JP2008526004A - 少なくとも1つの交換可能な光学素子を備えるレンズモジュール - Google Patents
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Abstract
Description
しかしながら、交換可能な光学素子を着脱し、外部からガスの導入が発生した結果、レンズモジュール内が確実に汚染を免れることができなくなる虞がある。この導入ガスにより、投影露光装置のレンズモジュールにおける光学素子が、(光)化学作用によって汚染されるという結果がもたらされ得る。さらに、レンズモジュールの洗浄ガスの屈折率とは異なる屈折率を導入ガスが有している場合、導入ガスによって、光学特性が損なわれる可能性がある。
層流ガス流には、乱流の発生を回避することで、光学素子の交換中にレンズモジュール内に拡散し得る汚染物をレンズモジュールの内部から効果的に除去、もしくは効果的に遠ざける効果がある。
本発明の有利な改良及び開発は、残りの従属請求項によって提供される。本発明の例示的な実施形態は、以下に、図面に基づいてより詳細に説明されている。
特に好ましい実施形態では、この追加的なガス流は、受入領域10’に導入され、レンズハウジング12内の押込口14の動力作動と同時に切り替わる、もしくは動力作動に関連して、一時的に切り替わる。その結果、受入領域10’は、交換動作中に、交換開口の方向に連続的に洗浄される。ガス流は、交換中にのみ必要であるため、ガス流は、通常、レンズハウジング12を洗浄するために使用される複数のガス流となり得る。本実施形態では、光学素子の交換後、具体的には、押込口14の閉鎖後、5分以内、好ましくは30秒以内に、レンズハウジング内の作動正圧が95%、好ましくは99%に到達するのであれば効果的である。
ここで、汚染物が水であり、洗浄ガスが窒素である場合に好ましいのは、ギャップ長と流速との組み合わせが、汚染抑制=ガス空間55aにおけるガス濃度/受入領域10’におけるガス濃度を、10より大きくする、好ましくは1000より大きくすることである。
Claims (34)
- レンズハウジング内に交換可能に配置された少なくとも1つの光学素子を備えるレンズモジュール、具体的には、半導体リソグラフのための投影レンズであって、
前記交換可能な光学素子(9,32,35,37)の交換中に、該交換可能な光学素子(9,32,35,37)の受入領域を洗浄可能に、少なくとも1つのガス交換装置(15)が、該交換可能な光学素子(9,32,35,37)の領域に配置されている
ことを特徴とするレンズモジュール。 - 請求項1に記載のレンズモジュールであって、
前記少なくとも1つのガス交換装置(15)は、前記レンズハウジング(12)のハウジングマウント(11)内に配置されている
ことを特徴とするレンズモジュール。 - 請求項1または請求項2に記載のレンズモジュールであって、
前記少なくとも1つのガス交換装置(15)は、層流ガス流を得られるようにガス取込装置として構成されている
ことを特徴とするレンズモジュール。 - 請求項2または請求項3に記載のレンズモジュールであって、
前記少なくとも1つのガス交換装置(15)は、前記交換可能な光学素子(9)のための押込口の反対側に位置する前記ハウジングマウント(11)の領域に配置されている
ことを特徴とするレンズモジュール。 - 請求項4に記載のレンズモジュールであって、
前記押込口(14)の反対側の前記レンズハウジング(12)側に、さらなるガス取込装置(44)が配置されている
ことを特徴とするレンズモジュール。 - 請求項4または請求項5に記載のレンズモジュールであって、
前記レンズハウジング(12)内の前記押込口側に、さらなるガス取込装置(46)が配置されている
ことを特徴とするレンズモジュール。 - 請求項4乃至請求項6のいずれかに記載のレンズモジュールであって、
前記ハウジングマウント(11)内に、ガス取込路(16)に接続された、少なくとも1つの横孔(22)が設けられている
ことを特徴とするレンズモジュール。 - 請求項7に記載のレンズモジュールであって、
ガス取込装置(15)として構成された前記少なくとも1つのガス交換装置は、少なくとも1つの格子(18)を有する格子装置(17)を備え、
該格子装置(17)は、前記横孔(22)の端部であって、前記受入領域(10’)の排出口の前方に配置されている
ことを特徴とするレンズモジュール。 - 請求項8に記載のレンズモジュールであって、
前記格子装置(17)は、少なくとも2つの格子(18)を備え、層流ガス流を発生する
ことを特徴とするレンズモジュール。 - 請求項7に記載のレンズモジュールであって、
ガス取込装置(15)として構成された前記少なくとも1つのガス交換装置は、少なくとも1つの板(20’)に複数の孔(21)を設けられた孔装置(20)を備え、
該孔装置(20)は、前記横孔(22)の端部であって、前記受入領域(10’)の排出口の前方に配置されている
ことを特徴とするレンズモジュール。 - 請求項10に記載のレンズモジュールであって、
前記孔装置(20)は、複数の孔(21)を有し、一方が他方の後方に配置された少なくとも2つの板(20’)を備え、層流ガス流を発生する
ことを特徴とするレンズモジュール。 - 請求項9または請求項11に記載のレンズモジュールであって、
一方が他方の後方に配置された、複数の前記格子(18)もしくは前記複数の孔(21)は、互いに対してずれている
ことを特徴とするレンズモジュール。 - 請求項1に記載のレンズモジュールであって、
前記交換可能な光学素子(9)は、瞳孔面に配置されている
ことを特徴とするレンズモジュール。 - 請求項2または請求項3に記載のレンズモジュールであって、
少なくとも1つのガス排出装置(43)が、前記交換可能な光学素子(9)のための押込口の反対側に位置する前記レンズハウジング(12)の領域に配置されている
ことを特徴とするレンズモジュール。 - レンズハウジング内に交換可能に配置された少なくとも1つの光学素子を備えるレンズモジュール、具体的には、半導体リソグラフのための投影レンズであって、
前記少なくとも1つの光学素子(9)を保持するためのガス堰(47)を有し、
該ガス堰(47)は、押込口(14)を通じて前記レンズハウジング(12)の内部空間と接続している
ことを特徴とするレンズモジュール。 - 請求項15に記載のレンズモジュールであって、
前記ガス堰(47)は、少なくとも1つのガス取込装置(48)を備えている
ことを特徴とするレンズモジュール。 - 請求項15に記載のレンズモジュールであって、
前記ガス堰(47)は、少なくとも1つのガス排出装置(49)を備えている
ことを特徴とするレンズモジュール。 - 請求項15に記載のレンズモジュールであって、
前記レンズハウジング(12)の前記内部空間に対する負圧、及び周囲に対する正圧が前記ガス堰(47)内に作用している
ことを特徴とするレンズモジュール。 - 請求項1に記載のレンズモジュールであって、
少なくとも1つのガス取込装置(50)には、制御装置(54)によって作動可能なバルブ(51)が設けられている
ことを特徴とするレンズモジュール。 - 請求項19に記載のレンズモジュールであって、
前記制御装置(54)は、前記レンズハウジング(12)の前記内部空間における圧力を測定するための圧力センサ(52)と接続されている
ことを特徴とするレンズモジュール。 - 請求項19に記載のレンズモジュールであって、
前記制御装置(54)は、押込口(14)に接続されている
ことを特徴とするレンズモジュール。 - レンズハウジング内に交換可能に配置された少なくとも1つの光学素子を備えるレンズモジュール、具体的には、半導体リソグラフのための投影レンズであって、
前記レンズハウジング(12)は、前記交換可能な光学素子の領域が、少なくとも1つのガスシール(56a,b)を介して、前記レンズハウジング(12)における残りの内部空間に接続されている
ことを特徴とするレンズモジュール。 - 請求項22に記載のレンズモジュールであって、
汚染物として水、洗浄ガスとして窒素を有し、
ギャップ長と流速との組み合わせは、汚染抑制が10より大きくなるように、好ましくは1000より大きくなるように選定されている
ことを特徴とするレンズモジュール。 - レンズハウジング内に配置された交換可能な光学素子、具体的には、半導体リソグラフにおける投影レンズのための交換可能な光学素子の受入領域を洗浄する方法であって、
前記受入領域(10’)は、前記交換可能な光学素子(9,32,35,37)の交換中にガスで洗浄される
ことを特徴とする方法。 - 請求項24に記載の方法であって、
前記交換可能な光学素子(9)の前記受入領域(10’)は、層流ガス流で洗浄される
ことを特徴とする方法。 - 請求項24または請求項25に記載の方法であって、
少なくとも1つのガス取込装置(15)から流入するガス流が、前記交換可能な光学素子(9)のための押込口(14)の反対側に位置する領域から前記受入領域(10’)に流入するように、前記受入領域(10’)の洗浄を行う
ことを特徴とする方法。 - 請求項24乃至請求項26のいずれかに記載の方法であって、
前記ガス流は、前記交換可能な光学素子(9)の光軸(24)に対して垂直に流れる
ことを特徴とする方法。 - 請求項24に記載の方法であって、
前記交換可能な光学素子(9)を交換するための押込口(14)を通過するガス流は、前記交換可能な光学素子(9)の交換に一時的に相関して増加する
ことを特徴とする方法。 - 請求項28に記載の方法であって、
前記押込口(14)を通過する前記ガス流の増加は、さらなるガス取込装置を作動させることで達成される
ことを特徴とする方法。 - 請求項28に記載の方法であって、
前記押込口(14)を通過する前記ガス流の増加は、既に使用されているガス取込装置を介して導入されたガスの増加によって達成される
ことを特徴とする方法。 - 請求項28に記載の方法であって、
前記押込口(14)を通過する前記ガス流の増加は、ガス排出装置を通過するガス流を減小させることで達成される
ことを特徴とする方法。 - 請求項28に記載の方法であって、
前記ガス流の増加は、前記交換可能な光学素子(9)の交換中に、前記レンズハウジング(12)の内部空間における圧力を低下させることで開始される
ことを特徴とする方法。 - 請求項28に記載の方法であって、
前記ガス流は、前記交換可能な光学素子(9)の交換中における、押込口(14)の開放状態によって影響される
ことを特徴とする方法。 - 請求項28に記載の方法であって、
前記交換可能な光学素子(9)の交換後、5分以内、好ましくは30秒以内に、前記レンズハウジング(12)内の作動正圧が、95%、好ましくは99%に到達する
ことを特徴とする方法。
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