1302124 (1) 九、發明說明 【發明所屬之技術領域】 本發明係有關例如具備配列有如發光元件或光閥元件 之光電元件之光電面板的光電裝置，採用此光電裝置之畫 像印刷裝置及光電裝置之製造方法。 【先前技術】 Φ 爲了寫入靜電潛像於電子照相方式之畫像印刷裝置的 像載持體（例如：感光體柱狀物），開發有使用電激發光 元件（以下，稱爲[EL元件])之陣列的技術，另，在如 此技術之中，一般，配置有聚焦性透鏡陣列於EL元件陣 列與像載持體之間（例如，參照專利文獻1及專利文獻2 之圖7)，而作爲聚焦性透鏡陣列係例如，有可從日本板 硝子股份有限公司取得之SLA (賽璐福克•透鏡•陣列） (賽璐福克/ SELFOC係日本板硝子股份有限公司的登陸 φ 商標）。 圖1係爲表示使用聚焦性透鏡陣列之以往畫像印刷裝 置之一部份槪略斜視圖，另，在此畫像印刷裝置之中，係 於設置有EL元件陣列之發光面板1 2與感光體柱狀物1 1 0 之間，配置有聚焦性透鏡陣列40，另，從發光面板1 2之 EL元件陣列的光線係透過聚焦性透鏡陣列40之複數折射 率分佈型透鏡，到達至感光體柱狀物1 1 〇。 通常，聚焦性透鏡陣列之物體側的動作距離L〇之理 想値，也就是設計値與，像側的動作距離L!之理想値， -4- (2) 1302124 也就是設計値，係如相等地進行設計，隨之，對於將聚焦 性透鏡陣列40，配置在發光面板12與感光體柱狀物1 10 之間的情況，聚焦性透鏡陣列40之光線入口與EL元件 陣列之間的距離，係當然認爲相等於聚焦性透鏡陣列40 之光線出口與，作爲像載持體之感光體柱狀物1 1 〇之間的 距離情況。 [專利文獻1]日本特開昭63 - 1 03 2 8 8號公報 [專利文獻2]日本特開2004-58448號公報 【發明內容】 [欲解決發明之課題] 但，根據於聚焦性透鏡陣列40的光線入口與EL元 件陣列之間，存在有幾乎相等於動作距離L〇之距離的空 間，即，空氣層，從EL元件所發射的光線之中，沒有進 入於聚焦性透鏡陣列40的光線則存在，即，有著光線利 φ 用效率不佳的問題。 因此，本發明係提供，可降低光線的損失之光電裝置 ，採用此光電裝置之畫像印刷裝置及光電裝置之製造方法 [爲解決課題之手段] 有關本發明之光電裝置係具備，配列有根據所傳達之 電性能量，發光特性或光線之透過特性產生變化之複數光 電元件的光學面板，與複數列有使從前述光電面板行進的 (3) 1302124 光線透過，可將對於前述光電面板上的正立像進行成像之 折射率分佈型透鏡，而由複數折射率分佈型透鏡所得到的 像，則構成作爲1個連續的像之聚焦性透鏡陣列，並爲直 接接合前述光電面板與前述聚焦性透鏡陣列之構成。 在此，[光電元件]係指，根據所傳達之電性能量，光 學性特性（發光特性或光線之透過特性）產生變化之元件 ，另，作爲根據電性能量，光學性特性產生變化之元件， φ 係有將電性能量變換爲光學性能量之發光元件（例如：電 激發光元件，電漿顯示元件）及，根據電性能量，光線的 透過率產生變化之光閥畫素（例如：液晶之畫素，電泳顯 示之畫素），另，[光電面板]係爲設置有光電元件之陣列 的面板，而[直接接合]係指，可意味光電面板與聚焦性透 鏡陣列相互直接接觸而被接合之狀態，與光電面板與聚焦 性透鏡陣列則於其間藉由透明之接著劑相互接合之狀態之 任一，另對於光電面板與聚焦性透鏡陣列之間介入存在有 鲁 接著劑之情況係比較於只介入存在空氣層之情況，適合於 將光電面板上的像，對於聚焦性透鏡陣列作爲焦點整合狀 態之光電面板與聚焦性透鏡陣列之間隔則變長，當作爲其 他的看法時，對於固定性地訂定光電面板與聚焦性透鏡陣 列之間隔，而其間隔比聚焦性透鏡陣列之光電面板側空氣 中實際的動作距離還長的情況，係根據將適當厚度之接著 劑配置在兩者之間的情況，將可實質上延長動作距離，而 使其一致於光電面板與聚焦性透鏡陣列之間隔。 如根據本發明之構成，經由直接接合光電面板與聚焦 -6 - (4) 1302124 性透鏡陣列的情況，將可使從光電面板所發射的光線（或 透過光電面板的光線）之中’進入至聚焦性透鏡陣列的光 線比例提升，並可提升光線的利用效率。 前述光電面板與前述聚焦性透鏡陣列係由接著劑所接 合，並亦可對於前述光電面板與前述聚焦性透鏡陣列之間 ，係配置有限制前述接著劑厚度之間隔確保材，另，如此 ，根據配置有間隔確保材之情況，對於適合聚焦性透鏡陣 φ 列之動作距離的厚度限制接著劑，而對於聚焦性透鏡陣列 ，將光電面板的像作爲焦點整合狀態之情況則爲容易。 有關本發明之光電裝置係亦可爲具備，配列有根據所. 傳達之電性能量，發光特性或光線之透過特性產生變化之 複數光電元件的光學面板，與複數列有使從前述光電面板 行進的光線透過，可將對於前述光電面板上的正立像進行 成像之折射率分佈型透鏡，而由前述複數折射率分佈型透 鏡所得到的像，則構成作爲1個連續的像之聚焦性透鏡陣 φ 列，與使其介入存在於前述光電面板與前述聚焦性透鏡陣 列之間，並接合於前述光電面板與前述聚焦性透鏡陣列之 光透過性的間隔構件之構成。 在此，[接合]係指，意味間隔構件則直接接觸於光電 面板與聚焦性透鏡陣列，而被相互接合之狀態，與於光電 面板與聚焦性透鏡陣列之任一方藉由透明之接著劑，於之 間接合間隔構件之狀態任一情況，而間隔構件係可爲單一 ，或亦可爲層積複數間隔構件，如此，經由使間隔構件介 入存在於光電面板與聚焦性透鏡陣列之間的情況，將可使 (5) 1302124 從光電面板所發射的光線（或透過光電面板的光線）之中 ，進入至聚焦性透鏡陣列的光線比例提升，並可提升光線 的利用效率，另外，對於光電面板與聚焦性透鏡陣列之間 介入存在有間隔構件之情況係比較於只介入存在空氣層之 情況，適合於將光電面板上的像，對於聚焦性透鏡陣列作 爲焦點整合狀態之光電面板與聚焦性透鏡陣列之間隔則變 長，當作爲其他的看法時，對於固定性地訂定光電面板與 φ 聚焦性透鏡陣列之間隔，而其間隔比聚焦性透鏡陣列之光 電面板側空氣中實際的動作距離還長的情況，係根據將適 當厚度之間隔構件配置在兩者之間的情況，將可實.質上延 長動作距離，而使其一致於光電面板與聚焦性透鏡陣列之 間隔。 對於前述間隔構件，係理想爲，於無對向於前述光電 面板，以及前述聚焦性透鏡陣列的面，形成有光吸收層， 如根據此，將可降低經由在無對向於前述光電面板，以及 φ 前述聚焦性透鏡陣列的面之內部反射的光束，進入至聚焦 性透鏡陣列之事態，隨之，控制從光電面板經由間隔構件 ，根據內部反射至由直進入至聚焦性透鏡陣列光束的像之 光束的像的混亂情況。 對於前述間隔構件，係理想爲形成有配置接著前述光 電面板與前述聚焦性透鏡陣列之至少一方於前述間隔構件 之透明接著劑的收容穴，另，如根據此，因接著劑固化在 收容穴內，故可完美潤飾接著劑。 對於前述收容穴，係理想爲崁入前述光電面板與前述 -8- (6) 1302124 聚焦性透鏡陣列之至少一方，根據此，對於間隔構件，將 可正確配置前述光電面板與前述聚焦性透鏡陣列之至少一 方。 對於前述間隔構件之前述收容穴的側面，係理想爲形 成有前述接著劑可從前述收容穴的底面滲入之凹部，另， 因固化前之接著劑係有著流動性，故只對於針對收容穴之 必要的部分配置接著劑之情況係爲困難，但多餘之接著劑 φ 則滲入於形成在收容穴側面之凹部，因此，可將溢出於收 容穴外側之接著劑的量作爲最小程度，並降低有損此光電 裝置美觀之虞。 亦可於對向於前述間隔構件之前述光電面板與前述聚 焦性透鏡陣列之至少一方的面，形成滲入接著前述光電面 板與前述聚焦性透鏡陣列之任何一方於前述間隔構件之透 明接著劑的溝，另，因固化前之接著劑係有著流動性， 故只對於針對間隔構件之必要的部分配置接著劑之情況係 φ 爲困難，但多餘之接著劑則滲入於形成在間隔構件的溝， 因此，可將從間隔構件與光電面板，或聚焦性透鏡陣列之 間隙溢出於外側之接著劑的量作爲最小程度，並降低有損 此光電裝置美觀之虞。 前述光電面板與前述聚焦性透鏡陣列與前述間隔構件 係由透明之接著劑所接合，並對於前述光電面板與前述間 隔構件之間隙及前述聚焦性透鏡陣列與前述間隔構件之間 隙的至少一方，係亦可配置限制前述黏著劑之厚度的間隔 確保材，如此，根據配置有間隔確保材之情況，對於適合 -9- (7) 1302124 聚焦性透鏡陣列之動作距離的厚度，限制接著劑，而對於 聚焦性透鏡陣列，將光電面板上的像作爲焦點整合狀態之 情況則爲容易。 在此光電裝置之中，當將位在前述光電面板之光電元 件與前述聚焦性透鏡陣列之間之光透過要素之各個折射率 ，作爲以，將前述光透過要素之各個要素，作爲di，將光 透過要素之數量，作爲m，將前述聚焦性透鏡陣列之光電 φ 面板側之空氣中的動作距離，作爲L。時，理想則爲滿足 式（1 )之情況，另，根據滿足式（1)之情況，光電面板 上的像則對於聚焦性透鏡陣列40.，幾乎成爲焦點整合狀 態，而作爲在式（1 )使用之動作距離L。係亦可爲動作距 離L。之設計値，但，理想爲實際測定所得到的値。 有關本發明之畫像印刷裝置係具備，像載持體與，將 前述像載持體作爲帶電之帶電器與，將從前述光電面板行 進，透過前述聚焦性透鏡陣列的光，照射至有帶電之前述 φ 載持體的面，而形成潛像之前述光電裝置與，根據使著色 體附著在前述潛像之情況，於前述像載持體形成顯像之顯 像器與，從前述像載持體’將前述顯像轉印至其他物體之 轉印器，另，如上述，如經由有關本發明之光電裝置’將 可容易提升光的利用效率。 有關本發明之光電裝置之製造方法係具有，配置透明 之接著劑於前述光電面板與前述聚焦性透鏡陣列之間的工 程與，由前述光電面板與前述聚焦性透鏡陣列壓縮前述接 著劑之工程，如此，根據壓縮接著劑之情況’對於適合聚 -10- (8) 1302124 焦性透鏡陣列之動作距離的厚度，限制接著劑，而對於 焦性透鏡陣列，將光電面板上的像作爲焦點整合狀態之 況則爲容易。 有關本發明之光電裝置之製造方法係亦可具有，相 性地固定前述光電面板與前述聚焦性透鏡陣列之工程與 配置透明之接著劑於被相對性固定之前述光電面板與前 聚焦性透鏡陣列之間的工程，另，根據相對性地固定前 φ 光電面板與前述聚焦性透鏡陣列，而於其間配置透明之 著劑情況，對於適合聚焦性透鏡陣列之動作距離的厚度 限制接著劑，而對於聚焦性透鏡陣列，將光電面板上的 作爲焦點整合狀態之情況則爲容易。 更加地，針對在這些任一製造方法，亦可具有測定 述聚焦性透鏡陣列之前述光電面板側之空氣中的實際動 距離L。之工程與，依據前述動作距離L。及前述接著劑 化時之折射率，欲滿足式（1 )關係地，算出所使用之 φ 述接著劑之厚度的工程，另，根據滿足式（1 )關係之 況，得到適合聚焦性透鏡陣列之實際動作距離之厚度， 光電面板上的像則對於聚焦性透鏡陣列，幾乎成爲焦點 合狀態。 有關本發明之光電裝置之製造方法係亦可具有，配 透明之接著劑於前述光電面板與前述聚焦性透鏡陣列之 何一方與前述間隔構件間隙的工程與，由前述光電面板 前述聚焦性透鏡陣列之任何一方與前述間隔構件壓縮前 接著劑之工程，如此，根據壓縮接著劑之情況，對於適 聚 情 對 述 述 接 ， 像 前 作 固 刖 情 並 整 置 任 與 述 合 -11 - 1302124 Ο) 聚焦性透鏡陣列之動作距離的厚度，限制接著劑’而對於 聚焦性透鏡陣列，將光電面板上的像作爲焦點整合狀態之 情況則爲容易。 有關本發明之光電裝置之製造方法係亦可具有’相對 性地固定前述光電面板與前述聚焦性透鏡陣列之任何一方 與前述間隔構件之工程與，配置透明之接著劑於被相對性 固定之前述光電面板與前述聚焦性透鏡陣列之任何一方與 φ 前述間隔構件之間隙的工程，另，根據相對性地固定前述 光電面板或前述聚焦性透鏡陣列與間隔構件’而於其間配 置透明之接著劑情況，對於適合聚焦性透鏡陣列之動作距 離的厚度，限制接著劑，而對於聚焦性透鏡陣列’將光電 面板上的像作爲焦點整合狀態之情況則爲容易。 更加地，針對在這些任一製造方法，亦可具有測定前 述聚焦性透鏡陣列之前述光電面板側之空氣中的實際動作 距離L。之工程與，依據前述動作距離L。，前述接著劑固 φ 化時之折射率及前述間隔構件之折射率，欲滿足式（1 ) 關係地，算出所使用之前述接著劑之厚度的工程，另’根 據滿足式（1 )關係之情況，得到適合聚焦性透鏡陣列之 實際動作距離之厚度，並光電面板上的像則對於聚焦性透 鏡陣列，幾乎成爲焦點整合狀態。 【實施方式】 [爲了實施發明之最佳型態] <第1實施型態> -12- (10) 1302124 圖2係爲表示有關本發明之實施型態的光電裝置1 〇 之槪略斜視圖，另，於圖所例示之光電裝置1 〇係作爲爲 了寫入潛像於針對在利用電子照相方式之畫像印刷裝置的 像載持體（例如：如圖2所示之感光體柱狀物1 1 〇 )之綫 型光頭所使用，另，光電裝置1 〇係具備配列複數有機EL 元件（光電元件）於同一平面上之發光面板（光電面板） 1 2與，重疊在發光面板1 2之聚焦性透鏡陣列40，而聚焦 φ 性透鏡陣列40係被配置在設置有EL元件陣列之發光面 板1 2與感光體柱狀物1 1 0之間，另，從發光面板1 2之有 機EL元件陣列的光係透過聚焦性透鏡陣列40之折射率 分佈型透鏡，到達至感光體柱狀物11〇。 如圖3所示，聚焦性透鏡陣列40係具有複數折射率 分佈型透鏡42，另，折射率分佈型透鏡42之各自係爲如 在中心軸，即光軸之折射率爲低，而離中心軸越遠折射率 成爲越高地所形成之分級引示光纖，並可使從發光面板 # 1 2行進之光透過，將對於發光面板1 2的像之正立像成像 於感光體柱狀物110，另，由這些複數折射率分佈型透鏡 42所得到的像係在感光體柱狀物1 1 0上，構成1個連續 的像，另，對於聚焦性透鏡陣列40之具體例，係例如有 可從日本板硝子株式會社取得之SLA (賽璐福克·透鏡· 陣列）。 圖4係爲此光電裝置之平面圖，另，如圖4所示，折 射率分佈型透鏡42係由兩列且鋸齒狀之圖案所配列，並 固定於以假想線所示之聚焦性透鏡陣列40的框體，而這 -13- (11) 1302124 些折射率分佈型透鏡42之各自係重疊在形成有發光面板 12之EL元件14的範圍，另，折射率分佈型透鏡42之配 列圖案，並不限定於圖示之型態，亦可爲單列或三列以上 ，又亦可爲由其他適當的圖案來配列。 圖5係爲圖4A-A線箭頭所示之剖面圖，而如圖5所 示，發光面板12係具備平板狀之基板18，另，基板18 係根據玻璃，塑料，陶瓷或金屬等之適當的材料所形成， φ 並亦可爲透明或不透明，對於基板1 8之上方係形成有驅 動元件層20，並於其上方係形成有作爲多數發光元件之 EL元件14，另，各EL元件14係因應所施加之電壓而產 生發光。 驅動元件層20之內部詳細圖示係雖省略，但，在此 係設置有複數TFT (薄膜電晶體）元件及，供給電流於 TFT元件的線，另，TFT元件係傳達驅動電壓於各個EL 元件1 4。 φ 在圖示之型態之中，從各EL元件14所發射的光則 被釋放至與基板1 8相反側圖5中之上方，即，此發光面 板12係爲前放射型之OLED發光面板，另，EL元件14 之各自係具有形成在驅動元件層20上之陽極22與，成膜 在陽極22上之正孔注入層24與，成膜於其上方之發光層 26與，成膜於其上方之陰極28，而陰極28係對複數EL 元件1 4爲共通。 爲了使由發光層26所發射的光釋放至上方，陽極22 係例如由如鋁之作爲反射的導電材料所形成，而陰極2 8 -14 - (12) 1302124 係由透明之ITO( Indium Tin Oxide)所形成，另’正孔 注入層24及發光層26係被形成在由絕緣層30及隔壁32 所分割之凹部內，另，對於絕緣層30之材料係例如有 Si02，並對於隔壁32之材料係例如有聚醯亞胺。 此實施型態之各EL元件1 4的構成係如上述所述’ 但，作爲可利用在本發明之發光元件之變化係亦可爲，於 陰極與發光層之間設置電子注入層之型式或，設置絕緣層 φ 於適當位置之型式等具有其他層之型式。 對於基板1 8係接合密封體1 6，而密封體1 6係與基 板18進行協作，從外氣，特別是水份及氧氣隔離EL元 件1 4來控制其劣化，另，密封體1 6係例如從玻璃或透明 之塑料所形成而得到，而對於安裝密封體於基板1 8係採 用接著劑34，而作爲接著劑34係例如採用熱硬化型接著 劑或紫外線硬化型接著劑，另，驅動元件層20在從延伸 至比密封體1 6還外側之範圍，係如圖5所示，接著劑3 4 • 係覆蓋驅動元件層20。 在此實施型態之中係使用間隔密封，具體來說係根據 接著劑3 4，接合密封體16週邊部於基板1 8，並於EL元 件1 4的周圍，設置有由密封體1 6與基板1 8所分割之空 間，另，理想係於其空間內，配置有乾燥劑，而爲了更將 EL元件1 4從外氣進行隔離保護，亦可於密封體1 6的周 圍，設置一個以上之鈍化層。 對於發光面板1 2之密封體1 6係經由接著劑3 8接合 聚焦性透鏡陣列40，另，作爲接著劑3 8係例如採用熱硬 -15- (13) 1302124 化型接著劑或紫外線硬化型接著劑，而密封體1 6與聚焦 性透鏡陣列40之折射率分佈型透鏡42係亦可由無介入存 在有接著劑3 8於兩者間之狀態，進行直接接觸，又亦可 將接著劑38介入存在於兩者間而相互接合，另，對於介 入存在有接著劑38於密封體16與折射率分佈型透鏡42 之間之情況，接著劑3 8係爲透明。 作爲使用可能之接著劑3 8的例係可舉出固化後之折 φ 射率爲接近玻璃之折射率1 . 5 1 4之紫外線硬化型環氧系接 著劑之日本DAIKIN工業（股）製之OPTODYNE (商標） UV-3200，出固化後之折射率爲比玻璃還大之折射率1.63 之紫外線硬化型環氧系接著劑之（股）Adel製之 OPTOKLEB (商標）HV153，以及固化後之折射率爲 1.567之紫外線硬化型環氧系接著劑之日本DAIKIN工業 (股）製之OPTODYNE (商標）UV-4000，但並不限定於 此。 φ 如此作爲，從發光面板1 2之各EL元件1 4發射的光 係如圖5箭頭B所示，進入至折射率分佈型透鏡42，並 且，如圖6所示，光係透過聚焦性透鏡陣列40，然後使 其照射至感光體柱狀物1 1 0。 如於圖6由假想線所示，發光面板1 2係安裝在覆蓋 物1 3，並覆蓋物1 3係覆蓋發光面板1 2及聚焦性透鏡陣 列40之所有的側面，另，覆蓋物1 3係降低外部的光通過 發光面板1 2，例如密封體1 6，進入至聚焦性透鏡陣列40 之情況，進而控制像被混亂之情況，另，在其他圖之中係 -16- (14) 1302124 省略覆蓋物1 3之圖示，但實際上係設置有覆蓋物1 3 ’另 外，在後述之其他實施型態，亦由同樣的目的來設置覆蓋 物13。 理想則是如滿足式（1 )地，設計有關此實施型態之 光電裝置1 0進而畫像印刷裝置，另，針對在式（1 ) ’ L。 係爲聚焦性透鏡陣列40之物體側（發光面板1 2側）之空 氣中實際動作距離（參照圖1 )，另，⑴係位於發光面板 φ 12之EL元件14 (特別是發光層26 )與聚焦性透鏡陣列 之間的光透過要素之各自折射率，並di係爲位於發光面 板1 2之EL元件1 4 (特別是發光層26 )與聚焦性透鏡陣 列之間的光透過要素之各自厚度，另，附加字i係識別這 些光透過要素，而m係爲光透過要素的數量。 聚焦性透鏡陣列40之物體側之動作距離的理想値， 也就是設計値與，像側之動作距離理想値，也就是設計値 係如相等地進行設計，另，作爲式（1 )之動作距離L。係 • 亦可使用設計値，但，大槪是根據製造的不均情況，這些 會有差異之情況，隨之，理想則是實際測定聚焦性透鏡陣 列4 0之物體側（發光面板12側）之空氣中的動作距離 L。，而將此代入於式（1 )情況，另，根據如滿足式（1 ) 關係之情況，發光面板上的像則對於聚焦性透鏡陣列4 0 ，幾乎成爲焦點整合狀態，更加地，根據使聚焦性透鏡陣 列4 0與感光體柱狀物1 1 0的距離，一致於聚焦性透鏡陣 歹!J 40的像側（感光體柱狀物1 1 0側）之空氣中實際動作 距離之情況，對應發光面板上的像則由幾乎焦點整合狀態 -17- (15) 1302124 連結於成像對像面（在此實施型態之中係感光體柱狀物 110) ° 對於最理想的方式，如滿足式（2 )地，設計畫像印 刷裝置之情況則爲理想，另，根據如滿足式（2 )之關係 情況，發光面板上的像則對於聚焦性透鏡陣列40，完全 成爲焦點整合狀態，而式（1 )係爲對於式（2 )之右邊賦 予容許士 10%之容許範圍而重寫者，而後述有如何作爲來 φ 求取式（2 )之情況。 [式2] /77 ^ = Σ ~L …（2 ) /=i 邊參照圖5及圖6，邊具體說明在此實施型態之理想 的設計値，當將爲一般式之式（1)及式（2)，作爲適合 於此實施型態時，則得到各個式（3 )及式（4 )。
0.9*(di/ni + d2/n2 + d3/n3 + d4/n4)S L〇 S1·1*(di/ni + d2/n2 + d3/n3+d4/n4)…（3) L〇 = di/ni + d2/n2+ d3/n3+ d4/n4 …（4) 在此，幻係爲重疊在發光層26之陰極28的厚度，ni 係爲陰極28之折射率，d2係爲發光層26上方之空氣層的 厚度，n2係爲空氣之折射率（約1 ) ，d3係爲密封體1 6 之中發光層26之上方範圍的厚度，n3係爲密封體16之折 射率，d4係爲密封體1 6與聚焦性透鏡陣列40之折射率分 佈型透鏡42之間的透明接著劑3 8厚度，並對於無介入存 -18- (16) 1302124 在有接著劑3 8於密封體1 6與聚焦性透鏡陣列40之間的 情況係爲零，n4係爲透明接著劑3 8之折射率。 ch，d2係爲微小，並因d4通常亦爲微小，故實際設 計上係亦可作爲如滿足式（5 )。 0.9* d3/n3‘L〇S 1.1* d3/n3 …（5) 如根據此實施型態，根據直接接合發光面板1 2與聚 焦性透鏡陣列40之情況，從發光面板1 2所發射的光之中 φ ，可使進入至聚焦性透鏡陣列40的光之比例提升，並可 提升光的利用效率，隨之，爲了得到相同程度照度的像， 將可比以往降低傳達至EL元件1 4之電壓，並亦可延長 其部分EL元件14之壽命，另，後述有有關提升光的利 用效率之效果的根據。 並，如滿足式（1 )，式（3 )或式（5 )地進行設計 ，將可防止發光面板1 2上的像與聚焦性透鏡陣列40之焦 點不整合之情況。 <第二實施型態> 圖7係爲表示有關本發明之實施型態的光電裝置10A 之槪略正面圖，另在此實施型態之中，係使光透過性之間 隔構件5 0介入存在於發光面板1 2之密封體1 6與聚焦性 透鏡陣列40之間，並間隔構件5 0係接合於密封體1 6與 聚焦性透鏡陣列40，另，間隔構件50係由玻璃或塑料所 形成，並至少將對向於密封體1 6的面及對向於聚焦性透 鏡陣列40的面，作爲平坦。 -19- (17) 1302124 對於將間隔構件5 0接合於密封體1 6與聚焦性透鏡陣 列係例如採用熱硬化性接著劑或紫外線硬化性接著劑，另 ，密封體1 6與間隔構件50係可由無介入存在接著劑於兩 者間的狀態進行直接接觸，而亦可將接著劑介入存在於兩 者間而相互接合，而聚焦性透鏡陣列4 0之折射率分佈型 透鏡4 2與間隔構件5 0係可由無介入存在接著劑於兩者間 的狀態進行直接接觸，而亦可將接著劑介入存在於兩者間 φ 而相互接合，另，對於於密封體1 6與間隔構件5 0之間或 ，折射率分佈型透鏡42與間隔構件50之間介入存在有接 著劑之情況，接著劑係與上述之接著劑3 8相同爲透明， 而其他的特徵係與第1實施型態相同。 有關此實施型態之畫像印刷裝置亦如滿足式（1 )地 來進行設計之情況則爲理想，而對於最爲理想的方式，係 如滿足式（2 )地來進行設計之情況。 邊參照圖2，圖5及圖7，邊具體說明在此實施型態 φ 之理想的設計値，當將爲一般式之式（1 )及式（2 )，作 爲適合於此實施型態時，則得到各個式（6 )及式（7 )。
0.9*(di/ni + d2/n2+ d3/n3+ d4/n4+ ¢15/115+ d6/n6)S L〇S 1 · 1 * (d i / n i + d 2 / n 2 + d 3 / n 3 + d 4 / n 4 + d 5 / n 5 + d 6 / n 6)…（6) L0=di/ni+d2/n2+ d3/n3+ d4/n4+ d5/n5+ d6/n6…（7) ‘ 在此，幻〜（13及ni〜n3係如以上所述，d4係爲密封 體1 6與間隔構件50之間的透明接著劑厚度，並對於無介 入存在有接著劑於密封體1 6與間隔構件5 0之間的情況係 爲零，n4係爲其透明接著劑之折射率，d5係爲間隔構件 -20- (18) 1302124 5 0的厚度，n5係爲間隔構件5 0之折射率’ cU係爲間隔構 件與聚焦性透鏡陣列40之折射率分佈型透鏡42之間的透 明接著劑的厚度’並對於無介入存在有接著劑於間隔構件 5 0與折射率分佈型透鏡42之間的情況係爲零n6係爲其透 明接著劑之折射率。 ch，d2係爲微小，並因d4，d6通常亦爲微小，故實 際設計上係亦可作爲如滿足式（8 )。 0.9*(d3/n3 + d5/n57) S L0S I.l*(d3/n3 + d5/n5)…（8) 如根據此實施型態，根據藉間隔構件50接合發光面 板1 2與聚焦性透鏡陣列40之情況，可使從發光面板1 2 所發射的光之中，進入至聚焦性透鏡陣列40的光之比例 提升，並可提升光的利用效率，隨之，爲了得到相同程度 照度的像，將可比以往降低傳達至EL元件1 4之電壓， 並亦可延長其部分EL元件14之壽命。 並，如滿足式（1 )，式（3 )或式（5 )地進行設計 φ ，將可防止發光面板1 2上的像與聚焦性透鏡陣列40之焦 點不整合之情況。 圖8係爲間隔構件5 0之剖面圖，另，如圖8所示， 對於間隔構件5 0所有側面（無對向於發光面板1 2，以及 聚焦性透鏡陣列4 0的面）全體，係形成有光吸收層6 7， 而當在間隔構件5 0的側面產生光的內部反射時，對於根 據從EL元件經由間隔構件50而直接進入至聚焦性透鏡 陣列4 0之光述的像，將混雜有根據進行內部反射之光束 的像，而有損像的鮮明度。 -21 - (19) 1302124 對此，位於間隔構件5〇側面之光吸收層66 ’ 68係因 使在側面的內部反射降低’故可降低進入至根據內部反射 之聚焦性透鏡陣列4 0的事態情況’隨之’控制對於根據 從E L元件1 4通過間隔構件5 0而直接進入至聚焦性透鏡 陣列40之光束的像’混雜有根據內部反射之光束的像之 情況。 光吸收層67係可根據塗層黑色塗料於間隔構件50側 φ 面之情況設置，實際上，即使黑色塗料也有些許光透過性 ，而有在間隔構件50與光吸收層67之界面，光線產生內 部反射之虞，因此，理想爲光吸收層67之折射率比間隔 構件50之折射率還高。 對於從折射率高之媒體至折射率低之媒體，光行進之 情況，係根據光的入射角度，產生全反射，隨之，當光吸 收層6 7之折射率比間隔構件5 0之折射率還低時，對於 根據從EL元件14通過間隔構件5 0，而直接進入至聚焦 φ 性透鏡陣列40之光束的像，混雜有根據內部反射之光束 的像，而有損像的鮮明度，另對此，對於光吸收層6 7之 折射率比間隔構件5 0之折射率還高之情況，係在界面的 光之內部反射係僅有些許，並朝向間隔構件5 0側面行進 的光係幾乎被光吸收層67所吸收或，透過光吸收層67另 ’根據選擇適當之塗料的膠黏劑情況，將可得到理想折射 率的光吸收層6 7。 <實施型態之效果根據〉 -22- (20) 1302124 圖9係表示於實際的發光位置與聚焦性透鏡陣列4〇 之折射率分佈型透鏡4 2 (參照圖3乃至圖5 )之間，存在 有固體之光透過要素TR1與空氣層情況之光的路徑例， 接著，更加地詳細說明上述式（2 )之根據。 針對圖9，P a係表示實際對於聚焦性透鏡陣列4 0之 折射率分佈型透鏡42，位於成爲焦點整合狀態之發光位 置的點，另在此係假定在接觸於光透過要素TR 1之位置 φ Pa進行發光，另外，α係爲從發光位置上的點pa行進之 某個光束，從光透過要素TR1出射之位置與，通過發光 位置上的點Pa，於光透過要素TR1之端面垂直的線之距 離，另，L。係爲聚焦性透鏡陣列40之物體側（發光面板 1 2側）之空氣中的實際動作距離，Pb係爲從聚焦性透鏡 陣列40離開其物體側之空氣中的實際動作距離的點，另 ，對於假定在發光位置與聚焦性透鏡陣列40之間，無光 透過要素TR1而只有空氣之情況，在點Pb進行發光的光 φ 束係於聚焦性透鏡陣列40，成爲焦點整合狀態，也就是 ，Pb係對於假定在發光位置與聚焦性透鏡陣列40之間 ，無光透過要素TR 1而只有空氣之情況’對聚焦性透鏡 陣列40來說，爲理想之假想發光位置上的點。 針對在圖9係根據斯奈爾定律（折射定律）而成立式 (9) 〇 nb*sin0b 与 sin 0 b= na · sin Θ a …（9) 在此，nb係爲空氣的折射率，Θ b係爲對於在光透過 要素TR1與空氣之間的界面之空氣的入射角’〜係爲光 -23- (21) 1302124 透過要素TR1之折射率，0a係從在光透過要素TR1與空 氣之間的界面之光透過要素TR1的出射角，另因爲爲na >nb与1，故爲 <9b> 0a。 另外，針對圖9係成立式（7 )及式（1 1 )。 tan Θ 2i= a /da ".(10) tan 0 \i= a /db “.（11) 在此da係爲光透過要素TR1之厚度，db係爲從假想 φ 之發光位置上的點Pb至光透過要素TR1與空氣之間的界 面爲止的距離。 從式（9 )乃至式（1 1 )得到式（12 )。 db= da · cos 0 b/ na · cos Θ a …（12) 在如使用聚焦性透鏡陣列40之近軸光學系之中係0 a 及0 b則相當小’而因通常係例如未達1 5 °，故爲C 0 S 0 a /c〇S0b与1，並式（12)係可改寫成式（13)。 db= da/ na …（1 3) φ 當將光透過要素TR1與聚焦性透鏡陣列40之間的空 氣層厚度，作爲d。時’則爲L〇= db+ de，隨之，聚焦性透 鏡陣列40之物體側（發光面板1 2側）之空氣中的實際動 作距離L。與，光透過要素TR1之厚度da，及折射率na係 當滿足式（1 4 )之關係時，由實際的發光位置的光所形成 的像係對於聚焦性透鏡陣列40，成爲焦點整合狀態。 L〇= db+ dc= da/ na+ dc …（14) 另外，由以上說明可了解到，根據於發光位置與聚焦 性透鏡陣列40之間界在有比空氣還高折射率之光透過要 -24- (22) 1302124 素TR1的情況，聚焦性透鏡陣列40之物體側的焦點距離 有成爲延長之情況，也就是，實際發光位置上的點p a， 比起假想之發光位置上的點Pb，從聚焦性透鏡陣列40較 遠的一方，則由發光位的光所形成的像係對於聚焦性透鏡 陣列40，成爲焦點整合狀態。 圖1 〇係表示以和圖9同樣的條件，光透過要素TR1 鄰接於聚焦性透鏡陣列40之折射率分佈型透鏡42之光的 φ 入口情況的光之路徑例，另外，圖1 1係表示以和圖9同 樣的條件，光透過要素TR 1介入存在於聚焦性透鏡陣列 40之折射率分佈型透.鏡42與實際發光位置上的點Pa之間 ，但從雙方相距情況之光的路徑例，另，圖1 0及圖1 1之 狀態係與圖9之狀態，因只有光透過要素TR 1之位置不 同，故對於這些情況係亦了解到，當滿足式（1 4 )之關係 時，由實際的發光位置的光所形成的像係對於聚焦性透鏡 陣列40，成爲焦點整合狀態。 φ 圖1 2 ( a )係表示於實際的發光位置與聚焦性透鏡陣 列40之折射率分佈型透鏡42之間，存在有固體之光透過 要素TR1及，與光透過要素TR1同折射率之固體的光透 過要素TR2情況之光的路徑例，並圖12 ( b )係表示於實 際的發光位置與聚焦性透鏡陣列40之折射率分佈型透鏡 42之間，存在有固體之光透過要素TR1及，與光透過要 素TR1相異折射率之光透過要素TR2情況之光的路徑例 ，另在圖12(a)及圖12(b)之中，光透過要素TR1係 與圖1 0同樣地，鄰接在聚焦性透鏡陣列40之折射率分佈 -25- (23) 1302124 型透鏡42之光的入口 ’並於實際發光位置上的點Pd與光 透過要素TR1之間，介入存在有光透過要素TR2。 針對在圖1 2 ( a )及圖1 2 ( b ) ，Pb係爲對於假定於 發光位置與聚焦性透鏡陣列4 0之間，無光透過要素TR1 ，TR2，而只有空氣之情況，於聚焦性透鏡陣列40之折 射率分佈型透鏡42，成爲焦點整合狀態之假想的發光位 置上的點（與圖9乃至圖1 1的點P b相同），另，P a係爲 φ 對於假定於發光位置與聚焦性透鏡陣列40之間，只有光 透過要素TR1之情況，於聚焦性透鏡陣列40之折射率分 佈型透鏡42 .，成爲焦點整合狀態之假想的發光位置上的 點（與圖9乃至圖1 1的點Pa相同），另外，Pd係表示實 際對於聚焦性透鏡陣列40之折射率分佈型透鏡42，位於 成爲焦點整合狀態之發光位置的點，在此係假定在接觸於 光透過要素TR2之位置Pd進行發光，另外，β係爲從發 光位置上的點Pd行進之某個光束，從光透過要素TR2出 φ 射之位置與，通過光位置上的點Pd，於光透過要素TR1， TR2之端面垂直的線之距離。 針對在圖1 2 ( a )及圖1 2 ( b )係根據斯奈爾定律（ 折射定律）而成立式（1 5 )。 nb · sin^ b - sin^ b = na * sin 0 a = nd · sin Θ d ".(15) 在此，nb係爲空氣的折射率’ 0 b係爲從在假定無光 透過要素TR2情況之空氣與光透過要素TR1之間的界面 之空氣的出射角（參照圖1〇)，〜係爲光透過要素TR1 之折射率，03係爲對於在假定無光透過要素TR2情況之 -26- (24) 1302124 空氣與光透過要素TR1之間的界面之光透過要素TR1的 入射角，並爲對於在有光透過要素TR2情況之光透過要 素TR2與光透過要素TR1之間的界面的光透過要素TR1 之入射角，另因爲爲naSrib^l，故爲0b> 0a，另外， nd係爲光透過要素TR2之折射率，並0 d係爲從在有光透 過要素TR2情況之光透過要素TR2與光透過要素TR1之 間的界面的光透過要素TR2之出射角，另因爲爲nd > nb φ 与1，故爲0b>0d，更加地，在圖12(a)之中係因光透 過要素TR1之折射率na與光透過要素TR2之折射率nd則 相互相等，故0 d= 0 a。 另外，針對在圖1 2 ( a )及圖12 ( b )係成立式（1 6 )及式（17)。 tan 0 d = β/dd ".(16) tan (9 b = p/dc “.（17) 在此（^係爲光透過要素TR2之厚度，d。係爲從假想 • 之發光位置上的點Pa至光透過要素TR2與光透過要素 TR1之間的界面爲止的距離。 從式（15 )乃至式（1 7 )得到式（1 8 )。 dc= dd · cos0 b/ nd · cos Θ d “.（18) 在如使用聚焦性透鏡陣列40之近軸光學系之中係0 d 及0 b則相當小，而因通常係例如未達1 5° ，故爲cos Θ t / cos 0 1，並式（18 )係可改寫成式（19 )。 dc= dd/ na ...(19) 當代入式（19 )之d。於在圖9所得到之式（14 )時 -27- (25) 1302124 ，則得到式（20)。 L〇= db+ dc= da/ na+ dc= da/ na+ dd/ nd …（20) 在圖12 ( a)之中係因光透過要素TR1之折射率na 與光透過要素TR2之折射率nd則相互相等，故得到式（ 24 ) ° L〇= da/ na+ dd/ nd= ( da+ dd ) / na …（24) 隨之，聚焦性透鏡陣列40之物體側（發光面板1 2側 φ )之空氣中的實際動作距離L。與，光透過要素TR1之厚 度da ’其折射率na，光透過要素TR2之厚度dd及其na係 .當滿足式（20 )之關係時，由實際的發光位置的光所形成 的像係對於聚焦性透鏡陣列40，成爲焦點整合狀態，另 外，由以上說明了解到，根據於發光位置與聚焦性透鏡陣 列40之間介入存在有比空氣還高折射率之光透過要素 TR1，TR2的情況，聚焦性透鏡陣列40之物體側的焦點 距離有成爲延長之情況，也就是，實際發光位置上的點 φ Pa，比起假想之發光位置上的點Pb，從聚焦性透鏡陣列 40較遠的一方，則由發光位的光所形成的像係對於聚焦 性透鏡陣列40，成爲焦點整合狀態。 例如，對於L。係 2.4mm，dd = 0.5 mm，光透過要素 TR1，TR2 爲玻璃，na = nd= 1.52 之情況，係因 2.4 = 0.5/ 1.52+ da/ 1.52，故da = 3.148 mm，因而，實際的發光位置 Pd與聚焦性透鏡陣列40之間的距離係應作爲da + d d = 3 · 6 4 8 m m 〇 根據進入以上思考之情況，得到一般式（2 )，另在 -28- (26) 1302124 圖9乃至圖12(b)之中係例示有固體之光透過要素tri ，TR2，但該業者應了解到，即使作爲於發光面板1 2之 EL元件1 4 (特別是發光層26 )與聚焦性透鏡陣列之間有 空氣層’亦將其空氣層當作光透過要素，而亦可將其空氣 層之折射率nil與，其空氣層的厚度d代入於一般式（2 )之情況’通常’光學性距離係作爲折射率與厚度的積之 合計所計算’但在式（2 )之中係爲了取得對於聚焦性透 φ 鏡陣列4〇之焦點整合性，而由對於折射率之厚度的比之 合計所計算，如上述所述，對於在發光面板丨2與聚焦性 透鏡陣列40之間介入存在有透明之間隔構件或透明接著 劑之情況，係比較於只介入存在空氣層之情況，對於將發 光面板1 2上的像對聚焦性透鏡陣列40作爲焦點整合狀態 適合之發光面板1 2與聚焦性透鏡陣列40的間隔則變長， 另，當作爲另外的看法時，對於發光面板1 2與聚焦性透 鏡陣列40的間隔則訂定成固定性（例如，預先固定發光 φ 面板12與聚焦性透鏡陣列40於圖6之覆蓋物1 3之情況 等），而其間隔比聚焦性透鏡陣列40之發光面板1 2側之 空氣中的實際動作距離還長之情況，係根據配置適當厚度 的間隔構件或接著劑於兩者之間之情況，可實質上延伸動 作距離，而使其一致於發光面板1 2與聚焦性透鏡陣列40 之固定的間隔情況。 更加地’根據使在實施型態從發光面板1 2所發射的 光之中，進入至聚焦性透鏡陣列40的光的比例提升之情 況，說明提升光的利用效率之效果的根據，另，針對在近 -29- (27) 1302124 軸光學系，在兩個媒體的界面之反射率係這些媒體之折射 率差越大則越大，隨之，如圖9乃至圖1 1所示，對於在 發光位置與聚焦性透鏡陣列40之間有空氣層之情況，係 爲了在固體之光透過要素（例如，玻璃）與空氣之界面， 及空氣與折射率分佈型透鏡42之界面，有相當的光進行 反射，故從發光位置的光之中，進入至聚焦性透鏡陣列 40的光之比例爲低，另一方，如圖12所示，於發光位置 φ 與聚焦性透鏡陣列40之間有複數光透過要素，並對於這 些光透過要素之折射率近似之情況係在同爲光透過要素（ 例如，玻璃與接著劑3 8 )之界面的反射爲少，而在光透 過要素與折射率分佈型透鏡42之界面的反射亦少（折射 率分佈型透鏡42之折射率係根據情況而有所差異，接近 於玻璃之折射率），因此，從發光位置的光之中，進入至 聚焦性透鏡陣列40的光之比例爲高。 在上述之實施型態之中係直接接合發光面板1 2與聚 • 焦性透鏡陣列40，或於發光面板1 2與聚焦性透鏡陣列40 之間介入存在有間隔構件，另，對於接著發光面板1 2與 聚焦性透鏡陣列40之情況或，接著間隔構件於發光面板 1 2或聚焦性透鏡陣列40之情況，係使用折射率接近於玻 璃之接著劑，隨之，比較於圖1所示之以往技術，將可提 升光的利用效率情況。 圖13 ( a)係表示對於只有空氣層於發光面板12之 密封體1 6與聚焦性透鏡陣列40之間的情況，從1個光點 發射而進入至折射率分佈型透鏡42，成像於感光體柱狀 -30- (28) 1302124 物1 1 〇之最外側的光，另，圖1 3 ( b )係表示對於有間 構件5 0於發光面板1 2之密封體1 6與聚焦性透鏡陣列 之間的情況，從1個光點發射而進入至折射率分佈型透 42，成像於感光體柱狀物1 1 〇之最外側的光，而在圖 (a )之空氣中的最外側的光之行進角係爲eb，另’在 ，將密封體16作爲玻璃，假定將在其折射率na=l· 52 ’ 封體1 6內之光行進角爲8°之情況，從斯奈爾定律得到 • 0 b=12.3° ，而另一方，在圖13 ( b)之間隔構件50中 最外側的光之行進角係爲0 5〇，在此，將密封體1 6及 隔構件50作爲玻璃，假定將在其折射率na=l.52，密封 16內之光行進角爲8°之情況，從斯奈爾定律得到0 5〇: 8。 。 如圖1 3 ( a )，於發光面板1 2之密封體1 6與聚焦 透鏡陣列40之間只有空氣層之情況，密封體1 6與折射 分佈型透鏡42之距離係應縮小，並其距離的容許差亦 •，例如，對於此距離比適當値還大之情況，係因空氣中 行進角0 b爲大，故一般的光束則無法進入至折射率分 型透鏡42而行進至折射率分佈型透鏡42之外側，因此 光的利用效率爲不佳，反之，對於此距離比適當値還/J、 情況，係匯聚於感光體柱狀物1 1 〇上之光點直徑ds則 大，也就是在感光體柱狀物1 1 〇上所形成之潛像解析度 不佳。 對此，如圖1 3 ( b )，於發光面板1 2之密封體16 聚焦性透鏡陣列40之間有間隔構件50之情況，密封 隔 40 鏡 13 此 密 之 間 體 性 率 少 的 佈 的 變 爲 與 體 -31 - (29) 1302124 1 6與折射率分佈型透鏡42之距離係應增加，並其距離的 容許差亦大，隨之，在圖1 3 ( a )之情況產生之不良程度 則爲少，對於厚的密封體1 6與聚焦性透鏡陣列40直接接 合之情況，亦可達成相同之效果。 <光電裝置之製造方法> 接著，說明上述光電裝置之製造方法，特別是對於必 φ 要處，以適當的厚度設置透明之接著劑，首先，說明直接 接合發光面板1 2與聚焦性透鏡陣列40之第1實施型態的 製造方法，如圖5所示，對於以極薄之接著劑3 8接著發 光面板12與聚焦性透鏡陣列40之情況，製造方法係爲單 純，將接著劑敷層於發光面板1 2與聚焦性透鏡陣列40之 至少一方，而將另一方接著於此即可。 圖1 4係表示根據以適當厚度之接著劑接著發光面板 1 2與聚焦性透鏡陣列40之情況，直接接合發光面板1 2 φ 與聚焦性透鏡陣列40之製造方法的最初階段，首先，準 備聚焦性透鏡陣列40與發光面板1 2，並測定聚焦性透鏡 陣列40之發光面板1 2側之空氣中的動作距離L。，並且 ，依據動作距離L。及接著劑固化時的折射率，如滿足式 (1 )，理想係式（2 )之關係地，算出所使用之接著劑之 厚度。 接著，如圖1 5所示，在發光面板1 2與聚焦性透鏡陣 列40之間，例如於發光面板1 2上方，將透明之接著劑 5 1敷層，另接著劑5 1係亦可與上述之接著劑3 8相同之 -32- (30) 1302124 構成，接著，以發光面板12與聚焦性透鏡陣列40，將接 著劑壓縮至成爲所算出之後度爲止，並在其狀態下，使接 著劑51進行固化，由此，如圖16及圖17所示，根據規 定厚度的接著劑5 1，得到直接接合發光面板1 2與聚焦性 透鏡陣列40之光電裝置，另，根據滿足式（1 )，理想係 式（2 )之關係，得到適合聚焦性透鏡陣列40之實際動作 距離之厚度的接著劑5 1，並發光面板1 2上的像則對於聚 φ 焦性透鏡陣列40，幾乎成爲焦點整合狀態，另外，根據 壓縮接著劑5 1之情況，對於適合聚焦性透鏡陣列40之實 際動作距離之厚度，限制接著劑5 1，而對於聚焦性透鏡. 陣列40，將發光面板1 2上的像作爲焦點整合狀態之情況 則爲容易。 作爲圖1 4乃至圖1 7所示之製造方法的變形，亦可作 爲如以下之方式，首先，測定聚焦性透鏡陣列40之發光 面板1 2側之空氣中的動作距離L。，並且，依據動作距離 φ L。及接著劑固化時的折射率，如滿足式（1 )，理想係式 (2 )之關係地，算出所使用之接著劑之厚度。 接著，如圖1 8所示，將發光面板1 2與聚焦性透鏡陣 列4 0之間隔，作爲相等於所算出之接著劑厚度，然後相 對性地固定發光面板1 2與聚焦性透鏡陣列40，更加地， 於被相對性固定之發光面板1 2與聚焦性透鏡陣列40之間 ，採用接著劑供給器Su，配置透明之接著劑5 1，然後使 其固化，由此，如圖1 6及圖1 7所示，根據規定厚度的接 著劑5 1，得到直接接合發光面板1 2與聚焦性透鏡陣列40 -33- (31) 1302124 之光電裝置，另，根據滿足式（1 )，理想係式（2 )之關 係，得到適合聚焦性透鏡陣列4 0之實際動作距離之厚度 的接著劑5 1，並發光面板1 2上的像則對於聚焦性透鏡陣 列40，幾乎成爲焦點整合狀態，另外，根據配置透明之 接著劑5 1於被相對性固定之發光面板1 2與聚焦性透鏡陣 列40之間之情況，對於適合聚焦性透鏡陣列40之實際動 作距離之厚度，限制接著劑5 1，而對於聚焦性透鏡陣列 φ 40，將發光面板1 2上的像作爲焦點整合狀態之情況則爲 容易。 接著，說明於發光面板1 2與聚焦性透鏡陣列.40之間 介入存在有光透過性間隔構件5 0之第2實施型態的製造 方法，另，如圖7所示，對於以極薄之接著劑3 8接著發 光面板1 2與間隔構件5 0或聚焦性透鏡陣列40與間隔構 件5 0之情況，製造方法係爲單純，並根據將接著劑敷層 於必要處之情況而接著這些即可。 • 圖1 9係表示根據以適當厚度之接著劑接著發光面板 12與間隔構件5 0之情況，直接接合發光面板12與間隔 構件5 0之製造方法的最初階段，首先，準備聚焦性透鏡 陣列40，並測定聚焦性透鏡陣列40之發光面板1 2側之 空氣中的動作距離，並且，依據動作距離L。，間隔構 件5 0之折射率及其厚度，以及接著劑固化時的折射率， 如滿足式（1 )，理想係式（2 )之關係地，算出所使用之 接著劑之厚度，並且，以透明之接著劑接著聚焦性透鏡陣 列40與間隔構件5 0，而此時之接著劑厚度係可爲極小。 -34- (32) 1302124 接著，如圖20所示，在發光面板12與間隔構件50 之間，例如於發光面板1 2上方，將透明之接著劑5 1敷層 ，另接著劑5 1係亦可與上述之接著劑3 8相同之構成，接 著，以發光面板1 2與間隔構件5 0，將接著劑至成爲所算 出之後度爲止進行壓縮，並在其狀態下，使接著劑5 1進 行固化，由此，如圖21所示，根據規定厚度的接著劑5 1 ，得到接合間隔構件5 0與發光面板1 2之光電裝置，另， φ 根據滿足式（Ο ，理想係式（2 )之關係，得到適合聚焦 性透鏡陣列40之實際動作距離之厚度的接著劑5 1，並發 光面板1 2上的像則對於聚焦性透鏡陣列40，幾乎成爲焦 點整合狀態，另外，根據壓縮接著劑51之情況，對於適 合聚焦性透鏡陣列40之實際動作距離之厚度，限制接著 劑5 1，而對於聚焦性透鏡陣列4 0，將發光面板1 2上的像 作爲焦點整合狀態之情況則爲容易。 作爲圖19乃至圖21所示之製造方法的變形，亦可作 # 爲如以下之方式，首先，測定聚焦性透鏡陣列40之發光 面板1 2側之空氣中的動作距離L。，並且，依據動作距離 L。，間隔構件5 0之折射率及其厚度，以及接著劑固化時 的折射率，如滿足式（1 )，理想係式（2 )之關係地，算 出所使用之接著劑之厚度，並且，如圖1 9所示，以透明 之接著劑接著聚焦性透鏡陣列40與間隔構件50，而此時 之接著劑厚度係可爲極小。 接著，如圖2 2所示，將發光面板〗2與間隔構件5 〇 之間隔，作爲相等於所算出之接著劑厚度，然後相對性地 -35- (33) 1302124 固定發光面板1 2與間隔構件5 0，更加地，於被相對性固 定之發光面板1 2與間隔構件5 0之間，採用接著劑供給器 S u，配置透明之接著劑5 1，然後使其固化，由此，如圖 2 1所示，根據規定厚度的接著劑5 1，得到直接接合發光 面板12與間隔構件5 0之光電裝置，另，根據滿足式（1 )，理想係式（2 )之關係，得到適合聚焦性透鏡陣列40 之實際動作距離之厚度的接著劑5 1，並發光面板1 2上的 φ 像則對於聚焦性透鏡陣列40，幾乎成爲焦點整合狀態， 另外，根據配置透明之接著劑5 1於被相對性固定之發光 面板1 2與聚焦性透鏡陣列40之間之情況，對於適合聚焦 性透鏡陣列40之實際動作距離之厚度，限制接著劑5 1， 而對於聚焦性透鏡陣列40，將發光面板1 2上的像作爲焦 點整合狀態之情況則爲容易。 圖23係表示根據以適當厚度之接著劑接著聚焦性透 鏡陣列40與間隔構件50之情況，直接接合聚焦性透鏡陣 φ 列40與間隔構件5 0之製造方法的最初階段，首先，準備 聚焦性透鏡陣列4 0，並測定聚焦性透鏡陣列4 0之發光面 板12側之空氣中的動作距離L。，並且’依據動作距離L。 ，間隔構件50之折射率及其厚度’以及接著劑固化時的 折射率，如滿足式（1 )，理想係式（2 )之關係地’算出 所使用之接著劑之厚度，並且，以透明之接著劑接著發光 面板1 2與間隔構件5 0，而此時之接著劑厚度係可爲極小 〇 接著，如圖2 4所示’在發光面板12與間隔構件5 0 -36- (34) 1302124 之間，例如於間隔構件5 0上方，將透明之接著劑5 1敷層 ，另接著劑5 1係亦可與上述之接著劑3 8相同之構成，接 著，以聚焦性透鏡陣列40與間隔構件50，將接著劑壓縮 至成爲所算出之後度爲止，並在其狀態下，使接著劑5 1 進行固化，由此，如圖25所示，根據規定厚度的接著劑 5 1，得到接合間隔構件50與聚焦性透鏡陣列40之光電裝 置，另，根據滿足式（1 )，理想係式（2 )之關係，得到 φ 適合聚焦性透鏡陣列40之實際動作距離之厚度的接著劑 5 1，並發光面板1 2上的像則對於聚焦性透鏡陣列40，幾 乎成爲焦點整合狀態，另外，根據壓縮接著劑5 1之情況 ，對於適合聚焦性透鏡陣列40之實際動作距離之厚度， 限制接著劑5 1，而對於聚焦性透鏡陣列40，將發光面板 1 2上的像作爲焦點整合狀態之情況則爲容易。 作爲圖23乃至圖25所示之製造方法的變形，亦可作 爲如以下之方式，首先，測定聚焦性透鏡陣列40之發 • 光面板12側之空氣中的動作距離L。，並且，依據動作距 離L。，間隔構件50之折射率及其厚度，以及接著劑固化 時的折射率，如滿足式（1 )，理想係式（2 )之關係地， 算出所使用之接著劑之厚度，並且，如圖23所示，以透 明之接著劑接著發光面板1 2與間隔構件5 0，而此時之接 著劑厚度係可爲極小。 接著，如圖26所示，將聚焦性透鏡陣列40與間隔構 件50之間隔，作爲相等於所算出之接著劑厚度，然後相 對性地固定聚焦性透鏡陣列40與間隔構件50，更加地， -37· (35) 1302124 於被相對性固定之聚焦性透鏡陣列40與間隔構件 ，採用接著劑供給器Su，配置透明之接著劑5 1 其固化’由此，如圖25所示，根據規定厚度的| ，得到直接接合發光面板1 2與間隔構件5 0之光 另，根據滿足式（1 )，理想係式（2 )之關係， 聚焦性透鏡陣列40之實際動作距離之厚度的接· 並發光面板1 2上的像則對於聚焦性透鏡陣列40 • 爲焦點整合狀態，另外，根據配置透明之接著劑 相對性固定之發光面板1 2與聚焦性透鏡陣列40 況’對於適合聚焦性透鏡陣列之實際動作距離之 制接著劑5 1，而對於聚焦性透鏡陣列40，將發3 上的像作爲焦點整合狀態之情況則爲容易。 參照圖1 9乃至圖26，雖已說明設置接著劑 隔構件5 0之單面的順序，但亦可組合這些，如圈 ，於聚焦性透鏡陣列40與間隔構件5 0之間隙及 # 板12與間隔構件50之間隙的雙方，設置適當厚 劑51。 爲了確貫作爲適當之上述透明接著劑51的 ，亦可設置埋設在接著劑51內之間隔確保材， 可如圖28及圖29所示，於配置在圖16之發光H 聚焦性透鏡陣列40之間的接著劑5 1中，設置間 gfl或gf2，另，間隔確保材gfl隙爲球狀，而匱 確保材gf2係爲角材狀，板狀或棒狀。 間隔確保材gfl，gf2係爲固體，並理想爲 :5 0之間 ，然後使 I著劑51 裝置， 得到適合 f 劑 5 1， ，幾乎成 5 1於被 之間之情 厚度，限 面板1 2 5 1於間 3 27所示 ，發光面 度之接著 層之厚度 例如，亦 ί板1 2與 隔確保材 I 29之隔 具有，即 -38- (36) 1302124 使由聚焦性透鏡陣列40與發光面板1 2來壓縮接著劑5 1 ，幾乎不會有變型之剛性，另，對於在從發光面板1 2之 EL元件14至聚焦性透鏡陣列40之折射率分佈型透鏡42 的光路，配置有間隔確保材gfl或gf2之情況，間隔確保 材gfl或gf2係理想爲具有透明，且與周圍之接著劑51 幾乎相等之折射率情況，但，對於在從光路離開的位置， 配置有間隔確保材gfl或gf2之情況，間隔確保材gfl或 φ gf2之光學性特性係並不重要。 如此，根據配置有間隔確保材之情況，對於適合聚焦 性透鏡陣列之實際動作距離之厚度，限制接著劑，而對於 聚焦性透鏡陣列，將發光面板上的像作爲焦點整合狀態之 情況則爲容易，另，亦可將如此之間隔確保材gfl或gf2 配置在間隔構件5 0與發光面板1 2之間，而亦可配置在間 隔構件5〇與聚焦性透鏡陣列40之間。 另外，對於使用上述任一之製造方法的情況，理想亦 φ 爲防止有著流動性之固化前得接著劑之流出，並接著劑則 固化成期望形狀，如圖3 0所示，配置接著劑5 1於於引導 框GU之間，特別是，引導框GU係平行地配置於聚焦性 透鏡陣列4 0與發光面板1 2之長方側面（參照圖4 )之情 況則爲理想，另，根據如緊密於此引導框GU地塡充接著 劑5 1之情況，固化之接著劑5 1係於聚焦性透鏡陣列40 與發光面板1 2之長方側面’成爲具有平行且平坦之側面 的情況，另一方，關於聚焦性透鏡陣列40與發光面板1 2 之短方側面係可不設置引導框GU，因此’如圖1 6所示， -39- (37) 1302124 ，亦可從聚焦性透鏡陣列40及發光面板1 2之短方的側面 係溢出有接著劑5 1，而接著劑5 1亦可比短方的側面稍微 凹陷，另，對於爲了預期得到對於聚焦性透鏡陣列40之 焦點整合性，接著劑51係應完全地配置在至發光面板1 2 上之EL元件1 4與聚焦性透鏡陣列40之折射率分佈型透 鏡42爲止的光路，而此目的的原因係當作爲使固化前之 接著劑5 1持續接觸於引導框GU之長方的內側面，並接 φ 著劑3 8B流向於聚焦性透鏡陣列40及發光面板1 2之長度 方向時，作業則爲簡單，其結果，固化之接著劑5 1係於 聚.焦性透鏡陣列40及發光面板1 2之長方的側面，具有平 行且平坦的側面之另一方面，成爲不會成爲與短方的側面 同一面之情況。 另外，對於使用上述之間隔構件50之任一製造方法 的情況，理想亦爲如圖3 1乃至圖3 3所示，對於間隔構件 5〇係配置接著劑5 1之同時，形成有位了崁入聚焦性透鏡 φ 陣列40之收容穴70，而由此，在收容穴70內，因接著 劑5 1產生固化，故可完美潤飾接著劑，另外，根據收容 穴70，對於間隔構件50，可正確配置聚焦性透鏡陣列40 ，特別是，如圖32及圖33所示，收容穴70係於聚焦性 透鏡陣列40之長方的側面，具有平行之內面側，並這些 內側面之間隔係幾乎相等於聚焦性透鏡陣列40之寬度情 況則爲理想，另，根據如緊密於此收容穴70內側面地塡 充接著劑5 1之情況，固化之接著劑5 1係成爲於聚焦性透 鏡陣列40之長方的側面，具有平行且平坦之側面之情況 -40 - (38) 1302124 ’另一方，聚焦性透鏡陣列4 0之短方的側面係離開收 穴7 0之側面即可，因此，如圖16所示，亦可從聚焦性 鏡陣列40及發光面板1 2之短方的側面係溢出有接著 5 1，而接著劑5 1亦可比短方的側面稍微凹陷，另，對 爲了預期得到對於聚焦性透鏡陣列40之焦點整合性， 著劑5 1係應完全地配置在至發光面板1 2上之EL元件 與聚焦性透鏡陣列40之折射率分佈型透鏡42爲止的光 •，而此目的的原因係當作爲使固化前之接著劑5 1持續 觸於收容穴70之長方的內側面，並接著劑5 1流向於聚 性透鏡陣列40及發光面板12之長度方向時，作業則爲 單，其結果，固化之接著劑5 1係於聚焦性透鏡陣列40 發光面板1 2之長方的側面，具有平行且平坦的側面之 一方面，成爲不會成爲與短方的側面同一面之情況。 如圖34及圖35所示，理想爲對於間隔構件50之 容穴70側面，係形成有可從收容穴70底面滲入接著聚 # 性透鏡陣列40於間隔構件50之透明接著劑5 1之凹部 或73，另因固化前之接著劑5 1係有著流動性，故只對 針對在收容穴70之必要的部分，配置接著劑5 1之情況 爲困難，但於形成在收容穴70側面之凹部72或73滲 有多餘之接著劑3 8B，由此，對於收容穴70之側面， 確實地接觸有接著劑5 1之同時，溢出於收容穴70外側 接著劑51的量則成爲最小程度，並可降低損及此光電 置之美觀之虞。 另外，對於得到圖27所示之光電裝置，理想係如 容 透 劑 於 接 14 路 接 焦 簡 及 另 收 焦 72 於 係 入 更 之 裝 圖 -41 - (39) 1302124 36及圖37所示，對於間隔構件50係加上於收容穴70 ( 或取代收容穴70 )，配置接著劑51之同時，形成有爲了 崁入發光面板12之收容穴71，而由此，在收容穴71內 ，因接著劑3 8產生固化，故可完美潤飾接著劑5 1，另外 ，根據收容穴7 1，對於間隔構件5 0，可正確配置發光面 板12，另如圖3 7所示，收容穴7 0係於發光面板12，特 別是密封體1 6之長方的側面，具有平行之內面側，並這 φ 些內側面之間隔係幾乎相等於密封體1 6之寬度情況則爲 理想，由此，使固化前之接著劑51持續接觸於收容穴71 之長方的內側面，並進行接著劑5 1如作爲流向於聚焦性 透鏡陣列40及發光面板12之長度方向之作業，將可完全 配置接著劑51於至發光面板12上之EL元件14與聚焦 性透鏡陣列40之折射率分佈型透鏡42爲止的光路，另， 上述之凹部72或73係亦可設置於收容穴7 1。 更加地，如圖3 8及圖3 9所示，對於間隔構件5 0係 • 亦可形成，只配置有接著發光面板1 2與聚焦性透鏡陣列 40於間隔構件50之透明的接著劑5 1之收容穴75，76， 而由此，在收容穴75 ’ 76內，因接著劑51產生固化，故 可完美潤飾接著劑51，而上述之凹部72或73係亦可設 置於收容穴75，76，另亦可作爲無收容穴75，76之一方 ，或亦可形成收容穴75與收容穴7 1於間隔構件，或亦可 形成收容穴70與收容穴76於間隔構件。 另外，對於使用上述之間隔構件5 0之任一製造方法 的情況，如圖4 0或圖4 1所示’亦可於間隔構件5 0的兩 -42- (40) 1302124 面，形成有滲入接著劑5 1的溝78，79，另，對於此間隔 構件5 0之一方的面，係形成有延伸於間隔構件5 0長度方 向之一對的溝7 8，並對於另一方的面，亦形成有延伸於 間隔構件50長度方向之一對的溝79，而如圖42及圖44 所示，接著劑51係配置在一對的溝7 8之間，另如圖44 所示，在另一方的面，接著劑5 1係配置在一對的溝7 9之 間，另如圖43及圖44所示，聚焦性透鏡陣列40係如其 φ 雙方的側端緣重疊於溝7 8地，配置在間隔構件5 0之一方 的面中央而接著，另如圖44所示，密封體1 6係如其雙方 的側端緣重疊於溝7 9地，配置在間隔構件5 0之另一方的 面中央而接著。 因固化前之接著劑51係有著流動性，故只對於針對 在間隔構件5 0之必要的部分，配置接著劑5 1之情況係爲 困難，但如圖44所示，於形成在間隔構件50之溝78， 79，滲入多餘之接著劑38，3 8B，因此，將從間隔構件50 # 與發光面板1 2或聚焦性透鏡陣列40之間隙溢出於外側之 接著劑5 1的量，作爲最小限度，並可降低損及此光電裝 置之美觀之虞，而溝係亦可只設置在間隔構件5 0 —方的 面。 <畫像印刷裝置> 如上述，實施型態之光電裝置（例如，光電裝置1〇 ，1 0 A )係可作爲爲了寫入潛像於針對在利用電子照相方 式之畫像印刷裝置的像載持體之線型光頭來利用，而作爲 -43- (41) 1302124 晝像印刷裝置的例，係有影印機，複寫機之 真機之印刷部分。 圖45係爲表示將實施型態之光電裝置 型光頭來使用之畫像印刷裝置一例的縱剖面 印刷裝置係爲利用帶式中間轉印體方式之匯 像印刷裝置。 在此.畫像印刷裝置之中，同樣構成的4
• 列曝光頭10K，10C，10M，10Y則各自配 成之4個感光體柱狀物（像載持體）110K ，110Y之曝光位置，另，有機EL陣列曝分 ，10Μ，10Υ係爲上述實施型態之光電裝置；; 如圖45所示，對於此畫像印刷裝置係 輪121與隨動滾輪122，並對於這些滾輪1 回無端之中間轉印帶1 20，而如箭頭所示地 ，122旋轉，另，雖無圖示，但亦可設置傳 • 轉印帶120之張力滾軸等之張力賦予手段。 對於此中間轉印帶1 20的周圍係相互拉 配置有具有感光層之感光體柱狀物110Κ，】 1 1 〇 Υ於4個外周面，而附加字Κ，C，Μ， 爲了形成黑，青綠，洋紅，黃之顯像所使用 關於其他構件亦爲相同，而感光體柱狀物： 1 10Μ，1 10Υ係與中間轉印帶120之驅動作 旋轉驅動。 對於各感光體柱狀物1 1 〇 ( Κ，C，Μ， 印刷部分及傳 任一，作爲線 圖，而此畫像 接型的全彩畫 個有機EL陣 置在爲同樣構 ，1 10C，1 1 0Μ ：m 1 〇 κ，1 〇 c 匕任何一個。 設置有驅動滾 21，122係捲 ，使滾輪1 2 1 達張力於中間 開規定間隔， ί10C，1 10Μ， Υ係各自意味 的情況，另， 1 10Κ，1 10C， 爲同期而進行 Υ )的周圍係 -44- (42) 1302124 配置有電暈帶電器丨11 (K，c，Μ，γ)與，有機EL陣列 曝光頭 10(K，C，M，Y)與，顯像器 114(K’C’M’ Y)，另，電暈帶電器1 1 1 ( K，C，Μ，Y )係一樣地使作 爲對應之感光體柱狀物1 1 0 ( Κ，C，Μ，Υ )的外周面作 爲帶電，而有機EL陣列曝光頭10 ( Κ，C，Μ，Υ )係寫 入靜電潛像於感光體柱狀物之被帶電之外周面，另，各有 機EL陣列曝光頭1〇 ( Κ，C，Μ，Υ)係複數OLED元件 φ 1 4的配列方向，如沿著感光體柱狀物1 1 0 ( Κ，C，Μ，Υ )的母線（主掃描方向）地來設置，而靜電潛像之寫入係 根據由上述複數OLED元件14，將光照射至感光體柱狀 物之情況而進行之，另，顯像器1 1 4 ( Κ，C，Μ，Υ )係 根據使作爲顯像劑之碳粉附著在靜電潛像之情況，形成顯 像，即可視像於感光體柱狀物。 根據如此之4色之單色顯像形成台所形成之黑，青綠 ，洋紅’黃之各顯像，係經由依序一次轉印於中間轉印帶 # 1 20上之情況，重合在中間轉印帶1 20上，得到全彩的顯 像’另’對於中間轉印帶1 2 0之內側係配置有4個一次轉 印之轉印器11 2 ( Κ，C，Μ，Υ )，而一次轉印之轉印器 112(K，C，M，Y)係各自配置在感光體柱狀物11〇(κ ，C，Μ，Υ)的近旁，並根據從感光體柱狀物1ι〇(κ，匸 ，Μ，Υ )，靜電方式吸引顯像之情況，轉印顯像於通過 感光體柱狀物與一次轉印轉印器之間的中間轉印帶丨2〇。 作爲最終形成畫像的對象之薄板102係根據拾取滾輪 ’從給紙匣1〇1 —片—片傳送’然後傳送至接合於驅動滚 -45- (43) 1302124 輪之中間轉印帶1 20與二次轉印滾輪1 26之間的夾，另， 中間轉印帶120上之全彩顯像係根據二次轉印滾輪126， 作爲一次二次轉印於薄板1 02單面，並由通過爲固定部之 固定滾輪對127之情況，固定在薄板1 02上，之後，薄板 1 02係根據排紙滾輪對128，排出於形成在裝置上部排紙 匣上。 圖45之畫像印刷裝置係作爲寫入手段，因採用具有 φ 有機EL陣列之光電裝置任一，故如上述，可容易提升光 的利用效率。 接著，關於有關本發明之畫像印刷裝置之其他實施型 態，進行說明，圖46係爲作爲線型光頭，採用實施型態 之光電裝置（例如，光電裝置10，10A)任一之其他畫像 印刷裝置的縱剖面圖，而此畫像印刷裝置係爲利用帶式中 間轉印體方式之旋轉顯像式之全彩畫像印刷裝置，另，針 對在圖46所示之畫像印刷裝置，對於感光體柱狀物（像 φ 載持體）165之周圍係設置有電暈帶電器168，旋轉式之 顯像單元161，有機EL陣列曝光頭167，中間轉印帶169 〇 電暈帶電器1 6 8係一樣地使感光體柱狀物1 6 5的外周 面作爲帶電，而有機EL陣列曝光頭1 67係寫入靜電潛像 於感光體柱狀物165之被帶電之外周面’另，有機EL陣 列曝光頭1 67係爲上述之實施型態的光電裝置之任何一項 ，並複數OLED元件14的配列方向，如沿著感光體柱狀 物1 65的母線（主掃描方向）地來設置，而靜電潛像之寫 -46- (44) 1302124 入係根據由上述複數OLED元件14，將光照射至感光體 柱狀物之情況而進行之。 顯像單元161係爲放置9 0°之角間隔來配置4個顯像 器163K，163C，163M，163Y的柱狀物，並將軸161a作 爲中心可逆時針旋轉，另，顯像器163K，163C，163M， 163Y係將各自黑，青綠，洋紅，黃的碳粉供給至感光體 柱狀物1 65，並根據使作爲顯像劑之碳粉附著於靜電潛像 φ 之情況，形成顯像，即可視像於感光體柱狀物1 65。 無端之中間轉印帶169係捲回於驅動滾輪170a，隨 動滾輪170b，一次轉印滾輪166及張力滾輪.，然後使這 些滾輪的周圍旋轉於如箭頭所示方向，另，一次轉印滾輪 166係根據從感光體柱狀物165，靜電方式吸引顯像之情 況，轉印顯像於通過感光體柱狀物與一次轉印轉滾輪1 66 之撋的中間轉印帶169。 具體來說，由感光體柱狀物165最初之1旋轉，根據 φ 曝光頭167，寫入爲了黃（Y)像之靜電潛像，然後根據 顯像器1 63 Y形成同色之顯像，更加地轉印至中間轉印帶 169，另外，由接下來的1次旋轉，根據曝光頭167，寫 入爲了青綠（C )像之靜電潛像，然後根據顯像器1 63 C 形成同色之顯像，再如重合於黃色顯像地轉印至中間轉印 帶169，並且，如此作爲，感光體柱狀物9，在進行4次 旋轉之間，依序重合黃，青綠，洋紅，黑顯像於中間轉印 帶169，其結果，形成全彩顯像於中間轉印帶169上，而 對於畫像形成在作爲最終形成晝像之對像的薄板兩面之情 -47- (45) 1302124 況，係由轉印表面與內面之同色顯像於中間轉印帶169， 再轉印表面與內面之接下來顏色顯像於中間轉印帶1 69之 形式，在中間轉印帶1 69上得到全彩的顯像。 對於畫像印刷裝置係設置有使薄板通過之薄板運送路 174，另，薄板係從給紙匣178，根據拾取滾輪179，1片 1片所送出，並根據運送滾輪，使薄板運送路1 74行進， 再通過接合在驅動滾輪170a之中間轉印帶169與二次轉 φ 印滾輪1 7 1之間的夾，而二次轉印滾輪1 7 1係根據從中間 轉印帶1 69，一次靜電方式吸引全彩的顯像情況，轉印顯 像於薄板的單面，另，二次轉印滾輪1 7 1係根據無圖之離 合器，使其接近及離間於中間轉印帶1 69，並且，在轉印 全彩顯像於薄板時，二次轉印滾輪1 7 1係接合於中間轉印 帶1 69，並重疊顯像於中間轉印帶1 69之間係從二次轉印 滾輪1 7 1離開。 如上述作爲，轉印有畫像之薄板係運送至固定器1 72 # ，並根據使其通過固定器172之加熱滾輪172a與加壓滾 輪1 72b之間的情況，薄板上的畫像則固定住，另，固定 處理後之薄板係引入於排紙滾輪對1 76，朝箭頭F方向行 進，而對於兩面印刷之情況，薄板的大部分在通過排紙滾 輪對1 7 6之後，使排紙滾輪對1 7 6朝相反方向旋轉，並如 箭頭G所示地，導入至兩面印刷用運送路175，並且，根 據二次轉印滾輪1 7 1，轉印顯像於薄板的另一面，再次由 固定器1 72進行固定處理後，由排紙滾輪對1 76排出薄板 -48- (46) 1302124 圖46之畫像印刷裝置係因作爲寫入手段，使用具有 有機EL陣列之曝光頭1 6 7 (實施型態之光電裝置之任一 )，故如上述可容易提升光的利用效率情況。 以上，雖例示有可應甩實施型態之光電裝置任一之畫 像印刷裝置，但對於其他電子照相方式之畫像印刷裝置， 亦可應用實施型態之光電裝置任一之情況，並如此之畫像 印刷裝置係在本發明之範圍內，例如，對於無使用中間轉 φ 印帶而從感光體柱狀物直接轉印顯像於薄板形式之畫像印 刷裝置或，形成單色畫像之畫像印刷裝置，亦可應用光電 裝置任一之情況。 <其他的應用〉 有關本發明之光電裝置係更加地，可應用在各種曝光 裝置及照明裝置情況。 在上述光電裝置之發光面板之中，作爲變換所傳達之 # 電性能量爲光學性能量之發光元件，採用OLED元件，但 ，亦可使用其他發光元件（例如，無機EL元件，電漿顯 示元件）在發光面板，另外，亦可使用底部放射形式之發 光面板，另，在底部放射形式之發光面板之中，由發光元 件所發射的光則通過透明基板而被釋放，另，亦可於此基 板直接接合聚焦性透鏡陣列，而亦可於此基板與聚焦性透 鏡陣列40之間，配置間隔構件。 另外，在上述光電裝置之中，於具有發光元件之發光 面板，安裝有聚焦性透鏡陣列40，但亦可於具有多數光 -49- (47) 1302124 閥畫素之光閥面板，安裝有聚焦性透鏡陣列’另，光閥畫 素係爲根據所傳達之電性能量而光的透過率產生變化之畫 素，例如，包含有液晶的畫素’電化學顯示之畫素，電泳 顯示之畫素，分散例子配向型顯示之畫素’而這些係均調 整從個別的光源的光透過量，另’取代發光面板1 2，例 如，安裝如液晶面板之光閥面板於微透鏡陣列，然後作爲 從個別的光源的光，可透過光閥面板與聚焦性透鏡陣列之 φ 情況，而如此之光電裝置係可使用在圖45或圖46所示之 用途，或亦可使用在投射畫像於屏幕之投射器之情況。 【圖式簡單說明】 [圖1 ]係爲表示以往畫像印刷裝置之一部分槪略斜視 圖。 [圖2]係爲表示有關本發明之第1實施型態之光電裝 置之槪略斜視圖。 [匱I 3 ]係爲表示在本發明光電裝置所使用之聚焦性透 鏡陣列之槪略斜視圖。 [圖4]係爲圖2之光電裝置的平面圖。 [圖5]係爲圖4之A-A線箭頭視剖面圖。 [圖6]係爲圖2之光電裝置的正面圖。 [匱· 7]係爲表示有關本發明之第2實施型態之光電裝 置之槪略正面圖。 [圖8]係爲在圖7之光電裝置所使用之間隔構件的剖 面圖。 -50- (48) 1302124 [圖9]係爲表示於實際的發光位置與聚焦性透鏡陣列 之折射率分佈型透鏡之間，存在有固體之光透過要素與空 氣層’並光透過要素鄰接於發光位置情況之光的路徑例模 式圖。 [圖10]係爲表示於實際的發光位置與聚焦性透鏡陣列 之折射率分佈型透鏡之間，存在有固體之光透過要素與空 氣層’並光透過要素鄰接於折射率分佈型透鏡情況之光的 φ 路徑例模式圖。 [圖11]係爲表示於實際的發光位置與聚焦性透鏡陣列 之折射率分佈型透鏡之間，存在有固體之光透過要素與空 氣層’並光透過要素無論從發光位置或折射率分佈型透鏡 相離情況之光的路徑例模式圖。 [圖1 2] ( a )係爲表示於實際的發光位置與聚焦性透 鏡陣列之折射率分佈型透鏡之間，存在有同折射率之兩個 光透過要素情況之光的路徑例模式圖，而（b )係爲表示 • 於實際的發光位置與聚焦性透鏡陣列之折射率分佈型透鏡 之間，存在有不同折射率之兩個光透過要素情況之光的路 徑例模式圖。 [圖1 3 ]( a )係爲表示在於發光面板之密封體與聚焦 性透鏡陣列之間只有空氣之情況，從1個光點發射，進入 至折射率分佈型透鏡，然後成像在感光體柱狀物之最外側 的光之模式圖，而（b)係爲表示在於發光面板之密封體 與聚焦性透鏡陣列之間有墊片構件之情況，從1個光點發 射，進入至折射率分佈型透鏡，然後成像在感光體柱狀物 -51 - (49) 1302124 之最外側的光之模式圖。 [ffl 14]係爲表示根據以適當厚度之接著劑來接著發光 面板與聚焦性透鏡陣列之情況，直接接合發光面板與聚焦 性透鏡陣列之光電裝置製造方法之最初階段的側面圖。 [圖1 5 ]係爲表示圖1 4之下一個階段的側面圖。 [圖16]係爲表示在圖15的階段之後完成之光電裝置 之側面圖。 φ [圖17]係爲圖16之光電裝置之正面圖。 [圖18]係爲表示在圖14乃至圖17所示之製造方法的 變形製造方法之一階段的側面圖。 [圖19]係爲表示根據以適當厚度之接著劑來接著發光 面板與間隔構件之情況，直接接合發光面板與間隔構件之 光電裝置製造方法之最初階段的側面圖。 [圖20]係爲表示圖19之下一個階段的側面圖。 [圖21]係爲表示在圖20的階段之後完成之光電裝置 # 之側面圖。 [圖22]係爲表示在圖19乃至圖21所示之製造方法的 變形製造方法之一階段的側面圖。 [圖23]係爲表示根據以適當厚度之接著劑來接著聚焦 性透鏡陣列與間隔構件之情況，直接接合聚焦性透鏡陣列 與間隔構件之光電裝置製造方法之最初階段的側面圖。 [圖24]係爲表示圖23之下一個階段的側面圖。 [圖25]係爲表示在圖24的階段之後完成之光電裝置 之側面圖。 -52- (50) 1302124 [圖26]係爲表示在圖23乃至圖25所示之製造方法的 變形製造方法之一階段的側面圖。 [圖27]係爲表示組合圖19乃至圖26所示之製造方法 而製造得到之光電裝置之側面圖。 [圖28]係爲埋設有間隔確保材於接著劑中之光電裝置 的側面圖。 [圖29]係爲埋設有其他間隔確保材於接著劑中之光電 鲁裝置的側面圖。 [ffl 30]係爲表示採用引導框而使接著劑固化之工程的 正面圖。 [圓I 3 1]係爲表示於具有收容接著劑之收容穴的間隔構 付1 ’接著聚焦性透鏡陣列之狀態的側面剖面圖。 [圖32]係爲圖3 1之正面圖。 [圖3 3 ]係爲圖3 1之正面剖面圖。 [匱· 34]係爲表示收容接著劑之收容穴之變形例平面圖 • [匱I 35]係爲表示收容接著劑之收容穴之變形例正面剖 面圖。 [圖36]係爲表示於具有收容接著劑之收容穴的其他間 __件’接著聚焦性透鏡陣列之狀態的側面剖面圖。 [圖3 7]係爲圖36之正面剖面圖。 [H 3 8]係爲表示於具有收容接著劑之收容穴的其他間 _構件’接著聚焦性透鏡陣列之狀態的側面剖面圖。 [圖3 9]係爲圖38之正面剖面圖。 -53- (51) 1302124 [ffl 40]係爲表示於兩面具有滲入接著劑的溝之間隔構 件平面圖。 [圖41]係爲圖4〇之剖面圖。 [圖42]係爲表示配置在圖40之間隔構件之接著劑平 面圖。 [圖43]係爲表示配置在圖40之間隔構件之聚焦性透 .鏡陣列平面圖。 [圖44]係爲具有圖40之間隔構件之光電裝置之正面 剖面圖。 [圖45]係爲表示採用從第1至第5實施型態任一之光 電裝置之畫像形成裝置一例之縱剖面圖。 [圖46]係爲表示採用從第丨至第5實施型態任一之光 電裝置之畫像形成裝置其他例之縱剖面圖。 【主要元件符號說明】 ，10A :光電裝置 12:發光面板（光電面板） 14 : EL元件（光電元件） 1 6 :密封體 26 :發光層 3 8，51 :接著劑 4〇 :聚焦性透鏡陣列 42 :折射率分佈型透鏡 5〇 :間隔構件 -54- (52) 1302124 6 7 :光吸收層 gfl，gf2 :間隔確保件 70，71，75，76:收容穴 7 2，7 3 :凹部 78 ， 79 ：溝 1 10，165 :感光體柱狀物 10K，10C，10M :有機EL陣列曝光頭（光電裝置）
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