JPH0982625A - 走査型露光装置 - Google Patents
走査型露光装置Info
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- JPH0982625A JPH0982625A JP7259365A JP25936595A JPH0982625A JP H0982625 A JPH0982625 A JP H0982625A JP 7259365 A JP7259365 A JP 7259365A JP 25936595 A JP25936595 A JP 25936595A JP H0982625 A JPH0982625 A JP H0982625A
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- optical system
- interferometer
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- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/70216—Mask projection systems
- G03F7/70358—Scanning exposure, i.e. relative movement of patterned beam and workpiece during imaging
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- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
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- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/708—Construction of apparatus, e.g. environment aspects, hygiene aspects or materials
- G03F7/70858—Environment aspects, e.g. pressure of beam-path gas, temperature
- G03F7/70866—Environment aspects, e.g. pressure of beam-path gas, temperature of mask or workpiece
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- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 レチクルステージが移動することにより発生
するチャンバ内の気流の変動を防止することができる走
査型露光装置を提供する。 【解決手段】 チャンバ１内の温度をほぼ一定に維持す
るために、チャンバ１内で温度制御された気体を流動さ
せる空調手段２と、レチクルＲを照明光で照射する照明
光学系と、前記照明光に対してレチクルＲを相対移動す
るレチクルステージＲＳＴと、レチクルマスクステージ
ＲＳＴの位置を測定するための干渉計６とを備え、レチ
クルＲとウエハＷとを同期移動してレチクルＲのパター
ンの像でウエハＷを露光する走査型露光装置である。レ
チクルステージＲＳＴ及び干渉計６のビーム光路に向か
う前記気体を遮るための隔壁５０，５１，５２，５３
と、隔壁で仕切られたレチクルステージＲＳＴ及び前記
干渉計のビーム光路を含む隔室３６内に温度制御された
気体を供給する気体供給手段６０とを備える。干渉計６
の光路上の気体の温度ゆらぎによるレチクルステージ誤
差が低減される。
するチャンバ内の気流の変動を防止することができる走
査型露光装置を提供する。 【解決手段】 チャンバ１内の温度をほぼ一定に維持す
るために、チャンバ１内で温度制御された気体を流動さ
せる空調手段２と、レチクルＲを照明光で照射する照明
光学系と、前記照明光に対してレチクルＲを相対移動す
るレチクルステージＲＳＴと、レチクルマスクステージ
ＲＳＴの位置を測定するための干渉計６とを備え、レチ
クルＲとウエハＷとを同期移動してレチクルＲのパター
ンの像でウエハＷを露光する走査型露光装置である。レ
チクルステージＲＳＴ及び干渉計６のビーム光路に向か
う前記気体を遮るための隔壁５０，５１，５２，５３
と、隔壁で仕切られたレチクルステージＲＳＴ及び前記
干渉計のビーム光路を含む隔室３６内に温度制御された
気体を供給する気体供給手段６０とを備える。干渉計６
の光路上の気体の温度ゆらぎによるレチクルステージ誤
差が低減される。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、半導体集積回路や
液晶デバイス製造用の投影露光装置に関し、さらに詳細
には、マスクステージ及び干渉計光路を含む空間を隔壁
で覆い且つ該空間を独自に空調する空調系を有する走査
型投影露光装置に関する。
液晶デバイス製造用の投影露光装置に関し、さらに詳細
には、マスクステージ及び干渉計光路を含む空間を隔壁
で覆い且つ該空間を独自に空調する空調系を有する走査
型投影露光装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】半導体集積回路や液晶基板の回路パター
ンをフォトリソグラフィー技術により半導体ウエハ上に
形成するための装置として投影露光装置が使用されてい
る。かかる投影露光装置は、照明系から射出された照明
光をレチクル（マスク）に照射してレチクルパターン像
を投影光学系を介して感光性基板上に結像する。この種
の装置は、微細な回路パターンを形成するために、高精
度な結像特性が要求され、さらに、基板上の同一領域に
複数のパターンを重ね合わせて露光するために、露光処
理する層と前回露光処理された層との間で高い重ね合わ
せ精度が要求される。一方、複数のレンズエレメント群
から構成された投影光学系は、周囲温度により倍率等の
結像特性が変化するために、上記のような高精度な結像
特性及び重ね合わせ特性を維持するには、周囲温度に対
して装置の安定性が必要となる。このため、従来より投
影露光装置は、温度コントロールされた恒温チャンバの
中に設置されている。例えば、チャンバ内の塵等が投影
露光装置に付着するのを防止するためにチャンバの天井
から投影光学系の光軸に平行に温度調節された空気を流
す所謂ダウンフロー型のチャンバが採用されている。
ンをフォトリソグラフィー技術により半導体ウエハ上に
形成するための装置として投影露光装置が使用されてい
る。かかる投影露光装置は、照明系から射出された照明
光をレチクル（マスク）に照射してレチクルパターン像
を投影光学系を介して感光性基板上に結像する。この種
の装置は、微細な回路パターンを形成するために、高精
度な結像特性が要求され、さらに、基板上の同一領域に
複数のパターンを重ね合わせて露光するために、露光処
理する層と前回露光処理された層との間で高い重ね合わ
せ精度が要求される。一方、複数のレンズエレメント群
から構成された投影光学系は、周囲温度により倍率等の
結像特性が変化するために、上記のような高精度な結像
特性及び重ね合わせ特性を維持するには、周囲温度に対
して装置の安定性が必要となる。このため、従来より投
影露光装置は、温度コントロールされた恒温チャンバの
中に設置されている。例えば、チャンバ内の塵等が投影
露光装置に付着するのを防止するためにチャンバの天井
から投影光学系の光軸に平行に温度調節された空気を流
す所謂ダウンフロー型のチャンバが採用されている。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】ところで、投影光学系
のスリット状の長方形エリアを照明し、レチクルと感光
基板を相対的に走査しながら露光するステップアンドス
キャン露光方法が考案されている。この露光方式を用い
た走査型露光装置の概略を図４に示す。この装置は、レ
チクルＲに均一な照明光を照射するための光源を含む照
明光学系（図示しない）、レチクルＲを走査方向（Ｘ方
向）に移動するためのレチクルステージＲＳＴ、レチク
ルＲのパターン像を所定の縮小倍率でウエハＷ上に投影
するための投影光学系ＰＬ及びウエハＷをレチクルＲと
走査と同期して移動するためのウエハステージＷＳＴか
ら主に構成されている。かかる構成において、コンデン
サレンズ３を通って集光された均一な照明光でレチクル
Ｒが照明され、レチクルＲ上の照明領域に対してレチク
ルＲを載置したレチクルステージＲＳＴが走査方向に移
動するのと同期してウエハを載置したウエハステージＷ
ＳＴがレチクルステージＲＳＴの移動方向と逆方向に移
動する。レチクルＲがスリット状の照明領域で走査され
るに従って、投影光学系ＰＬを介して形成されたレチク
ルＲの縮小パターン像でウエハの露光領域が逐次露光さ
れてゆく。本方式によれば、投影光学系のフィールドサ
イズを拡大することなく広い面積が露光可能であり、且
つ、投影光学系の一部しか露光に使用しないためディス
トーション、照度均一性等の調整が容易であるという点
で他の露光方式より優れている。
のスリット状の長方形エリアを照明し、レチクルと感光
基板を相対的に走査しながら露光するステップアンドス
キャン露光方法が考案されている。この露光方式を用い
た走査型露光装置の概略を図４に示す。この装置は、レ
チクルＲに均一な照明光を照射するための光源を含む照
明光学系（図示しない）、レチクルＲを走査方向（Ｘ方
向）に移動するためのレチクルステージＲＳＴ、レチク
ルＲのパターン像を所定の縮小倍率でウエハＷ上に投影
するための投影光学系ＰＬ及びウエハＷをレチクルＲと
走査と同期して移動するためのウエハステージＷＳＴか
ら主に構成されている。かかる構成において、コンデン
サレンズ３を通って集光された均一な照明光でレチクル
Ｒが照明され、レチクルＲ上の照明領域に対してレチク
ルＲを載置したレチクルステージＲＳＴが走査方向に移
動するのと同期してウエハを載置したウエハステージＷ
ＳＴがレチクルステージＲＳＴの移動方向と逆方向に移
動する。レチクルＲがスリット状の照明領域で走査され
るに従って、投影光学系ＰＬを介して形成されたレチク
ルＲの縮小パターン像でウエハの露光領域が逐次露光さ
れてゆく。本方式によれば、投影光学系のフィールドサ
イズを拡大することなく広い面積が露光可能であり、且
つ、投影光学系の一部しか露光に使用しないためディス
トーション、照度均一性等の調整が容易であるという点
で他の露光方式より優れている。
【０００４】この装置のチャンバ１は、前述のダウンフ
ロー型のチャンバであり、チャンバ１の天井の空気吹き
出し口２から、図中矢印で示した方向に温度調節された
空気が流れる。しかしながら、この装置では投影光学系
ＰＬ上をレチクルステージＲＳＴが水平方向（Ｘ方向）
に往復移動するため、レチクルステージＲＳＴの位置に
より投影光学系ＰＬに向かう空気の流れ方が大きく変化
する。一方、通常、投影光学系ＰＬの近傍には発熱源と
なる干渉計用のレーザ光源等が配置されている。このた
め、投影光学系ＰＬ自体の温度やレチクルＲと投影光学
系ＰＬとの間の光路上の空気温度が変動を受け、その結
果、投影光学系ＰＬの結像特性が変化するという問題が
ある。また、このタイプの露光装置では、移動するレチ
クルステージＲＳＴの位置を測定するためにレチクルス
テージＲＳＴに固定された移動鏡５からの反射光を観測
する干渉計６を備えているが、レチクルステージＲＳＴ
近傍の空気流が変動すると干渉計６の光ビームの光路上
の空気に温度ゆらぎが生じるため、ステージ位置の測定
誤差が生じ、その結果、レチクルステージＲＳＴとウエ
ハステージＷＳＴとの移動の同期ずれを起こすことにな
る。さらに、レチクルステージＲＳＴが移動すること
は、レチクル温度の変動やレチクルＲへの塵等の付着の
原因にもなる。これらの問題は、移動するレチクルステ
ージを有する走査型露光装置に独自の問題である。
ロー型のチャンバであり、チャンバ１の天井の空気吹き
出し口２から、図中矢印で示した方向に温度調節された
空気が流れる。しかしながら、この装置では投影光学系
ＰＬ上をレチクルステージＲＳＴが水平方向（Ｘ方向）
に往復移動するため、レチクルステージＲＳＴの位置に
より投影光学系ＰＬに向かう空気の流れ方が大きく変化
する。一方、通常、投影光学系ＰＬの近傍には発熱源と
なる干渉計用のレーザ光源等が配置されている。このた
め、投影光学系ＰＬ自体の温度やレチクルＲと投影光学
系ＰＬとの間の光路上の空気温度が変動を受け、その結
果、投影光学系ＰＬの結像特性が変化するという問題が
ある。また、このタイプの露光装置では、移動するレチ
クルステージＲＳＴの位置を測定するためにレチクルス
テージＲＳＴに固定された移動鏡５からの反射光を観測
する干渉計６を備えているが、レチクルステージＲＳＴ
近傍の空気流が変動すると干渉計６の光ビームの光路上
の空気に温度ゆらぎが生じるため、ステージ位置の測定
誤差が生じ、その結果、レチクルステージＲＳＴとウエ
ハステージＷＳＴとの移動の同期ずれを起こすことにな
る。さらに、レチクルステージＲＳＴが移動すること
は、レチクル温度の変動やレチクルＲへの塵等の付着の
原因にもなる。これらの問題は、移動するレチクルステ
ージを有する走査型露光装置に独自の問題である。
【０００５】そこで、本発明の目的は、走査型露光装置
における上記問題点を解決し、レチクルステージが移動
することにより発生するチャンバ内の気流の変動を防止
することができる走査型露光装置を提供することにあ
る。
における上記問題点を解決し、レチクルステージが移動
することにより発生するチャンバ内の気流の変動を防止
することができる走査型露光装置を提供することにあ
る。
【０００６】また、本発明の目的は、レチクルステージ
の位置測定用の干渉計の光路及びマスクと投影光学系と
の間の光路を含むレチクルステージ周辺の気体温度の変
動を低減し、干渉計の測定誤差を低減するとともに安定
した投影光学系の結像特性を与えることができる走査型
露光装置を提供することにある。
の位置測定用の干渉計の光路及びマスクと投影光学系と
の間の光路を含むレチクルステージ周辺の気体温度の変
動を低減し、干渉計の測定誤差を低減するとともに安定
した投影光学系の結像特性を与えることができる走査型
露光装置を提供することにある。
【０００７】さらに、本発明の目的は、塵等によるレチ
クルステージ及びレチクルの汚染を防止することができ
る走査型露光装置を提供することにある。
クルステージ及びレチクルの汚染を防止することができ
る走査型露光装置を提供することにある。
【０００８】
【課題を解決するための手段】本発明に従えば、チャン
バ内の温度をほぼ一定に維持するために、該チャンバ内
で温度制御された気体を流動させる空調手段と、マスク
を照明光で照射する照明光学系と、前記照明光に対して
前記マスクを相対移動するマスクステージと、該マスク
ステージの位置を測定するための干渉計とを備え、前記
マスクと感光基板とを同期移動して前記マスク上のパタ
ーンの像で前記感光基板を露光する走査型露光装置にお
いて、前記マスクステージ及び前記干渉計のビーム光路
に向かう前記気体を遮るための隔壁と、前記隔壁で仕切
られた前記マスクステージ及び前記干渉計のビーム光路
を含む空間内に温度制御された気体を供給する気体供給
手段とを備えたことを特徴とする走査型露光装置が提供
される。上記隔壁によりマスクステージ及び干渉計のビ
ーム光路をチャンバの空調用の気体流から隔離したため
に、マスクステージ等への塵等の付着を防止し、レチク
ルステージの移動によるチャンバ内の気流が変化するこ
とを防止できる。また、隔壁で仕切られた前記マスクス
テージ及び前記干渉計のビーム光路を含む空間内に温度
制御された気体を供給することにより、干渉計のビーム
光路上の気体の温度ゆらぎが低減され、レチクルステー
ジの正確な位置測定が可能となる。
バ内の温度をほぼ一定に維持するために、該チャンバ内
で温度制御された気体を流動させる空調手段と、マスク
を照明光で照射する照明光学系と、前記照明光に対して
前記マスクを相対移動するマスクステージと、該マスク
ステージの位置を測定するための干渉計とを備え、前記
マスクと感光基板とを同期移動して前記マスク上のパタ
ーンの像で前記感光基板を露光する走査型露光装置にお
いて、前記マスクステージ及び前記干渉計のビーム光路
に向かう前記気体を遮るための隔壁と、前記隔壁で仕切
られた前記マスクステージ及び前記干渉計のビーム光路
を含む空間内に温度制御された気体を供給する気体供給
手段とを備えたことを特徴とする走査型露光装置が提供
される。上記隔壁によりマスクステージ及び干渉計のビ
ーム光路をチャンバの空調用の気体流から隔離したため
に、マスクステージ等への塵等の付着を防止し、レチク
ルステージの移動によるチャンバ内の気流が変化するこ
とを防止できる。また、隔壁で仕切られた前記マスクス
テージ及び前記干渉計のビーム光路を含む空間内に温度
制御された気体を供給することにより、干渉計のビーム
光路上の気体の温度ゆらぎが低減され、レチクルステー
ジの正確な位置測定が可能となる。
【０００９】本発明の走査型露光装置において、前記マ
スク上のパターン像を前記感光基板上に投影する投影光
学系を有し、該投影光学系と前記マスクとの間の光路が
前記隔壁で覆われていることが好ましい。これにより投
影光学系とマスクとの間の光路上の気体の屈折率の変動
が低減され、投影光学系の結像特性が安定化する。
スク上のパターン像を前記感光基板上に投影する投影光
学系を有し、該投影光学系と前記マスクとの間の光路が
前記隔壁で覆われていることが好ましい。これにより投
影光学系とマスクとの間の光路上の気体の屈折率の変動
が低減され、投影光学系の結像特性が安定化する。
【００１０】前記マスクステージ及び前記干渉計のビー
ム光路を、前記隔壁でほぼ覆い、前記マスクが前記照明
光で照射されるように前記隔壁の一部を前記照明光に対
してほぼ透明な部材で構成することができる。
ム光路を、前記隔壁でほぼ覆い、前記マスクが前記照明
光で照射されるように前記隔壁の一部を前記照明光に対
してほぼ透明な部材で構成することができる。
【００１１】本発明の走査型露光装置において、前記空
調手段は、前記マスクの上方から前記投影光学系の光軸
とほぼ平行に気体を流す、所謂ダウンフロー型の空調系
にし得る。ダウンフロー型の空調系を採用している走査
型投影露光装置では、レチクルステージの移動による投
影光学系等に向かう気流の変化が大きく、上記隔壁でレ
チクルステージを覆うことによりかかる気流の変化を防
止できる。
調手段は、前記マスクの上方から前記投影光学系の光軸
とほぼ平行に気体を流す、所謂ダウンフロー型の空調系
にし得る。ダウンフロー型の空調系を採用している走査
型投影露光装置では、レチクルステージの移動による投
影光学系等に向かう気流の変化が大きく、上記隔壁でレ
チクルステージを覆うことによりかかる気流の変化を防
止できる。
【００１２】
【実施例】以下、本発明による走査型露光装置の一実施
例を添付図面を参照して説明する。図１に、レチクルＲ
とウエハＷをレチクルＲ上の照明領域に対して同期して
走査しながら露光する走査型の投影露光装置の一例を示
す。図１に示したように、一般に、投影露光装置は恒温
チャンバ１の中に設置されている。恒温チャンバ１内で
は、通常のクリーンルームよりも精度の高い温度制御が
なされており、例えば、クリーンルームの温度制御が±
２〜３℃の範囲であるのに対して、恒温チャンバ１内で
は±０．１℃程度に保たれている。また、図示した投影
露光装置は、ダウンフロー型の投影露光装置であり、空
気中に浮遊する粒子が装置に付着するのを防止するため
にチャンバ１の天井に空気流吹き出し口２が設置されて
おり、吹き出し口２から投影光学系ＰＬの光軸に沿って
チャンバ床方向に温度制御された空気流が流動する。チ
ャンバ１内部、特に投影光学系ＰＬを含む露光装置本体
部に、クリーンルーム内に浮遊する異物（ゴミ）、硫酸
イオンやアンモニウムイオン等が流入するのを防止する
ため、ＨＥＰＡ（またはＵＬＰＡ）フィルター、及びケ
ミカルフィルターが、チャンバ１の空気取り入れ口また
は吹き出し口２の近傍に配置されている。
例を添付図面を参照して説明する。図１に、レチクルＲ
とウエハＷをレチクルＲ上の照明領域に対して同期して
走査しながら露光する走査型の投影露光装置の一例を示
す。図１に示したように、一般に、投影露光装置は恒温
チャンバ１の中に設置されている。恒温チャンバ１内で
は、通常のクリーンルームよりも精度の高い温度制御が
なされており、例えば、クリーンルームの温度制御が±
２〜３℃の範囲であるのに対して、恒温チャンバ１内で
は±０．１℃程度に保たれている。また、図示した投影
露光装置は、ダウンフロー型の投影露光装置であり、空
気中に浮遊する粒子が装置に付着するのを防止するため
にチャンバ１の天井に空気流吹き出し口２が設置されて
おり、吹き出し口２から投影光学系ＰＬの光軸に沿って
チャンバ床方向に温度制御された空気流が流動する。チ
ャンバ１内部、特に投影光学系ＰＬを含む露光装置本体
部に、クリーンルーム内に浮遊する異物（ゴミ）、硫酸
イオンやアンモニウムイオン等が流入するのを防止する
ため、ＨＥＰＡ（またはＵＬＰＡ）フィルター、及びケ
ミカルフィルターが、チャンバ１の空気取り入れ口また
は吹き出し口２の近傍に配置されている。
【００１３】図１の走査型露光装置本体は、光源及び照
明光学系（図示しない）、レチクルＲを走査方向に移動
するレチクルステージＲＳＴ、投影光学系ＰＬ、ウエハ
Ｗを移動するウエハステージＷＳＴ、ウエハの位置合わ
せ用のアライメント系（１３〜１８）等から主に構成さ
れている。光源は、一般に、水銀ランプの紫外線域の輝
線（ｇ線、ｉ線）、ＫｒＦ，ＡｒＦ等のエキシマレーザ
光等が用いられる。また、照明光学系はフライアイレン
ズ、コンデンサレンズ等からなり、最終的にコンデンサ
レンズ３を介してレチクルＲを照明している。照明光学
系は、光源からの照明光で、回路パターン等が描かれた
マスクであるレチクルＲをほぼ照度均一且つ所定の立体
角で照明する。これらの図示しない光源及び照明光学系
は、図中、レチクルステージＲＳＴの上方に配置されて
おり、光源はチャンバ１の外側に配置される。
明光学系（図示しない）、レチクルＲを走査方向に移動
するレチクルステージＲＳＴ、投影光学系ＰＬ、ウエハ
Ｗを移動するウエハステージＷＳＴ、ウエハの位置合わ
せ用のアライメント系（１３〜１８）等から主に構成さ
れている。光源は、一般に、水銀ランプの紫外線域の輝
線（ｇ線、ｉ線）、ＫｒＦ，ＡｒＦ等のエキシマレーザ
光等が用いられる。また、照明光学系はフライアイレン
ズ、コンデンサレンズ等からなり、最終的にコンデンサ
レンズ３を介してレチクルＲを照明している。照明光学
系は、光源からの照明光で、回路パターン等が描かれた
マスクであるレチクルＲをほぼ照度均一且つ所定の立体
角で照明する。これらの図示しない光源及び照明光学系
は、図中、レチクルステージＲＳＴの上方に配置されて
おり、光源はチャンバ１の外側に配置される。
【００１４】レチクルステージＲＳＴは、投影光学系Ｐ
Ｌの光軸ＡＸ上であってコンデンサレンズ３と投影光学
系ＰＬとの間に設置される。図２及び図３に、レチクル
ステージＲＳＴの平面図及び図２のＡＡ方向の矢視図を
それぞれ示す。レチクルステージＲＳＴは、定盤３７上
に固定され且つＸ方向に延在するガイド３４により支持
されており、ガイド３４と平行に定盤３７上に延在する
リニアモータ３３により所定の速度で走査方向（Ｘ方
向）に移動することができる。レチクルステージＲＳＴ
は、ガイド方向にレチクルＲのパターンエリア全面が少
なくとも投影光学系の光軸ＡＸを横切るだけのストロー
クで移動する。レチクルステージＲＳＴは、Ｘ方向端部
に干渉計６から射出されたレーザビームを反射する移動
鏡５を固定して備える。干渉計６からのレーザビーム
は、定盤３７上に設置されたビームスプリッタ３１によ
って２つのビームに分離され、それぞれ、移動鏡５とビ
ームスプリッタ３１に接するように設置された固定鏡６
１に向かう。移動鏡５及び固定鏡６１からの反射光の位
相差を干渉計６で測定することにより、レチクルステー
ジＲＳＴの走査方向の位置が、例えば０．０１μｍ単位
で測定される。干渉計６による測定結果は、ステージ制
御系２０に送られ、常時レチクルステージＲＳＴの高精
度な位置決めが行われる。レチクルステージＲＳＴ上に
は、レチクルホルダＲＨが設置され、レチクルホルダＲ
Ｈ上にレチクルＲが載置される。レチクルＲは、図示し
ない真空チャックによりレチクルホルダＲＨに吸着保持
されている。
Ｌの光軸ＡＸ上であってコンデンサレンズ３と投影光学
系ＰＬとの間に設置される。図２及び図３に、レチクル
ステージＲＳＴの平面図及び図２のＡＡ方向の矢視図を
それぞれ示す。レチクルステージＲＳＴは、定盤３７上
に固定され且つＸ方向に延在するガイド３４により支持
されており、ガイド３４と平行に定盤３７上に延在する
リニアモータ３３により所定の速度で走査方向（Ｘ方
向）に移動することができる。レチクルステージＲＳＴ
は、ガイド方向にレチクルＲのパターンエリア全面が少
なくとも投影光学系の光軸ＡＸを横切るだけのストロー
クで移動する。レチクルステージＲＳＴは、Ｘ方向端部
に干渉計６から射出されたレーザビームを反射する移動
鏡５を固定して備える。干渉計６からのレーザビーム
は、定盤３７上に設置されたビームスプリッタ３１によ
って２つのビームに分離され、それぞれ、移動鏡５とビ
ームスプリッタ３１に接するように設置された固定鏡６
１に向かう。移動鏡５及び固定鏡６１からの反射光の位
相差を干渉計６で測定することにより、レチクルステー
ジＲＳＴの走査方向の位置が、例えば０．０１μｍ単位
で測定される。干渉計６による測定結果は、ステージ制
御系２０に送られ、常時レチクルステージＲＳＴの高精
度な位置決めが行われる。レチクルステージＲＳＴ上に
は、レチクルホルダＲＨが設置され、レチクルホルダＲ
Ｈ上にレチクルＲが載置される。レチクルＲは、図示し
ない真空チャックによりレチクルホルダＲＨに吸着保持
されている。
【００１５】本発明の走査型露光装置では、レチクルス
テージの定盤３７上に、隔壁５０〜５４から構成され且
つレチクルステージＲＳＴを収容する隔室３６を備え、
隔室３６内のレチクルステージＲＳＴはチャンバ１内の
空調用の空気の流れから遮られる。隔室３６はレチクル
ステージＲＳＴの走査方向（Ｘ方向）を長手とする直方
体であり、底面はレチクルステージＲＳＴを支持する定
盤３７よりなる。隔室３６の天井（隔壁５４）には開口
部３２が形成されており（図中仮想線で示す）、この開
口部３２には円形のガラス板４０が嵌め込まれている。
照明光学系からの照明光がこのガラス板４０を通過して
レチクルＲを照射する。この開口３２の大きさが、レチ
クルＲへの照明光を遮らず且つ隔室３６内部の気流に影
響を与えない程度ならば、ガラス板４０を省略すること
もできる。隔室３６の長手方向（Ｘ方向）の一方の隔壁
（側壁）５１に隔室内に温度調節された気体を供給する
送風器６０及び気体吹き出し口４１を備え、送風器６０
の内部に取り付けられた温度調節機構（図示しない）に
より隔室３６内に供給される気体の温度が調節される。
この気体温度はチャンバ１内を空調する空気温度と同一
の温度になるように調節される。隔室３６内の気圧が隔
室外の空気圧よりもわずかに高くなるような流量で送風
器６０から気体が供給される。気体には空気を用いるこ
とができるが、遠紫外のレーザ光を照明光として用いる
場合には窒素またはヘリウムガスを用いることが好まし
い。気体吹き出し口４１にはＨＥＰＡフィルター及びケ
ミカルフィルターが設置され、隔室３６に異物等が流入
するのを防止している。隔壁５１と対向する隔壁５３に
は気体排出口４２を備え、隔室３６を通った気体は排出
口４２から排出された後、チャンバ１の外部を通って送
風器６０に循環されて温度調節され、再び隔室３６内に
供給される。隔壁５３には開閉窓３５が形成されてお
り、レチクルＲをレチクルステージＲＳＴに搬入または
搬出するときに開放される。
テージの定盤３７上に、隔壁５０〜５４から構成され且
つレチクルステージＲＳＴを収容する隔室３６を備え、
隔室３６内のレチクルステージＲＳＴはチャンバ１内の
空調用の空気の流れから遮られる。隔室３６はレチクル
ステージＲＳＴの走査方向（Ｘ方向）を長手とする直方
体であり、底面はレチクルステージＲＳＴを支持する定
盤３７よりなる。隔室３６の天井（隔壁５４）には開口
部３２が形成されており（図中仮想線で示す）、この開
口部３２には円形のガラス板４０が嵌め込まれている。
照明光学系からの照明光がこのガラス板４０を通過して
レチクルＲを照射する。この開口３２の大きさが、レチ
クルＲへの照明光を遮らず且つ隔室３６内部の気流に影
響を与えない程度ならば、ガラス板４０を省略すること
もできる。隔室３６の長手方向（Ｘ方向）の一方の隔壁
（側壁）５１に隔室内に温度調節された気体を供給する
送風器６０及び気体吹き出し口４１を備え、送風器６０
の内部に取り付けられた温度調節機構（図示しない）に
より隔室３６内に供給される気体の温度が調節される。
この気体温度はチャンバ１内を空調する空気温度と同一
の温度になるように調節される。隔室３６内の気圧が隔
室外の空気圧よりもわずかに高くなるような流量で送風
器６０から気体が供給される。気体には空気を用いるこ
とができるが、遠紫外のレーザ光を照明光として用いる
場合には窒素またはヘリウムガスを用いることが好まし
い。気体吹き出し口４１にはＨＥＰＡフィルター及びケ
ミカルフィルターが設置され、隔室３６に異物等が流入
するのを防止している。隔壁５１と対向する隔壁５３に
は気体排出口４２を備え、隔室３６を通った気体は排出
口４２から排出された後、チャンバ１の外部を通って送
風器６０に循環されて温度調節され、再び隔室３６内に
供給される。隔壁５３には開閉窓３５が形成されてお
り、レチクルＲをレチクルステージＲＳＴに搬入または
搬出するときに開放される。
【００１６】図２に示したように、ビームスプリッタ３
１と移動鏡５及び固定鏡６１との間の光路は隔室３６内
に含まれている。これらの光路上の気体に温度ゆらぎが
あると干渉計６によるレチクルステージ位置の測定結果
に誤差を生ずることになるが、本発明の露光装置では光
路を覆う隔室３６を設け且つ隔室３６内に一定温度の気
体を供給しているのでかかる温度ゆらぎが生じない。
１と移動鏡５及び固定鏡６１との間の光路は隔室３６内
に含まれている。これらの光路上の気体に温度ゆらぎが
あると干渉計６によるレチクルステージ位置の測定結果
に誤差を生ずることになるが、本発明の露光装置では光
路を覆う隔室３６を設け且つ隔室３６内に一定温度の気
体を供給しているのでかかる温度ゆらぎが生じない。
【００１７】図１において、レチクルＲは、レチクルス
テージＲＳＴ上で、レチクルＲの走査方向（Ｘ方向）に
対して垂直な方向（Ｙ方向）を長手とする長方形（スリ
ット状）の照明領域で照明される。この照明領域は、レ
チクルステージの上方であって且つレチクルＲと共役な
面またはその近傍に配置された視野絞り（図示しない）
により画定される。
テージＲＳＴ上で、レチクルＲの走査方向（Ｘ方向）に
対して垂直な方向（Ｙ方向）を長手とする長方形（スリ
ット状）の照明領域で照明される。この照明領域は、レ
チクルステージの上方であって且つレチクルＲと共役な
面またはその近傍に配置された視野絞り（図示しない）
により画定される。
【００１８】レチクルＲを通過した照明光は投影光学系
ＰＬに入射し、投影光学系ＰＬによるレチクルＲの回路
パターン像がウエハＷ上に形成される。投影光学系ＰＬ
には、複数のレンズエレメントが光軸ＡＸを共通の光軸
とするように収容されている。投影光学系ＰＬは、その
外周部上であって光軸方向の中央部にフランジ２４を備
え、フランジ２４により露光装置本体の架台２３に固定
されている。
ＰＬに入射し、投影光学系ＰＬによるレチクルＲの回路
パターン像がウエハＷ上に形成される。投影光学系ＰＬ
には、複数のレンズエレメントが光軸ＡＸを共通の光軸
とするように収容されている。投影光学系ＰＬは、その
外周部上であって光軸方向の中央部にフランジ２４を備
え、フランジ２４により露光装置本体の架台２３に固定
されている。
【００１９】ウエハＷ上に投影されるレチクルＲのパタ
ーン像の投影倍率はレンズエレメントの倍率及び配置に
より決定される。レチクルＲ上のスリット状の照明領域
（中心は光軸ＡＸにほぼ一致）内のレチクルパターン
は、投影光学系ＰＬを介してウエハＷ上に投影される。
ウエハＷは投影光学系ＰＬを介してレチクルＲとは倒立
像関係にあるため、レチクルＲが露光時に−Ｘ方向（ま
たは＋Ｘ方向）に速度Ｖｒで走査されると、ウエハＷは
速度Ｖｗの方向とは反対の＋Ｘ方向（または−Ｘ方向）
にレチクルＲに同期して速度Ｖｒで走査され、ウエハＷ
上のショット領域の全面にレチクルＲのパターンが逐次
露光される。走査速度の比（Ｖｒ／Ｖｗ）は投影光学系
ＰＬの縮小倍率で決定される。
ーン像の投影倍率はレンズエレメントの倍率及び配置に
より決定される。レチクルＲ上のスリット状の照明領域
（中心は光軸ＡＸにほぼ一致）内のレチクルパターン
は、投影光学系ＰＬを介してウエハＷ上に投影される。
ウエハＷは投影光学系ＰＬを介してレチクルＲとは倒立
像関係にあるため、レチクルＲが露光時に−Ｘ方向（ま
たは＋Ｘ方向）に速度Ｖｒで走査されると、ウエハＷは
速度Ｖｗの方向とは反対の＋Ｘ方向（または−Ｘ方向）
にレチクルＲに同期して速度Ｖｒで走査され、ウエハＷ
上のショット領域の全面にレチクルＲのパターンが逐次
露光される。走査速度の比（Ｖｒ／Ｖｗ）は投影光学系
ＰＬの縮小倍率で決定される。
【００２０】ウエハＷは、ウエハステージＷＳＴ上に保
持されたウエハホルダ（図示しない）に真空吸着されて
いる。ウエハステージＷＳＴは前述の走査方向（Ｘ方
向）の移動のみならず、ウエハＷ上の複数のショット領
域をそれぞれ走査露光できるよう、走査方向と垂直な方
向（Ｙ方向）にも移動可能に構成されており、ウエハＷ
上の各ショット領域を走査する動作と、次のショット領
域の露光開始位置まで移動する動作を繰り返す。モータ
等のウエハステージ駆動部（図示しない）によりウエハ
ステージＷＳＴは駆動される。ウエハステージＷＳＴ
は、前記比Ｖｒ／Ｖｗに従って移動速度が調節され、レ
チクルステージＲＳＴと同期されて移動する。ウエハス
テージＷＳＴの端部には移動鏡８が固定され、干渉計９
からのレーザビームを移動鏡８により反射し、反射光を
干渉計９によって検出することによってウエハステージ
ＷＳＴのＸＹ平面内での座標位置が常時モニタされる。
持されたウエハホルダ（図示しない）に真空吸着されて
いる。ウエハステージＷＳＴは前述の走査方向（Ｘ方
向）の移動のみならず、ウエハＷ上の複数のショット領
域をそれぞれ走査露光できるよう、走査方向と垂直な方
向（Ｙ方向）にも移動可能に構成されており、ウエハＷ
上の各ショット領域を走査する動作と、次のショット領
域の露光開始位置まで移動する動作を繰り返す。モータ
等のウエハステージ駆動部（図示しない）によりウエハ
ステージＷＳＴは駆動される。ウエハステージＷＳＴ
は、前記比Ｖｒ／Ｖｗに従って移動速度が調節され、レ
チクルステージＲＳＴと同期されて移動する。ウエハス
テージＷＳＴの端部には移動鏡８が固定され、干渉計９
からのレーザビームを移動鏡８により反射し、反射光を
干渉計９によって検出することによってウエハステージ
ＷＳＴのＸＹ平面内での座標位置が常時モニタされる。
【００２１】上記投影露光装置には、複数のパターンを
ウエハＷ上に高精度に重ね合わせて露光するために、ウ
エハＷ上の位置合わせ用のマークの位置を検出して、重
ね合わせ露光を行う際のウエハＷの位置を決定するウエ
ハアライメント系を備える。このウエハアライメント系
として、投影光学系ＰＬとは別に設けられた光学式アラ
イメント系１３〜１８を備え、光源１３から射出された
レーザ光を光学系１６，１７，１８を介してウエハＷの
アライメントマークに照射し、その反射光を受光器１４
で検出している。
ウエハＷ上に高精度に重ね合わせて露光するために、ウ
エハＷ上の位置合わせ用のマークの位置を検出して、重
ね合わせ露光を行う際のウエハＷの位置を決定するウエ
ハアライメント系を備える。このウエハアライメント系
として、投影光学系ＰＬとは別に設けられた光学式アラ
イメント系１３〜１８を備え、光源１３から射出された
レーザ光を光学系１６，１７，１８を介してウエハＷの
アライメントマークに照射し、その反射光を受光器１４
で検出している。
【００２２】上記のような走査型露光装置において、実
露光時に、レチクルステージＲＳＴが走査方向に移動す
るが、レチクルステージＲＳＴが隔室３６によって覆わ
れているためにレチクルステージＲＳＴの移動位置に拘
らず、チャンバの空気吹き出し口２からの空気流が投影
光学系ＰＬに向かって定常的に流れる。
露光時に、レチクルステージＲＳＴが走査方向に移動す
るが、レチクルステージＲＳＴが隔室３６によって覆わ
れているためにレチクルステージＲＳＴの移動位置に拘
らず、チャンバの空気吹き出し口２からの空気流が投影
光学系ＰＬに向かって定常的に流れる。
【００２３】上記実施例ではレチクルステージＲＳＴを
収容する隔室３６は、気体吹き出し口４１及び排出口４
２とを隔壁５１及び５３に設けることによって隔室３６
をチャンバ内部から密閉する構造としたが、隔室３６内
の気流がチャンバ１の空調系から実質的に影響を受けな
いことを条件に、隔壁５１及び５３を設けないで隔壁５
０〜５４で覆われた隔室３６をチャンバ１の内部と連通
させてもよい。この場合、隔室３６内に供給する気体と
チャンバ１の空調用気体とを同一種にする必要がある。
上記実施例では、チャンバ１の空調用の気体として空気
を用いたが、空気以外の気体を用いることができる。特
に、光源に紫外域の短波長レーザ光等を用いる場合に
は、励起状態酸素が発生することを防止するために、窒
素またはヘリウムガス等の不活性気体を用いることが望
ましい。
収容する隔室３６は、気体吹き出し口４１及び排出口４
２とを隔壁５１及び５３に設けることによって隔室３６
をチャンバ内部から密閉する構造としたが、隔室３６内
の気流がチャンバ１の空調系から実質的に影響を受けな
いことを条件に、隔壁５１及び５３を設けないで隔壁５
０〜５４で覆われた隔室３６をチャンバ１の内部と連通
させてもよい。この場合、隔室３６内に供給する気体と
チャンバ１の空調用気体とを同一種にする必要がある。
上記実施例では、チャンバ１の空調用の気体として空気
を用いたが、空気以外の気体を用いることができる。特
に、光源に紫外域の短波長レーザ光等を用いる場合に
は、励起状態酸素が発生することを防止するために、窒
素またはヘリウムガス等の不活性気体を用いることが望
ましい。
【００２４】
【発明の効果】本発明の走査型露光装置は、レチクルス
テージをチャンバ内の空調用空気流から遮るための隔室
を設けたために、レチクルステージが走査方向に移動す
ることにより生じるチャンバ内の空気流の変動及び投影
光学系ＰＬ周囲の温度変動を防止することができ、安定
した結像特性をもたらすことができる。また、本発明の
走査型露光装置は、レチクルステージ用の干渉計の光路
及びレチクルと投影光学系との間の光路を含むレチクル
ステージの周囲を隔壁で覆ったため、干渉計光路上の温
度ゆらぎの発生を防止して干渉計の測距誤差を最小にす
ることができる。また、上記隔壁により塵等によるレチ
クルステージ及びレチクルの汚染を防止することができ
る。
テージをチャンバ内の空調用空気流から遮るための隔室
を設けたために、レチクルステージが走査方向に移動す
ることにより生じるチャンバ内の空気流の変動及び投影
光学系ＰＬ周囲の温度変動を防止することができ、安定
した結像特性をもたらすことができる。また、本発明の
走査型露光装置は、レチクルステージ用の干渉計の光路
及びレチクルと投影光学系との間の光路を含むレチクル
ステージの周囲を隔壁で覆ったため、干渉計光路上の温
度ゆらぎの発生を防止して干渉計の測距誤差を最小にす
ることができる。また、上記隔壁により塵等によるレチ
クルステージ及びレチクルの汚染を防止することができ
る。
【図１】本発明の走査型露光装置の一具体例の概略を示
す図である。
す図である。
【図２】図２の隔室内に収容されたレチクルステージＲ
ＳＴのＡＡ方向の矢視図図である。
ＳＴのＡＡ方向の矢視図図である。
【図３】図１の走査型露光装置の隔室内に収容されたレ
チクルステージの側面図である。
チクルステージの側面図である。
【図４】従来の走査型投影露光装置及びその空調系を示
す概略図である。
す概略図である。
Ｒ レチクル Ｗ ウエハ ＲＨ レチクルホルダ ＰＬ 投影光学系 ＲＳＴ レチクルステージ ＷＳＴ ウエハステージ １ チャンバ ２ 空気吹き出し口 ３ コンデンサレンズ ５，８ 移動鏡 ６，９ 干渉計 ３１ ビームスプリッタ ３２ 開口部 ３３ リニアモータ ３４ ガイド ３５ 開閉窓 ３６ 隔室 ３７ 定盤 ４１ 気体吹き出し口
Claims (4)
- 【請求項１】 チャンバ内の温度をほぼ一定に維持する
ために、該チャンバ内で温度制御された気体を流動させ
る空調手段と、マスクを照明光で照射する照明光学系
と、前記照明光に対して前記マスクを相対移動するマス
クステージと、該マスクステージの位置を測定するため
の干渉計とを備え、前記マスクと感光基板とを同期移動
して前記マスク上のパターンの像で前記感光基板を露光
する走査型露光装置において、 前記マスクステージ及び前記干渉計のビーム光路に向か
う前記気体を遮るための隔壁と、 前記隔壁で仕切られた前記マスクステージ及び前記干渉
計のビーム光路を含む空間内に温度制御された気体を供
給する気体供給手段とを備えたことを特徴とする走査型
露光装置。 - 【請求項２】 前記マスク上のパターン像を前記感光基
板上に投影する投影光学系を有し、該投影光学系と前記
マスクとの間の光路が前記隔壁で覆われていることを特
徴とする請求項１に記載の走査型露光装置。 - 【請求項３】 前記マスクステージ及び前記干渉計のビ
ーム光路は前記隔壁でほぼ覆われ、前記マスクが前記照
明光で照射されるように前記隔壁の一部が前記照明光に
対してほぼ透明な部材で構成されていることを特徴とす
る請求項１または２に記載の走査型露光装置。 - 【請求項４】 前記マスク上のパターン像を前記感光基
板上に投影する投影光学系を有し、前記空調手段は、前
記マスクの上方から前記投影光学系の光軸とほぼ平行に
前記気体を流すことを特徴とする請求項１〜３のいずれ
か一項に記載の走査型露光装置。
Priority Applications (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP25936595A JP3552363B2 (ja) | 1995-09-12 | 1995-09-12 | 走査型露光装置 |
| US08/707,218 US5877843A (en) | 1995-09-12 | 1996-09-03 | Exposure apparatus |
| KR1019960038848A KR100443452B1 (ko) | 1995-09-12 | 1996-09-09 | 주사형노광장치 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP25936595A JP3552363B2 (ja) | 1995-09-12 | 1995-09-12 | 走査型露光装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0982625A true JPH0982625A (ja) | 1997-03-28 |
| JP3552363B2 JP3552363B2 (ja) | 2004-08-11 |
Family
ID=17333109
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP25936595A Expired - Fee Related JP3552363B2 (ja) | 1995-09-12 | 1995-09-12 | 走査型露光装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3552363B2 (ja) |
Cited By (8)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO1999027570A1 (fr) * | 1997-11-25 | 1999-06-03 | Nikon Corporation | Dispositif d'exposition par projection |
| WO1999052004A1 (fr) * | 1998-04-07 | 1999-10-14 | Nikon Corporation | Appareil et procede d'exposition a projection, et systeme optique reflechissant a refraction |
| US6450288B1 (en) | 1998-01-28 | 2002-09-17 | Nikon Corporation | Air-conditioning apparatus, partition and exposure apparatus |
| US6891593B2 (en) | 2000-11-15 | 2005-05-10 | Canon Kabushiki Kaisha | Exposure apparatus, maintenance method therefor, semiconductor device manufacturing method using the apparatus, and semiconductor manufacturing factory |
| JP2008270801A (ja) * | 2007-04-19 | 2008-11-06 | Asml Netherlands Bv | リソグラフィ装置およびデバイス製造方法 |
| US7978339B2 (en) | 2005-10-04 | 2011-07-12 | Asml Netherlands B.V. | Lithographic apparatus temperature compensation |
| JP2015535096A (ja) * | 2012-10-30 | 2015-12-07 | カール・ツァイス・エスエムティー・ゲーエムベーハー | 圧力変動の影響を減少させる手段を備える投影露光装置 |
| USD934864S1 (en) | 2019-04-05 | 2021-11-02 | Dynabook Inc. | Mobile computer |
-
1995
- 1995-09-12 JP JP25936595A patent/JP3552363B2/ja not_active Expired - Fee Related
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO1999027570A1 (fr) * | 1997-11-25 | 1999-06-03 | Nikon Corporation | Dispositif d'exposition par projection |
| US6450288B1 (en) | 1998-01-28 | 2002-09-17 | Nikon Corporation | Air-conditioning apparatus, partition and exposure apparatus |
| WO1999052004A1 (fr) * | 1998-04-07 | 1999-10-14 | Nikon Corporation | Appareil et procede d'exposition a projection, et systeme optique reflechissant a refraction |
| US6707616B1 (en) | 1998-04-07 | 2004-03-16 | Nikon Corporation | Projection exposure apparatus, projection exposure method and catadioptric optical system |
| US6891593B2 (en) | 2000-11-15 | 2005-05-10 | Canon Kabushiki Kaisha | Exposure apparatus, maintenance method therefor, semiconductor device manufacturing method using the apparatus, and semiconductor manufacturing factory |
| US7034918B2 (en) | 2000-11-15 | 2006-04-25 | Canon Kabushiki Kaisha | Exposure apparatus, maintenance method therefor, semiconductor device manufacturing method using the apparatus, and semiconductor manufacturing factory |
| US7978339B2 (en) | 2005-10-04 | 2011-07-12 | Asml Netherlands B.V. | Lithographic apparatus temperature compensation |
| JP2008270801A (ja) * | 2007-04-19 | 2008-11-06 | Asml Netherlands Bv | リソグラフィ装置およびデバイス製造方法 |
| JP2011146727A (ja) * | 2007-04-19 | 2011-07-28 | Asml Netherlands Bv | リソグラフィ装置 |
| JP2015535096A (ja) * | 2012-10-30 | 2015-12-07 | カール・ツァイス・エスエムティー・ゲーエムベーハー | 圧力変動の影響を減少させる手段を備える投影露光装置 |
| US10162267B2 (en) | 2012-10-30 | 2018-12-25 | Carl Zeiss Smt Gmbh | Projection exposure apparatus including mechanism to reduce influence of pressure fluctuations |
| USD934864S1 (en) | 2019-04-05 | 2021-11-02 | Dynabook Inc. | Mobile computer |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP3552363B2 (ja) | 2004-08-11 |
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Legal Events
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