TWI278663B - Cube and method of making same - Google Patents
Cube and method of making same Download PDFInfo
- Publication number
- TWI278663B TWI278663B TW092126382A TW92126382A TWI278663B TW I278663 B TWI278663 B TW I278663B TW 092126382 A TW092126382 A TW 092126382A TW 92126382 A TW92126382 A TW 92126382A TW I278663 B TWI278663 B TW I278663B
- Authority
- TW
- Taiwan
- Prior art keywords
- calcium fluoride
- coating film
- cube
- optical element
- uncoated
- Prior art date
Links
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C27/00—Joining pieces of glass to pieces of other inorganic material; Joining glass to glass other than by fusing
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B27/00—Optical systems or apparatus not provided for by any of the groups G02B1/00 - G02B26/00, G02B30/00
- G02B27/10—Beam splitting or combining systems
- G02B27/14—Beam splitting or combining systems operating by reflection only
- G02B27/142—Coating structures, e.g. thin films multilayers
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B27/00—Optical systems or apparatus not provided for by any of the groups G02B1/00 - G02B26/00, G02B30/00
- G02B27/28—Optical systems or apparatus not provided for by any of the groups G02B1/00 - G02B26/00, G02B30/00 for polarising
- G02B27/283—Optical systems or apparatus not provided for by any of the groups G02B1/00 - G02B26/00, G02B30/00 for polarising used for beam splitting or combining
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Optics & Photonics (AREA)
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- General Chemical & Material Sciences (AREA)
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Ceramic Engineering (AREA)
- Geochemistry & Mineralogy (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Optical Elements Other Than Lenses (AREA)
- Optical Filters (AREA)
- Polarising Elements (AREA)
- Surface Treatment Of Optical Elements (AREA)
- Physical Vapour Deposition (AREA)
Description
1278663 (4) 有 α 1 = α 菱鏡200Α 400包含 率材料層 沉積在稜 介電層積 依立方體 2微米（ 些實施例 LaF3)， I 193 奈 爲氟化銨 在其他實 中，一接 詳細說明 其爲一種 的材料。 時確保極 α3 = 9 0。左右，而在另一實施例中，稜鏡200具 2 = 52°左右，α 3 = 76°左右。 如第四圖所示，棱鏡之一 200Α具有沉積在^ 之一主體402上的一介電層積4〇〇，該介電層積 複數層相互交替的高折射率材料層4 0 4和低折射 406。層404和406係於一多層塗膜程序604時 鏡200Α之主體402上，此將於下文詳細說明。 400可包含複數（例如20至50)層，每層厚度 使用的環境而定，可爲500公釐（mm)至 micron)。在使用波長157奈米（nm)之光的一 中’筒折射率材料爲·化|L ( G d F 3 )或氟化鑭（ 而低折射率材料爲氟化鎂（M g F 3 )。在使用波i 米（nm )之光的其他實施例中，高折射率材料 (NdF3 )，而低折射率材料爲氟化鋁（A1F3 )。 施例中，可使用與上述相同性質的其他材料。 繼續參考第四圖，在一接觸層沉積程序606 觸層408沉積在介電層積400頂面，此將於下文 。接觸層4 0 8可爲一熔融氧化矽或二氧化矽層， 與未塗膜棱鏡2 0 0 B之氟化鈣材料具自然相容性 此可確保兩稜鏡2 0 0間的玻璃對玻璃之結合，同 少量甚至沒有界面反射。 參考第五圖，其顯示本發明實施例的一真空室500, 該真空室500包含在沉積操作中固持稜鏡200的一塗膜座 5 02。在不同的實施例中，使用一濺射裝置504 (例如濺 1278663 (5) 射槍）或一電子束裝置5〇6(例如電子束槍），或兩者皆 使用，以在塗膜稜鏡2〇〇A上沉積形成介電層積4⑽和接 觸層408的材料。應瞭解可使用其他的沉積裝置以成形立 方體102。
第六圖顯示成形本發明實施例之立方體1〇2的一種方 法600。在步驟602,從一製造裝置接收原料形式的稜鏡 200A和200B並加以處理。在步驟6〇4，執行多層塗膜程 序，以在塗膜棱鏡200A的主體402上建立介電層積。在 步驟6 0 6 ’執行接觸層塗膜程序，以在介電層積4 〇 〇上沉 積一接觸層408。在步驟608，執行光學接觸程序，以耦 合塗膜稜鏡200A於未塗膜棱鏡200B。此方法600在步驟 6 1 0結束。
第七圖顯示本發明實施例之方法6 0 0的詳細步驟。在 處理步驟6 0 2中，於步驟7 0 2接收原料形式的棱鏡2 0 0 A 和200B ;於步驟702拋光稜鏡200A和200B，直到其符 合終端使用者指定的參數（例如波長、尺寸等）；於步驟 7〇4淸潔；於步驟706檢查，以確保稜鏡符合終端使用者 的規格。 在多層塗膜程序604中，於步驟708時，將變成塗膜 稜鏡的棱鏡20 0A被置入真空室5 00內；於步驟710執行 多層塗膜程序，在此程序時，交替沉積形成介電層積400 的高折射率材料層404和低折射率材料層406。該沉積程 序可由電子束蒸發、離子束濺射、阻抗源蒸發、或任何其 他已知沉積方法執行。於步驟712冷卻塗膜稜鏡200 A ; -8- 1278663 (7) 雖然本發明各種實施例已描述如上，但應瞭解他們只 是以例子的方式提出，並非限制。對熟習相關技藝人士， 顯然可就形式和細節做不同的變化’但仍未脫離本發明的 精神及範圍。因此’本發明的領域和範圍不應被上述例示 的任何實施例所限制，而只應依據下列申請專利範圍及其 均等者定義。 【圖式簡單說明】 在此倂入而形成說明書之一部份的附圖說明了本發明 ，且連同說明書更做爲解釋本發明的原理，使得熟習相關 技藝人士可實施和使用本發明。 第一圖顯示使用本發明實施例之立方體的一例示環境 第二圖顯示本發明實施例以兩棱鏡形成一例示立方體 的透視圖； 第三圖顯示用於形成第二圖立方體之兩稜鏡的分解圖 第四圖顯示第二至三圖兩稜鏡其中之一的一部之剖視 圖； 第五圖顯示本發明實施例在形成立方體之部分程序時 ，所使用的例示真空室； 第六圖顯示本發明實施例用於形成立方體之程序’所 描述方法步驟的流程圖；及 第七圖顯示在第六圖的程序所使用之方法步驟的更詳 •10- (8) 1278663 細流程圖。 本發明現在將參考附圖描述。在圖式中’類似的梦考 編號指示相同或功能類似的元件。此外’參考編號的最左 位數表示參考編號第一次出現在圖式中。 主要元件對照表 100 系統 102 分光立方體 104 雷射 106 射束調節器 108 光罩 110 投射光學組 112 反射鏡 114 晶圓光學組 116 晶圓 200A 塗膜光學元件（棱鏡） 200B 未塗膜光學元件（稜鏡） 200 基材 3 00,3 02 表面 400 介電層積 402 主體 404 高折射率材料層 4〇6 低折射率材料層 4〇8 接觸層 -11 - 1278663
500 真 空 室 502 塗 膜 座 504 濺 射 裝 置 ( 槍 ) 506 電 子 束 裝 置 ( 槍） * 600 方 法 -12-
Claims (1)
1278663 (1)
拾、申請專利範圍 附件四A ··第92126382號修正後無劃線之 中文申請專利範圍替換本民國95年4月26日呈 1. 一種氟化鈣立方體，包含： 一未塗膜氟化耗稜鏡； 一塗膜氟化鈣稜鏡耦合於該未塗膜氟化鈣稜鏡，該塗 膜氟化鈣稜鏡包括： 具有一多層塗膜的一第一塗膜段；及 形成在該第一塗膜段之頂部的一第二塗膜段，該第二 塗膜段具有一接觸層塗膜； 其中該氟化鈣立方體傳輸深紫外線或真空紫外線波長 的光，而無實質的吸收。 2 ·如申請專利範圍第1項所述氟化鈣立方體，其中該 接觸層塗膜是一二氧化砂塗膜。 3 ·如申請專利範圍第1項所述氟化鈣立方體，其中該 接觸層塗膜是一熔融氧化矽塗膜。 4 ·如申請專利範圍第1項所述氟化鈣立方體，其中該 氟化鈣立方體是一偏光立方體。 5 ·如申請專利範圍第1項所述氟化鈣立方體，其中該 氟化鈣立方體是一分光器。 6·—種氟化鈣光學裝置，包含： 一未塗膜氟化鈣光學元件； 一塗膜氟化鈣光學元件耦合於該未塗膜氟化鈣光學元
1278663 (2) 件的一表面；該塗膜氟化鈣光學元件包括： 形成在該表面上的一多層塗膜；及 形成在該多層塗膜上的一接觸層塗膜； 其中該氟化鈣光學元件傳輸深紫外線或真空紫外線波 長的光，而無實質的吸收。 7 ·如申請專利範圍第6項所述氟化鈣光學裝置，其中 該接觸層塗膜是一二氧化矽塗膜。 8 ·如申請專利範圍第6項所述氟化鈣光學裝置，其中 該接觸層塗膜是一熔融氧化矽塗膜。 9 ·如申請專利範圍第6項所述氟化鈣光學裝置，其中 該未塗膜氟化鈣光學元件和該塗膜氟化鈣光學元件是稜鏡 〇 1 0 ·如申請專利範圍第6項所述氟化鈣光學裝置，其 中該未塗膜氟化鈣光學元件和該塗膜氟化鈣光學元件耦合 在一起，以形成一偏光立方體。 1 1 ·如申請專利範圍第6項所述氟化鈣光學裝置，其 中該未塗膜氟化鈣光學元件和該塗膜氟化鈣光學元件耦合 在一起，以形成一分光器。 1 2 ·如申請專利範圍第1項所述氟化鈣立方體，其中 該光的波長約爲157奈米，其傳輸經過該氟化鈣立方體而 無實質的吸收。 1 3 .如申請專利範圍第6項所述氟化鈣立方體，其中 該光的波長約爲1 57奈米，其傳輸經過該氟化鈣立方體而 無實質的吸收。 -2 - 1278663 附件五A 第921娜號日呈
第3圖
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| US10/260,308 US6824654B2 (en) | 2002-10-01 | 2002-10-01 | Method of making a cube |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| TW200407562A TW200407562A (en) | 2004-05-16 |
| TWI278663B true TWI278663B (en) | 2007-04-11 |
Family
ID=31993528
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| TW092126382A TWI278663B (en) | 2002-10-01 | 2003-09-24 | Cube and method of making same |
Country Status (8)
| Country | Link |
|---|---|
| US (2) | US6824654B2 (zh) |
| EP (1) | EP1406110B1 (zh) |
| JP (1) | JP2004126585A (zh) |
| KR (1) | KR100609794B1 (zh) |
| CN (1) | CN1329751C (zh) |
| DE (1) | DE60335511D1 (zh) |
| SG (1) | SG105589A1 (zh) |
| TW (1) | TWI278663B (zh) |
Families Citing this family (9)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN100406920C (zh) * | 2005-03-22 | 2008-07-30 | 精工爱普生株式会社 | 光学制品及光学制品的制造方法 |
| JP2006301585A (ja) * | 2005-03-22 | 2006-11-02 | Seiko Epson Corp | 光学製品および光学製品の製造方法 |
| US7593004B2 (en) | 2005-06-02 | 2009-09-22 | Eastman Kodak Company | Touchscreen with conductive layer comprising carbon nanotubes |
| US20070141244A1 (en) * | 2005-12-19 | 2007-06-21 | Eastman Kodak Company | Method of making a polarizer plate |
| US8867130B1 (en) | 2010-07-22 | 2014-10-21 | Vuv Analytics, Inc. | Polarization device for vacuum ultraviolet or shorter wavelengths |
| CN102116917B (zh) * | 2011-01-19 | 2012-06-27 | 四川欧瑞特光电科技有限公司 | 一种光学元件的光胶方法及其在角锥阵列中实施的方法 |
| US9116158B2 (en) | 2012-10-18 | 2015-08-25 | Vuv Analytics, Inc. | Vacuum ultraviolet absorption spectroscopy system and method |
| CN105676408B (zh) * | 2016-03-14 | 2018-03-02 | 中国科学院西安光学精密机械研究所 | 用于棱镜胶合的支撑结构及胶合工艺 |
| US10677767B2 (en) | 2018-06-12 | 2020-06-09 | Vuv Analytics, Inc. | Vacuum ultraviolet absorption spectroscopy system and method |
Family Cites Families (24)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| GB191301869A (en) * | 1909-03-22 | 1913-03-20 | Zeiss Carl | Improvements in Optical Squares |
| DE1203978B (de) | 1962-03-23 | 1965-10-28 | Zeiss Carl Fa | Spektralpolarimeter |
| US3559090A (en) | 1968-10-08 | 1971-01-26 | Bausch & Lomb | Polarization free beam divider |
| US3704934A (en) | 1971-08-16 | 1972-12-05 | Union Carbide Corp | Laser polarizing beam splitter |
| DE3206040A1 (de) * | 1982-02-19 | 1983-09-01 | Siemens AG, 1000 Berlin und 8000 München | Reflexionsfreier optischer polarisator mit einem prisma |
| US4627688A (en) * | 1983-07-01 | 1986-12-09 | Sano Kiko Co., Ltd. | Beam splitter |
| JPS6064304A (ja) | 1983-09-19 | 1985-04-12 | Nitto Koki Kk | 無偏光ビ−ムスプリッタ− |
| JP2594902B2 (ja) * | 1985-02-15 | 1997-03-26 | 株式会社日立製作所 | テレビジョンカメラの補正方法 |
| US5725626A (en) * | 1986-06-18 | 1998-03-10 | Canon Kabushiki Kaisha | Method for manufacturing an optical element by bonding a plurality of elements |
| US4733926A (en) | 1986-11-10 | 1988-03-29 | Lockheed Missiles & Space Company, Inc. | Infrared polarizing beamsplitter |
| JPS63299591A (ja) * | 1987-05-29 | 1988-12-07 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 色分解光学系 |
| JPH0223301A (ja) * | 1988-07-12 | 1990-01-25 | Toyo Commun Equip Co Ltd | 光学部品の接着力強化構造 |
| US5400179A (en) | 1992-02-18 | 1995-03-21 | Asahi Kogaku Kogyo Kabushiki Kaisha | Optical multilayer thin film and beam splitter |
| ATE160884T1 (de) * | 1992-06-23 | 1997-12-15 | Koninkl Philips Electronics Nv | Polarisationsempfindlicher strahlteiler, methode zur herstellung eines solchen und magneto- optische abtastvorrichtung mit einem solchen strahlteiler |
| US5339441A (en) | 1992-07-02 | 1994-08-16 | Advanced Intervention Systems, Inc. | Polarizing device with optically contacted thin film interface for high power density ultraviolet light |
| JPH07110961A (ja) * | 1993-10-14 | 1995-04-25 | Sony Corp | 接合プリズム |
| CN1067118C (zh) * | 1994-07-08 | 2001-06-13 | 松下电器产业株式会社 | 磁控管溅射装置 |
| JPH095518A (ja) * | 1995-06-19 | 1997-01-10 | Nikon Corp | 偏光ビームスプリッター及びその製造方法 |
| JPH09243808A (ja) * | 1996-03-14 | 1997-09-19 | Olympus Optical Co Ltd | ビームスプリッター |
| TW304232B (en) * | 1996-11-23 | 1997-05-01 | Ind Tech Res Inst | The wide band polarizer with multi-layers film |
| JPH11264904A (ja) * | 1998-03-17 | 1999-09-28 | Nikon Corp | プリズム型光学素子 |
| US6480330B1 (en) | 2000-02-24 | 2002-11-12 | Silicon Valley Group, Inc. | Ultraviolet polarization beam splitter for microlithography |
| US20020005990A1 (en) * | 2000-07-11 | 2002-01-17 | Nikon Corporation | Optical element formed with optical thin film and exposure apparatus |
| US6710351B2 (en) * | 2001-09-18 | 2004-03-23 | Euv, Llc | EUV mirror based absolute incident flux detector |
-
2002
- 2002-10-01 US US10/260,308 patent/US6824654B2/en not_active Expired - Lifetime
-
2003
- 2003-09-24 TW TW092126382A patent/TWI278663B/zh not_active IP Right Cessation
- 2003-09-29 CN CNB031601715A patent/CN1329751C/zh not_active Expired - Fee Related
- 2003-09-30 KR KR1020030067772A patent/KR100609794B1/ko active IP Right Grant
- 2003-09-30 JP JP2003341559A patent/JP2004126585A/ja active Pending
- 2003-10-01 DE DE60335511T patent/DE60335511D1/de not_active Expired - Lifetime
- 2003-10-01 SG SG200305771A patent/SG105589A1/en unknown
- 2003-10-01 EP EP03022272A patent/EP1406110B1/en not_active Expired - Lifetime
-
2004
- 2004-03-25 US US10/808,360 patent/US20040179260A1/en not_active Abandoned
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| EP1406110B1 (en) | 2010-12-29 |
| CN1329751C (zh) | 2007-08-01 |
| DE60335511D1 (de) | 2011-02-10 |
| US20040061116A1 (en) | 2004-04-01 |
| KR20040030333A (ko) | 2004-04-09 |
| US6824654B2 (en) | 2004-11-30 |
| SG105589A1 (en) | 2004-08-27 |
| CN1514260A (zh) | 2004-07-21 |
| KR100609794B1 (ko) | 2006-08-09 |
| TW200407562A (en) | 2004-05-16 |
| JP2004126585A (ja) | 2004-04-22 |
| US20040179260A1 (en) | 2004-09-16 |
| EP1406110A1 (en) | 2004-04-07 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JP6926054B2 (ja) | 経時的に安定している性質を有する干渉コーティングでコートされた物品 | |
| JP5509691B2 (ja) | レンズ及びその製造方法 | |
| JP7312546B2 (ja) | 偏光ビームスプリッタ及びその製造方法 | |
| TWI278663B (en) | Cube and method of making same | |
| JP4201603B2 (ja) | トリミングに適したガラスの作製方法、それにより得られるガラスおよび該ガラスのトリミング方法 | |
| US8773750B2 (en) | Optical coupling device having KBBF group crystal coupled with prisms and method for manufacturing same | |
| JP2021518583A (ja) | 光学デバイスにおける改善された写像性のための直接結合積層 | |
| JP2010060770A (ja) | 光学物品及び光学物品の製造方法 | |
| CN110806608B (zh) | 高折射层的含量降低的光学层状复合材料及其在增强现实中的应用 | |
| KR20030057558A (ko) | 반사방지층의 냉각공정 증착 방법 | |
| JP7195140B2 (ja) | 光学素子の作製方法 | |
| CN115793110A (zh) | 具有厚度在阈值以下的涂层的光学层状复合材料及其在增强现实中的应用 | |
| WO2010074109A1 (ja) | 光学素子成形素材及びその製造方法 | |
| JPH095518A (ja) | 偏光ビームスプリッター及びその製造方法 | |
| JP4394460B2 (ja) | 薄膜偏光スプリッター、該薄膜偏光スプリッターの製造、及び該薄膜偏光スプリッターを有する投影挿入体を含む眼科用レンズ | |
| JP2004279495A (ja) | ビームスプリッタおよび光学測定機 | |
| JP2006071754A (ja) | 偏光ビームスプリッター及びその製造方法 | |
| JP2024538420A (ja) | 反射防止光学コーティング及びそれを形成する方法 | |
| JPS63107842A (ja) | 光学用ガラス基材の製造方法 | |
| US20230161077A1 (en) | Anti-reflective optical coatings and methods of forming the same | |
| JPS6326603A (ja) | 合成樹脂部材の反射鏡 | |
| WO2011093235A1 (ja) | 光学部品の製造方法 | |
| JP2012255927A (ja) | 光学素子及びその製造方法 | |
| JPH11248932A (ja) | Ｕｖカットフィルター | |
| JP2006065247A (ja) | 偏光ビームスプリッター及びその製造方法 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| MM4A | Annulment or lapse of patent due to non-payment of fees |