TWI283206B - Film forming method, film forming apparatus, method of manufacturing device, and apparatus for manufacturing device - Google Patents

Film forming method, film forming apparatus, method of manufacturing device, and apparatus for manufacturing device Download PDF

Info

Publication number
TWI283206B
TWI283206B TW092123224A TW92123224A TWI283206B TW I283206 B TWI283206 B TW I283206B TW 092123224 A TW092123224 A TW 092123224A TW 92123224 A TW92123224 A TW 92123224A TW I283206 B TWI283206 B TW I283206B
Authority
TW
Taiwan
Prior art keywords
workpiece
liquid
nozzle head
functional liquid
droplet
Prior art date
Application number
TW092123224A
Other languages
English (en)
Other versions
TW200406310A (en
Inventor
Minoru Koyama
Original Assignee
Seiko Epson Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Seiko Epson Corp filed Critical Seiko Epson Corp
Publication of TW200406310A publication Critical patent/TW200406310A/zh
Application granted granted Critical
Publication of TWI283206B publication Critical patent/TWI283206B/zh

Links

Classifications

    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B05SPRAYING OR ATOMISING IN GENERAL; APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
    • B05CAPPARATUS FOR APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
    • B05C11/00Component parts, details or accessories not specifically provided for in groups B05C1/00 - B05C9/00
    • B05C11/10Storage, supply or control of liquid or other fluent material; Recovery of excess liquid or other fluent material
    • B05C11/1039Recovery of excess liquid or other fluent material; Controlling means therefor
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B41PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
    • B41JTYPEWRITERS; SELECTIVE PRINTING MECHANISMS, i.e. MECHANISMS PRINTING OTHERWISE THAN FROM A FORME; CORRECTION OF TYPOGRAPHICAL ERRORS
    • B41J2/00Typewriters or selective printing mechanisms characterised by the printing or marking process for which they are designed
    • B41J2/005Typewriters or selective printing mechanisms characterised by the printing or marking process for which they are designed characterised by bringing liquid or particles selectively into contact with a printing material
    • B41J2/01Ink jet
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B05SPRAYING OR ATOMISING IN GENERAL; APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
    • B05CAPPARATUS FOR APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
    • B05C5/00Apparatus in which liquid or other fluent material is projected, poured or allowed to flow on to the surface of the work
    • B05C5/02Apparatus in which liquid or other fluent material is projected, poured or allowed to flow on to the surface of the work the liquid or other fluent material being discharged through an outlet orifice by pressure, e.g. from an outlet device in contact or almost in contact, with the work
    • GPHYSICS
    • G02OPTICS
    • G02FOPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
    • G02F1/00Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
    • G02F1/01Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour 
    • G02F1/13Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour  based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
    • G02F1/133Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
    • G02F1/1333Constructional arrangements; Manufacturing methods
    • G02F1/1335Structural association of cells with optical devices, e.g. polarisers or reflectors
    • G02F1/133509Filters, e.g. light shielding masks
    • G02F1/133514Colour filters
    • G02F1/133516Methods for their manufacture, e.g. printing, electro-deposition or photolithography
    • HELECTRICITY
    • H10SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10KORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
    • H10K71/00Manufacture or treatment specially adapted for the organic devices covered by this subclass
    • H10K71/10Deposition of organic active material
    • H10K71/12Deposition of organic active material using liquid deposition, e.g. spin coating
    • H10K71/13Deposition of organic active material using liquid deposition, e.g. spin coating using printing techniques, e.g. ink-jet printing or screen printing
    • H10K71/135Deposition of organic active material using liquid deposition, e.g. spin coating using printing techniques, e.g. ink-jet printing or screen printing using ink-jet printing

Landscapes

  • Coating Apparatus (AREA)
  • Application Of Or Painting With Fluid Materials (AREA)
  • Electroluminescent Light Sources (AREA)
  • Optical Filters (AREA)
  • Surface Treatment Of Optical Elements (AREA)
  • Ink Jet (AREA)

Description

1283206 (1) 玖、發明說明 【發明所屬之技術領域】 本發明是關於一種使用液滴吐出噴嘴頭而在工件表面 來製膜功能性材料的膜體的製膜方法及裝置製造方法。 【先前技術】 隨著例如電腦或手提型資訊機器終端的電子機器,而 特別增加顯示裝置的彩色液晶顯示裝置的使用。此種液晶 顯示裝置是爲了彩色化顯示畫像使用濾色片。在濾色片, 具有作爲工件的基板,而對於該基板將紅(R)、綠(G) 、藍(B)的油墨(液滴作爲塗佈液以所定圖案著彈作成製 膜者)。作爲將油墨著彈於此種基板進行製膜的方式,採 用如噴墨方式的液滴吐出方式。 採用液滴吐出方式時,將所定量的液滴從作爲吐出手 段的液滴吐出噴嘴頭吐出至濾片並進行著彈,惟這時候, 如基板是被裝載於Y軸台(移動自如於Y軸方向的台)。 利用X軸台的驅動將液滴吐出頭定位於所定位置之後,利 用Y軸台的驅動一面對於液滴吐出頭相對移動(掃描) 基板一面吐出液滴,就成爲可將來自複數液滴吐出噴嘴頭 的液滴著彈於基板的所定位置。 在上述液滴吐出方法中,對於基板的液滴吐出前,爲 了防止噴嘴頭內的液體增黏化或液體固形分的析出而進行 穩定的液滴吐出而實施稱爲沖洗(flushing )的預備吐出。 習知該沖洗是設置將海綿等構件設於Y軸台兩側或一側的 -4- (2) K.^206 端部的專用沖洗區域,使得沖洗區域位於噴嘴頭下方地定 位(停止)Υ軸台所進行。然後進行通常的液滴吐出,就 可將成分變化較少的液體塗佈在基板上。 然而,在如上述的習知技術,存有如下的缺點問題。 在沖洗中,需另外設置:將噴嘴頭定位於沖洗區域的 製程;從噴嘴頭沖洗的製程;以及爲了移行至通常吐出將γ 軸台加速至所定速度的製程。亦即,有關於γ軸台,也成 爲加速-減速-停止-加速的控制之故,因而在包括沖洗的掃 描,有降低通過量的缺點問題。尤其是,吐出外敷用途等的 容易產生增黏或堵住的趨勢的液體時,則需頻繁地進行沖 洗,若欲提昇製膜品質,成爲無法避免降低通過量。 【發明內容】 本發明是考慮以上事項而創作者,其目的是在於提供 一種不會降低通過量就可實施沖洗的製膜方法及裝置製造 方法。 爲了達成上述目的,本發明採用以下的構成。 本發明的製膜方法,針對於具有在液滴承受盤區域從 噴嘴頭沖洗液滴的沖洗製程,及相對移動上述噴嘴頭與工 件,且將液滴以所定吐出間隔從上述噴嘴頭吐出至上述工件 的表面的液滴吐出製程的製膜方法,其特徵爲:在上述噴嘴 頭與上述工件的相對移動中進行上述液滴的沖洗。 因此,在本發明的製膜方法中,爲了在液滴吐出製程 中沖洗噴嘴頭與工件的相對移動而不必另外設置一旦停止 -5- 1283206 95.12. 7 ^ (3) 的製程之故,因而成爲可防止降低通過量。 作爲進行液滴的沖洗的時機,在對於液滴吐出製程的 所定相對移動速度的加速中進行較理想。由此,在本發明 中,在液滴吐出製程中可實施沖洗之故,因而不必另外設 置用以實施沖洗的製程,有助於提昇通過量。 又,也可採用一部分以工件所形成的液滴承受盤區域 所進行的次序。這時候,以液滴承受盤區域可承受並進行 回收,排出沖洗的液滴,惟液滴承受盤區域的一部分以工 件所形成之故,因而可縮短沖洗與對於工件的液滴吐出的 吐出間隔,而可抑制沖洗後的液體增黏化或液體固形分量 的析出。 又,在本發明中,也可採用具有在液滴吐出製程後, 將無法從噴嘴頭吐出的大小的振動賦予噴嘴頭內的液體的振 動賦予製程的次序。例如在反轉相對移動方向後立即進行 對於工件的液滴吐出之際,有不需要沖洗的情形,惟在此 種情形,也藉由將振動賦予噴嘴頭內的液體,成爲可抑制 液體增黏化或液體固形分量的析出而進行穩定的液滴吐出 。又,雖賦予振動也不會有液體從噴嘴頭被吐出之故,因 而可防止浪費的液體消耗。 又’本發明的裝置製造方法,屬於將液滴從噴嘴頭吐 出至工件的表面而形成膜體的裝置製造方法,其特徵爲: 使用上述的製膜方法,在上述工件進行製膜。因此,在本 發明中,在工件形成膜體時,也成爲可防止降低通過量, 可有效率地製造裝置。 (4) 1骑紗)6 本發明的裝置製造方法,是在作爲工件的透鏡製膜作 爲膜體的透光性塗層膜之際可適用。由此,可將塗層膜容易 且有效率地形成在透鏡表面。又,作爲透鏡有眼鏡透鏡。 又’本發明的裝置製造方法,是將排列有濾片的基板 作爲工件,可適用於將覆蓋濾片的外敷膜來進行製膜之際 。由此,可將外敷膜容易且有效率地形成在濾片表面。 又,本發明的裝置製造方法,將排列有包含EL ( Electro-Luminence)發光層的像素的基板作爲工件,可適 用於將形成在EL發光層上的所定部位的對向電極膜來進行 製膜之際。由此,可將對向電極膜容易且有效率地形成在 EL發光層表面。 【實施方式】 以下,參照第1圖至第8圖說明本發明的製膜方法及裝 置製造方法的實施形態。 在此,例如說明使用將本發明的製膜裝置適用在製造 眼鏡透鏡的液滴吐出裝置,以UV切除劑或防模糊劑的膜體 被覆於眼鏡透鏡,將功能液從塡充功能液的液滴吐出噴嘴 頭吐出至成爲功能液吐出對象物的眼鏡透鏡(工件),以 功能材料的膜被覆工件的情形的例子。 第1圖是模式地表示構成裝置製造裝置的液滴吐出裝 置的基本構成的圖式。如第1圖所示地,該液滴吐出裝置 (製膜裝置)1是具備:將功能液吐出至成爲功能液吐出 對象物的工件W所用的功能液吐出手段2,及將工件W設置 (5) 128 獨 6 在裝置所用的載置手段3,及儲存從工件W溢出的功能液 所用的廢功能液儲存手段4,及洗淨依廢功能液儲存手段4 的功能液所產生的污垢所用的下述的洗淨手段5。又,此 些各手段是分別被連接於控制器(參照第3圖)6,而控制 器6是一面互相關連此些各手段一面總括地控制。 又,圖示是被省略,惟在該液滴吐出裝置1,設有畫 像識(攝影)工件W的工件認識攝影機、畫像認識噴嘴頭 單元11 (吐出噴嘴頭23)的噴嘴頭認識攝影機,各種指示 器等的附帶裝置,此些也被連接於控制器6。 該液滴吐出裝置1是對於設定在載置手段3的工件W, 藉由一面掃描功能液吐出手段2的噴嘴頭單元11,一面將 含有功能材料的功能液作爲液滴吐出至工件W的表面,俾 將功能材料的膜體形成在工件W的表面,以功能材料被覆 工件W者。又,在該液滴吐出裝置1中,爲了以功能材料均 勻地被覆工件W的整體表面,使得噴嘴頭11對於工件W任一 部分也均勻地,亦即對於工件W的緣部也與將功能液吐出至 工件W的中央部同樣地,吐出功能液。又,如此地將功能 液與工件W的中央部同樣地吐出至工件W的緣部,則有功能 液從工件W有些溢出之故,因而設有承受溢出的功能液之 同時,可儲存的廢功能液儲存手段4。又,從工件W溢出並 吐出功能液之故,因而成爲不需要嚴密地定位工件W的載置 位置。 如第1 1圖所示地,功能液吐出手段2是具有:裝載功能 液吐出噴嘴頭(噴嘴頭)21的噴嘴頭11,及吊掛並支撐噴 -8- (6) I2&B206 嘴頭單元11的主架13,經由載置手段3朝主掃描方向(X軸 方向)移動工件W,另一方面朝副掃描方向(Y軸方向) 自如地移動噴嘴頭單元11的X、Y移動機構14。 如第2 ( a )圖所示地,噴嘴頭單元是由複數功能液吐 出噴嘴頭2 1,及裝載此些的副架1 2所構成。功能液吐出噴 嘴頭21是由:具有噴嘴頭基板或功能液導入部的副架裝設 部(未圖示),及具有吐出功能液的吐出噴嘴23的噴嘴頭 本體22所構成。又,在噴嘴頭本體22的噴嘴面24,分別形 成有從複數吐出噴嘴23所構成的兩列的噴嘴列,朝下方吐 出該噴嘴面24地,功能液吐出噴嘴頭21是裝設(固定)在 副架12(在第2圖中,爲了方便上,朝相反地圖示上下方 向)。 在副架1 2,爲了裝設功能液吐出噴嘴頭2 1設有兩列裝 設開口 12a (參照第2(b)圖),有六個裝設開口形成在 每一列。亦即,在一列裝設開口,有裝設六個功能液吐出 噴嘴頭21,在副架12裝設有合計12個功能液吐出噴嘴頭12 。又,裝設開口是定位各功能液吐出噴嘴頭2 1的裝設位置 ,對於工件W能確保充分塗佈密度而配置各功能液吐出噴 嘴頭2 1之故,對於主掃描方向形成傾斜所定角度。 主架13是由:吊掛地支撐噴嘴頭單元11的架本體(未 圖示),及支撐架本體之同時,朝副掃描方向(Υ軸方 向)滑動自如地支撐於下述的Y軸台16的噴嘴頭托架( 未圖示)所構成。架本體是朝0 軸方向(Z軸周圍的方 向)地旋轉自如地構成,藉由朝0方向旋轉架本體’成爲 -9 - (7) Ι2&32Θ6 可將噴嘴頭本體22對0 軸方向的噴嘴面24的位置調整成 適當位置。又,0 軸方向的調整是依據噴嘴頭認識攝影 機(未圖不)的認識畫像所進行。 XY移動機構14是由:支撐載置工件W的載置手段的X 軸台15,及正交於X軸台15之同時,經由噴嘴頭托架來 支撐噴嘴頭單元11的Y軸台16所構成。又,X、Y移動機 構14是將功能適當地吐出至工件W表面之故,因而同步於 功能液吐出噴嘴頭21的驅動,交互地移動噴嘴頭單元11及 工件W。亦即,在該液滴吐出裝置1中,重複依X軸台15 對於主掃描方向(X軸方向)的工件W的移動,及依Υ 軸台16對於副掃描方向(Υ軸方向)的噴嘴頭單元11的 移動,而在工件W對於主掃描方向的移動時功能液被吐出 ,而在工件W的表面全領域形成有功能材料的膜體。 又,在本實施形態中,作成將工件W朝主掃描方向移 動,並將噴嘴頭單元11朝副掃描方向移動,惟對於工件W 相對地掃描(移動)噴嘴頭單元11構成就可以,或是噴嘴 頭單元11朝主掃描方向移動的構成也可以。又,固定工件 W,並將噴嘴頭單元11朝主掃描方向及副掃描方向的雙方 移動的構成也可以。 以下,說明載置手段3。如第3圖所示地,載置手段3 是具有被固定於X軸台15的基座板31,而在該基座板31 一體地支撐有進行朝工件W的0 軸方向的修正所用的0 台33,及設定工件W所用的吸附台34。亦即,藉由0台33 及吸附台34構成有工件台32。 -10- (8) I28S206 基座板31是朝0 軸方向旋轉自由地支撐0台33之同 時,經由0台3 3來支撐吸附台3 4。0台3 3是依據工件認識 攝影機的認識畫像,可將經由吸附台34所設定的工件W朝 Θ 軸方向旋轉,由此,進行0 軸方向的修正使得工件W 對於噴嘴頭單元11被設定在適當位置。又,在吸附台34形 成有複數吸引孔35 (參照第4圖),從吸引孔35吸引工件 W,能將工件W吸附固定於吸附台34。又,0台33及吸附 台3 4的水平面是形成小於工件,成爲從工件w溢出的功能 液不會弄髒工件台32。 以下,參照第3圖及第4圖說明廢功能液儲存手段4。 廢功能液儲存手段4是由:承受從工件W所溢出的功能液 的功能液承受盤41,及支撐功能液承受盤41的複數支撐托 架42,及儲存從功能液承受盤4 1所排出的功能液的所用的 廢功能液所用的廢功能液43,及連接功能液承受盤4 1與廢 功能液槽43的排出管44所構成。 功能液承受盤4 1是斷面形成大約U形槽狀,而外周面 上部朝內側折彎。又,有效率地承受工件W所溢出的功能 液之故,因而功能液承受盤41是因應於工件W的平面形狀 所成環狀。亦即,從功能液吐出噴嘴頭2 1所吐出的功能液 ,是成爲經由一端(一部分)以工件W所形成而另一端以 功能液承受盤41所形成的液滴承受區域41 a而以功能液承 受盤41所承受的構成。又,功能液承受盤41是於底部具有 用以排出功能液的排出口 5 1,而在排出口 5 1安裝有與排出 管44連接所用的排出口固定具52。在功能液承受盤41外周 -11 - 1283206 (9) 面的上端部,設有連接下述的洗淨液放出管62與洗淨液供 給管65所用的連接口 53。 如第3圖所示地,支撐托架42是使得被固定於載置手段 3的0台33側面而環狀地形成的功能液承受盤41;經常面臨 於所設定的工件W的周緣部地,亦即使得工件W的周緣部與 功能液承受盤41的一部分重疊地,來支撐功能液承受盤41 。又,複數支撐托架42周方向地均等地配設在0台33。又 ,支撐托架42是爲了快速地排出以功能液承受盤4 1所承受 的功能液,將功能液承受盤41朝下方傾斜地支撐於排出口 51 〇 廢功能液槽43是藉由排出管(矽酮管)44而與功能液 承受盤41被配管連接,儲存由工件W溢出而以功能液承受 盤承受的功能液。又,廢功能液槽43是成爲以功能液變成 滿液即可適當更換。又,在廢功能液槽43,設有用以檢測 出廢功能液槽43成爲滿液狀態的功能液滿液檢測器54,控 制器6是控制功能液吐出噴嘴頭2 1的驅動成爲功能液不會 從廢功能液槽43溢出之狀態。又,廢功能液槽43是使用不 銹鋼製、樹脂製、玻璃製等者。 排出管44,是將一端部連接於功能液承受盤4 1的排出 口固定具52,並將另一方的端部連接於廢功能液槽43,又 配管連接功能液承受盤41與廢功能液槽43。在排出管44設 有封鎖從功能液承受盤4 1對於廢功能液槽43的功能液的流 動的功能液封鎖閥5 5。 如第3圖及第4圖所示地,洗淨手段5是由:爲了洗淨 -12- (10) mmoe 功能液承受盤4 1,儲存溶解功能液的洗淨液的洗淨液槽6 1 ,及將洗淨液放出至功能液承受盤4 1所用的洗淨液放出管 62,及配管連接洗淨液槽61與洗淨液放出管62的洗淨液供 給管65所構成。又,在洗淨液槽61設有用以檢測洗淨液的 減液狀態的洗淨液減液檢測器66 ’成爲可檢測洗淨液槽6 1 的減液狀態的構成。 洗淨液放出管62是連接於設在功能液承受盤41的外周 面上端部的連接口 53之同時,沿著功能液承受盤4 1的折彎 部分的內側環狀地配設。又,洗淨液放出管62是經由連接 口 53,與洗淨液供給管65相連接,而經由洗淨液供給管65 ,與洗淨液槽6 1相連接。在洗淨液放出管62,以大約等間 隔設有複數洗淨液放出孔63,成爲洗淨液均勻地放出至功 能液承受盤41的構成。又,各洗淨液放出孔63是形成朝功 能液承受盤41的外周面,成爲洗淨液有效率地放出至該外 周面的構成。 又,爲了在每一所定時間進行功能液承受盤4 1的洗淨 ,在洗淨液供給管65的上端部,設有連接於控制器6的電 磁閥66,定時器控制成能在每一所定時間開閉電磁閥66。 但是,開閉電磁閥66是不依靠定時器控制而以手動進行也 可以。 以上所述的液滴吐出裝置1的各手段是藉由控制器6被 控制,而控制器6是總括地控制整體液滴吐出裝置1成爲以 所定條件對工件W進行功能液吐出。 參照第5圖及第6圖說明上述構成的液滴吐出裝置1的 13- 1魅2’06 (11) 動作。 又,在工件W的表面吐出功能液的液滴之際,對於功 能液吐出噴嘴頭21相對移動工件W,在這裏爲了方便上圖 示著功能液吐出噴嘴頭2 1對於工件W移動者。 首先,藉由XY移動機構14來驅動X軸台15及Y軸台 1 6,將工件W及功能液吐出噴嘴頭2 1定位在掃描開始位置 。之後,開始液滴吐出製程,驅動X軸台1 5,就可加速 工件W—直到將功能液的液滴從功能液吐出噴嘴頭2 1吐出 至工件W之際的工件W與功能液吐出噴嘴頭2 1的相對移動 速度(掃描速度)。如第5圖所示地,該工件W的加速中 ,當液滴承受盤區域41 a到達功能液吐出噴嘴頭21的正下 方,則控制器6是對於功能液吐出噴嘴頭2 1輸出沖洗波形 的驅動信號。由此,來自功能液吐出噴嘴頭2 1是沖洗功能 液的液滴,經由液滴承受盤區域4 1 a而在功能液承受盤4 1 進行沖洗(沖洗製程)。 又,控制器6輸出沖洗波形的驅動信號的時機,是必 須與所吐出的液滴通過液滴承受盤區域41a的時機一致之 故,因而若在驅動信號的輸出與所吐出的液滴通過產生時 滯時,則考慮該時滯,在液滴承受盤區域4 1 a到達功能液 吐出噴嘴頭21的正下方之前輸出驅動信號也可以。又,在 第5圖中,圖示即使從功能液吐出噴嘴頭2 1的所有吐出噴 嘴頭沖洗液滴也不會有妨礙的開口大小的液滴承受盤區域 4 1 a,惟若液滴承受盤4 1 a的開口窄小時,例如對於複數噴 嘴頭列每一列地進行沖洗,或是每一吐出噴嘴列地進行沖 -14- (12) Ι2Ι32Θ6 洗也可以。 亦即,藉由控制器6的控制,對應於液滴承受盤區域 4 1的開口大小與吐出噴嘴列及噴嘴頭列的排列節距,選擇 性地進行沖洗也可以。又,具體而言,在每一噴嘴列進行 沖洗時,則對於液滴承受盤區域41a到達正下方的吐出噴 嘴列依次輸出沖洗波形的驅動信號,而在每一吐出噴嘴列 進行沖洗時,則對於液滴承受盤區域4 1 a到正下方的吐出 噴嘴列依次輸出沖洗波形的驅動信號就可以。 當完成加速中的沖洗,掃描速度成爲等速穩定,則對 於工件W表面的所定部位實地功能液的液滴吐出(參照第 3圖)。之後,完成依該掃描對於工件W表面的液滴吐出 ,如第6圖所示地,當工件W到達從功能液吐出噴嘴頭2 1 下方偏離的位置時,則爲了終了液滴吐出製程或下一掃描 ,經由X軸台15來減速工件W。在該工件W的減速中,控 制器6是對於功能液吐出噴嘴頭2 1輸出微振動波形的驅動 信號。當該驅動信號被輸出,則功能液吐出噴嘴頭2 1內的 功能液是無法從該噴嘴頭2 1吐出的大小的振動被賦予(振 動賦予製程),詳細地,微振動吐出噴嘴的彎月面表面。 由此,成爲可抑制吐出噴嘴的功能液的增黏化或固形分量 的析出。 又,該微振動賦予是不被限定在減速中,而在終了液 滴吐出對於工件W之後的等速移動中實施也可以。同樣, 上述加速中的沖洗,也可以實施剛開始對於工件W的液滴 吐出之前的等速移動中。 -15- 1283206 (13) 又,藉由上述功能液的沖洗或對於工件W的緣部的液 滴吐出,功能液被儲存使得廢功能液槽43成爲滿液狀態, 則功能液滿液檢測器54檢測廢功能液槽43的滿液狀態,並 將滿液信號輸出至控制器6。那麼說控制器6是點亮表示廢 功能液槽43形成滿液狀態的指示器(未圖示),告知廢功 能液槽43的滿液狀態。如此,完成薄膜形成途中的工件W 的薄膜形成之後,停止功能液吐出手段2成爲不會從廢功 能液槽43溢出功能液。之後,更換滿液狀態的廢功能液槽 43,當未檢測滿液信號,則控制器6是熄燈表示廢功能液 槽43形成滿液狀態的指示器之同時,再作動功能液吐出手 段2。又,作爲告知廢功能液槽43的滿液狀態的手段使用 指示器顯示,惟並不被限定於此者,例如作爲藉由聲音等 來告知的構成也可以。 又,與此同樣地,依據來自檢測洗淨液槽6 1的洗淨液 減少所定量的洗淨液減液檢測器66的減液信號,控制器6 是進行洗淨液減液指示器(未圖示)的點亮顯示。 如此地,在實施形態中,不必一旦停止X軸台1 5, 在對於工件W表面的液滴吐出製程所用的相對移動中實施 沖洗之故,因而成爲不必另外設置實施沖洗所用的製程而 可刪除沖洗所需的時間,可提昇通過量。又,在本實施形 態中,將液滴吐出於工件W的緣部所用的功能液承受盤4 1 使用於沖洗之故,因而不必另外設置沖洗區域或吸收構件 ,有助於裝置的小型化及低價格化。 又,在本實施形態中,進行沖洗的液滴承受盤區域 -16- 1283206 (14) 4 la的一部分以工件W本體所形成之故,因而可縮短依沖洗 的液滴吐出,及對於工件W的液滴吐出的吐出間隔。所以 ,成爲可抑制沖洗後的功能液的增黏化或固形分量的析出 ,對於工件W可實現更穩定的液滴吐出。尤其是,在本實 施形態中,在對於工件W的液滴吐出後將微振動賦予噴嘴 頭2 1內的功能液之故,因而即使未進行沖洗時,也可抑制 功能液的增黏化或固形分量的析出。而且在本實施形態中 ,即使賦予振動也不會使得功能液從噴嘴頭21吐出之故, 因而也可防止浪費功能液消耗。 又,本發明的液滴吐出裝置1是可進行眼鏡透鏡的塗 層之外,還可進行作爲裝置的各種光學透鏡的塗層,也可 適用於各種平面顯示器的製造方法等。以下,以使用該液 滴吐出裝置1的製造方法,及液晶顯示裝置的製造方法以 及有機EL裝置的製造方法爲例子簡單地說明。 第7圖是表示液晶顯示裝置的剖視圖。如該圖所示地, 液晶顯示裝置(彩色)450,是在上下偏光板462、467間, 經合濾色片400與對向基板466,在兩者之間藉由封入液晶組 成物465所構成。又,在濾色片400與對向基板466間,構成 有配向膜461、464,而在另一方的對向基板466的內側面, 矩陣狀地形狀有TFT (薄膜電晶體)元件(未圖示)與像素 電極463。 濾色片400是具備排列成矩陣狀的像素(濾片),像素 與像素的境界,是藉由隔片(存儲體)413被區隔。在各像 素導入有紅(R)、綠(G)、藍(B)的任一的液狀材料 -17- (15) 只,6 (濾片材料)。亦即,濾色片400是具備透光性基板411與 透光性隔片413。未形成有(被除去)隔片413的部分是構成 上述像素。被導入(吐出)於該像素的各色液狀材料是構 成著色層421。在隔片413及著色層421上面形成有作爲被覆 材的被覆層422及電極層423。 又,在本實施形態中,在以隔片41 3所區隔所形成的像 素內’藉由液滴吐出方式導入上述R、G、B的各液狀材料 。亦即,藉由功能吐出噴嘴頭2 1,將R、G、B各色的液滴 選擇性地吐出至每一著色層形成領域。之後,藉由乾燥經 塗佈的液狀材料,得到著色層42 1。同樣地,藉由液滴吐 出方式,作爲膜體形成被覆層(被覆膜)422。 同樣地,參照第8圖說明作爲裝置的有機EL裝置與其 製造方法。如該圖所示地,有機EL裝置500是在玻璃基板( 基板)501上層積有電路元件部502,而在電路元件502上層 積有形成主體的有機EL裝置5 04。又,在有機EL裝置5 04上 側,介裝惰性氣體的空間設有封閉用基板505。 在有機EL裝置504,藉由無機存儲層512a,及重疊於該 層的有機存儲層51 2b形成有存儲體512。藉由該存儲體512, 形成有矩陣狀的像素。又,在各像素內,從下側層積有像 素電極511,R、G、B的發光層51 Ob及正孔注入/輸送層510a ,且整體覆蓋複數層地層積Ca或A1等薄膜的對向電極503。 又,在本實施形態,藉由上述的液滴吐出方式,形成R 、G、B的發光層510b及正孔注入/輸送層510a。又,在形成 正孔注入/輸送層510a之後,同樣地藉由液滴吐出方式,使 -18- 12§砸 (16) 用Ca或Α1等的液狀金屬材料形成作爲膜體的對向電極(對 向電極膜)503。又,代替封閉用基板505,以高氣密性的 樹脂封閉該部分時,將此以液滴吐出方式進行較理想。 在本實施形態中,在形成發光層510b及正孔注入/輸送 層5 10a適當地可變,調整功能液吐出噴嘴頭21的傾斜角度 ,使得各吐出噴嘴的節距與像素的節距成爲一致,而在形 成對向電極503中,適當地可變功能液吐出噴嘴頭21的傾 斜角度,來調整其膜厚就可以。 (發明的效果) 如上所述地,在本發明中,可防止降低通過量之同時 ,具有有助於裝置的小型化及低價格化的效果。又,在本 發明中,對於工件可實現穩定的液滴吐出,並可得到高品 質的裝置。 【圖式簡單說明】 第1圖是模式地表示本發明的實施形態的液滴吐出裝置 的基本構成的圖式。 第2(a) 、(b)圖是分別表示噴嘴頭裝設後及噴嘴頭 裝設前的副架的外觀立體圖。 第3圖是表示構成同一液滴吐出裝置的廢功能液儲存手 段周圍的縱剖視圖。 第4圖是表示同一廢功能液儲存手段的外觀立體圖。 第5圖是表示加速中的噴嘴頭與液滴承受盤區域的位置 I283_ (17) 關係的圖式。 第6圖是表示減速中的噴嘴頭與液滴承受盤區域的位置 關係的圖式。 第7圖是表示藉由本實施形態的裝置製造方法所製造 的液晶顯示裝置的剖視圖。 第8圖是表示藉由本實施形態的裝置製造方法所製造 的有機EL裝置的剖視圖。 (記號之說明) W ··工件 1:液滴吐出裝置(製膜裝置) 6 :控制器(控制裝置) 2 1 :功能液吐出噴嘴頭(噴嘴頭) 41a:液滴承受盤區域 41 1 :基板 422:被覆層(被覆膜、膜體) 5〇1 :玻璃基板(基板) 503:對向電極(對向電極膜、膜體) -20 -

Claims (1)

  1. Ι2_&6 (1) 拾、申請專利範团 1· 一種製膜方法,針對於具有在液滴承受盤區域從噴 嘴頭沖洗液滴的沖洗製程,及相對移動上述噴嘴頭與工件 ,且將液滴以所定吐出間隔從上述噴嘴頭吐出至上述工件的 表面的液滴吐出製程的製膜方法,其特徵爲: 在上述噴嘴頭與上述工件的相對移動中進行上述液滴的 沖洗。 2.如申請專利範圍第1項所述的製膜方法,其中,在對 於上述液滴吐出製程的所定相對移動速度的加速中進行上述 沖洗製程的液滴的吐出。 3·如申請專利範圍第1項或第2項所述的製膜方法,其 中,上述沖洗製程的液滴吐出是在一部分以上述工件所形成 的液滴承受盤區域所進行。 4.如申請專利範圍第1項或第2項所述的製膜方法,其 中,具有在上述液滴吐出製程後,將無法從上述噴嘴頭吐出 的大小的振動賦予上述噴嘴頭內的液體的振動賦予製程。 5·—種裝置製造方法,屬於將液滴從噴嘴頭吐出至工件 的表面而形成膜體的裝置製造方法,其特徵爲: 使用申請專利範圍第1項至第4項中任一項所述的製膜 方法,在上述工件進行製膜。 6·如申請專利範圍第5項所述的裝置製造方法,其中, 上述工件是透鏡; 上述膜體是覆蓋上述透鏡的透光性塗層膜。 7·如申請專利範圍第5項所述的裝置製造方法,其中, 1283106 (2) 上述工件是排列有濾片的基板; 上述膜體是覆蓋上述濾片的外敷膜。 8.如申請專利範圍第5項所述的裝置製造方法,其中, 上述工件是排列有包含EL發光層的像素的基板; 上述膜體是形成在上述EL發光層上的所定部位的對向 電極膜。
    -22- 1283206 柒、(一) (二) 、本案指定代表圖為:第5圖 、本代表圖之元件代表符號簡單說明: 13 主架 15 X軸台 2 1功能液吐出噴嘴頭 31基座板 3 2 工件 3 3 0台 3 4吸附台 4 1功能液承受盤 41a液滴承受盤區域 W 工件 捌、本案若有化學式時,請揭示最能顯示發明特徵的化學 式: -3-
TW092123224A 2002-08-27 2003-08-22 Film forming method, film forming apparatus, method of manufacturing device, and apparatus for manufacturing device TWI283206B (en)

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2002246925A JP2004081988A (ja) 2002-08-27 2002-08-27 製膜方法と製膜装置及びデバイス製造方法並びにデバイス製造装置

Publications (2)

Publication Number Publication Date
TW200406310A TW200406310A (en) 2004-05-01
TWI283206B true TWI283206B (en) 2007-07-01

Family

ID=32054690

Family Applications (2)

Application Number Title Priority Date Filing Date
TW093128014A TWI277518B (en) 2002-08-27 2003-08-22 Film forming method, film forming apparatus, and device production method, device production equipment
TW092123224A TWI283206B (en) 2002-08-27 2003-08-22 Film forming method, film forming apparatus, method of manufacturing device, and apparatus for manufacturing device

Family Applications Before (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
TW093128014A TWI277518B (en) 2002-08-27 2003-08-22 Film forming method, film forming apparatus, and device production method, device production equipment

Country Status (5)

Country Link
US (3) US7422768B2 (zh)
JP (1) JP2004081988A (zh)
KR (1) KR100550026B1 (zh)
CN (1) CN1485205A (zh)
TW (2) TWI277518B (zh)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
TWI457185B (zh) * 2010-09-15 2014-10-21 Toto Ltd Filming method

Families Citing this family (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2005324130A (ja) * 2004-05-14 2005-11-24 Seiko Epson Corp 液滴吐出装置、電気光学装置、電気光学装置の製造方法、および電子機器
JP3970905B2 (ja) * 2005-06-14 2007-09-05 シャープ株式会社 インク吐出装置およびインク吐出制御方法
US20070248798A1 (en) * 2006-04-19 2007-10-25 Canon Kabushiki Kaisha Circuit board manufacturing process, circuit board manufactured by the process, and circuit board manufacturing apparatus
JP2008201018A (ja) * 2007-02-21 2008-09-04 Toppan Printing Co Ltd インクジェットヘッドのアライメント装置
JP5187124B2 (ja) * 2008-10-16 2013-04-24 セイコーエプソン株式会社 液状体の吐出方法、カラーフィルタの製造方法および有機el装置の製造方法
JP4868475B1 (ja) * 2011-06-20 2012-02-01 ムネカタ株式会社 圧電・焦電性膜の形成方法及び形成装置
JP6079492B2 (ja) * 2013-07-26 2017-02-15 ブラザー工業株式会社 インクジェット記録装置

Family Cites Families (18)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP3116297B2 (ja) * 1994-08-03 2000-12-11 東京エレクトロン株式会社 処理方法及び処理装置
JP3881092B2 (ja) * 1997-07-10 2007-02-14 シチズン時計株式会社 液晶表示パネル
JP3227642B2 (ja) * 1995-10-13 2001-11-12 東京エレクトロン株式会社 塗布装置
DE69736991T2 (de) * 1996-01-29 2007-07-12 Seiko Epson Corp. Tintenstrahlaufzeichnungskopf
CA2306384A1 (en) * 1997-10-14 1999-04-22 Patterning Technologies Limited Method of forming an electronic device
US6619783B2 (en) * 1998-11-20 2003-09-16 Seiko Epson Corp Flushing position controller incorporated in ink-jet recording apparatus and flushing method used for the same
JP3587111B2 (ja) 1999-12-27 2004-11-10 セイコーエプソン株式会社 インクジェット式記録装置
US20060216744A1 (en) * 1998-12-23 2006-09-28 American Registry Of Pathology Armed Forces Institute Of Pathology Apparatus and methods for efficient processing of biological samples on slides
JP2000255056A (ja) 1999-03-10 2000-09-19 Seiko Epson Corp インクジェット記録装置の制御方法
JP3374807B2 (ja) 1999-10-19 2003-02-10 松下電器産業株式会社 ディスプレイパネル及びその製造方法
TW475212B (en) * 1999-12-17 2002-02-01 Tokyo Electron Ltd Coating film forming apparatus
JP2002067346A (ja) 2000-08-28 2002-03-05 Canon Inc インクジェット記録方法及びインクジェット記録装置
JP2002221616A (ja) 2000-11-21 2002-08-09 Seiko Epson Corp カラーフィルタの製造方法及び製造装置、液晶装置の製造方法及び製造装置、el装置の製造方法及び製造装置、インクジェットヘッドの制御装置、材料の吐出方法及び材料の吐出装置、並びに電子機器
US20020176927A1 (en) * 2001-03-29 2002-11-28 Kodas Toivo T. Combinatorial synthesis of material systems
JP2003006948A (ja) * 2001-06-15 2003-01-10 Fuji Photo Film Co Ltd 光情報記録媒体の製造方法
US6824612B2 (en) * 2001-12-26 2004-11-30 Applied Materials, Inc. Electroless plating system
JP3985559B2 (ja) * 2002-03-19 2007-10-03 セイコーエプソン株式会社 吐出装置、並びに液晶表示装置の製造方法、有機el装置の製造方法、電子放出装置の製造方法、pdp装置の製造方法、電気泳動表示装置の製造方法、カラーフィルタの製造方法、有機elの製造方法、スペーサ形成方法、金属配線形成方法、レンズ形成方法、レジスト形成方法および光拡散体形成方法
TWI242663B (en) * 2002-07-09 2005-11-01 Seiko Epson Corp Jetting method of liquid, jetting apparatus of liquid, production method of substrate for electro-optical apparatus and production method of electro-optical apparatus

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
TWI457185B (zh) * 2010-09-15 2014-10-21 Toto Ltd Filming method

Also Published As

Publication number Publication date
KR100550026B1 (ko) 2006-02-09
US20060243206A1 (en) 2006-11-02
US20070042111A1 (en) 2007-02-22
TW200406310A (en) 2004-05-01
US7422768B2 (en) 2008-09-09
US20040076760A1 (en) 2004-04-22
JP2004081988A (ja) 2004-03-18
CN1485205A (zh) 2004-03-31
US8012545B2 (en) 2011-09-06
KR20040018965A (ko) 2004-03-04
TW200505687A (en) 2005-02-16
TWI277518B (en) 2007-04-01

Similar Documents

Publication Publication Date Title
TWI442461B (zh) 處理液排出裝置
US8012545B2 (en) Film forming method, film forming apparatus, method of manufacturing device, and apparatus for manufacturing device
JP2009113040A (ja) マイクロデポジション装置
US7851020B2 (en) Droplet discharge method, electro-optic device, and electronic apparatus
KR100505286B1 (ko) 막체 형성 장치, 렌즈의 제조 방법, 컬러 필터의 제조방법 및 유기 el 장치의 제조 방법
CN101041289A (zh) 液滴喷射检查装置、液滴喷射装置及涂布体的制造方法
TWI302333B (en) Apparatus for applying paste and method of applying paste
KR20100067121A (ko) 액적 도포 장치, 액적 도포 방법, 액정 표시 패널의 제조 장치 및 액정 표시 패널의 제조 방법
JP4048979B2 (ja) ノズル孔の画像認識方法およびこれを用いた液滴吐出ヘッドの位置補正方法、ノズル孔の検査方法、ノズル孔の画像認識装置およびこれを備えた液滴吐出装置
JP2003057666A (ja) 液晶パネルの製造方法、その製造装置および製造システム
JP4398409B2 (ja) 基板製造装置
JP2006142621A (ja) インクジェット塗布装置
JP2004305978A (ja) 吸引キャップのキャップ解除方法、液滴吐出装置、電気光学装置の製造方法、電気光学装置および電子機器
KR20110013917A (ko) 잉크젯 인쇄장치 및 인쇄방법
JP2004321891A (ja) 液滴吐出装置、並びに電気光学装置の製造方法、電気光学装置および電子機器
TW200906628A (en) Method and apparatus for manufacturing color filter
JP2004141796A (ja) 吐出装置、デバイスの製造方法、並びにデバイス
JP2004306546A (ja) ノズル面の吸引清掃方法および吸引清掃装置、並びに液滴吐出装置、電気光学装置の製造方法、電気光学装置および電子機器
JP2002267828A (ja) カラーフィルタ製造装置
KR101726832B1 (ko) 액 공급 유닛 및 이를 가지는 기판처리장치
JP2003275636A (ja) 膜体形成方法および膜体形成装置、並びにこれを用いたレンズの製造方法、カラーフィルタの製造方法、有機el装置の製造方法
JP2005125194A (ja) 洗浄機構および洗浄機構を備えた液滴吐出装置並びに液晶表示装置、エレクトロルミネッセンス表示装置およびプラズマ表示装置
JP2009122163A (ja) インクジェットヘッドユニットの調整装置

Legal Events

Date Code Title Description
MM4A Annulment or lapse of patent due to non-payment of fees