TWI291899B - - Google Patents

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1291899 (1) 玖、發明說明 【發明所屬之技術領域】 本發明是關於載台裝置，特別是關於適合平台塗佈機 的載台裝置。 【先前技術】 作爲塗佈機的一個例子，例如在液晶板的製造過程， 在玻璃基板塗佈特定材料作的薄膜的塗佈機。以往這種塗 佈機，利用旋轉塗佈方式，也就是所謂的旋轉塗佈機爲主 流。可是，旋轉塗佈機，其問題是，在其機構上，滴到基 板上的昂貴的塗佈材料幾乎都浪費掉了。 因此’近年來，開始用平台塗佈機來取代旋轉塗佈機 。平台塗佈機，其搭載了具有某長度的塗佈材料的噴射口 的噴嘴部或被處理基板的平台，是藉由使該平台朝一軸方 向滑動，來進行塗佈，而具有可減少塗佈材料的廢棄量的 優點（例如參照專利文獻1 )。 可是’近年來被處理基板逐漸大型化（例如2mx2m )，而需要可對應的載台裝置。 參照第ό圖 '第7圖，針對作爲大型的被處理基板所 用的平台塗佈機用載台裝置的一個例子來加以說明。在第 6圖、第7圖，在架台]50上是固定著石製平臺]6〇。石 製平臺1 60，在上面側具有凹部，在該凹部，是設置有： $合載被處理基板且用來將其吸附保持的基板平台]〇 〇。對 應於基板平台]0 0的兩側的石製平臺丨6 〇的兩側，也就是 -4 - 1291899 (2) 在高於凹部的部分，是設置有互相平行延伸的導軌部 110A、1 10B °以下，將其延伸方向稱作γ軸。在該導軌 部Π 〇 A ' 1 1 Οβ，是分別組裝有··可沿著導軌部1〗〇a、 1 1 0 B行駛的 Y軸驅動機構I 2 0 A、1 2 0 B。Y軸驅動機構 120A ' 120B是藉由線性馬達所構成。是沿著導軌部} 1〇八 、：l 1 OB配置有線性馬達的固定磁鐵部（軛部），在γ軸 驅動機構120A、12〇b則配置了線性馬達的可動線圈部。 在Y軸驅動機構120A、120B，還設置有：從該處朝 上方延伸的Z軸驅動機構i 3 〇 a、1 3 0B。Z軸驅動機構 130A ' 130B ’是朝向z軸方向，也就是朝向上下方向的 驅動源’是用來將架設於該處的噴嘴部1 4 0朝向Z軸方向 驅動的構造。 噴嘴部140，可藉由γ軸驅動機構12〇a、120B與Z 軸驅動機構130A、130B —起朝向Y軸方向移動，藉由Z 軸驅動機構1 3 0 A、1 3 0 B而可朝Z軸方向移動。 組裝在本載台裝置的噴嘴部1 4 0，如第8圖所示，具 有較搭載於基板平台]〇〇上的被處理基板（沒有圖示）的 寬度更大的長度’從在其最下部沿著長度方向所形成的微 小尺寸的細縫部，來噴射塗佈材料或使其滴下。 以下，是將，包含Y軸驅動機構120A、120B、Z軸 驅動機構 1 3 0 A、1 3 0 B、噴嘴部1 4 0的可動體全體，稱作 滑塊部來進行說明。 以上述的平台塗佈機用載台裝置所驅動的滑塊部的塗 佈動作，如下所示。 1291899 (3) a· 使噴嘴部l4〇下降移動到塗佈 板的正前方暫停。 b · 從停止狀態一邊塗佈一邊加速 e · —邊進行塗佈，一邊以一定的 基板的終端側。 d · —邊塗佈一邊在被處理基板的 停止。 e · 停止後，使噴嘴部1 4 0上升到 佈開始的位置。 如上述，以往的平台塗佈機是如下 A. 在滑塊部搭載了噴嘴部140。 B · 用來驅動滑塊部的線性馬達， 160 上。 c · 讓滑塊滑動的導軌部1 1 〇 A、 100也同樣設置在石製平臺160上。 結果，滑塊在加速減速時所產生的 製平臺160直接承受。因此，滑塊在加 臺160本身所產生的震動，會成爲塗佈 〇 在傳統的平台塗佈機，在對被處理 由於所產生的震動的影響而產生塗佈不 對於塗覆基板產生塗佈不均的部分，並 廢棄的區域。 〔專利文獻1〕 高度，在被處理基 到一定的速度。 速度移動到被處理 終端部正前方減速 一定高度，回到塗 述的構造。 是配置在石製平臺 1 10B或基板平台 反作用力，會讓石 速減速時，石製平 不均所產生的原因 基板進行塗佈時， 均的區域很廣泛。 不能使用而是必須 -6 - 1291899 (5) 上述臂部’是設置在上述架台、或設置在設有上述架 台的地面。 上述平臺是石製平臺，且在其上面部設有凹部，在該 凹部設置有用來搭載被處理基板的基板平台，在對應於該 基板平台的兩側的位置，在較上述凹部的底部更高的部分 ’是分別設置有以與上述石製平臺同樣的石頭材料所製的 上述導軌部。 在上述導軌部設置有朝向上述一軸方向延伸的線性標 尺，在上述線性馬達的可動部上的上述線性標尺相對向的 位置，是設置有線性感應器頭。 上述線性馬達的可動部，對於上述導軌部，是以靜壓 力空氣軸承來進行上述一軸方向的導引動作。 〔發明效果〕 在以往的平台塗佈機用載台裝置的構造，在滑塊加速 減速時所產生的反作用力，是以平臺直接承受，平臺本身 會震動而成爲爲塗佈不均的原因。相對於此，在本發明的 載台裝置的構造，反作用力並不是以平臺承受，而是以架 台承受，所以即使反作用力造成架台震動，也能利用設置 在架台與平臺之間的避震單元來減低震動，能防止由於微 小震動所引起的塗佈不均的情形。且不管由於何種原因使 地面本身震動，其震動都能藉由避震單元來減低。 【實施方式】 -8- 1291899 (7) 軸驅動機構5 0 A、5 Ο B朝向Z軸方向移動。 在架台】0的兩側，是設置有：沿著平臺 朝上方延伸至導軌部2 1 A、2 1 B的高度位置， 軌部2 1 A、2 1 B相同方向延伸的臂部丨丨a、1 1 ] 如第3圖所示，構成γ軸驅動機構4 Ο B 的軛部（固定磁鐵部）4 1 B，是設置在臂部1 : 。軛部（固定磁鐵部）4 1 B，是在Π字型的範 內面側以一定的間隔固定安裝有多數的永久磁 成。另一方面，在與軛部4 1 Β之間磁性地產生 線圈部4 3 Β，是從運行於導軌部2 1 Β的可動部 部4 1 Β側延伸。 如第4圖所示，是在導軌部2 1 Β的側面設 行方向延伸的線性標尺4 5 Β，在Υ軸驅動機彳 動部44Β上的線性標尺45Β相對向的位置， 性感應器頭46Β。 可動部44Β，其剖面形狀是作成圍繞著導 至少三面的形狀，至少在朝向兩面的內面側， 有至少一個的靜壓力空氣軸承4 7 - I Β、4 7 — 空氣軸承47 — 1Β、47 - 2Β，是藉由對導軌部 縮空氣，讓可動部44Β是在從導軌部21Β浮 行。 上述的構造，針對Υ軸驅動機構40Α是完 當以上的構造爲主旨時則如以下所述 a. 突部噴嘴6 0，是架設在滑塊、也就 2 0的兩側， 且朝向與導 的線性馬達 .B的上端部 部的上下的 鐵42B所構 作用的可動 44B朝向軛 置有朝向運 冓40B的可 是設置有線 軌部2 1 B的 是分別設置 2 B。靜壓力 2 1 B吹噴壓 起的狀態運 全相同。 是架設在兩 -10- 1291899 (8) 個Y軸驅動機構40A、40B之間。 b · 用來驅動滑塊的線性馬達的軛部4 1 A、4 1 B，是 被固定在架台1 0所設置的臂部Π A、1 1 B。 c · 滑塊所運行的導軌部2 1 A、2 1 B或基板平台3 0， 是被固定在石製平臺20上。 d. 在架台1〇與石製平臺20之間設置有避震單元 25 ° 藉由上述的構造，當滑塊在加速減速時地產生於軛部 41A、41B的反作用力，會經由臂部11A、11B由架台1〇 承受。且由於防震單元25是設置在架台10與石製平臺 2 〇之間，所以也可減低從石製平臺2 0以外的地方所傳來 的震動。爲了提昇防震單元25的減低震動的效果，在石 製平臺2 0的底面側最好配置三個防震單元2 5。當有三個 防震單元時，容易讓石製平臺20更精確，且最好配置在 對應於正三角形的頂點的位置。 由於減低了 ：在滑塊加速減速時所產生的反作用力作 用於石製平臺20的情形，所以也減低了：線性標尺45 A (沒有圖示）、45B、與線性感應器頭46A (沒有圖示） 、4 6B之間的震動所導致的誤差情形。 本發明的主要問題，也就是上述反作用力，其所導致 的震動是微小的震動，即使由於上述反作用力讓軛部4 1 A 、4 1 B.側產生微小震動，而由於可動線圈部43 A (沒有圖 示）、43B、與永久磁鐵42A (沒有圖示）、42B之間的 間隙比該震動程度更大，所以對於滑塊的運行，也就是對 - 11 - 1291899 (9) 於Y軸驅動機構40A ' 40B的可動部44A (沒有圖示）、 44B的運行不會造成影響。 弟5圖’疋顯不本發明的第一實施方式。本方式並不 是將用來設置軛部4 1 A、4 1 B的臂部7 1 A、7 1 B設置在架 台1 〇，而是將其設置在架台1 0所設置的地面。在這種情 況，雖然滑塊在加速減速時所產生的反作用力所引起的微 小震動，可能會通過地面而傳達到架台10，而藉由如上 述在架台10與石製平台20之間中介有避震單元25，可 減低對石製平台20所產生的震動。而臂部71 a、71B的 形狀，與第一實施方式的臂部1 1 A、1 1 B相同即可。 以上，針對兩個實施方式來說明本發明，石製平臺 2 0及導軌部2 1 A、2 1 B，也可以用其他材料來取代石頭材 料，例如可用陶瓷材料。本發明的載台裝置，也可進行以 下的動作。藉由讓兩個Y軸驅動機構4 0 A、4 0 B的推力具 有羑異，而可以對噴嘴部60造成微小的旋轉運動。所謂 的微小的旋轉運動，是以噴嘴部6 0的長度方向的中心部 爲中心的在水平面內的水平擺動運動。 本發明，是包含有：可朝一軸方向搬運被驅動部的滑 塊的載台裝置，可適用於所有的，要求要盡可能減低被驅 動部的震動情形的載台裝置。 【圖式簡單說明】 第1圖是本發明的第一實施方式的平台塗佈機用載台 裝置的正面圖。 -12 - (10) 1291899 第2圖是第1圖所顯示的載台裝置的立體圖。 第3圖是用來說明：構成第〗圖所示的γ軸驅動機 構的線性馬達、與用來設置其軛部的臂部及石製平臺的關 係的說明圖。 第4圖是用來說明：第3圖所示的線性馬達的可動部 '用來導引其運行的導軌部、及線性標尺與線性感應器頭 的關係的說明圖。 第5圖是本發明的第二實施方式的平台塗佈機用載台 裝置的正面圖。 第ό圖是大型處理基板用所提出的平台塗佈機用載台 裝置的側面圖。 第7圖是第6圖所示的平台塗佈機用載台裝置的正面 圖。 第8圖是用來說明平台塗佈機的噴嘴·部·的立體圖。 【主要元件符號說明】 1 0、1 50 :架台 11Α、1 1 Β ^ 71Α、7 1Β:臂部 20、1 60 :石製平臺 2 1 A、2 1 B、1 1 0A、1 1 OB ：導軌部 3 0、1 0 0 :基板平台 40A、40B ' ]20A、120B ： Y 軸驅動機構 4 1 B :軛部 4 2 B :永久磁鐵 -13_ (11) (11)1291899 4 3 B :可動線圈部 4 4 B :可動部 4 5 B :線性標尺 4 6 B :線性感應器頭 4 7— 1B、47 — 2B:靜壓力空氣軸承 50A、50B、130A、130B ： Z 軸驅動機構 6 〇、1 4 0 :噴嘴部

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Claims (1)

1291899 一——一Ί %年7月）丨日修(更)正替換頁 (1) 拾、申請專利範圍 第93 1 1 9222號專利申請案 中文申請專利範圍修正本 民國96年7月31曰修正 1· 一種平台塗佈機用載台裝置，是包含有：於設置在 架台上的平臺上可朝一軸方向搬運噴嘴部的第一滑塊的平 台塗佈機用載台裝置，其特徵爲·· 是以線性馬達構成上述第一滑塊， 將該線性馬達的可動部作成：可沿著設置在上述平臺 的朝向上述一軸方向延伸的導軌部運行， 上述線性馬達的軛部，是藉由與上述平臺在構造上分 離設置而朝上述一軸方向延伸的臂部，配置成沿著上述導 軌部， 在上述架台與上述平臺之間至少設置有一個避震單元 上述臂部是設置在上述架台、或是設置在：設置有上 述架台的地面。 2·如申請專利範圍第1項的平台塗佈機用載台裝置， 其中上述第一滑塊，是以由兩個線性馬達所組成的兩個驅 動機構所構成，該兩個驅動機構可沿著兩支上述導軌部運 行，該兩支導軌部，是設置成在上述平臺的兩側互相平行 地朝向上述一'軸方向延伸’ 上述臂部是設置有兩支且互相平行地朝向上述一軸方 向延伸， T291899 ————————~η %平Τ月》I π修(更)正勢換1 (2) __ 在上述兩個驅動機構是組合有分別可朝上下方向移動 的上下驅動機構， 在該兩個上下驅動機構的上下移動部之間，是架設有 上述噴嘴部。 3 .如申請專利範圍第2項的平台塗佈機用載台裝置， 其中上述平臺是石製平臺，且在其上面部設有凹部，在該 凹部設置有用來搭載被處理基板的基板平台，在對應於該 基板平台的兩側的位置，在較上述凹部的底部更高的部分 ，分別設置有以與上述石製平臺同樣的石頭材料所製的上 述導軌部。 4 ·如申請專利範圍第1或2項的平台塗佈機用載台裝 置，其中在上述導軌部設置有朝向上述一軸方向延伸的線 性標尺，在上述線性馬達的可動部上的上述線性標尺相對 向的位置，設置有線性感應器頭。 5 ·如申請專利範圍第3項的平台塗佈機用載台裝置， 其中在上述導軌部設置有朝向上述一軸方向延伸的線性標 尺，在上述線性馬達的可動部上的上述線性標尺相對向的 位置，設置有線性感應器頭。 6 ·如申請專利範圍第1或2項的平台塗佈機用載台裝 釐，其中相對於上述導軌部，將上述線性馬達的可動部， 以靜壓力空氣軸承來進行朝向上述一軸方向的導引動作。 7 ·如申請專利範圍第3項的平台塗佈機用載台裝置， 其中相對於上述導軌部，將上述線性馬達的可動部，以靜 _力空氣軸承來進行朝向上述一軸方向的導引動作。 -2 -

1291899 (3) 8 .如申請專利範圍第4項的平台塗佈機用載台裝置， 其中相對於上述導軌部，將上述線性馬達的可動部，以靜 壓力空氣軸承來進行朝向上述一軸方向的導引動作。 9 .如申請專利範圍第5項的平台塗佈機用載台裝置， 其中相對於上述導軌部，將上述線性馬達的可動部，以靜 壓力空氣軸承來進行朝向上述一軸方向的導引動作。 jfei 第 93119222 ?虎專利申請案 中文圖式修正頁民國96年3月23日修正 第3圖

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