TW200540576A - Exposure device - Google Patents

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Masahiko Ise
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  • Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
  • Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)

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200540576 九、發明說明: 【發明所屬之技術領域】 本發明有關於一種經由光罩使基板曝光的曝光裝置, 特別是有關於一種具有防止光學性能降低的曝光裝置。 【先前技術】 一般而言,形成電子電路的印刷電路板等的基板,伴 隨使用該基板的電子機器的多功能化及高速化,被要求多 層化及高密度化。於此,為了滿足這樣的要求,使設於基 板表面的感光樹脂層曝光的曝光裝置,從利用散亂光線的 曝光裝置改良至利用平行光的曝光裝置。利用上述平行光 的曝光裝置具有光學系,此光學系包括將燈泡照射的光反 射的平面鏡、配置於該平面鏡所反射的光的光路上的複眼 透鏡、以及將通過該複眼透鏡的光形成平面光而照射至工 件的凹面鏡(例如參照專利文獻丨)。而且,該等光學系的 表面係錢上一層反射膜以提高性能。 [專利文獻]特開2001-296666號公報(段落〇〇11〜〇〇12, 第1圖)。 【發明内容】 [發明所欲解決的問題] 然而,鍍在上述光學系表面的反射膜,由於耐熱性差, 若在高溫高濕度下使用,會劣化而形成漂浮的浮遊物附著 於曝光裝置中。然後,浮游物所附著的反射膜其反射率會 降低。 曰 又’ δ又於基板表面的感光性樹脂層,在曝光時產生化 2036-6830-PF 5 200540576 學變化而揮發出二氧各 物質。該等揮發性物質: = (Sl1™)等的揮發性 的反射率降低。該光學^ 光學系中’使光學系 系的反射率降低以配置於载置基板 的載置口上的凹面鏡為顯著。 於此,本發明之日 的在於提供一種形成精密化及細線 化的電子電路的曝光步 ^ 九袁置,以解決從感光性樹脂層揮發的 $貝附耆於凹面鏡而導致反射率降低的問題,以及在 高溫高濕度下使用的劣化的問題。 [解決課題之手段] —為了解決上述的問題,申請專利範圍第i項所述的曝 光裝置,在框體中設有:—光源,照射包含既定波長的光; 一:面鏡及凹面鏡,將該光源的光線沿既定之祕反射; 硬眼透鏡,設置於上述光路中;一光罩框架,支持設於 上述凹面鏡下方的光罩;一载置台’載置一基板,而面向 該光罩框架的光罩。其特徵為包括:-送風口,沿著設於 士述框體内的上述凹面鏡的凹面送風;一空氣淨化過濾 器’、設於上述送風的通路上;以及一排氣孔,設於設置上 述載置。的地面上,沿著上述凹面鏡的凹面將送風的空 排出。 在如此構造的曝光裝置中,來自送風口通過空氣淨化 過遽器的清淨空氣沿著凹面鏡流過。&空氣將感光性樹脂 層揮發出二氧,化矽及矽氧烷等的揮發性物質及曝光裝置内 你浮的塵埃等浮游物,從設置載置台的地面上的排氣孔排 出0
2036-6830-PF 6 200540576 在申請專利範圍第2項所述的曝光裝置中,上述送風 口係連接於配置於上述框體外部的空調裝置。 在此種構造的曝光裝置中,來自送風口控制溫度與濕 度用的空氣沿著凹面鏡的凹面流過。此控制溫度與濕度用 的空氣使凹面鏡附近的溫度與濕度保持一定,可防止凹面 鏡表面所鍍的反射膜被感光性樹脂層揮發出二氧化矽及矽 氧烷等的揮發性物質及曝光裝置内漂浮的塵埃等浮游物所 附著。 申請專利範圍第3項所述的曝光裝置更包括一導風 板,經由上述之凹面鏡,在與上述送風口相向的壁面上, 將沿上述之凹面鏡的凹面送風的空氣導入上述之排氣孔。 在此構造的曝光裝置中,由於具有導風板,來自送風 口沿凹面鏡的凹面傳送的空氣可順利地導入排氣孔中。 在本發明的曝光裝置中,以簡單的構造可防止凹面鏡 反射率降低以及鍍在凹面鏡表面的反射膜劣化。因此可維 持凹面鏡的性能,可形成精密化及細線化的電子回路的基 板。又,由於減輕對凹面鏡的維護,曝光裝置的連續作業 時間可延長。 〃 【實施方式】 w接著,在本發明之實施型態中,參照適當圖式做詳細 的呪明。帛1圖為本發明之曝光裝置的立體透視圖。第2 圖為表示本發明之空氣流動的剖視圖。 如第1圖所不,曝光裝置i在框體5内包括光源1〇、 光學系20、載置台30、送風口 4〇以及排氣孔6〇。該框體
2036-6830-PF 7 200540576 5分隔成光源室3及曝光室4。而且,該曝光裝置1在框體 5的外部具有供給空氣至送風口 40的空調裝置2。而且, 該曝光裝置1亦可在框體5内具備導風板50。 光源10由例如水銀投射電弧燈11與集光面鏡12構 成。水銀投射電弧燈Π照射出包含紫外線的光,在曝光作 業中係經常點亮。集光面鏡12將上述水銀投射電弧燈11 的光反射,而向後述之第一平面鏡2 1側集光。 光學系20由第一平面鏡21、複眼透鏡22、第二平面 鏡23以及凹面鏡24所構成,並分別設置於預設的光路上。 弟一平面鏡21為板狀鏡’例如冷鏡(c〇id mirror)。為了 將來自光源10的光反射至既定的方向,該第一平面鏡21 配置於光源10的正上方。
複眼透鏡(flyeye lens ) 22係由複數個凸透鏡縱橫地 排列而形成,將第一平面鏡21所反射的光以相同的照度分 佈照射於第一平面鏡23上’並配置於第一平面鏡21與第 二平面鏡23之間的光路中。在複眼透鏡22的第一平面鏡 21側,配置控制照射工件(基板)的遮板(shutter) 25, 使弟一平面鏡21反射的光被遮斷。 凹面鏡24的表面形狀為拋物線曲面,使來自第二平面 鏡23的反射光成為平行光而反射至光罩M,例如準直鏡 (collimation mirror)。該凹面鏡24為了使第二平面鏡23 反射的光成為平行光而照射至後述之光罩M,在與光罩M 相向的狀態下,配置於後述載置台3〇的正上方。在上述光 學系20中,第一平面鏡21與複眼透鏡22係配置於光源室
2036-6830-PF 8 200540576 . 3中。又,第二平面於” „ 、兄23與凹面鏡24係配置於曝光室4 〇 載置台30星古你 〃有使工件w整合移動的功能,在載置面 上可於平行方向蒋黏 ^ 動、%垂直軸轉動,同時為了使工件W 抵接於光罩Μ而可希古+人 宏直方向移動。在載置台30的正上方 配置有光罩框架31,田μ 士』士 用於支持形成所欲之回路圖案的光罩 Μ 〇 周裝置2為了供給控制溫度與濕度的空氣至後述之 _ 送風口 40,空調裝置2與送風口 4〇連接於導管41。 為了將在二调裝置2做過溫度及濕度控制的空氣沿凹 面鏡24的凹面做送風,送風口 40係設置於凹面鏡24附 近2該送風的路徑上,為了沿凹面鏡2的凹面供給清淨 的二氣叹有王氣淨化過濾器42。該空氣淨化過濾器42 /最好是吸附塵㈣的浮游物而將其去除的紙質過濾、器,將 微粒子或二氧化矽及矽氧烷(siloxane)等的揮發性物質除 #去的HEPA過;慮器或是中性能過渡器。該空氣淨化過滤器 2係σ又置於送風口 4〇的開口面。又,送風口 不與從第 一平面鏡23向凹面鏡24反射的光的光路重疊,可設置於 凹面鏡24的附近並具有既定的角度。 導風板50為曲面狀,為了使送風口 4〇送風而通過凹 面鏡24的凹面的空氣可從後述之排氣孔6〇排至曝光室4 外’設置於凹面鏡24的下方經由凹面鏡24與送風口 40相 向’即5又於位於下風處的曝光室4的壁面上。而且,如第 1圖所示,除了將導風板50安裝於曝光室4的壁面之外,
2036-6830-PF 9 200540576 ’、了使工氣順利地通過,將曝光室4的壁面形成曲面狀亦 可(參照第3 ( a、闽 》 、 、a)圖、第 3(b)圖)。 :、 吏乂導風板5 0導入設有載置台3 0的地面的空氣 排出曝光室4外,於設置載置台30的地面上設有複數個排 ^ 而且’除了在本實施例中設置於設有載置台3 0 的地面上的複數個排氣孔6〇之外,設置載置台3〇的地面 形成網狀亦可。 上述各構成要素係設置於分隔成光源室3與曝光室4 的框體5内。光源室3為密閉的箱形空間。曝光室4具有 叹置於地面的排氣孔6〇,而且為一箱形的空間在側面並具 有將工件W搬出及搬入的未圖示的工件W搬出入口。而 且’排氣孔60的開口面積比工件w搬出入口大。因此從 送風口 40供給至曝光室4内的空氣以第2圖所示的箭號的 方向流動。
在以上構造的曝光裝置1中,以空調裝置2做溫度與 濕度控制的空氣從空調裝置通過導管41,從送風口 4〇通 過空氣淨化過濾器42,而送至曝光室4中(參照第2圖)。 此空氣係沿凹面鏡24的凹面流過,並以下風位置的導風板 50導引至設有排氣孔60的地面,並從排氣孔6〇排出至曝 光室4外。而且,送風口 40的送風速度以在曝光室4中不 蓋生亂流為準,例如在送風口 40為l.5m/sec,通過導風板 5〇時為l_2m/sec。又風速等的控制以未圖示之控制闕實 施。而且,向曝光室4内的送風係於曝光裝置的作業中時 常進行。 2036-6830-PF 10 200540576 由於空氣如第2圖所示地流動,感光性樹脂層揮發出 =切切㈣等的揮發性物#及曝光室以漂浮㈣ 埃寻沣游物,被空氣推動從凹面鏡24的凹面沿導風板% 流動,從設置載置台30的地面的排氣孔6〇排出至曝光室 4之外。ϋ此,可防止感光性樹脂層揮發出二氧切及石= ㈣等的揮發性物質及曝光室4内漂浮的塵埃等浮游物附 著於凹面鏡24的凹面上。 而且,由於在空氣的通路上具有空氣淨化過濾器42, _ 從送風口 4〇將通過空氣淨化過濾器42的清淨空氣沿著凹 面鏡42的凹面送風,可有效地防止塵埃等浮游物附著於凹 面鏡42的凹面上。而且,將溫度及濕度由空調裝置2所控 制的空氣供給於曝光室4内’在曝光室4内,特別是凹面 鏡4周圍的溫度及濕度保持一定,可防止鍍於凹面鏡表 面的反射膜的劣化。於此,空調裝置2供給溫度控制於U 〜23 °C,而濕度控制於55〜60%的空氣。 甚至,由於設置導風板50,可防止通過凹面鏡24的 W 凹面的空氣與曝光室4的壁面衝突而產生亂流。又,可防 止在曝光室4内空氣累積。如此,由於空氣平滑地流動, 揮發性物質可有效地從曝光室4内排出之同時,曝光室4 内的溫度與濕度可有效地保持。 2036-6830-PF 11 ’ 20Θ540576 【圖式簡單說明】 第1圖為本發明之曝光裝置的立體透視圖。 第2圖為表示本發明之空氣流動的剖視圖。 第3 (a)圖為導風板設於曝光室壁面的實施型態的立 體圖。 第3 ( b)圖為第3a圖的剖視圖。 【主要元件符號說明】 1〜曝光裝置; 2〜空調裝置; 3〜光源室; 4〜曝光室; 5〜框體;
10〜 光源; 11〜 水銀投射電弧燈; 12〜 集光面鏡; 20〜 光學系; 21〜 第一平面鏡; 22〜 複眼透鏡; 23〜 第二平面鏡; 24〜 凹面鏡; 25〜 遮板; 30〜 載置台; 31〜 光罩框架; 40〜 送風口; 2036-6830-PF 12 ‘200540576 41〜導管; 42〜空氣淨化過濾器; 5 0〜導風板; 60〜排氣孔; Μ〜光罩; W〜工件。
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Claims (1)

  1. 200540576 十、申請專利範圍: 1 · 一種曝光裝置,在框體中設有·· 一光源,照射包含既定波長的光; 一平面鏡及凹面鏡,將該光源的光線沿既定之光路反 射; 一複眼透鏡,設置於上述光路中; 一光罩框架,支持設於上述凹面鏡下方的光罩; 一載置台’載置一基板,而面向該光罩框架的光罩; _ 其特徵為包括: 一送風口,沿著設於上述框體内的上述凹面鏡的凹面 送風; 一空氧淨化過遽器,設於上述送風的通路上;以及 一排氣孔’設於設置上述載置台的地面上,沿著上述 凹面鏡的凹面將送風的空氣排出。 2.如申睛專利範圍第1項所述之曝光裝置,其中上述 送風口係連接於配置於上述框體外部的空調裝置。 # 3·如申請專利範圍第1項所述之曝光裝置,其更包括 導風板經由上述之凹面鏡,在與上述送風口相向的壁 面上,將沿上述之凹面鏡的凹面送風的空氣導入上述之排 氣孔。 2036-6830-PF 14
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