JPH09243808A - ビームスプリッター - Google Patents
ビームスプリッターInfo
- Publication number
- JPH09243808A JPH09243808A JP5783596A JP5783596A JPH09243808A JP H09243808 A JPH09243808 A JP H09243808A JP 5783596 A JP5783596 A JP 5783596A JP 5783596 A JP5783596 A JP 5783596A JP H09243808 A JPH09243808 A JP H09243808A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- beam splitter
- infrared light
- refractive index
- spectral transmittance
- multilayer film
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Withdrawn
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- Optical Elements Other Than Lenses (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 本発明は、同一光路内に可視光と赤外光とが
混在する光学機器に適用して簡潔かつ小型に構成でき、
赤外光を有効利用できるようなビームスプリッターを提
供する。 【解決手段】 本発明は、高屈折率物質と低屈折率物質
からなる膜を交互に積層してなる多層膜３を有しプリズ
ム１、２を接合してなるビームスプリッターにおいて、
可視域の分光透過率と分光反射率との比が６５：３５乃
至４０：６０の範囲の値であり、かつ、赤外光の所定の
波長域の分光透過率は９０％以上であることを特徴とす
る。
混在する光学機器に適用して簡潔かつ小型に構成でき、
赤外光を有効利用できるようなビームスプリッターを提
供する。 【解決手段】 本発明は、高屈折率物質と低屈折率物質
からなる膜を交互に積層してなる多層膜３を有しプリズ
ム１、２を接合してなるビームスプリッターにおいて、
可視域の分光透過率と分光反射率との比が６５：３５乃
至４０：６０の範囲の値であり、かつ、赤外光の所定の
波長域の分光透過率は９０％以上であることを特徴とす
る。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、所定の波長の光線
が入射した場合に、その光束を分岐するビームスプリッ
ターに関し、特に、同一光路内に可視光と赤外光とが混
在する光学機器に用いられるようなビームスプリッター
に関する。
が入射した場合に、その光束を分岐するビームスプリッ
ターに関し、特に、同一光路内に可視光と赤外光とが混
在する光学機器に用いられるようなビームスプリッター
に関する。
【０００２】
【従来の技術】近年、ビデオカメラなどの光学製品で
は、種々の光学系を実現するために各種のビームスプリ
ッターが組み込まれている。また、これら光学機器で
は、距離を自動化したいわゆるオートフォーカス機構が
多く採用されるようになってきている。このようなオー
トフォーカス機構では、可視光や赤外光が主に測距に用
いられている。
は、種々の光学系を実現するために各種のビームスプリ
ッターが組み込まれている。また、これら光学機器で
は、距離を自動化したいわゆるオートフォーカス機構が
多く採用されるようになってきている。このようなオー
トフォーカス機構では、可視光や赤外光が主に測距に用
いられている。
【０００３】このようなビームスプリッターとしては、
例えば特開昭６３−５６６０５号公報に開示されたもの
が知られている。これは、誘電体層を７層積層すること
によって可視光域の反射率が略一定になるようにしたも
のである。
例えば特開昭６３−５６６０５号公報に開示されたもの
が知られている。これは、誘電体層を７層積層すること
によって可視光域の反射率が略一定になるようにしたも
のである。
【０００４】このビームスプリッターを用いて、例えば
赤外光を測距用として用いる場合、赤外光の利用効率を
上げるためにはビームスプリッターの前に赤外光を反射
して可視光線を透過するようなフィルターを設け、予め
赤外光を別の光路に分けてから可視光をビームスプリッ
ターに導く必要があった。
赤外光を測距用として用いる場合、赤外光の利用効率を
上げるためにはビームスプリッターの前に赤外光を反射
して可視光線を透過するようなフィルターを設け、予め
赤外光を別の光路に分けてから可視光をビームスプリッ
ターに導く必要があった。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、このよ
うに２段階に分けて光線を分割すると、光学系が複雑、
大型になり、光学設計上の制約や光学部品の配置上の制
約、さらには、寸法の制約を受けることになるという課
題を有していた。
うに２段階に分けて光線を分割すると、光学系が複雑、
大型になり、光学設計上の制約や光学部品の配置上の制
約、さらには、寸法の制約を受けることになるという課
題を有していた。
【０００６】このため、光学系を構成する要素の配置が
ある程度固定されてしまい、光学設計の自由度が少なく
なって、装置の小型化、簡素化又は部品点数の減少を図
ろうとする場合の制限となっていた。
ある程度固定されてしまい、光学設計の自由度が少なく
なって、装置の小型化、簡素化又は部品点数の減少を図
ろうとする場合の制限となっていた。
【０００７】本発明は、このような課題に鑑み、同一光
路内に可視光と赤外光とが混在する光学機器に適用して
簡潔かつ小型に構成でき、赤外光を有効利用できるよう
なビームスプリッターを提供することを目的としてい
る。
路内に可視光と赤外光とが混在する光学機器に適用して
簡潔かつ小型に構成でき、赤外光を有効利用できるよう
なビームスプリッターを提供することを目的としてい
る。
【０００８】
【課題を解決するための手段】請求項１記載の発明は、
高屈折率物質と低屈折率物質からなる膜を交互に積層し
てなる多層膜を有するビームスプリッターにおいて、可
視域の分光透過率と分光反射率との比が所定の値にな
り、かつ、赤外光の所定の波長域の分光透過率は９０％
以上であることを特徴とするものである。
高屈折率物質と低屈折率物質からなる膜を交互に積層し
てなる多層膜を有するビームスプリッターにおいて、可
視域の分光透過率と分光反射率との比が所定の値にな
り、かつ、赤外光の所定の波長域の分光透過率は９０％
以上であることを特徴とするものである。
【０００９】請求項２記載の発明は、高屈折率物質と低
屈折率物質からなる膜を交互に積層してなる多層膜を有
するビームスプリッターにおいて、可視域の分光透過率
と分光反射率との比が６５：３５乃至４０：６０の範囲
の値であり、かつ、赤外光の所定の波長域の分光透過率
は９０％以上であることを特徴とするものである。
屈折率物質からなる膜を交互に積層してなる多層膜を有
するビームスプリッターにおいて、可視域の分光透過率
と分光反射率との比が６５：３５乃至４０：６０の範囲
の値であり、かつ、赤外光の所定の波長域の分光透過率
は９０％以上であることを特徴とするものである。
【００１０】請求項１及び２記載の発明に係るビームス
プリッターは、可視光に対しては分光透過率と分光反射
率との比が所定の値になるように光路を分割し、赤外光
の分光透過率は９０％以上として赤外光が透過するよう
にした。
プリッターは、可視光に対しては分光透過率と分光反射
率との比が所定の値になるように光路を分割し、赤外光
の分光透過率は９０％以上として赤外光が透過するよう
にした。
【００１１】これによって、同一光路内に可視光と赤外
光とが混在する光学機器に適用し、部品点数が少なく小
型の構造で赤外光を有効利用できるビームスプリッター
を得ることができる。
光とが混在する光学機器に適用し、部品点数が少なく小
型の構造で赤外光を有効利用できるビームスプリッター
を得ることができる。
【００１２】また、このビームスプリッターを用いるこ
とによって、光学系の設計の自由度が増し、かつ、構成
の簡素化を図ることが可能になる。
とによって、光学系の設計の自由度が増し、かつ、構成
の簡素化を図ることが可能になる。
【００１３】
【発明の実施の形態】以下に本発明の実施の形態につい
て詳細に説明する。
て詳細に説明する。
【００１４】［実施の形態１］本発明の実施の形態１で
は、図１に示すように、屈折率１．５２の光学ガラス製
のプリズム１上に１３層の多層膜３を設け、さらに、屈
折率１．５２の光学ガラス製のプリズム２を接合層４を
介して接合してビームスプリッターとしたものである。
は、図１に示すように、屈折率１．５２の光学ガラス製
のプリズム１上に１３層の多層膜３を設け、さらに、屈
折率１．５２の光学ガラス製のプリズム２を接合層４を
介して接合してビームスプリッターとしたものである。
【００１５】即ち、前記プリズム１の一面上に、真空蒸
着法によって表１に示すような層順及び膜厚でＴｉＯ2
とＳｉＯ2 とを交互に、かつ、合計１３層積層し、多層
膜３を設ける。次に、このプリズム１とプリズム２の対
応する面とを接合し、ビームスプリッターを構成する。
着法によって表１に示すような層順及び膜厚でＴｉＯ2
とＳｉＯ2 とを交互に、かつ、合計１３層積層し、多層
膜３を設ける。次に、このプリズム１とプリズム２の対
応する面とを接合し、ビームスプリッターを構成する。
【００１６】
【表１】
【００１７】本実施の形態１のビームスプリッターに、
４５度の入射角で光が多層膜３に入射するような光を当
てた場合の分光透過率を図２に示す。図２から、４００
乃至６８０ｎｍの波長範囲で分光透過率が５０±５％、
４００乃至７００ｎｍの波長範囲で分光透過率が５０±
１０％と、非常に良好な特性のビームスプリッターであ
ることが解る。
４５度の入射角で光が多層膜３に入射するような光を当
てた場合の分光透過率を図２に示す。図２から、４００
乃至６８０ｎｍの波長範囲で分光透過率が５０±５％、
４００乃至７００ｎｍの波長範囲で分光透過率が５０±
１０％と、非常に良好な特性のビームスプリッターであ
ることが解る。
【００１８】また、７５０乃至９００ｎｍの赤外域の波
長範囲で分光透過率が９０％以上となり、測距等に使用
するには十分な赤外線透過率を有していることが解る。
長範囲で分光透過率が９０％以上となり、測距等に使用
するには十分な赤外線透過率を有していることが解る。
【００１９】［実施の形態２］本発明の実施の形態２で
は、屈折率１．５２の光学ガラス製プリズム上に１１層
の多層膜を設け、ビームスプリッターとしたものを示
す。
は、屈折率１．５２の光学ガラス製プリズム上に１１層
の多層膜を設け、ビームスプリッターとしたものを示
す。
【００２０】以下、図３を用いて説明する。プリズム５
上に真空蒸着法によって表２に示すような層順及び膜厚
でＴｉＯ2 とＳｉＯ2 とを１１層積層し、多層膜６を設
けることにより、ビームスプリッターを構成する。
上に真空蒸着法によって表２に示すような層順及び膜厚
でＴｉＯ2 とＳｉＯ2 とを１１層積層し、多層膜６を設
けることにより、ビームスプリッターを構成する。
【００２１】
【表２】
【００２２】本実施の形態２のビームスプリッターにお
いて、４５度の入射角で光が多層膜６に入射するような
光を当てた場合の分光透過率を図４に示す。図４から、
４００乃至７００ｎｍの波長範囲で分光透過率が６０±
５％と、非常に良好な特性のビームスプリッターとなっ
ていることが解る。また、７５０乃至８００ｎｍの波長
範囲で分光透過率が９０％以上となり、測距等に使用す
るには十分な赤外線透過率を有していることが解る。
いて、４５度の入射角で光が多層膜６に入射するような
光を当てた場合の分光透過率を図４に示す。図４から、
４００乃至７００ｎｍの波長範囲で分光透過率が６０±
５％と、非常に良好な特性のビームスプリッターとなっ
ていることが解る。また、７５０乃至８００ｎｍの波長
範囲で分光透過率が９０％以上となり、測距等に使用す
るには十分な赤外線透過率を有していることが解る。
【００２３】［実施の形態３］本発明の実施の形態３で
は、屈折率１．５２の光学ガラス製のプリズム１上に１
１層の多層膜３を設け、さらに、屈折率１．５２の光学
ガラス製のプリズム２を接合し、ビームスプリッターと
したものである。
は、屈折率１．５２の光学ガラス製のプリズム１上に１
１層の多層膜３を設け、さらに、屈折率１．５２の光学
ガラス製のプリズム２を接合し、ビームスプリッターと
したものである。
【００２４】即、本実施の形態３では、実施の形態１と
同様、図１に示すようなプリズム１上に真空蒸着法によ
って表３に示すような層順及び膜厚でＴａ2 Ｏ5 とＳｉ
Ｏ2とを１１層積層し、多層膜３を設ける。次に、この
プリズム１とプリズム２とを接合し、ビームスプリッタ
ーを構成する。
同様、図１に示すようなプリズム１上に真空蒸着法によ
って表３に示すような層順及び膜厚でＴａ2 Ｏ5 とＳｉ
Ｏ2とを１１層積層し、多層膜３を設ける。次に、この
プリズム１とプリズム２とを接合し、ビームスプリッタ
ーを構成する。
【００２５】
【表３】
【００２６】本実施の形態３のビームスプリッターにお
いて、４５度の入射角で光が多層膜３に入射するような
光を当てた場合の分光透過率を図５に示す。４００乃至
６５０ｎｍの波長範囲で分光透過率が５０±３％、４０
０乃至７００ｎｍの波長範囲で分光透過率が略５０±１
０％と、非常に良好な特性のビームスプリッターとなっ
ていることが解る。
いて、４５度の入射角で光が多層膜３に入射するような
光を当てた場合の分光透過率を図５に示す。４００乃至
６５０ｎｍの波長範囲で分光透過率が５０±３％、４０
０乃至７００ｎｍの波長範囲で分光透過率が略５０±１
０％と、非常に良好な特性のビームスプリッターとなっ
ていることが解る。
【００２７】また、７６０乃至１０００ｎｍの波長範囲
で分光透過率が９０％以上となり、測距等に使用するに
は十分な赤外線透過率を有していることが解る。
で分光透過率が９０％以上となり、測距等に使用するに
は十分な赤外線透過率を有していることが解る。
【００２８】
【発明の効果】以上説明した本発明によれば、同一光路
内に可視光と赤外光とが混在する光学機器に適用して、
構成要素が少なく小型の構成で赤外光を有効利用できる
ビームスプリッターを得ることができる。
内に可視光と赤外光とが混在する光学機器に適用して、
構成要素が少なく小型の構成で赤外光を有効利用できる
ビームスプリッターを得ることができる。
【００２９】また、本発明のビームスプリッターを用い
ることによって、光学系の設計自由度が増し、簡潔な構
成の光学系を得ることが可能になる。
ることによって、光学系の設計自由度が増し、簡潔な構
成の光学系を得ることが可能になる。
【図１】本発明の実施の形態１のビームスプリッターを
示す正面図である。
示す正面図である。
【図２】本発明の実施の形態１のビームスプリッターの
波長と分光透過率との関係を示す特性図である。
波長と分光透過率との関係を示す特性図である。
【図３】本発明の実施の形態２のビームスプリッターを
示す正面図である。
示す正面図である。
【図４】本発明の実施の形態２のビームスプリッターの
波長と分光透過率との関係を示す特性図である。
波長と分光透過率との関係を示す特性図である。
【図５】本発明の実施の形態３のビームスプリッターの
波長と分光透過率との関係を示す特性図である。
波長と分光透過率との関係を示す特性図である。
１ プリズム ２ プリズム ３ 多層膜 ４ 接合層 ５ プリズム ６ 多層膜
Claims (2)
- 【請求項１】 高屈折率物質と低屈折率物質からなる膜
を交互に積層してなる多層膜を有するビームスプリッタ
ーにおいて、 可視域の分光透過率と分光反射率との比が所定の値にな
り、かつ、赤外光の所定の波長域の分光透過率は９０％
以上であること、 を特徴とするビームスプリッター。 - 【請求項２】 高屈折率物質と低屈折率物質からなる膜
を交互に積層してなる多層膜を有するビームスプリッタ
ーにおいて、 可視域の分光透過率と分光反射率との比が６５：３５乃
至４０：６０の範囲の値であり、かつ、赤外光の所定の
波長域の分光透過率は９０％以上であること、 を特徴とするビームスプリッター。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5783596A JPH09243808A (ja) | 1996-03-14 | 1996-03-14 | ビームスプリッター |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5783596A JPH09243808A (ja) | 1996-03-14 | 1996-03-14 | ビームスプリッター |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH09243808A true JPH09243808A (ja) | 1997-09-19 |
Family
ID=13067017
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP5783596A Withdrawn JPH09243808A (ja) | 1996-03-14 | 1996-03-14 | ビームスプリッター |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH09243808A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR20010057689A (ko) * | 1999-12-23 | 2001-07-05 | 김춘호 | 마이크로 빔 스플리터 제조 방법 |
| JP2004126585A (ja) * | 2002-10-01 | 2004-04-22 | Asml Holding Nv | キューブの製造方法、キューブおよび光学装置 |
| CN106199984A (zh) * | 2016-09-27 | 2016-12-07 | 中山联合光电科技股份有限公司 | 一种能够使镜头成像清晰的分光装置 |
-
1996
- 1996-03-14 JP JP5783596A patent/JPH09243808A/ja not_active Withdrawn
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR20010057689A (ko) * | 1999-12-23 | 2001-07-05 | 김춘호 | 마이크로 빔 스플리터 제조 방법 |
| JP2004126585A (ja) * | 2002-10-01 | 2004-04-22 | Asml Holding Nv | キューブの製造方法、キューブおよび光学装置 |
| CN106199984A (zh) * | 2016-09-27 | 2016-12-07 | 中山联合光电科技股份有限公司 | 一种能够使镜头成像清晰的分光装置 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A300 | Withdrawal of application because of no request for examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A300 Effective date: 20030603 |