TWI286628B - LCD device, manufacturing method of LCD device and electronic machine - Google Patents

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1286628 (1) 玖、發明說明 【發明所屬之技術領域】 本發明係關於液晶顯示裝置、液晶顯示裝置製造方 法'及電子機器，特別係關於使用垂直配向型液晶之液晶 顯示裝置中，取得更寬廣視野角之顯示技術。 【先前技術】 一般所知做爲液晶顯示裝置，係以兼具反射模式及透 過模式之半透過反射型液晶顯示裝置。做爲如此半透過反 射型液晶顯示裝置，係於上基板與下基板之間挾持液晶 層’同時，於譬如鋁等之金屬膜中，形成光透過用之開口 部之反射膜，具備於下基板之內面，而揭示著此反射膜功 能化做爲半透過反射膜。此情況，於反射模式由上基板側 入射之外來光線，通過液晶層後.，於下基板內面反射膜中 反射，進而通過液晶層，經由上基板側射出，賦予顯示。 一方面，於透過模式中，來自從下基板側入射之背光之 光，經由反射膜開口，通過液晶層後，經由上基板側射出 外部，賦予顯示。因此，反射膜形成領域內，形成開口部 之領域係透過顯示領域，其餘領域係反射顯示領域。 然而，於傳統之半透過反射型液晶顯示裝置中，有透 過顯示中之視野較爲小之課題存在。此爲不產生視差，而 於液晶單元之內面，設置半透過反射板之關係，且因光學 設計自由度爲小’故有僅必須以具備於觀察者側之1片偏 光板進行反射顯示之限制。於是爲了解決此課題，Jisaki -4- (2) 1286628 們於以下之非專利文獻1之中’已揭示使用垂直配向液晶 之新半透過反射型液晶顯示裝置。其特徵具有以下3點。 (1 ) 採用介電異方性爲負之液晶對於基板，使 其配向於垂直，藉由施加電壓，採用將此倒向「VA (垂 直配向）模式」。 (2) 採用透過顯示領域，與反射顯示模式之液 晶層（單元間隔）爲不同之「多層間隔結構」（關於此 點，譬如參考專利文獻1 ) (3 ) 將透過顯示領域作爲正8角形，於此領域 內，液晶倒向成8個方向，於對向基板上之透過領域之中 央處設置突起點。亦即，採用「配向分割構造」 「專利文獻」特開平1 1 -242226號公報 「非專利文獻」“Development of transflective LCD for hight contrast and wide viewing angle by using homeotropic alignmeny” ， M.Jiaski e t al. ， Asia

Display/IDW’Ol，P.1 3 3 - 1 3 6 ( 200 1 ) 然而，於Jisaki們之論文中，關於透過顯示領域之液 晶傾斜方向，雖係使用突起而加以控制，但有關於爲控制 反射顯示領域之液晶傾斜方向之構成全不存在。因此.，於 反射顯示領域中，液晶傾斜成無順序方向，此情況，呈現 所謂電位線之非連續線，此乃導致成殘影等之主因。又由 於液晶之各配向領域具有不同之視角特性，故於從傾斜方 向觀察液晶裝置之際，亦產生視爲粗糙之污點狀之斑點問 題。 -5- (3) 1286628 一方面，於半透過反射型液晶顯示裝置中’如專利文 獻1具備多間隙構造’於處理透過顯示領域及反射顯示領 域之光電特性（透過率-電壓特性，反射率-電壓特性）相 當有效。由於透過顯示領域中，光僅通過液晶層1次，然 而於反射顯示領域，光通過液晶層兩次。然而’採用如此 多間隙構造，且使用如上所述突起而作爲控制液晶傾斜方 向之際，由於透過顯示領域及反射顯示領域之液晶層厚不 同，故僅於各領域設置突起，於任一領域中’將有無法充 分配向控制液晶之問題產生。 本發明，其目的係爲了解決上述課題而加以構成，於 使用垂直配向型之液晶之半透過反射型液晶顯示裝置中， 於透過顯示及反射顯示雙方，以提供廣視野角之顯示之可 能液晶顯示裝置及製造方法。又於使用垂直配向型之液晶 之半透過反射型液晶顯示裝置中，藉由簡略化構造而於提 高製造效率之同時，爲目的亦提供減少不良產生等，可信 度高之液晶顯示裝置及其製造方法，並以提供具備該液晶 顯示裝置之電子機器。 【發明內容】 爲了達成上述目的，本發明液晶顯示裝置，係於1對 基板間挾持液晶層，於1個像點區域中，設置透過顯示領 域及反射顯示領域之液晶顯示裝置，其特徵係前述液晶層 由初期配向狀態呈現垂直配向之介電異方性爲負之液晶所 形成；於前述一對基板中之至少一方之基板和前述液晶層 -6- (4) 1286628 之間，設置使前述反射顯示領域之液晶層厚比前述透過顯 示領域之液晶層厚爲小之液晶層厚調整層；更於各前述透 過顯示領域及前述反射顯示領域中，由前述基板內面至前 述液晶層內部設置突出之凸狀部；該凸狀部之突出高度相 較於前述反射顯示領域，於前述透過顯示領域之中構成較 大。 本發明液晶顯示裝置，對半透過反射型液晶顯示裝 置，組成垂直配向模式，且爲使於反射顯示領域電位差及 透過顯示領域電位差大致相等，而附加上液晶層厚調整層 (亦即，附加多間隙構造），具備充分控制液晶分子之配 向方向之構成。 換言之，於垂直配向模式液晶顯示裝置內，於初期配 向狀態中，對於基板面藉由電場施加使垂直液晶分子傾 倒，若不花費任何工夫（若未賦予預傾斜角），就無法控 制液晶分子傾倒之方向，產生配向散亂（電場）漏光等之 顯示不良產生，降低顯示品質。因此，使用垂直配向模式 之際’電場施加時之液晶分子配向方向之控制將成爲重要 要素。因此，於本發明液晶顯示裝置內，於透過顯示領域 及反射顯示領域雙方中形成突起部，以控制各領域內液晶 分子之配向方向。藉由如此之配向規則，液晶分子於初期 狀態呈現垂直配向之上，能夠具有因應於此凸狀部之預傾 斜角。此結果’於透過顯不領域及反射顯示領域雙方中， 能規制或控制液晶分子之傾斜方向，不易產生配向散亂 (電場），也能避免漏光之顯示不良產生，抑止殘像或色 (5) 1286628 斑點等顯示不良，且能提供廣視野角之液晶顯示裝置。且 因於本發明液晶顯示裝置中’採用多間隙構造’相較於反 射顯示領域之液晶層厚’透過顯示領域之液晶層厚構成爲 大；僅於透過顯示領域及反射顯示領域雙方中設置凸狀 部，則有於任一領域內，不能有效控制液晶配向之問題產 生。換言之，因透過表示顯示領域及反射顯示領域之液晶 層厚相異，僅於各領域內形成相同突出高度之凸狀部’則 有於液晶層厚大之透過顯示領域之液晶配向能，與反射顯 示領域相比爲低下之情況。因此，於本發明中，藉由於透 過顯示領域中形成之凸狀部之突出高度相較於反射顯示領 域構成較大，故能於透過顯示領域及反射顯示領域雙方中 順利執行液晶配向規則，且於透過模式及反射模式雙方中 抑止殘像或色斑點等顯示不良，且能獲取廣視野角之顯 示。又於本發明內，譬如基板內面側，係意指該基板之液 晶層側；由基板面凸狀部突出，係譬如於基板內面所形成 液晶層厚調整層之情形，由該液晶層厚調整層內部之凸狀 部突出之意思。 於本發明液晶顯示裝置內，前述凸狀部，係作爲規制 前述液晶之配向之配向規制手段所設置，對於挾持前述基 板之液晶層所定角度中，能成爲傾斜之傾斜面，具備如此 傾斜面，將能規制沿此傾斜面液晶之傾斜方向。又於1對 基板之液晶層側中，各自設置爲要驅動該液晶之電極，該 電極至少於其中1方電極之液晶層側中設置前述凸狀部， 此情況，於凸狀部及電極內面側中，液晶形成垂直配向配 -8- (6) 1286628 向膜。另外，於1對基板不同側，爲射入圓偏光於液晶 層，能配設圓偏光板，圓偏光板係能由偏光層及相位差層 組合而成。 另外，於本發明液晶顯示裝置內，1對基板包含上基 板與下基板，下基層液晶層及相反側中設置透過顯示用之 背光之同時，該下基板之液晶層側中於反射顯示領域能選 擇設置形成反射層。此情況，來自從下基層側射入之背光 之透過顯示，能以反射層提供由上基板側射入之照明•太 陽光等外光反射之反射顯示。 於前述1對基板.內，至少1方基板之液晶層側設置彩 色濾光片層，此彩色濾光片層具備複數著色層（譬如對應 於光之3原色著色層），該複數著色層於1點間領域平面 重疊所形成。此情況，乃藉由重疊形成之著色層（亦稱重 疊著色層）將可顯示黑色。於1像點區域該重疊著色層可 能用於黑色矩陣。因此，不需製造其他黑色矩陣，既可藉 由該液晶顯示裝置而提高製造效率。 於前述重疊形成著色層領域之液晶層側，由液晶層厚 調整層及該液晶層厚調整層，於液晶層側中能形成突起之 第2凸狀部。此情況，以取代間隔物作爲第2凸狀部，換 言之，能作爲規制液晶層厚之手段（基板間隔，亦既單元 間隙）。上述重疊著色層形成領域，僅有該重疊部分相較 於其他領域成爲突出形，對於此重疊著色層形成液晶層厚 層，更形成第2凸起部之情況，因於基板面內該第2凸起 部最爲突起，此乃能規制液晶層厚之手段。 -9 - (7) 1286628 又，第2凸起部以提高製造效率爲目的，最好於透過 顯示領域及反射顯示領域中，於形成凸狀部及同一製程中 形成，此情況，於透過顯示領域及反射顯示領域中，形成 凸狀部及第2凸狀部及同一材料中之物品。另外，前述第 2凸狀部，係以形成於前述透過顯示領域及反射顯示領域 之凸狀部和略爲相同之突出高度所構成；此情況，第2凸 狀部能作爲液晶顯示規制手段；另一方面，由於透過顯示 領域及反射顯示領域所形成之凸狀部係以第2凸狀部和略 爲相同之突出高度所構成，能防止或抑制該凸狀部接續對 向基板，因而能充分產生液晶配向規制。 其次，本發明液晶電子機器，特徵爲具備上述液晶顯 「示裝置；藉由如此之電子機器，透過模式及反射模式雙 方，能提供具備各顯示模式同時提供廣視野角顯示之可能 之顯示部之電子機器。 其次，本發明液晶顯示裝置製造方法，其特徵係包含 具有於基板上塗布感光性樹脂之工程，和光罩曝光，並顯 像該感光性樹脂之工程之凸狀部形成工程；於各特定領域 使塗布於前述基板上之感光性樹脂之厚度不同。藉由此製 造方法，能順利製造上述本發明液晶顯示裝置。換言之， 於前述液晶顯示裝置內，於透過顯示領域及反射顯示領域 雙方中所設藉由感光性樹脂所形成之凸狀部，依各特定範 圍該感光性樹脂之厚度不同，而能於各領域內形成突起高 度不同之凸狀部。具體而言，於形成透過顯示領域之領域 中，感光性樹脂之厚度相對較厚，於形成反射顯示領域之 -10- (8) 1286628 領域中，感光性樹脂之厚度相對較薄的話亦可。更具體而 言，於前述製造方法，更包含於基板上形成特定圖案之反 射膜工程之基板生成工程，於該反射膜形成領域中，使前 述感光性樹脂之厚層能相對縮小。 另外，本發明液晶顯示裝置製造方法，作爲不同形 態，其特徵係於基板上包含塗布感光性樹脂之工程，和具 有光罩曝光，顯像該感光性樹脂之工程之凸狀部形成工 程；於各特定領域使塗布於前述基板上之感光性樹脂之厚 度不同。藉由此製造方法，能順利製造上述本發明液晶顯 示裝置。換言之，於前述液晶顯示裝置中，於透過顯示領 域及反射顯示領域雙方中藉由感光性樹脂形成凸狀部，且 對於該感光性樹脂依各範圍而異，而能於各領域中形成突 起高度不同之凸狀部。具體而言，當使用負型之感光性樹 脂之情況，於形成透過顯示領域之領域中，曝光量相對地 多，於形成反射顯示領域之領域中，曝光量相對較少的話 亦可。更具體而言，於上述製造方法，於基板上更包含具 有形成特定圖案之反射膜工程之基板產生工程；於該反射 膜之形成領域及各非形成領域，使對前述感光性樹脂之曝 光量不同。 於如上述所記之本發明之製造方法中，於基材上更包 含形成具有複數著色層之彩色濾光片層之工程；於該彩色 濾光片層形成工程之中’於點間領域中’平面性重疊形成 前述複數之著色層，一方面’以覆蓋該重複所形成之著色 層之形，形成絕緣層’更於前述絕緣層上’包含形成從該 -11 - (9) 1286628 絕緣層突出而成之第2突出部之工程；以相同工程進行前 述凸狀部形成工程與前述第2凸狀部形成工程。此情況， 以於透過顯示領域及反射顯示領域中所形成液晶配向規制 用凸狀部（亦即第1凸狀部）及相同工程，規制液晶層厚 之第2凸狀部，製造效率，而且又簡便且確實大致相同形 成第2凸狀部及第1凸狀部之高度。又，上述絕緣層就本 發明所述係構成液晶層厚調整層。 另外，本發明液晶顯示裝置製造方法，係於1對基板 間挾持液晶層，且於1個像點區域內，設置透過顯示領域 及反射顯示領域之液晶顯示裝置製造方法，於基板上形成 特定圖案之反射膜之基板生成工程，及包含前述形成於前 述反射膜領域上形成絕緣層工程之第1基板；或與此不同 之第2基板上至少一方形成凸狀部之凸狀部形成工程，及 於前述第1基板與第2基板經由初期配向狀態呈現垂直配 向之介電異方性爲負的液晶所貼合，及前述凸狀部形成工 程，其特徵係於第1基板及第2基板上包含塗布感光性樹 脂之工程，和具有光罩曝光，顯像該感光性樹脂之工程之 凸狀部形成工程；於各特定領域使塗布於前述基板上之感 光性樹脂之厚度不同。藉由如此製造方法，前述本發明液 晶顯示裝置，換言之係具備多間隙構造，採用垂直配向模 式液晶之半透過反射型液晶顯示裝置，提供能於透過顯示 領域及反射顯示領域雙方內能順利控制液晶分子配向方向 之液晶顯示裝置。 更’本發明液晶顯示裝置製造方法，更不同型態，係 -12- (10) 1286628 於1對基板間挾持液晶層，且於1個像點區域內’設置透 過顯示領域及反射顯示領域之液晶顯不裝置製造方法’於 基板上形成特定圖案之反射膜之形成工程；及包含於形成 前述反射膜領域上形成絕緣層之第1基板形成工程；及前 述第1基板上，或與此不同之第2基板至少一方形成凸狀 部之凸狀部形成工程；及於記第1基板及第2基板’包含 經由初期配向狀態呈現垂直配向之介電異方性爲負之液晶 所貼合之貼合工程；前述凸狀部形成工程，其特徵係於第 1基板及第2基板上包含塗布感光性樹脂之工程，和具有 光罩曝光，顯像該感光性樹脂之工程之凸狀部形成工程； 於各特定領域使塗布於前述基板上之感光性樹脂之厚度不 同d藉由如此製造方法，前述本發明液晶顯示裝置，換言 之具備多間隙構造，採用垂直配向模式液晶之半透過反射 型液晶顯示裝置，能提供於透過顯示領域及反射顯示領域 雙方中能順利控制液晶分子配向方向之液晶顯示裝置。 【實施方式】 (第1實施形態） 以下，茲參照圖面而說明本發明實施形態。又於各圖 中，由於能圖面上認識各層及各部分程度大，故此各層及 各部分之比例尺不同。 以下所示本實施形態之液晶顯示裝置，係以使用薄膜 2極體（Thin Film Diode，以下略稱TFD )作爲開關元件 之主動矩陣型之液晶顯示裝置爲例，特別係反射顯示及透 -13- (11) 1286628 過顯示之半透過反射型之液晶顯示裝置。 圖1係表示關於本實施形態液晶顯示裝置1 00之等效 電路。此液晶顯示裝置1 〇〇，包含掃描信號驅動電路11 0 及資料信號驅動電路120。於液晶顯示裝置1〇〇中，設置 信號線，亦既，複數掃描線1 3及與複數掃描線1 3交叉之 複數共通電極9，且掃描線1 3係藉由掃描信號驅動電路 1 1 〇、複數共通電極9係藉由資料信號驅動電路1 2 0所驅 動。且於各畫素領域150之中，於掃描線13與資料線9 間’串聯著TFD元件40及液晶顯示要素160 (液晶 層）。又，於圖1中，雖然TFD元件40連接於掃描線13 側，液晶顯不要素1 6 0連接於共通電極9側，但於反之， TFD元件40連接於共通電極9側，而:液晶顯示要素160 連接於掃描線1 3側亦可。 其次，基於圖2，係關於具備於本實施形態液晶顯示 裝置電極平面構造說明。如圖2所示，於本實施形態液晶 顯示裝置中，於掃描線13經由TFD元件40連接平面視 之爲矩陣狀之畫素電極31設置成矩陣狀，與該畫素電極 31及紙面垂直方向對向之共通電極9設置成短冊狀。由 共通電極9及掃描線1 3交叉成短冊狀。於本實施形態 中’各畫素電極3 1所形成各領域爲1個像點區域，將能 成爲於該短冊狀中所設置之各像點區域中能顯示之構造。 於此TFD元件40連接掃描線13及畫素電極31之開 關元件。TFD元件40’具備由形成於第1導電膜，及第1 導電膜表面之Ta爲主成分，形成於絕緣膜及絕緣膜之表 -14· (12) 1286628 面之Ta2 03爲主成分，及包含主成分Cr及第2導電膜 Μ IN構造所形成。且，TFD元件40第1導電膜連接掃描 線1 3，第2導電膜連接畫素電極3 1。 其次，基於圖3，係關於本實施形態液晶顯示裝置 100之畫素構成說明。圖3 ( a)係液晶顯示裝置100之畫 素構成，特別係表示畫素電極31平面構成模式圖；圖3 (b )係表示圖3 ( a ) A - A ’剖面之模式圖。本實施形態 液晶顯不裝置1 〇 0 ’如圖2所不，以共通電極9與掃描線 1 3所圍領域內側擁有具備畫素電極3 1之像點區域。此像 點區域中，如圖3所示，對應於1個像點區域配設3原色 內之1著色層，形成於3個像點區域（D1、D2、D3)包 ^含各著色層22B (青色）、22G (綠色）、22R (紅色） 之畫素。 一方面，如圖3 ( b )所示，本實施形態液晶顯示裝 置100，於上基板（元件基板）25和其對向配置之下基板 (對向基板）1 〇間，初期配向狀態採垂直配向液晶，亦 即由介電異方性爲負之液晶材料挾持液晶層5 0。 下基板1 〇，係於由石英、玻璃等透明性材料構成基 板主體10A之表面中，由鋁、銀等之反射率高之金屬膜 所形成之反射膜2 0，經由絕緣膜2 4而部分構成。於此， 反射膜2 0之形成領域爲反射顯示領域r，反射膜2 0之非 形成領域亦既反射膜20之開口部分2 1內將爲透過顯示領 域T。如此本實施形態液晶顯示裝置，具備垂直配向型之 液晶層5 0之具備垂直配向型液晶顯示裝置，係反射顯示 -15- (13) 1286628 及透過顯示之半透過反射型之液晶顯示裝置。 於基板主體10A所形成之絕緣膜24，其表面具備凹 凸形狀24a，模仿其凹凸形狀24a反射膜20之表面亦有 凹凸部。因如此凹凸造成反射光散亂，防止從外部映入， 能獲得廣視野角顯示。 其次，位於反射顯示領域R內之反射膜20中，及位 於透過表示領域T內之基板主體1 0 A中，跨越反射表示 領域R及透過表示領域T而形成彩色濾光片22 (圖3 (b)中紅色著色層22R) 。於此，著色層22R周圍由金 屬鉻等形成黑色矩陣 BM所圍住，藉由黑色矩陣 BM而 形成各像點區域Dl、D2、D3。 更於彩色濾光片22上，對應反射顯示領域R設置絕 緣膜26。亦既，經由彩色濾光片22、位於反射膜20上方 選擇形成絕緣膜26。伴隨著該絕緣膜26之形成，液晶層 50之厚度於反射顯示領域R及透過顯示領域T則爲不 同。絕緣膜26，譬如係由膜厚0.5〜2.5 // m丙烯酸樹脂有 機膜形成，接近反射顯示領域R及透過顯示領域T之邊 界情況，本身層厚具備連續變化的傾斜面。絕緣膜26不 存在之部分液晶層50厚度係1〜5 // m，於反射顯示領域 R內，液晶層50厚度係於透過顯示領域T液晶層50厚度 1半。 如此絕緣膜26，藉由本身膜厚，使反射顯示領域R 及透過顯示領域T之液晶層5 0層厚不同而具備液晶層厚 調整層（液晶層厚控制層）之機能。另外’本實施形態之 -16- (14) 1286628 情況，絕緣膜26上部之平坦面邊緣及反射膜20 (反射 示領域）邊緣大致相同，絕緣膜2 6之傾斜領域一部份 全部包含於透過顯示領域T。 且，包含絕緣膜26表面之下基板1 0表面，由銦錫 化物（Indium Tin Oxide，以下，簡稱ITO)形成共通 極9，於共通電極9由聚醯亞胺，形成配向膜27。配向 27 ’其機能係對於膜面使液晶分子垂直配向而具有垂直 向膜。不能進行以硏磨等之配向處理。又於圖3之共通 極9，沿著紙面垂直方向而形成條紋，與該紙面垂直方 並排，於各形成像點區域構成相通之電極。又於本實施 態中，反射膜2 0與共通電極9個別設置層積，於反射 示領域R內，由金屬膜形成之反射膜可能成爲共通電極 1部分。 其次，於上基板25側，於由石英、玻璃等透明性 料所形成基板主體2 5 A中（基板主體2 5 A液晶層側） 由IT0等透明導電體形成矩陣狀畫素電極31，及聚醯 胺形成下基板1 0及形成相同垂直配向處理配向膜3 3 又，於畫素電極31內，以該電極之一部分形成削切細 □ 32。 其次，於下基板1 〇之外側（與挾持液晶層5 0面不 側）形成相位差板1 8及偏光板1 9，亦於上基板2 5之 側形成相位差板1 6及偏光板1 7，於基板內側（液晶層 側）入射圓偏光之構成，此等相位差板1 8及偏光板1 9 相位差板1 6及偏光板1 7，各自構成圓偏光板；偏光板 顯 或 氧 電 膜 配 電 向 形 顯 之 材 亞 〇 缺 同 外 50 及 -17- 17 (15) 1286628 (19 )，具備特定方向之偏光軸構成僅透過直線偏光，作 爲相位差板1 6 ( 1 8 )則採用λ / 4相位差板。又於下基 板1 0形成之偏光板1 9之外側設置透過顯示用之光源背光 源1 5 〇 於此，於本實施形態液晶顯示裝置1 00內，爲配向規 制液晶層50之液晶分子，換言之於初期狀態關於垂直配 向之液晶分子，於電極內面側（液晶層側）中由介電體形 成突起，以作爲於電極間規制施加電壓之際之傾斜方向之 手段。 於圖3例中，於下基板1 0側所形成共通電極9之內 面側（液晶層側）中，於透過顯示領域Τ及反射顯示領域 R雙'方內，各自形成突起28、29。 各突起2 8、2 9，由基板內側（電極主面）於液晶層 50內部以突出形狀構成圓錐狀之多角錐狀，於透過顯禾 領域Τ形成突起2 8之突起高度L2，相較於反射顯示領域 R形成突起28之突起高度L1構成爲大（例如1.5〜2倍 程度）。具體而言，L2=1.5//m、Ll=l.〇em程度，此 情況，突起28相較於突起29約有1.5倍大突出高度。 又，突起28、29，對於基板內面（電極表面）至少具備 以特定角度傾斜之傾斜面（包含和緩彎曲形狀），規制& 該傾斜面規制液晶分子LC之傾斜方向。 一方面，於上基板25內面側中所形成之畫素電極3 j 中，該電極之一部分形成部分之削切細缺口 32。藉由設 該細缺口 32，於該細缺口形成領域中於各電極9、3 1間 •18- (16) 1286628 產生傾斜電場，相應於該傾斜電場，於初期狀態中，將能 基於垂直配向液晶電子之電壓施加而規制傾倒方向。又如 圖3所示，於畫素電極3 1所形成細缺口 3 2，係於共通電 極9中以採取所形成突起28、29形狀所構成，此結果， 沿著突起28、29周圍，將能規制液晶分子LC之傾斜方 向。 若根據如上構成之液晶顯示裝置1 00，將能發現如下 效果。換言之，一般而言，於無進行於硏磨處理之垂直配 向膜上，於配向負之介電異方性液晶分子施加電壓，將產 生液晶傾倒方向無規則，無秩序傾倒，配向不良。但於本 實施形態中，於共通電極9內面側形成突起2 8、2 9，更 因此突起28、29以平面所視圍繞形狀，於畫、素電極31內 形成細切口 3 2，藉由突起2 8、2 9之傾斜面之配向規則， 及基於細缺口 32、藉由傾斜電場產生配向規制，於初期 狀態中，藉由施加電壓，將規制傾倒方向。此結果，因基 於液晶配向不良而抑制配向散亂產生，伴隨著配向散亂產 生’而產生殘影或從斜方觀察之際產生粗糙之污點狀之斑 點，而難獲得高品質顯示。 且於本實施形態液晶顯示裝置1 〇〇中，於反射顯示領 域R中藉由設置絕緣膜26，因能達到將反射顯示領域R 之液晶層5 0之厚度縮小爲透過顯示領域τ之液晶層5 0之 厚度之略半’而能賦予反射顯示領域電位差及賦予透過顯 示領域電位差大致相等，藉此企圖使對比加強。 且’相較於反射顯示領域R之液晶層厚，於如此透過 -19- (17) 1286628 顯示領域T之液晶層厚較大構成之液晶顯示裝置1 00中， 藉由相較於反射顯示領域R之突出高度，於透過顯示領域 Τ所形成突起28之突起高度L2較大之構成，於透過顯 示領域Τ及反射顯示領域R雙方內能有效控制液晶配向 規則。將能於透過模式及反射模式雙方內抑止殘影或粗糙 之污點狀之斑點產生，更能獲得廣視野角之顯示。 換言之，相較於反射顯示領域之液晶層厚，於透過顯 不領域之液晶層厚較大構成之液晶顯示裝置中，僅於透過 顯示領域及反射顯示領域雙方中設置突起，將產生於任一 領域中都無法有效配向抑制液晶之問題。換言之，因透過 顯示領域及反射顯示領域之液晶層厚不同，且僅於各領域 中形成相同突起高度，將有於液晶層厚大,之透過顯示領 域’液晶配向能，相較於反射顯示領域爲低下之情形。 但’如本實施形態以L 2 = 1 · 5 // m、L 1 = 1.0 // m程度形成 爲例’於各領域內能充分進行液晶配向規則。 其次，關於前述第1實施形態之液晶顯示裝置1 00， 此1製造工程特以圖3來參照說明。液晶顯示裝置1 00之 製造工程槪略，包含製造下基板10工程，及製造上基板 2 5工程，及經由液晶材料下基板1 0及上基板2 5組合工 程。以下，說明有關各工程細節。 (下基板1 0製造工程） 首先，於相當於基板主体1 〇 A之基材上，丙烯酸樹 月旨等以特定模型形成絕緣膜24 (形成相當於形成反射顯 -20- (18) 1286628 示領域R之領域）’且於其表面藉由使用光罩之微影工程 或氟酸處理、壓花加工等形成凹凸形狀24a。且，於此絕 緣膜24上，以A1等金屬材料作爲主體，製作反射膜 2 〇，以模仿絕緣膜2 4之凹凸形狀亦於反射膜2 0表面形成 凹凸。且，於具備絕緣膜24及反射膜20之基板主体10A 大致全面上，形成包含R、G、B各色著色層之彩色濾光 片22。 形成彩色濾光片22後，丙烯酸樹脂作爲主體構成液 晶層厚調整層之絕緣膜2 6，由以覆蓋形成領域彩色濾光 片22上之形狀之反射膜20大致選擇形成。其後，具備此 等絕緣膜24、反射膜20、彩色濾光片22、絕緣膜26等 S之基板主:体1 0A上，以 ITO爲主体之條紋狀之共通電極 9爲例，藉由濺鍍或蒸鍍法形成。又，條紋狀圖案藉由光 罩蒸著形成手法、藉由蝕刻加工手法任一皆可。 其次，於如此基板主体1 〇 A上所形成之共通電極9 上，於反射膜20形成領域及反射膜20非形成領域雙方 內，由各介電體形成突起29及突起28。於此，突起28、 29其高度，換言之從共通電極9之表面突起高度個別不 同所形成，譬如於本實施形態內，突起28之高度L2係突 起29高度L1之1.5倍所形成。 具體而言，於基板主体1 〇 A上所形成之共通電極9 上，例如藉由紫外線照射硬化之感光性樹脂，相較於反射 膜20非形成領域，於形成領域中以薄厚形成後，藉由光 .罩曝光該感光性樹脂，顯像，將此加工爲圓錐狀等，將能 -21 - (19) 1286628 形成於反射膜20形成領域中相對高度低之突起29，於反 射膜20非形成領域相對高度較高之突起28。又相對於突 起2 8、2 9，如圖3所示賦予傾斜面之方法，換言之加工 爲圓錐狀之方法，譬如係對於曝光、顯像後得到之凸狀 物’藉由賦予熱融解加工。 或’於基板主体10A上所形成之共通電極9上，譬 如I均勻塗布藉由紫外線照射硬化之感光性樹脂之後，藉由 調整該感光性樹脂之曝光量，使突起28、29高度不同亦 可能。換言之，使用藉由紫外線照射硬化之感光性樹脂之 場合中，於反射膜20形成領域相對曝光量少，於反射膜 2〇非形成領域相對曝光量多，於反射膜20形成領域所形 成:突起29之高度相對變小。 藉由上述方法所形成包含突起28、29之共通電極9 之大致全面上，形成由聚醯亞胺垂直配向性之配向膜 27。又於該配向膜27不進行硏磨等配向處理。 一方面，與形成基板主体10A之共通電極9等相反 側內，由1 / 4波長板形成相位差板1 8及偏光板1.9，得到 下基板1 0。 (上基板25製造工程） 首先，於相當基板主体25A基材上，以ΐτο爲主 体，譬如以濺鍍或蒸鍍法形成矩陣狀之透明電極（畫素電 極）。又，矩陣狀圖案藉由光罩蒸鍍法形成手法、藉由倉虫 刻加工手法任一皆可。形成此矩陣狀之圖案及同時形成間 -22- (20) 1286628 隙32，其次，於如此基板主体25A上所形成透明電極31 之大致全面上，形成由聚醯亞胺組成垂直配向性之配向膜 3 3。又，該配向膜3 3不進行於硏磨等配向處理。 又，形成基板主体2 5 A之透明電極3 1相反側面內， 形成由1 / 4波長板組成相位差板1 6及偏光板1 7，得到上 基板2 5。 (基板貼合工程） 藉由上述方法所得之上基板25及下基板10，再藉由 形成液晶注入口之紫外線硬化性樹脂等所組成之密封材於 真空中貼合，且對此貼合基板，從液晶注入口藉由真空注 入法注入液晶材料。注入後，以封印材封住液晶注入口， 而得到本實施形態液晶顯示裝置1 0 0。又於本實施形態 中，使用介電異方性之負之液晶材料作爲液晶材料。 (第2實施形態） 其次，關於第2實施形態液晶顯示裝置，參照圖面加 以說明。圖4，係關於第2實施形態液晶顯示型態2 0 0， 表示其平面構造（a)及剖面構造（b)模式圖，相當於第 1實施形態之圖3。本第2實施形態液晶顯示型態200， 除了以彩色濾光片構成爲主要不同之外，基本構造大致與 圖3所示液晶顯示型態1 00相同，因此，關於相同於圖3 所示符號者，特別於無記載範圍，同一構件作成說明而加 以省略。 -23- (21) 1286628 第2實施形態液晶顯示型態2 Ο Ο，以作爲切換元件而 使用TFD之主動矩陣型之半透過反射型液晶顯示裝置爲 例，上基板25 (元件基板）及與此相對之所配置之下基 板（對向基板）1 〇間，於初期狀態採垂直配向，亦既由 負誘電異方性之液晶材料組成挾持液晶層5 0之液晶分 子。 下基板1 〇，係由石英、玻璃等透明性材料所形成基 板主體10Α之表面中，由鋁、銀等之反射率高之金屬薄 膜組成反射膜20，以特定圖案，具體於反射顯示領域R 內選擇形成。又，與第1實施形態相同，藉由絕緣膜24 亦能賦予凹凸形狀。 於如此反射顯示領域R內所選擇形〃成之反射膜20 上，及位於透過顯示領域Τ內之基板主體10Α上，跨越 反射表示領域R及透過表示領域Τ形成彩色濾光片22 (22R、22G、22B)，彩色濾光片具備紅色、綠色、藍色 之各色著色層 22R、22G、22B，且各色著色層 22R、 22G、22B形成3個像點區域Dl、D2、D3。 於本實施形態中，於上述各像點區域D1、D2、D3之 邊界領域中所形成黑色矩陣Β Μ ’並非傳統所廣用之金屬 鎘，而係以各色著色層22R、22G、22Β層積體構成。具 體而言，與鄰接於反射顯示領域R之點間領域中，各色著 色層22R、22G、22Β平面性重疊所形成。藉由層積體表 示黑色。又，如此層積各彩色濾光片之結果’於該點間領 域內，僅該層積彩色濾光片22之層厚形成厚膜。 -24- (22) 1286628 再者，於此彩色濾光片22上，位於對應於反射顯示 領域R，形成作爲液晶層厚層調整層之絕緣膜2 6，包含該 絕緣膜26表面，於下基板10之表面中，由ITO組成之共 通電極9所形成，於共通電極9中，形成突起28、2 9a、 2 9卜又，突起28於透過顯示領域T中、突起29於反射 顯示領域R中各自配置，一方面，突起29a配置於點間領 域。 如上述於各色彩色濾光片22R、22G、22B重疊顯示 領域，僅該層積絕緣膜26突出構成，該絕緣膜26突出部 分更於液晶層50側突出形成突起29a。此突起29a，係於 透過顯示領域T中之突起28、及於反射顯示領域R中之 突起2 9以同一材料所構成，與突起2 9b以大約同高度所 構成。 其次，於上基板25側，於由石英、玻璃等透明性材 料所組成基板主體25A (基板本体25A液晶層側）中，由 ITO等透明導電體所組成矩陣狀畫素電極31，及聚矽亞 胺等所組成下基板1 0，及垂直配向處理配向膜3 3所形 成。又與第一實施型態相同，於畫素電極31內，以該電 極之一部分形成削切細缺口 3 2。 於此，於第2實施形態液晶顯示型態200中，爲配向 規制液晶層5 0之液晶分子，換言之，於初期狀態，關於 垂直配向之液晶分子’於電極間以規制施加電壓之際之傾 斜方向爲手段，於電極內側面形成由介電體組成之凸起。 於圖4例中，於下基板1 〇側所形成之共通電極9之內面 •25· (23) 1286628 層（液晶層側）內，於透過顯示領域T及反射顯示領域R 雙方內，各自形成突起28、2 9b。 各突起2 8、2 9b，從基板內側（電極表面）於液晶層 5〇內部以突起形狀構成圓錐狀之多角錐狀，於透過顯示 領域T形成突起2 8之突起高度L2，相較於反射顯示領域 R形成突起28之突起高度L1構成爲大（例如1.5〜2倍 程度）。具體而言，L2=2.0pm、Ll=1.0pm程度，此情 況，突起28相較於突起29約有2.0倍大突出高度。又， 突起28、29，對於基板內面（電極表面）至少具備以特 定角度傾斜之傾斜面（包含和緩彎曲形狀），規制沿該傾 斜面規制液晶分子LC之傾斜方向。 … 一方面，於上基板25內面側中所形成之畫素電極3 1 中，該電極之一部分形成部分之削切細缺口 3 2。藉由設 該細缺口 32，於該細缺口形成領域中於各電極9、3 1間 產生傾斜電場，相應於該傾斜電場，於初期狀態中，將能 基於垂直配向液晶電子之電壓施加而規制傾倒方向。又如 圖4所示，於畫素電極3 1所形成細缺口 3 2，係於共通電 極9中以採取所形成突起28、29形狀所構成，此結果， 沿著突起28、29周圍，將能規制液晶分子LC之傾斜方 向。 更於本實施形態液晶顯示型態200內，於著色層 2 2R、22G、22Β重疊形成領域之液晶層50中，作爲液晶 層厚調整層之絕緣膜26，於液晶層50側突出，形成突起 29a ’此爲規制液晶層5〇厚度之手段（代替間隔物）。換 -26- (24) 1286628 言之，前述著色層22R、22G、22B重疊形成領域，其 疊部分，相較於其他領域亦成爲突出形狀，以此覆蓋重 著色層形成絕緣層26 ;更，突起29a形成之情況中， 突起29a於基板面內最爲突出，此結果，將能作爲規制 起2 9a液晶層厚之手段。因此，無須配置其他隔離物， 能均一維持液晶層厚。 另外，突起29a，以提高製造效率爲目的，與透過 示領域T及反射顯示領域R雙方內形成突起2 8、2 9b 及以相同製程，且，突起29a及以大致相同高度所構成 因此，使用突起29a能作爲規制液晶層厚之手段，另一 面，於透過顯示領域T及反射顯示領域R內形成突 28〜29b能防止或抑制接續對向之基板25，將能有效發 液晶配向規制。 若如以上所構成之液晶顯示型態200，添加第1實 形態液晶顯示裝置1 〇〇所具備之幾樣效果，因不使用其 金屬鎘能而形成黑色矩陣BM、提高製造效率、能減少 產費用之同時、將亦能廢棄藉由金屬鉻等而避免造成環 破壞問題。且由於不使用其他隔離物而能規制液晶層 度，將能提高製造效率、可減少生產費用。再藉由28 2 9b確實實行液晶配向規制，將使顯示視野角特性更上 層。 其次，關於前述第2實施形態液晶顯示裝置200， 照圖（4 )加以說明製造工程。液晶顯示裝置200之製 工程之槪略，包含製造下基板1 〇工程、及製造上基板 重 疊 該 突 將 顯 係 〇 方 起 現 施 他 生 境 厚 參 •27- 25 (25) 1286628 X程，及經由液晶材料貼合下基板1 〇及上基板2 5工程。 以下，說明有關各工程細節。 (下基板1 〇製造工程） 首先’於相當基板主體1 〇 Α基材上，以A〗等金屬材 料爲主体以特定圖案形成反射膜2 0 (形成相當於形成反 射顯示領域R之領域），接著於具備反射膜2 0之基板主 體10A大致全面上’形成包含r、g、B各色著色層之彩 色濾光片22。又於形成彩色濾光片22工程中，於像點區 域內平面重疊形成各著色層22R、22G、22B。如此圖案 形成，譬如能使用微影法實行。於此，於彩色濾光片22 '‘中’於各重疊形成著色層22R、22G、22B領域中，基於 該著色層層積形成凸狀部。 形成彩色濾光片22後，丙烯酸樹脂作爲主體構成液 晶層厚調整層之絕緣膜26，由以覆蓋形成領域彩色濾光 片22上之形狀之反射膜20大致選擇形成。此情況，如前 述模仿彩色濾光片22之凸狀部，絕緣膜2 6於像點間領域 中，亦將形成相同之凸狀部。 其後，具備此等反射膜20、彩色濾光片22、絕緣膜 26絕緣膜26等之基板主体10A上，以ITO爲主體之條 紋狀之共通電極9爲例，藉由濺鍍或蒸鍍法形成。又，條 紋狀圖案藉由光罩蒸鍍法形成手法、藉由蝕刻加工手法任 一皆可。 接著，於如此基板主體1 〇 A所形成之共通電極9 -28- (26) 1286628 上，於反射膜20形成領域、非形成領域內，及點間領域 中，由各介電體形成突起29b、突起28、及突起29a。 又，突起29a特別於前述絕緣膜26凸狀部內形成。於 此’突起28、29其高度，換言之，從共通電極9之表面 之突起局度個別不同形成，例如於本實施形態內，突起 28之高度L2係突起29高度L1之2.0倍。使突出高度相 異之之方法，與第一實施型態同樣進行。一方面，於點間 領域所形成之突起2 9 a，應與反射顯示領域r中所形成之 突起29b以大致相同高度來構成。形成突起29b及以同一 工程同一高度調整形成。 藉由如上述方法所形成包含突起28、29a、29b之共 通，電:極v 9上'之大致全面中，形成由聚醯亞胺垂直配向性之 配向膜27。又於該配向膜27不進行於硏磨等配向處理。 一方面，與形成基板主体10A之共通電極9之相反 側面內’形成由1 /4波長板組成相位差板1 8及偏光板 1 9，得到下基板1 〇。 (上基板2 5製造工程） 首先，於相當基板主体25A基材上，以ITO爲主 體’譬如以濺鍍或蒸鍍法形成矩陣狀之透明電極3 1 (畫 素電極）。又’矩陣狀圖案藉由光罩蒸鍍法形成手法、藉 由蝕刻加工手法任一皆可。形成此矩陣狀之圖案及同時形 成間隙32，接著，於如此基板主体25A上所形成透明電 極3 1之大致全面上，形成由聚醯亞胺組成垂直配向性之 -29- (27) 1286628 配向膜3 3。又該配向膜3 3不進行於硏磨等配向處理。 一方面，形成基板主体2 5 A之透明電極3 1相反側面 內’形成由1 /4波長板組成相位差板1 6及偏光板1 7，得 到上基板2 5。 (基板貼合工程） 藉由上述方法所得之上基板25及下基板1〇，再藉由 形成液晶注入口之紫外線硬化性樹脂等所組成之密封材於 真空中貼合，且對於此貼合基板，從液晶注入口藉由真空 注入法注入液晶材料。注入後，以封印材封住液晶注入 口，而得到本實施形態液晶顯示裝置1 〇 〇。又於本實施形 ‘態中，使用介電異方性之負之液晶材料作爲液晶材料。 (第3實施形態） 其次，關於第3實施形態液晶顯示裝置，參照圖面加 以說明。圖5，係關於第3實施形態液晶顯示型態3 00， 表示其平面構造（a )及剖面構造（b )模式圖，相當於第 2實施形態之圖4。本第3實施形態液晶顯示型態3 00， 於第2實施形態相比，除了以彩色濾光片22於上基板25 側形成以外，基本構造大致與圖4所示液晶顯示型態2 00 相同，因此，關於相同於圖4所示符號者，特別於無記載 範圍，同一構件做成說明而加以省略 第3實施形態液晶顯示型態300，使用TFT主動矩陣 型之半透過反射型液晶顯示裝置以作爲切換元件之例中， -30- (28) 1286628 下基板1 〇 (元件基板）與此對向配置之上基板2 5 (對向 基板）間，於初期配向狀態採垂直配向’亦既由介電異方 性之負之液晶材料組成挾持液晶層5 0之液晶分子。 下基板10，於基板主體10A之表面中，由鋁、銀等 之反射率高之金屬薄膜組成反射膜20，以特定圖案，具 體於反射顯示領域R內選擇形成。又於反射膜2 0非形成 領域，即透過顯示領域T中形成透明電極9a之特定圖 案，此等反射膜20及透明電極9a形成爲1對矩陣狀而構 成畫素電極。又，於畫素電極中，部分削切該電極形成細 缺口 9b、2 0b，於該細缺口 9b、20b中形成傾斜電場。又 於畫素電極上形成具有垂直配向性之配向膜2 7。 Λ —方面，上基板25，係於基板本体25A表面配設包 含各著色層22R、22G、22B重疊形成領域，配置彩色濾 光片22，於該彩色濾光片22上，配設作爲液晶層厚調整 層之絕緣膜26及形成全面圓盤狀之共通電極31a。又， 於共通電極31a，形成突起28、29a、29b，位於各透過顯 示領域、反射顯示領域、像點間領域中。關於此等突起 28、29a、29b之構成，於上述第2實施形態相同。 如上述’於本實施形態內，於畫素電極間設置彩色濾 光片22之像點間領域中，形成由各著色層22R、22G、 22 B層積形成之黑色矩陣BM。具體而言，與反射顯示領 域鄰接之點間領域中，藉由各著色層2 2 R、2 2 G、2 2 B平 面重疊形成之層積體，藉由該層積表示黑色構成。又，如 此層積各彩色濾光片之結果，於該像點間領域中，僅該層 -31 . (29) 1286628 積彩色濾光片22之層厚形成厚膜。 如上述，藉由包含於上基板25側之各著色層22R、 22 G、22B之層積構成黑色矩陣之彩色濾光片22之液晶顯 示裝置3 0 0，將能具備第1實施形態液晶顯示型態1 〇 〇及 第2實施形態液晶顯示型態2 0 0幾項效果。又，關於第3 實施形態液晶顯示型態製造方法，除彩色濾光片22於上 基板25側形成之外，特別於無記載範圍，與第2實施型 態大致相同而省略說明。 (第4實施形態） 其次，關於第4實施形態液晶顯示裝置，參照圖面加 以說明。圖6，係關於第4實施形態液晶顯示型態400， 表示其平面構造（a )及剖面構造（b )模式圖，相當於第 2實施形態之圖4。本第4實施形態液晶顯示型態400， 相較於第2實施形態，除於上基板25側形成透過顯示領 域T之突起28形成之外，基本構造大致與圖4所示液晶 顯示型態200相同，因此，關於相同於圖4所示符號者， 特別於無記載範圍，同一構件做成說明而加以省略。 關於爲要執行液晶配向規制之突起2 8、2 9 b，未必要 形成於同一基板側。如本實施形態，即使形成於不同基板 側，亦能與同一基板側所形成之相同效果。另外，關於以 規制液晶層厚爲目的形成之突起29a，設置於上基板或下 基板皆可。 -32- 1286628? 931、ΐ3ψ號專利申請案 中文說明書修正頁 民國94年12月7日修正 (30) (電子機器） 年月日修(更)正替換頁 _ 」94. ί2. 0 7 其次’關於具備本發明上述實施形態液晶顯示裝置之 電子機器之具體例說明。 圖7係顯示行動電話爲例之斜視圖。於圖7，符號 1 0 00表示攜帶電話主體，符號1001表示使用上述液晶顯 示裝置之顯示部分。此類電子機器，因具備使用上述液晶 顯示裝置之顯示部分，故能實現具備無論使用環境，皆明 亮，對比高、廣視野角液晶顯示部分。 以上，關於本發明實施形態，雖舉一例說明，但本發 明技術不僅限定於此，不脫離本發明之主旨於範圍能加以 各種變更。例如上述於實施形態中，以單板構成相位差 板，取而代之，以1/2波長板及1/4波長板的層積板亦 可。此層積板具有廣帶區域圓偏光板之機能，可以使黑色 顯示更無色彩化。且，於本實施形態所形成之突起形狀， 雖係電極缺口形狀，不限於上述實施形態之構成，至少能 規制垂直配向液晶分子之傾倒方向的話亦可。 【圖式簡單說明】 圖1爲表示第1實施形態液晶顯示裝置之等效電路圖 圖2爲表示液晶顯示裝置電極構造之平面說明圖 圖3爲表示關於圖1液晶顯示裝置重要部分放大之平 面模式圖及剖面模式圖 圖4爲表示關於第2實施形態液晶顯示裝置重要部分 放大之平面模式圖及剖面模式圖 -33- (31) 1286628 圖5爲表示關於圖3液晶顯示裝置重要部分放大之平 面模式圖及剖面模式圖 圖6爲表示關於圖4液晶顯示裝置重要部分放大之平 面模式圖及剖面模式圖 圖7爲表示本發明之電子機器之斜視圖 【主要元件符號說明】 9…共通電極、1 0…下基板、1 3…掃描線、1 5…背光 源、16…相位差板、17…偏光板、18…相位差板、19···偏 光板、21…開口部分、20·••反射膜、20a、2 Ob…細缺口、 22…彩色濾光片、22R、22G、22B…著色層、24…絕緣 膜、24a·.·凹凸形狀、25…上基板、25 A…基板本體、26… 絕緣膜（液晶層厚度調整層）、27…配向膜、28、29、 2 9b…突起、31 ···畫素電極、31a…共通電極、32···細缺 口、33…配向膜、40…TFD元件、50…液晶層、100、 2 0 0…液晶顯示裝置、1 1 〇…掃描信號驅動電路、1 2 0 ···資 料信號驅動電路、150…畫素區域、160…液晶顯示要素、 1 000…行動電話、1001…顯示部、D1、D2、D3…像點區 域、BM…黑色矩陣、LC…液晶分子、R…反射顯示領 域、T…透過顯示領域 -34-

Claims (1)

1. 民國94年12月7日修正 年月日修(更)正本94.12 0 7 1286628琴溫申j奢本案 (1) 拾、申請專利範圍 1 · 一種液晶顯示裝置，係於一對基板間挾持液晶 層，於1個像點區域內，設置透過顯示領域和反射顯示領 域之垂直配向模式之液晶顯示裝置； 其特徵係前述液晶層係由介電異方性爲負的液晶所形 成；於前述一對基板中之至少一方之基板和前述液晶層之 間，設置用使前述反射顯示領域之液晶層厚較前述透過顯 示領域之液晶層厚爲小之液晶層厚調整層； 更於各前述透過顯示領域及前述反射顯示領域之中， 從前述基板內面往前述液晶層內部設置突出之凸狀部；該 凸狀部之突出高度相較於前述反射顯示領域，於前述透過 顯示領域之中構成較大， 前述凸狀部係做爲規定前述液晶配向之配向規定手段 而加以設置，對挾持前述基板之液晶層的面，具有以特定 角度傾斜之傾斜面。 2.如申請專利範圍第1項所記載之液晶顯示裝置， 其中，於前述一對基板之前述液晶層側，各設置爲了驅動 該液晶之電極之同時，於該電極中之至少一方電極之前述 液晶層側，設置前述凸狀部。 3.如申請專利範圍第2項所記載之液晶顯示裝置， 其中，前述凸狀部及前述電極之液晶層內面側，形成垂直 配向前述液晶之配向膜。 4.如申請專利範圍第1項所記載之液晶顯示裝置， 其中，於不同於前述一對基板之液晶層側，於前述液晶層 1286628

   配置爲了入射圓偏光之圓偏光板。 5 ·如申請專利範圍第1項至第4項中之任一項所記 載之液晶顯示裝置，其中，以包含上基板與下基板做爲前 述一對基板，於前述下基板之液晶層與相反側，設置選擇 性於前述反射顯示領域之反射層。 6·如申請專利範圍第1項至第4項中之任一項所記 載之液晶顯不裝置，其中，於前述一對基板中之至少一方 基板之液晶層側，設置彩色濾光片層；該彩色濾光片層具 備複數之著色層，該複數著色層係於點之間領域中平面性 重疊所形成。 7 ·如申請專利範圍第6項所記載之液晶顯示裝置， 其中，於重疊前述著色層所形成之領域之液晶層側，形成 前述液晶層厚調整層，和從該液晶層厚調整層突出於前述 液晶層側而成之第2凸狀部。 8 ·如申請專利範圍第7項所記載之液晶顯示裝置， 其中’前述第2凸狀部，係以形成於前述透過顯示領域及 反射顯示領域之凸狀部和相同材料所構成。 9 ·如申請專利範圍第7項或第8項所記載之液晶顯 示裝置’其中，前述第2凸狀部，係以形成於前述透過顯 示領域及反射顯示領域之凸狀部和略爲相同之突出高度所 構成。 1 〇 · —種液晶顯示裝置之製造方法，係申請專利範圍 第1項至第9項之任一項所記載之液晶顯示裝置之製造方 法； (3) 1286628 其特徵係包含：具有於基板上塗布感光性樹脂之工 程’和光罩曝光，並顯像該感光性樹脂之工程之凸狀部形 成工程；和 具有於基材上形成特定圖案之反射膜工程之基板產生 工程， 於該反射膜之形成領域之中’使前述感光性樹脂之層 厚相對性爲小。 11 · 一種液晶顯示裝置之製造方法，係如申請專利範 圍第〗項至第9項之任一項所記載之液晶顯示裝置之製造 方法； 其特徵係於基板上包含塗布感光性樹脂之工程，和具 有光罩曝光，顯像該感光性樹脂之工程之凸狀部形成工 程；於各特定領域使對前述感光性樹脂之曝光量不同。 12.如申請專利範圍第Π項所記載之製造方法，其 中’於基板上更包含具有形成特定圖案之反射膜工程之基 板產生工程；於該反射膜之形成領域及各非形成領域，使 對前述感光性樹脂之曝光量不同。 1 3 ·如申請專利範圍第1 1項所記載之製造方法，其 中， 於基材上更包含形成具有複數著色層之彩色濾光片層 之工程；於該彩色濾光片層形成工程之中，於點之間領域 中，平面性重疊形成前述複數之著色層，另外，以覆蓋該 重複所形成之著色層之形式，形成絕緣層，更於前述絕緣 層上，包含形成從該絕緣層突出而成之第2突出部之工 3 (4) 1286628 程；以相同工程進行前述凸狀部形成工程與前述第2凸狀 部形成工程。 14· 一種液晶顯示裝置之製造方法，係於一對基板間 挾持液晶層，於1個像點區域內，設置透過顯示領域和反 射顯示領域之液晶顯示裝置之製造方法； 其特徵係於基材上，包含形成特定圖案之反射膜之工 程，和於形成前述反射膜之領域上，具有形成絕緣層之工 程之第1基板形成工程，和於前述第1基板上或不同於此 之第2基板上之至少一方，形成凸狀部之凸狀部形成工 程’和前述第1基板與第2基板，經由初期配向狀態呈現 垂直配向之介電異方性爲負的液晶而貼合之貼合工程； 前述凸狀部形成工程，係於第1基板及/或第2基板 上，包含塗布感光性樹脂之工程，和於光罩曝光該感光性 樹脂之後，顯像之工程；對應於前述反射膜之形成領域與 非形成領域，使塗布於前述基板上之感光性樹脂之厚度不 同。 1 5 · —種液晶顯示裝置之製造方法，係於一對基板間 挾持液晶層，於1個像點區域內，設置透過顯示領域和反 射顯示領域之液晶顯示裝置之製造方法； 其特徵係於基材上，包含形成特定圖案之反射膜之工 程，和於形成前述反射膜之領域上，具有形成絕緣層之工 程之第1基板形成工程，和於前述第1基板上或不同於此 之第2基板上之至少一方，形成凸狀部之凸狀部形成工 程，和前述第1基板與第2基板，經由初期配向狀態呈現 4 1286628 (5) 垂直配向之介電異方性爲負的液晶而貼合之貼合工程； 前述凸狀部形成工程，係於第1基板及/或第2基板 上，包含塗布感光性樹脂之工程，和於光罩曝光該感光性 樹脂之後，顯像之工程；對應於前述反射膜之形成領域與 非形成領域，使對前述感光性樹脂之曝光量不同。 1286628 柒 明說 單 簡 」teu #符表為代 圖件表元代之 定圖指表:案代 圖本本代 N)y 定一二 匕日/1\ 第 圖 9··. ·· ...共通電極 10.. 1 0A. .....基板主體 13·. 1 5 ... ...背光源 16·· 17... ...偏光板 18.· 19"· ...偏光板 20·· 2 1 ... ...開口部分 22 ·. 22B. ...藍色著色層 22G 22 R. ...紅色著色層 24 .· 24a" ....凹凸形狀 2 5 ·· 25 A. ...基板主體 26.· 27.·· ……配向膜 28 ·· 29... ...突起 3 1·. 32... .....細缺口 33·· 40... .....TFD 元件 50·· 100.. ……液晶顯示裝置 110 120.. .....資料信號驅動電路 160.. ……液晶顯示要素 ΒΜ. LI ... ....突起高度 L2 ·· LC... ...液晶分子 R··· T ··· ·· ...透過顯示領域 :， · · Λ · > 1 Λ ,、1 - I Λ T/ HA. --·> 基數位位射色色緣基緣起畫 T複相相反彩綠絕上絕突 黑起射 .突反 液掃 描板板光色彳 反ί丰丰 ？二 1 ί 1言 if掃差差膜濾著膜板膜素配曰日s{ JA JA 4m .rrl till Λικ hlVL rnl xt · 板 基 向 對線 板 基 件 片層元 路 iM tpr 動域 域 極莫驅領陣領 號素矩度示 “5η層信畫色高顯 、本案若有化學式時，請揭示最能顯示發明特徵的化學 式：