、カラー有機ＥＬディスプレイを得る（図２
（ｃ））。
領域と直交するように、ＡＬ：Ｌｉ２８を共蒸着により
３０ｎｍ、その後アルミニウムのみを１００ｎｍ蒸着
し、カラー有機ＥＬディスプレイを得る（図２
（ｃ））。
【００３４】［第３の実施形態］次に、素子間のコント
ラストを向上させた方法として、本発明による第３の実
施の形態を示す。
ラストを向上させた方法として、本発明による第３の実
施の形態を示す。
【００３５】ガラス基板１０上に、ＩＴＯ膜１２を成膜
したのち、フォトリソグラフィーおよびエッチングによ
ってＩＴＯ膜１２のパターンを形成する。次に幅５ミク
ロン、高さ４０ミクロンの絶縁性隔壁３０として、Ｓｉ
Ｏ2成膜、フォトリソグラフィーおよびエッチングによ
ってＳｉＯ2膜を設ける。
したのち、フォトリソグラフィーおよびエッチングによ
ってＩＴＯ膜１２のパターンを形成する。次に幅５ミク
ロン、高さ４０ミクロンの絶縁性隔壁３０として、Ｓｉ
Ｏ2成膜、フォトリソグラフィーおよびエッチングによ
ってＳｉＯ2膜を設ける。
【００３６】次に、正孔輸送材料としてＮ，Ｎ‘―ジフ
ェニルーＮ、Ｎ'―ジ（３−メチルフェニル）―１，１
‘―ビフェニルー４，４'―ジアミンを、真空蒸着によ
り５０ｎｍの膜厚で、正孔輸送層１４をＩＴＯ膜１２上
に一様に形成する。転写基板である金属シート１６の突
起部１８は、基板１０上のＳｉＯ2膜で挟まれた発光素
子領域に入る形状とした。更に金属シート１６の突起部
１８はカラー３色が配置されるように、突起平面寸法８
０ミクロン×８０ミクロン、色配列ピッチ３００ミクロ
ンとして形成し、突起部１８高さ５０ミクロン、突起部
１８内部厚み１０ミクロンとし赤色発光性有機材料とし
て、アルミキノリン錯体にドーパントとして４−ジシア
ノメチレンー２−メチルー６―（ｐ―ジメチルアミノス
チリル）―４Ｈ―ピラン（ＤＣＭ、ドーピング濃度５ｗ
ｔ％）を２５ｎｍ共蒸着、電子輸送層としてアルミキノ
リン錯体を３５ｎｍの膜厚となるべく蒸着により形成し
た。
ェニルーＮ、Ｎ'―ジ（３−メチルフェニル）―１，１
‘―ビフェニルー４，４'―ジアミンを、真空蒸着によ
り５０ｎｍの膜厚で、正孔輸送層１４をＩＴＯ膜１２上
に一様に形成する。転写基板である金属シート１６の突
起部１８は、基板１０上のＳｉＯ2膜で挟まれた発光素
子領域に入る形状とした。更に金属シート１６の突起部
１８はカラー３色が配置されるように、突起平面寸法８
０ミクロン×８０ミクロン、色配列ピッチ３００ミクロ
ンとして形成し、突起部１８高さ５０ミクロン、突起部
１８内部厚み１０ミクロンとし赤色発光性有機材料とし
て、アルミキノリン錯体にドーパントとして４−ジシア
ノメチレンー２−メチルー６―（ｐ―ジメチルアミノス
チリル）―４Ｈ―ピラン（ＤＣＭ、ドーピング濃度５ｗ
ｔ％）を２５ｎｍ共蒸着、電子輸送層としてアルミキノ
リン錯体を３５ｎｍの膜厚となるべく蒸着により形成し
た。
【００３７】次に、発光素子部と突起部１８の位置合わ
せを行った後、ガラス板２２を載せ、突起部１８内部と
同じ寸法の開口部を設けた遮蔽板２４を介して、波長１
０００ｎｍのＹＡＧレーザーを照射し、正孔輸送層上へ
赤色発光性有機材料を昇華転写する（図３（ａ）、
（ｂ））。
せを行った後、ガラス板２２を載せ、突起部１８内部と
同じ寸法の開口部を設けた遮蔽板２４を介して、波長１
０００ｎｍのＹＡＧレーザーを照射し、正孔輸送層上へ
赤色発光性有機材料を昇華転写する（図３（ａ）、
（ｂ））。
【００３８】次に、緑色発光性有機材料として、金属シ
ート１６を交換して突起部１８上へホストにトリス（８
−キノリノール）アルミニウム（アルミキノリン錯
体）、ドーパントとしてキナクリドン（ドーピング濃度
５ｗｔ％）を２５ｎｍ共蒸着し、続いて電子輸送層とし
てトリス（８−キノリノール）アルミニウムを３０ｎｍ
の厚みで蒸着により形成した。前記赤色発光性有機材料
と同様の方法で緑色発光素子領域へ昇華転写する。
ート１６を交換して突起部１８上へホストにトリス（８
−キノリノール）アルミニウム（アルミキノリン錯
体）、ドーパントとしてキナクリドン（ドーピング濃度
５ｗｔ％）を２５ｎｍ共蒸着し、続いて電子輸送層とし
てトリス（８−キノリノール）アルミニウムを３０ｎｍ
の厚みで蒸着により形成した。前記赤色発光性有機材料
と同様の方法で緑色発光素子領域へ昇華転写する。
【００３９】更に、青色発光性有機材料として、金属シ
ート１６を交換して、突起部１８上へペリレンを２５ｎ
ｍ蒸着し、電子輸送層としてトリス（８−キノリノー
ル）アルミニウムを３５ｎｍの厚みで蒸着し、前記赤色
発光性有機材料と同様の方法で青色発光素子領域へ昇華
転写し、カラー３色独立の発光素子アレイを得る。
ート１６を交換して、突起部１８上へペリレンを２５ｎ
ｍ蒸着し、電子輸送層としてトリス（８−キノリノー
ル）アルミニウムを３５ｎｍの厚みで蒸着し、前記赤色
発光性有機材料と同様の方法で青色発光素子領域へ昇華
転写し、カラー３色独立の発光素子アレイを得る。
【００４０】次に、陰極として、ＩＴＯ膜１２、発光素
子領域と直交するように、ＡＬ：Ｌｉ２８を共蒸着によ
り３０ｎｍ蒸着、その後アルミニウム２８のみを１００
ｎｍ蒸着すると、素子間の分離状態が良好で高コントラ
ストなカラー有機ＥＬディスプレイを得る（図３
（ｃ））。
子領域と直交するように、ＡＬ：Ｌｉ２８を共蒸着によ
り３０ｎｍ蒸着、その後アルミニウム２８のみを１００
ｎｍ蒸着すると、素子間の分離状態が良好で高コントラ
ストなカラー有機ＥＬディスプレイを得る（図３
（ｃ））。
【００４１】上記実施形態において、昇華転写工程は大
気中、真空中、不活性ガス雰囲気中いずれの場合で行っ
ても、本発明の効果は変わらない。
気中、真空中、不活性ガス雰囲気中いずれの場合で行っ
ても、本発明の効果は変わらない。
【００４２】［第４の実施形態］また、本発明による第
４の実施形態として、基板１０を冷却しながら昇華転写
を行っても良く、また突起部１８上と正孔輸送層１４を
僅かに離しても、効果は変わらない（図４（ａ）、
（ｂ））。金属シート１６の材質は、高熱伝導性であれ
ば、銅以外でも良く、加熱に用いたレーザー光は、他の
レーザー光発生源でも良い。ここで、昇華とは、物質が
気化した状態を指し、昇華転写としては、気化した昇華
物質を付着させる被転写体との距離は、横方向への飛散
を考慮すると、１００ミクロン以下であれば、転写が可
能である。
４の実施形態として、基板１０を冷却しながら昇華転写
を行っても良く、また突起部１８上と正孔輸送層１４を
僅かに離しても、効果は変わらない（図４（ａ）、
（ｂ））。金属シート１６の材質は、高熱伝導性であれ
ば、銅以外でも良く、加熱に用いたレーザー光は、他の
レーザー光発生源でも良い。ここで、昇華とは、物質が
気化した状態を指し、昇華転写としては、気化した昇華
物質を付着させる被転写体との距離は、横方向への飛散
を考慮すると、１００ミクロン以下であれば、転写が可
能である。
【００４３】［第５の実施形態］また、本発明による第
５の実施形態として、図５を参照して、遮蔽板３４はレ
ーザー光を透過するガラス板２２に蒸着や塗布したもの
でもよく、また、遮蔽板３４はレーザー光の吸収膜３４
として、クロムあるいはシリコン薄膜を形成しても良
い。また、絶縁性隔壁３０はフォトレジストおよび窒素
化合物としてもよい。長尺な発光素子の場合は基板１０
と金属シート１６の位置合わせを行った状態で、基板を
一方向あるいは反復動作をすることで可能となる。
５の実施形態として、図５を参照して、遮蔽板３４はレ
ーザー光を透過するガラス板２２に蒸着や塗布したもの
でもよく、また、遮蔽板３４はレーザー光の吸収膜３４
として、クロムあるいはシリコン薄膜を形成しても良
い。また、絶縁性隔壁３０はフォトレジストおよび窒素
化合物としてもよい。長尺な発光素子の場合は基板１０
と金属シート１６の位置合わせを行った状態で、基板を
一方向あるいは反復動作をすることで可能となる。
【００４４】［第６，第７の実施形態］上記各実施形態
において、レーザー光を選択的に通過する開口部に焦点
を持たせる、あるいはレーザー光を絞った光束にできる
光学レンズで構成することができる。そのために第６の
実施形態を図６、第７の実施形態として図７に示す。
において、レーザー光を選択的に通過する開口部に焦点
を持たせる、あるいはレーザー光を絞った光束にできる
光学レンズで構成することができる。そのために第６の
実施形態を図６、第７の実施形態として図７に示す。
【００４５】本構成では、金属シート１６上に設けるガ
ラス板２２に突起部１８内部を照射できる半円球のレン
ズ３６を、透明性の高い樹脂で製作、あるいはガラス板
２２自体に半円球のレンズ３８を設置する。レーザー光
２６は照射部全面に当たるがレンズにより収光された光
線の熱エネルギーは格段に強く、突起部１８以外では正
孔輸送材料が昇華するに至らない（図６（ａ）、
（ｂ））。
ラス板２２に突起部１８内部を照射できる半円球のレン
ズ３６を、透明性の高い樹脂で製作、あるいはガラス板
２２自体に半円球のレンズ３８を設置する。レーザー光
２６は照射部全面に当たるがレンズにより収光された光
線の熱エネルギーは格段に強く、突起部１８以外では正
孔輸送材料が昇華するに至らない（図６（ａ）、
（ｂ））。
【００４６】カラーディスプレイに適用した場合では、
図７に示すように、ガラス自体に集光レンズ機能を持た
せ、発光素子領域毎にレンズを備えたレンズアレイ形式
となり、本発明の目的が達成されることは勿論、遮蔽板
を不要としているので、遮蔽板の材質から発生する加工
精度の低下を防ぐという相乗的（格別）な効果を奏す
る。
図７に示すように、ガラス自体に集光レンズ機能を持た
せ、発光素子領域毎にレンズを備えたレンズアレイ形式
となり、本発明の目的が達成されることは勿論、遮蔽板
を不要としているので、遮蔽板の材質から発生する加工
精度の低下を防ぐという相乗的（格別）な効果を奏す
る。
【００４７】［第８，第９の実施形態］次に、本発明に
よる第８の実施形態として、光学レンズは任意に焦点を
決められる凸レンズ４０に変更してもよい（図８
（ａ），（ｂ））。この場合も、遮蔽板は不要であり、
平行光のレーザー光を凸レンズ４０に通して集束し、エ
ンボスの突起部１８に照射することにより、金属シート
１０が暖められ、各色の発光性有機材料２０を正孔輸送
層１４側に転写される。なお、転写が突起部１８の突起
寸法４２を示している。
よる第８の実施形態として、光学レンズは任意に焦点を
決められる凸レンズ４０に変更してもよい（図８
（ａ），（ｂ））。この場合も、遮蔽板は不要であり、
平行光のレーザー光を凸レンズ４０に通して集束し、エ
ンボスの突起部１８に照射することにより、金属シート
１０が暖められ、各色の発光性有機材料２０を正孔輸送
層１４側に転写される。なお、転写が突起部１８の突起
寸法４２を示している。
【００４８】更に、第９の実施形態として、図９を参照
して説明する。図９において、光学レンズ４４ａ，４４
ｂを複数枚重ねて、広がったレーザー光２６に焦点を持
たせずに収束して、突起寸法４２にマッチした平行光と
するレンズ系を用いても良い。この場合、突起部１８の
平坦部全体にレーザー光２６を照射するので、転写され
る部分全体が均一な温度に上昇して、転写の容易性ばか
りでなく、温度上昇の時間が速くなり、転写時間を短縮
できる。
して説明する。図９において、光学レンズ４４ａ，４４
ｂを複数枚重ねて、広がったレーザー光２６に焦点を持
たせずに収束して、突起寸法４２にマッチした平行光と
するレンズ系を用いても良い。この場合、突起部１８の
平坦部全体にレーザー光２６を照射するので、転写され
る部分全体が均一な温度に上昇して、転写の容易性ばか
りでなく、温度上昇の時間が速くなり、転写時間を短縮
できる。
【００４９】また、長尺な発光素子に対しては、集光・
収束されたレーザー光をミラー４６に照射し、更に長尺
方向へミラー４６を、振動機構４８を用いて振動させ
て、光束５０ａを図示するように移動させても良い。こ
のことから、長尺の突起部８全体を暫時照射でき、一括
的な長尺方向のライン転写が可能となる。さらに振動機
構４８によるミラー４６の照射角度に応じてレーザー光
２６の強度を調節すれば、長尺方向の突起部１８の温度
を均一に上昇でき、各色の発光性有機材料２０を正孔輸
送層１４側に転写することができる。
収束されたレーザー光をミラー４６に照射し、更に長尺
方向へミラー４６を、振動機構４８を用いて振動させ
て、光束５０ａを図示するように移動させても良い。こ
のことから、長尺の突起部８全体を暫時照射でき、一括
的な長尺方向のライン転写が可能となる。さらに振動機
構４８によるミラー４６の照射角度に応じてレーザー光
２６の強度を調節すれば、長尺方向の突起部１８の温度
を均一に上昇でき、各色の発光性有機材料２０を正孔輸
送層１４側に転写することができる。
【００５０】なお、本発明は上記各実施形態に限定され
ず、本発明の技術思想の範囲内において、各実施形態は
適宜変更され得ることは明らかである。
ず、本発明の技術思想の範囲内において、各実施形態は
適宜変更され得ることは明らかである。
【００５１】
【発明の効果】以上説明したように、本発明によれば、
少なくとも一方が透明または半透明の対抗する一対の電
極間に有機発光材料を積層したカラー有機ＥＬディスプ
レイについて、予め発光性有機材料が蒸着成膜された高
熱伝導性の凸状突起を有する転写基板を準備し、前記転
写基板を透明導電膜基板または透明導電膜上に形成され
た正孔輸送層の上に圧着する工程と、前記圧着時に転写
基板の凸状突起内部を加熱するという基本構成に基づい
ている。本発明によれば、凸上突起内部を加熱するため
にレーザー光を用いることから、微細化した発光素子領
域に対して選択的に加熱が可能となり、カラー３色独立
発光を特徴として有する視認性の良い高精細・高視野角
のカラー有機ＥＬディスプレイが得られる。
少なくとも一方が透明または半透明の対抗する一対の電
極間に有機発光材料を積層したカラー有機ＥＬディスプ
レイについて、予め発光性有機材料が蒸着成膜された高
熱伝導性の凸状突起を有する転写基板を準備し、前記転
写基板を透明導電膜基板または透明導電膜上に形成され
た正孔輸送層の上に圧着する工程と、前記圧着時に転写
基板の凸状突起内部を加熱するという基本構成に基づい
ている。本発明によれば、凸上突起内部を加熱するため
にレーザー光を用いることから、微細化した発光素子領
域に対して選択的に加熱が可能となり、カラー３色独立
発光を特徴として有する視認性の良い高精細・高視野角
のカラー有機ＥＬディスプレイが得られる。
【００５２】このように、予め発光性有機材料が蒸着成
膜された高熱伝導性の凸上突起を有する転写基板を設
け、この凸上突起は、発光性有機材料を選択的に発光素
子領域へ昇華転写するという役目を果たす。
膜された高熱伝導性の凸上突起を有する転写基板を設
け、この凸上突起は、発光性有機材料を選択的に発光素
子領域へ昇華転写するという役目を果たす。
【００５３】従って、カラー３色発光性有機材料の相互
汚染からなる色純度の悪化を防止するという効果が得ら
れる。
汚染からなる色純度の悪化を防止するという効果が得ら
れる。
【００５４】また、凸状突起内部の加熱源にレーザー光
を照射し、凸状の突起上に成膜した発光性有機材料を加
熱した結果として、発光性有機材料が昇華され、透明導
電膜上に形成された正孔輸送層表面に転写される。
を照射し、凸状の突起上に成膜した発光性有機材料を加
熱した結果として、発光性有機材料が昇華され、透明導
電膜上に形成された正孔輸送層表面に転写される。
【００５５】従って、凸状突起表面以外の発光性有機材
料は昇華されずに、そのままの状態で残り、他の発光素
子への昇華による転写汚染が無く、色純度向上を実現し
たカラー有機ＥＬディスプレイを提供することができ
る。
料は昇華されずに、そのままの状態で残り、他の発光素
子への昇華による転写汚染が無く、色純度向上を実現し
たカラー有機ＥＬディスプレイを提供することができ
る。
【図１】本発明による第１の実施形態におけるカラー有
機ＥＬディスプレイの製造工程を説明するための断面図
である。
機ＥＬディスプレイの製造工程を説明するための断面図
である。
【図２】本発明による第２の実施形態におけるカラー有
機ＥＬディスプレイの製造工程を説明するための断面図
である。
機ＥＬディスプレイの製造工程を説明するための断面図
である。
【図３】本発明による第３の実施形態におけるカラー有
機ＥＬディスプレイの製造工程を説明するための断面図
である。
機ＥＬディスプレイの製造工程を説明するための断面図
である。
【図４】本発明による第４の実施形態におけるカラー有
機ＥＬディスプレイの製造工程を説明するための断面図
である。
機ＥＬディスプレイの製造工程を説明するための断面図
である。
【図５】本発明による第５の実施形態におけるカラー有
機ＥＬディスプレイの製造工程を説明するための断面図
である。
機ＥＬディスプレイの製造工程を説明するための断面図
である。
【図６】本発明による第６の実施形態におけるカラー有
機ＥＬディスプレイの製造工程を説明するための断面図
である。
機ＥＬディスプレイの製造工程を説明するための断面図
である。
【図７】本発明による第７の実施形態におけるカラー有
機ＥＬディスプレイの製造工程を説明するための断面図
である。
機ＥＬディスプレイの製造工程を説明するための断面図
である。
【図８】本発明による第８の実施形態におけるカラー有
機ＥＬディスプレイの製造工程を説明するための断面図
である。
機ＥＬディスプレイの製造工程を説明するための断面図
である。
【図９】本発明による第９の実施形態における、（ａ）
はカラー有機ＥＬディスプレイの製造工程を説明するた
めの断面図、（ｂ）は光路を変えるための模式的構造図
である。
はカラー有機ＥＬディスプレイの製造工程を説明するた
めの断面図、（ｂ）は光路を変えるための模式的構造図
である。
【図１０】従来例における有機ＥＬディスプレイの製造
工程を説明するための断面図である。
工程を説明するための断面図である。
１０ ガラス基板 １２ ＩＴＯ膜 １４ 正孔輸送材料 １６ 金属シート １８ 凸状突起 ２０ 発光性有機材料 ２２ ガラス板 ２４ 遮蔽板 ２６ レーザー光 ２８ Ａｌ：Ｌｉ ３０ 絶縁性隔壁 ３２ 冷却 ３４ 遮光 ３６ 半円球レンズ ３８ 一体半円球レンズ ４０ 凸レンズ ４２ 突起内部幅 ４４ａ 球面平凸レンズ ４４ｂ 球面平凹レンズ ４６ ミラー ４８ 振動 ５０ａ 光路 １０１ 基板 １０２ ＩＴＯ膜 １０３ 正孔輸送層 １０４ メタルマスク １０５ 蒸着 １０６ 発光性有機材料
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (58)調査した分野(Int.Cl.6，ＤＢ名) H05B 33/00 - 33/28
Claims (12)
- 【請求項１】 少なくとも一方が透明または半透明の対
抗する一対の電極間に有機発光材料を積層したカラー有
機ＥＬディスプレイについて、予め発光性有機材料が蒸
着成膜された高熱伝導性の凸状突起を有する転写基板を
準備し、前記転写基板を透明導電膜基板または透明導電
膜上に形成された正孔輸送層の上に圧着する工程と、前
記圧着時に前記転写基板の凸状突起を加熱する工程とを
有することを特徴とするカラー有機ＥＬディスプレイの
製造方法。 - 【請求項２】 前記転写基板は、高熱伝導性シートであ
ることを特徴とする請求項１に記載のカラー有機ＥＬデ
ィスプレイの製造方法。 - 【請求項３】 請求項２記載のカラー有機ＥＬディスプ
レイの製造方法において、前記高熱伝導性シートは金属
シートであることを特徴とする請求項２に記載のカラー
有機ＥＬディスプレイの製造方法。 - 【請求項４】 請求項２又は３に記載のカラー有機ＥＬ
ディスプレイの製造方法において、前記高熱伝導性シー
トの凸状突起高さは５０ミクロン以下で、好ましくは１
０ミクロンから５０ミクロンの範囲であることを特徴と
するカラー有機ＥＬディスプレイの製造方法。 - 【請求項５】 前記転写基板の凸状突起の加熱は、レー
ザー光を前記凸状突起内部へ選択的に照射することを特
徴とする請求項１に記載のカラー有機ＥＬディスプレイ
の製造方法。 - 【請求項６】 有機発光材料を積層したカラー有機ＥＬ
ディスプレイの製造方法において、 第１の電極はガラス基板に積層して正孔輸送層を積層す
る第１の基板の製造工程と、 ガラス板に先端が平坦で中空の突起部を有する金属シー
トを積層しさら有機発光材料を積層した第２の基板の製
造工程と、 前記第１の基板の前記正孔輸送層と前記第２の基板の有
機発光材料を対面押圧視する対面工程と、 前記対面工程の後に前記第２の基板の前記ガラス板方向
からレーザ光を照射して前記突起部を昇温して前記有機
発光材料を前記第１の基板に転写する転写工程を有する
ことを特徴とするカラー有機ＥＬディスプレイの製造方
法。 - 【請求項７】 請求項６に記載のカラー有機ＥＬディス
プレイの製造方法において、 さらに、前記転写された第１の基板に金属合金を積層す
る第２の電極を製造する工程を備えたことを特徴とする
カラー有機ＥＬディスプレイの製造方法。 - 【請求項８】 請求項６に記載のカラー有機ＥＬディス
プレイの製造方法において、 前記転写工程は前記第２の基板の前記ガラス板上向に前
記突起部と同等領域の遮蔽板を設けてレーザー光を照射
し、前記突起部に積層された発光性有機材料を昇温して
転写することを特徴とするカラー有機ＥＬディスプレイ
の製造方法。 - 【請求項９】 請求項６に記載のカラー有機ＥＬディス
プレイの製造方法において、前記転写工程は前記発光性
有機材料の各色に対応して転写することを特徴とするカ
ラー有機ＥＬディスプレイの製造方法。 - 【請求項１０】 請求項６に記載のカラー有機ＥＬディ
スプレイの製造方法において、 前記転写工程は前記第２の基板の前記ガラス板上向に前
記突起部と同等領域の遮蔽板を設けてレーザー光を前記
突起部に照射し、前記遮蔽板と前記突起部間に凸レンズ
を設けたことを特徴とするカラー有機ＥＬディスプレイ
の製造方法。 - 【請求項１１】 請求項６に記載のカラー有機ＥＬディ
スプレイの製造方法において、 前記転写工程は前記第２の基板の前記ガラス板上向に前
記突起部に集束する凸レンズを設けたことを特徴とする
カラー有機ＥＬディスプレイの製造方法。 - 【請求項１２】 請求項１乃至１１に記載のカラー有機
ＥＬディスプレイの製造方法を用いて製造されたカラー
有機ＥＬディスプレイ。
Priority Applications (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10171320A JP2918037B1 (ja) | 1998-06-18 | 1998-06-18 | カラー有機ｅｌディスプレイとその製造方法 |
| US09/334,093 US6284307B1 (en) | 1998-06-18 | 1999-06-16 | Color organic EL display and fabrication method thereof |
| KR1019990022733A KR100298272B1 (ko) | 1998-06-18 | 1999-06-17 | 칼라유기ｅｌ 디스플레이 및 그 제조방법 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10171320A JP2918037B1 (ja) | 1998-06-18 | 1998-06-18 | カラー有機ｅｌディスプレイとその製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2918037B1 true JP2918037B1 (ja) | 1999-07-12 |
| JP2000012216A JP2000012216A (ja) | 2000-01-14 |
Family
ID=15921069
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| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP10171320A Expired - Fee Related JP2918037B1 (ja) | 1998-06-18 | 1998-06-18 | カラー有機ｅｌディスプレイとその製造方法 |
Country Status (3)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US6284307B1 (ja) |
| JP (1) | JP2918037B1 (ja) |
| KR (1) | KR100298272B1 (ja) |
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| US7462927B2 (en) | 2004-01-14 | 2008-12-09 | Fujifilm Corporation | Pattern film forming method and pattern film forming apparatus |
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-
1999
- 1999-06-16 US US09/334,093 patent/US6284307B1/en not_active Expired - Lifetime
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| JP2000012216A (ja) | 2000-01-14 |
| KR20000006252A (ko) | 2000-01-25 |
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| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
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| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
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