TWI327681B - - Google Patents

Description

1327681 • * · 九、發明說明： 【發明所屬之技術領域】 本發明有關於一種經由光罩使基板曝光的曝光裝置， 特別是有關於一種具有防止光學性能降低的曝光裝置。 【先前技術】 一般而言’形成電子電路的印刷電路板等的基板，伴 隨使用該基板的電子機器的多功能化及高速化，被要求多 廣化及而密度化。於此，為了滿足這樣的要求，使設於基 φ 板表面的感光樹脂層曝光的曝光裝置，從利用散亂光線的 曝光裝置改良至利用平行光的曝光裝置。利用上述平行光 的曝光裝置具有光學系，此光學系包括將燈泡照射的光反 . 射的平面鏡、配置於該平面鏡所反射的光的光路上的複眼 透鏡、以及將通過該複眼透鏡的光形成平面光而照射至工 件的凹面鏡（例如參照專利文獻1)。而且，該等光學系的 表面係鍍上一層反射膜以提高性能。 [專利文獻]特開2001-296666號公報（段落〇〇11〜0012，

【發明内容】 [發明所欲解決的問題] J而鑛在上述光學系表面的反射膜，由於耐熱性差， 若在高溫高濕度下使用’會劣化而形成漂浮的浮遊物附著 於曝光裝置中H浮游物所附著的反射膜其反射率會 降低。 又-又於基板表面的感光性樹脂層，在曝光時產生化

2036-6830-PF 5 1327681 學變化而揮發出二氧切及料wane)等的揮發性 物質。該等揮發性物質附著於上述 的反射率降低。該光學系的反射率降低以配置於 的載置台上的凹面鏡為顯著。 於此，本發明之目的在於提供一種形成精密化及細線 化的電子電路的曝光裝置，以解決從感光性樹脂層揮發的

揮發物質附著於凹面鏡而導致反射率降低的問題，以及在 尚溫高濕度下使用的劣化的問題。 [解決課題之手段] 為了解決上述的問題’申請專利範圍第1項所述的曝 光裝置，在框财設有··—錢，㈣包纽定波長的光； -平面鏡及凹面鏡’將該光源的光線沿既定之光路反射； =眼透鏡，設置於上述光路中；一光罩框架，支持設於 上述凹面鏡下方的光罩；一載置台，載置一基板，而面向 該光罩框架的光罩。其特徵為包括：一送風口’沿著設於 上述框體内的上述凹面 „ ^ 鏡的凹面达風；-空氣淨化過濾 二：！上述送風的通路上；以及一排氣孔，設於設置上 4載置σ的地面上，外莫μ nn — 〜著上述凹面鏡的凹面將送風的空 排出。 :如此構造的曝光裝置中，來自送風口通過空氣淨化 二:的清：空氣沿著凹面鏡流過。此空氣將感光性樹脂 :A氧.化石夕及石夕氧烧等的揮發性物質及曝光 Γ的塵埃等浮游物，從設置载置台的地面上的排氣孔排

2036-6830-PF 6 1327681 在申請專利範圍第2項所述的曝光裝置中，上述送風 口係連接於配置於上述框體外部的空調裝置。 在此種構造的曝光裝置中，來自送風口控制溫度旬县 度用的空氣沿著凹面鏡的凹面流過。此控制溫度與濕度用、 的空軋使凹面鏡附近的溫度與濕度保持一定，可防止凹面 鏡表面所㈣反射膜被感光性樹脂層揮發出二氧化石夕及石夕 氧：等的揮發性物質及曝光裝置内漂浮的塵埃等浮游物所 附著。

申請專利範圍f 3項所述的曝光裝置更包括一導風 板，經由上述之凹面鏡，在與上述送風口相向的壁面上， 將沿上述之凹面鏡的凹面送風的空氣導入上述之排氣孔。 在此構造的曝光裝置中，由於具有導風板，來自送風 口沿凹面鏡的凹面傳送的空氣可㈣地導人排氣孔中。 在本發明的曝光裝置中，以簡單的構造可防止凹面鏡 反射率降低以讀在凹®鏡表面的反㈣劣化1此可維 持凹面鏡的性能，可形成精密化及細線化的電子回路的基 板。又，由於減輕對凹面鏡的維護，曝光裝置的連續作業 時間可延長。 【實施方式】 接著，在本發明之實施型態中，參照適當圖式做詳細 的说明。第1圖為本發明之曝光裝置的立體透視圖。第2 圖為表示本發明之空氣流動的剖視圖。 如第1圖所示’曝光裝置1在框體5内包括光源1〇、 光學系20、載置台30、送風口 4〇以及排氣孔6〇。該框體

2036-6830-PF 7 1327681 ' 5分隔成光源室3及曝光室4。而且，該曝光裝置1在框體 5的外部具有供給空氣至送風口 4〇的空調裝置而且， 該曝光裝置1亦可在框體5内具備導風板50。 光源10由例如水銀投射電弧燈丨丨與集光面鏡12構 成。水銀投射電弧燈11照射出包含紫外線的光，在曝光作 業中係經常點亮。集光面鏡12將上述水銀投射電弧燈工ι 的光反射，而向後述之第一平面鏡21側集光。 光學系20由第一平面鏡21、複眼透鏡22、第二平面 鏡23以及凹面鏡24所構成，並分別設置於預設的光路上。 第平面鏡21為板狀鏡，例如冷鏡（c〇id mirror )。為了 將來自光源ίο的光反射至既定的方向，該第一平面鏡21 . 配置於光源10的正上方。 複眼透鏡（flw lens) 22係由複數個凸透鏡縱橫地 排列而形成’將第一平面鏡21所反射的光以相同的照度分 佈照射於第二平面鏡23上’並配置於第一平面鏡21與第 二平面鏡23之間的光路中。在複眼透鏡22的第一平面鏡 9 21側，配置控制照射工件（基板）的遮板（shutter) 25， 使第一平面鏡21反射的光被遮斷。 凹面鏡24的表面形狀為拋物線曲面，使來自第二平面 鏡23的反射光成為平行光而反射至光罩M，例如準直鏡 (collimation mirror)。該凹面鏡24為了使第二平面鏡23 反射的光成為平行光而照射至後述之光罩M，在與光罩M 相向的狀態下，配置於後述載置台30的正上方。在上述光 學系20中，第一平面鏡21與複眼透鏡22係配置於光源室 2036-6830-PF 8 丄 中又，第二平面鏡23 中 與凹面鏡24係配置於曝光室4 上η載置Γ30具有使工件w整合移動的功能，在載置面 σ ;平行方向移動、繞垂直軸轉動，同時為了使工件W 抵接於光罩]Vr + + _ " 了垂直方向移動。在載置台30的正上方 _ 光罩忙架31 ’用於支持形成所欲之回路圖案的光罩 Μ。 ,調裝置2為了供給控制溫度與濕度的空氣至後述之 送風口 40，空調裝置2與送風口 40連接於導管41。 為了將在空調裝置2做過溫度及濕度控制的空氣沿凹 面鏡24的凹面做送風，送風口 4〇係設置於凹面鏡μ附 近。在該送風的路徑上，為了沿凹面鏡2的凹面供給清淨 的空氣，設有空氣淨化過濾器42。該空氣淨化過濾器42 取好是吸附塵埃等的浮游物而將其去除的紙質過濾器，將 微粒子或二氧化矽及矽氧烷（sil〇xane )等的揮發性物質除 去的HEPA過濾器或是中性能過濾器。該空氣淨化過濾器 42係設置於送風口 4〇的開口面。又，送風口 4〇不與從第 二平面鏡23向凹面鏡24反射的光的光路重疊，可設置於 凹面鏡24的附近並具有既定的角度。 導風板50為曲面狀’為了使送風口 40送風而通過凹 面鏡24的凹面的空氣可從後述之排氣孔60排至曝光室4 外，設置於凹面鏡24的下方經由凹面鏡24與送風口 4〇相 向，即設於位於下風處的曝光室4的壁面上。而且，如第 1圖所示’除了將導風板50安裝於曝光室4的壁面之外， 2036-6830-PF 9 為了使空氣順利地通過，將曝光室4的壁面形成曲面狀亦 可（參照第3 ( a)圖、第3 ( b)圖）。 為了使以導風板50導入設有載置台30的地面的空氣 排出曝光室4外，於設置載置台30的地面上設有複數個排 氣孔60。而且，除了在本實施例中設置於設有載置台3〇 的地面上的複數個排氣孔6〇之外，設置載置台30的地面 形成網狀亦可。 上述各構成要素係設置於分隔成光源室3與曝光室4 的框體5内。光源室3為密閉的箱形空間。曝光室4具有 設置於地面的排氣孔60，而且為一箱形的空間在側面並具 有將工件W搬出及搬入的未圖示的工件w搬出入口。而 且’排氣孔60的開口面積比工件w搬出入口大。因此從 送風口 40供給至曝光室4内的空氣以第2圖所示的箭號的 方向流動。 在以上構造的曝光裝置1中，以空調裝置2做溫度與 濕度控制的空氣從空調裝置通過導管41，從送風口 4〇通 過空氣淨化過濾器42，而送至曝光室4中（參照第2圖）。 此空氣係沿凹面鏡24的凹面流過，並以下風位置的導風板 50導引至設有排氣孔60的地面，並從排氣孔6〇排出至曝 光室4外。而且，送風口 4〇的送風速度以在曝光室4中不 產生亂流為準，例如在送風口 4〇為15m/sec，通過導風板 5〇時為1.2m/Sec〇又風速等的控制以未圖示之控制閥實 細·。而且，向曝光室4内的送風係於曝光裝置的作業中時 常進行。

2036-6830-PF 10 由於空氣如筮。 _ 一# 圖所不地流動，感光性樹脂層揮發出 二：：矽氧烷等的揮發性物質及曝光室4内漂浮的塵 士叙子/Τ ’被空氣推動從凹面鏡24的凹面沿導風板5〇 :動，從設置裁置台30的地面的排氣孔6〇排出至曝光室 _ ^可防止感光性樹脂層揮發出二氧化石夕及石夕 Μ等的揮發性物質及曝光室4内漂浮的塵埃等浮游物附 者於凹面鏡24的凹面上。 而且，由於在空氣的通路上具有空氣淨化過濾器42， 從送風口 40將通過空氣淨化過滤器42的清淨空氣沿“ 面鏡42的凹面送風，可有效地防止塵埃等浮游物附著於凹 面鏡42的凹面上。而且，將溫度及濕度由空調裝置2所控 制的空氣供給於曝光室4内’在曝光室，特別是凹面 鏡4周圍的溫度及濕度保持一定，可防止鑛於凹面鏡24表 面的反射膜的劣化。於此，空調裝置2供給溫度控制於U 〜23°C ’而濕度控制於55〜60%的空氣。 甚至，由於设置導風板50，可防止通過凹面鏡24的 凹面的空氣與曝光室4的壁面衝突而產生亂流。又’可防 止在曝光室4内空氣累積。如此，由於空氣平滑地流動， 揮發性物質可有效地從曝光室4内排出之同時，曝光室4 内的溫度與濕度可有效地保持。 2036-6830-PF 11 1327681 【圖式簡單說明】 第1圖為本發明之曝光裝置的立體透視圖。 第2圖為表示本發明之空氣流動的剖視圖。 第3 (a)圖為導風板設於曝光室壁面的實施型態的立 體圖。 第3 ( b)圖為第3a圖的剖視圖。 【主要元件符號說明】

1〜 -曝光裝置 9 2〜 •空調裝置 9 3〜 •光源室； 4 曝光室； 5〜 框體； 10' 〜光源； 11， 〜水銀投射 電弧燈 12' 〜集光面鏡 > 20〜光學系； 21〜第一平面 鏡， 22〜複眼透鏡 J 23- -第二平面 鏡， 24- '-凹面鏡； 25- ^遮板； 30- -載置台； 31〜光罩框架 f 40- -送風口 ； 2036-6830-PF 12 1327681 -f « ' 4 1〜導管； 42〜空氣淨化過濾器； • 5 0〜導風板； 60〜排氣孔； Μ〜光罩； W<、1工件0 t 13

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Claims (1)

1327681 場 4 第941036〇ι號中文申請專利範圍修正本 h 〇 • 修正曰期：99.2 · 22 十、申請專利範圍： 1. 一種曝光裝置，在曝光室中設有： 一光源’照射包含既定波長的光； 年ίν月V%修正本 一平面鏡及凹面鏡 射； 將該光源的光線沿既定之光路反

一複眼透鏡，設置於上述光路中； -凹面鏡’將來自上述光源的光沿著預設的光路反射; -光罩框架，支持設於上述凹面鏡下方的光罩； 一載置台’載置一基板，而止 吨面向該光罩框架的光罩； 其特徵為包括： 一送風口，設於上述曝光室内的上述 並沿著上述凹面鏡的凹面送風； 一空氣淨化過濾器，設於從上述送風 的上述送風的通路上； 凹面鏡的附近， 口至上述凹面鏡 排氣孔，設於設置上述載置台的地面上，沿著

凹面鏡的凹面將送風的空氣排出；以及 -導風板’在與上述送風口相向的上述曝光室内的壁 =形成曲㈣’使得沿著上述凹面鏡的凹面至上述排氣 孔的通路上進行送風的空氣被導入上述排氣孔。 …2·如中請專利範圍第1項所述之曝光I置’其中上述 运風口係連接於配置於上述曝光室外部的空調裝置。 2036-6830-PF1 14 IS 3