TWI279651B - Exposure device - Google Patents
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Description
1279651 九、發明說明: 【發明所屬之技術領域】 本發明有關於一種將光罩的回路圖案曝光於印刷電路 板的基板上的曝光裝置。 【先前技術】
在曝光裝置中,光源所照射的光經由複眼透鏡(flyeye lens )及複數個面鏡等的光學元件所構成的光學系,將形 成於光罩上的回路圖案,曝光、顯像於塗布光阻(感光性 樹脂)的基板上,以製作印刷電路板。 一般而言,雖然光學元件的表面被鍍上反射防止膜, 該鍍膜在受熱的環境下容易受到弱的環境影響。例如,塗 布於基板的光阻(感光性樹脂)產生化學變化而昇華的揮 發物質附著於曝光裝置所使用的複眼透鏡等。又,特別是 在光源附近的複眼透鏡的表面,光源的熱活化反應的塵埃 由於對流而浮游並容易附著。 具體而言’習知曝光裝置中的複眼透鏡單元包括分別 安裝於金屬框的二片複眼透鏡以及安裝於與該二片複眼透 鏡相向的位置上的基座。該複眼透鏡單元係安裝於曝光裝 置的框體上。即,由於複眼透鏡在框體内部為獨立安裝(約 略向外露出的狀態),因此周圍環境與框體並未隔離。即框 體内部的空氣對流也直接環流於複眼透鏡。塗布於基板上 的光阻被光照射而反應的一部份昇華混入了對流於框體内 部的空氣中,該成分混入係記載於參考文獻(專利文獻i ) 而為公知的事實。 2036-6852-PF 5 ③ 1279651 [專利文獻]日本專利特開平11-202498號公報(段落0033 〜0039,第3圖) 【發明内容】 [發明所欲解決之問題] 然而’若揮發物質附著於複眼透鏡表面變多,其表面 曰變传白濁’複眼透鏡的透光率會降低,因此基板面的透 光率會降低且會導致照度產生不均,最後會有曝光時間會 延長等、曝光條件降低的問題。 特別是複眼透鏡係將光源燈泡發光的光能集中而產生 而能量’因此容易促進相當於3〇〇度前後的反應而變成溫 度。即’在習知技術中,複眼透鏡有揮發物質容易附著的 條件,而導致曝光條件降低的問題。 作為保護複眼透鏡的發明而言,雖然上述參考文獻(專 利文獻1 )具備這樣的條件,但是構造複雜,會有複眼透 鏡的作業性不佳,冷卻媒體價格高的問題。 於此,本發明為解決上述之問題,提供一種曝光裝置, 用簡單的構造來防止感光性樹脂(揮發物質)對複眼透鏡 的表面的污染。 [解決問題的手段] 為解決上述之問題,申請專利範圍第1項之發明為在 具備一具有反射鏡及複眼透鏡的光源室以及一經由區隔板 與該光源室做區隔的曝光室的曝光裝置中,其特徵為包 括·一收納上述複眼透鏡的框體;以及一送風裝置,將冷 卻風送至收納於上述框體内的複眼透鏡。上述框體具有形 2036-6852-PF ^ ⑥ 1279651 成於對應來自上述光源的照射光的上述複眼透鏡的入射光 路及出射光路的位置上形成的開口部、形成於與該開口部 2開口方向正交的位置上的給氣口、以及形成於面向該給 氣口的位置上的排氣口,在上述區隔板上,在對應於上述 …、射光之光路的位置上,設有使上述照射光穿透的透光元 件。 在申請專利範圍第1項的曝光裝置中,藉由設置於區 隔板的透光材料,光源發出的照射光的光路得以確保。又, 區为出曝光室與光源室。而且,與光源的照射光是否入射 出射框體内的複眼透鏡無關,送風裝置的冷卻風經由框體 的給氣口供給於複眼透鏡,並從排氣口排出。而且,由於 給氣口與排氣口係設置於相向的位置上,框體内的送風通 路形成一直線。 申請專利範圍第2項的發明為在申請專利範圍第丨項 所述之曝光裝置中,上述送風裝置將送至上述框體的氣體 從上述曝光室及光源室的外部導入,在到上述給氣口的上 述送風裝置中的送風通路中,設有不純物去除過濾器。 在申請專利範圍第2項的曝光裝置中,由於將曝光室 及光源室的外部氣體送至上述框體中,浮游於光源室的塵 埃做循環而可防止附著於複眼透鏡的表面。 ,由於在到達給氣口的送風通路中設置不純物去除過 滤器’除去包含於氣體中的不純物,而輸送至框體内。而 且,不純物去除過濾器例如HEPA過濾器、Ulpa過滤器以 及化學過濾器等。
2036-6852-PF 7 ⑧ 12.79651 申睛專利範圍第3項的發明為在申請專利範圍第1或 2項所述之曝光裝置中,上述透光元件從上述曝光室側可 裝卸地設於上述區隔板上。 在申睛專利範圍第3項的曝光裝置中,由於透光元件 可裝卸地設於曝光室側的區隔板上,揮發物質附著於該透 光元件的曝光室側的情況下,可將透光元件從空間寬的曝 光室側拆下洗淨或交換。 [發明之效果] 在申请專利範圍第1項的曝光裝置中,可防止感光性 樹脂(揮發物質)附著於複眼透鏡的表面。結果可防止照 度不均、照度降低等的問題,可實施精度佳的曝光之同時, 實施對複眼透鏡最低限度的維護,且顯著地減輕關於維護 的勞力。而且,由於揮發物質僅附著於透光元件,因此僅 實施透光元件的交換或維護,可實施精度佳的曝光。 又,由於不會在框體内形成滯留,可將塵埃排出框體 外而且,由於框體僅在相向的位置上具有給氣口與排氣 口,可採用簡單的構造。 然後,由於將冷卻風送至框體内,不受光源發熱的影 響、,可保持良好的透鏡特性。特別是由於光源的熱所產生 的活化反應’可防止由於對流所造成浮游塵埃附著於複眼 透鏡的表面。而且,由於透光元件僅一片設置於區隔板上, 在光源發出的光的光路上僅需設置必要之最低限度的元 件。 申請專利範圍第 2項的曝光裝置中,可防止浮游於光
2036-6852-PF Q 1279651 源室的塵埃附著於複眼透鏡的表面。結果可防止照度不 均、照度降低等而實施精度佳的曝光。 在申請專利範圍第3項的曝光裝置中,由於透光元件 係可從曝光室側任意地裝卸,可從空間區域寬的曝光室側 進行透光元件的交換等的作業,容易安裝透光元件。 【實施方式】 接著,針對本發明之實施型態,參照適宜的圖式做詳 :田的說明。第1圖為本實施型態之曝光裝置的全體構造的 平面圖。第2圖為第w之曝光裝置沿a_a線的剖視圖。 又第3圖為從曝光室側觀之的光源室的部分刮視圖。 如第1圖所示’曝光裝置1在腔體5内包括光源室2、 將照射光對基板做曝光的處理室的曝光室3以及配置於從 光源21到曝光室3的照射光路中的光學系(面鏡η等, 參照^ 2圖)。調溫單元51 (送風裝置)經由安裝於上部 的導g 52安裝於腔體5巾。藉由該調溫單元,由於將 冷卻風供給至腔體5内並排出,在可確保腔體5内-定送 風通路之同時,可使腔體5内保持於-定的溫度。在該送 風通路中,由於吹過後述之面鏡44的表面,可防止揮發物 質附著於面鏡44的表面。 而且,該調溫單元51從光源室2及曝光室3將送風 的氣體導入。 如第1圖所示,曝光室3包括曝光於工件W (基板) 表面的表面曝光室31、曝光於工件裡面的裡面曝光室μ 以及设置於表面曝光室31及裡面曝光室33的工件反轉部 2036-6852-PF g ⑧ 1279651 32。工件w首先搬入表面曝光室3卜實施表面曝光後,由 工件反轉部32反轉,再搬入裡面曝光室33實施裡面曝光, 然後製作成印刷電路板。而且,由於表面曝光室31及裡面 曝光室33為相同的構成樣態,以下針對表面曝光室3丨(以 下僅以曝光室3稱之)的構造做說明。 如第2圖所示,表面曝光室31在内部包括供整合作業 的可移動的工件W的載置台34、面向該載置台34而支持 光罩Μ的光罩框架35、經由支持於該光罩框架35的光罩 Μ將光源的光反射成為平行光照射於工件w上的面鏡 以及將光源室2側送來的光反射至該面鏡44的面鏡43。 接著,在表面曝光室31的背面側(圖面左側),設置 有光源室2,光源室2具有對工件w曝光的照射光源21 及後述的一對複眼透鏡42。而且,如第3圖所示,表面曝 光室31與光源室2經由分隔板分隔出各室。 如第2圖所示,配置於光源室2的光源21為例如藉由 電弧放電的水銀燈’在從該光源2 1到上述之表面曝光室 3 1的工件W的照射光路中,配設有遮板22、面鏡41、複 眼透鏡42以及複數個面鏡(反射鏡)所構成的光學系。光 學糸於此包括將來自光源的光做反射的面鏡41 (反射鏡)、 將來自面鏡41的光做聚光而具有二次光源的一對複眼透 鏡42以及調整來自複眼透鏡42的光的角度而反射的上述 之面鏡43、44。然後,在面鏡41與複眼透鏡42之間設有 遮板22。光源21係經常點亮,由控制遮板22的開閉來控 制照射光的照射,容易進行曝光作業。而且,在該光學系 2036-6852-PF 10 ⑧ ^79651 、,風面鏡41及複眼透鏡42係配置於光源室2内,其他的 光予疋件面鏡如43、44等係配置於表面曝光室31内。光 、 '原21所發出的光經由光學系傳遞,平均地照射在形成回路 圖案的光罩M上,並將回路圖案曝光於工件貨上。而且, 在曝光室3的内部,由於曝光作業的熱,從塗佈在工件W 上的光阻等的揮發物質會浮游是已知的。 、、第4圖為光源室内部構造的部分剖視立體圖。第$圖 φ 為光源室側面的剖視圖。 第4圖所示,光學系中,複眼透鏡42係收納於固定 在刀隔板6的框體7 μ。框體7為長方形的箱冑,在對應 ' ;射光之複眼透鏡42的入射光路及出射光路上,形成開 表 ^ 72 (參照弟2圖)。藉此,可轉保通過框體7内 的照射光的光路。 又,如第5圖所示,在框體7中具有形成於與開口部 71 72 (參照第2圖)的開口方向正交位置上的給氣口 73 φ 以及形成於面向該給氣口 73的位置上的排氣口 74。為了 可將來自上述调溫單元5丨的冷卻風做送風,給氣用導管 連…於6氣口 73上。調溫單元5 i經由給氣用導管53 將冷卻風輸it至框冑7内,可對框冑7内的複眼透鏡42的 ^表面做直接冷卻。在該框體7中,由於給氣口 73與排氣口 • 74相向配置’框體7内的送風通路形成—直線,在内部不 會形成滯留。又,到給氣口 73的送風通路中(於此,給氣 口 73),設有例如HEPA過濾器等的不純物去除過濾器。藉 此,在框體7内,由於送入去除不純物的冷卻風,清淨的
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冷部風吹過複眼透鏡42。而且,由於在插體 複眼透鏡42送風,由該框體7的内壁面導引,可在不^ 先源21的熱的情況下經常性地供給1量的冷卻風。S
又,如第2圖至第4圖所示’在分隔板…對應於 曝先室3側照射光之光路的位置上,換言之,與框體7之 開口部相對的部分上,設有例如石英玻璃等的透光元件 6卜透光元件61經由設於分隔板6上的安裝框62,可装 卸地女裝著。藉此,複眼透鏡42經由透光元件Η與表面 曝光室31隔離(參照第2、3圖)。因此,在表面曝光室 31產生的揮發物質不會侵入光源室2侧,可防止其附著於 複眼透鏡42的表面。而且,在該透光元件61上,藉由吹 送氮氣使透光元件61不會暴露在浮游的揮發物質亦可。 針對上述構造的曝光裝置1的作用做說明。 光裝置1將來自光源21由面鏡41反射的照射光,藉 由開啟遮板22,經由複眼透鏡42、透光元件61、面鏡43、 44,照射至光罩Μ上,並將形成於光罩訄的回路圖案曝光 至工件W上。此時,藉由曝光作業,塗佈於工件w上的光 阻等產生揮發性物質。 又,在曝光裝置1中,在框體7内,來自調溫單元51 的冷卻風經由給氣口 73送入,吹過複眼透鏡42的表面, 並從排氣口 74排出。 如上所述,在本實施型態之曝光裝置1中可得到以下 的效果。 複眼透鏡42係配置於曝光室3以及用分隔板6分隔的 2036-6852-PF 12 ⑧ 1279651 光源室2中’在分隔板6上,由於透光元件今番 °又罝於照射 光的光路上,曝光室3的感光樹脂產生的揮發物質不會入 侵光源室2,可防止揮發物質附著於複眼透鏡42上。印 又,複眼透鏡42係收納於框體7中,調溫單元$ 1、 冷卻風送至框體7内的複眼透鏡42。由於框體7 、 j、、、口氣口
73與排氣口 74係設置於相向的位置上,框體7的送風通 路係形成-直線。因此,在框體7内不會形成滯留,防止 揮發物質附著於複眼透鏡42的表面之同時,由於框體7具 有設置於相向的位置上的給氣口 73與排氣口 74,用簡單 的構造可防止揮發物質的附著。而且,給氣口 73及排 74與開口部71、72的開口方向呈正交,連接於給氣口乃 與排氣口 74的給氣用導管53與排氣用導管54不會妨礙照 射光路,即使如此也可達成簡易的構造。 … 而且’由於複眼透鏡42的表面經常吹過冷卻風,複眼 透鏡42的溫度亦可保持於適當的溫度。 後’由於吹送冷卻風’不受光源21發熱的影響,可保 持良好的複眼透鏡42的透鏡特性。特別是,可防止光源的 熱活化的反應且因對流而滚、、法&曲^ 句,于游的塵埃附著於複眼透鏡42 的表面。而且,僅設置一片请止 片透先το件61於分隔板6上,在 光源發出的光的光路上僅需今w早 而σ又置竑小限度的透光元件,可 得到相當好的樣態。 内 鏡 由於曝光室3及光源室2外部的空氣被供給至框體7 浮游於光源至2中的塵埃會循環而不會附著於複眼透 42的表面。又’在棍體7的給氣口 73上,由於設有不 2036-6852-PF 13 ⑧ .1279651 純物去除過濾器73a,可經常將清淨的冷卻風吹送至框體7 内。 又,隔離光源室2與曝光室3的透光元件61由於為可 裝卸地設置,揮發物質附著於該透光元件61的曝光室3側 的情況下,可將透光元件61拆下洗淨或更換。 以上,雖然針對本發明之實施型態做說明,但本發明 並不限定於上述之實施型態。 在本實施型態中,雖然針對兩面曝光裝置做說明,當 然單面曝光裝置,機械地進行工件之搬入、整合、曝光、 搬出的自動曝光裝置,作業員進行工件的搬入、搬出的半 自動曝光裝置,以及工件相對於投影面在垂直方向做處理 的縱向曝光裝置亦可,並不限定曝光裝置的型態。 【圖式簡單說明】 第1圖為本實施型態之曝光裝置的全體構造的平面 圖 〇 第圖為第1圖之曝光裝置沿A_A線的剖視圖。 第3圖為從曝光室側觀之的光源室的部分剔視圖。 第4圖為光源室内都★接 ^ 門丨構造的部分剖視立體圖。 第5圖為光源室侧面的剖視圖。 【主要元件符號說明】 1〜曝光裝置; 2〜光源室; 3〜曝光室; 5〜腔體; 2036>6852~pp ⑧ 14 1279651 6〜分隔板; 7〜框體; 2 1〜光源; 2 2〜遮板; 31〜表面曝光室; 32〜工件反轉部; 3 3〜裡面曝光室; 34〜載置台;
35〜光罩框架; 41〜面鏡(反射鏡); 42〜複眼透鏡; 43、44〜面鏡; 51〜調溫單元(送風裝置); 52〜導管; 53〜給氣用導管; 54〜排氣用導管;
61〜透光元件; 62〜安裝框; 71、72〜開口部; 7 3〜給氣口; 73a〜不純物去除過濾器; 7 4〜排氣口; Μ〜光罩; W〜工件0 2036-6852-PF 15 ⑧
Claims (1)
- 修正日期:95·12·28 12 7 %04288號甲請專利範圍修正本 十、申請專利範圍: :;· 年月R修(更)正本 1 · 一種曝光裝置,具備一具有反射鏡及複眼透鏡的光 - 源室,以及一經由區隔板與該光源室做區隔的曝光室,包 . 括: 一收納上述複眼透鏡的框體;以及 一送風裝置,將冷卻風送至收納於上述框體内的複眼 透鏡; 上述框體具有形成於對應來自上述光源的照射光的上 述複眼透鏡的入射光路及出射光路的位置上形成的開口 -部、形成於與該開口部的開口方向正交的位置上的給氣 口、以及形成於面向該給氣口的位置上的排氣口,在上述 區隔板上,在對應於上述照射光之光路的位置上,設有使 上述照射光穿透的透光元件。 2. 如申請專利範圍第丨項所述之曝光裝置,其中上述 送風裝置將送至上述框體的氣體從上述曝光室及光源室的 外部導入,在到上述給氣口的上述送風裝置中的送風通路 ^ 中,設有不純物去除過濾器。 3. 如申請專利範圍第1或2項所述之曝光裝置,其中 上述透光元件從上述曝光室側可裝卸地設於上述區隔板 , 上0 2036-6852-PF1 16
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