JP2957399B2 - ビームスプリッタおよび光分岐回路 - Google Patents
ビームスプリッタおよび光分岐回路Info
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- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B6/00—Light guides; Structural details of arrangements comprising light guides and other optical elements, e.g. couplings
- G02B6/24—Coupling light guides
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- G02B6/28—Optical coupling means having data bus means, i.e. plural waveguides interconnected and providing an inherently bidirectional system by mixing and splitting signals
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Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、光通信システムで用い
られるビームスプリッタおよび光分岐回路に係わり、特
に、その偏光状態によらず、およそ４５度で入射された
光の約８５％を透過し、約１５％を反射するビームスプ
リッタとそのビームスプリッタを用いた光分岐回路に関
する。
られるビームスプリッタおよび光分岐回路に係わり、特
に、その偏光状態によらず、およそ４５度で入射された
光の約８５％を透過し、約１５％を反射するビームスプ
リッタとそのビームスプリッタを用いた光分岐回路に関
する。
【０００２】
【従来の技術】近年、大容量情報伝送の要求が高まり、
従来の銅ケーブルを用いた通信システムに代って、光フ
ァイバを用いた光通信システムに使用されるようになっ
てきている。このような光通信システムを構成する際に
は、電気・光変換や光・電気変換を行なう光能動デバイ
スの他に、光信号の分岐を行う光分岐回路や光路を時間
的または空間的に切り替える光スイッチなどの光受動デ
バイスが必要となる。
従来の銅ケーブルを用いた通信システムに代って、光フ
ァイバを用いた光通信システムに使用されるようになっ
てきている。このような光通信システムを構成する際に
は、電気・光変換や光・電気変換を行なう光能動デバイ
スの他に、光信号の分岐を行う光分岐回路や光路を時間
的または空間的に切り替える光スイッチなどの光受動デ
バイスが必要となる。
【０００３】このうち、光分岐回路には、入射光の偏光
状態によらず、一定の割合で光を分岐できることが望ま
れる。この特性は、シングルモード光ファイバ伝送な
ど、光ファイバを伝搬する光の偏光状態が変化する系で
光分岐回路を使用する際に、特に必要となる。
状態によらず、一定の割合で光を分岐できることが望ま
れる。この特性は、シングルモード光ファイバ伝送な
ど、光ファイバを伝搬する光の偏光状態が変化する系で
光分岐回路を使用する際に、特に必要となる。
【０００４】従来、このような偏光依存性のない光分岐
を実現するには、ビームスプリッタと全反射素子とを組
み合わせることが必要であった。
を実現するには、ビームスプリッタと全反射素子とを組
み合わせることが必要であった。
【０００５】図４に、従来の光分岐回路の概要を示す。
なお、この光分岐回路は、特願昭６１−１１２４６８号
公報で提案されているものである。光分岐回路は、光フ
ァイバ３１とレンズ３２と全反射素子３３と誘電体多層
膜を用いたビームスプリッタ３４とそれらを相互に固定
するための筐体３５で構成される。全反射素子３３は、
主に、ビームスプリッタ３４への光の入射角度を小さく
（垂直入射に近く）するために設けられているものであ
り、たとえば、光ファイバ３１1 およびレンズ３２1 に
より筐体３５内に入射された光は、全反射素子３３1 で
全反射され、小さな入射角度でビームスプリッタ３４に
入射される。ビームスプリッタ３４に入射された光は、
その一部が反射され、反射された光は、全反射素子３３
2 で全反射されてから、光ファイバ３１2 に出力され
る。ビームスプリッタ３４を透過した光は、全反射素子
３３3 により光ファイバ３１3 に導かれる。
なお、この光分岐回路は、特願昭６１−１１２４６８号
公報で提案されているものである。光分岐回路は、光フ
ァイバ３１とレンズ３２と全反射素子３３と誘電体多層
膜を用いたビームスプリッタ３４とそれらを相互に固定
するための筐体３５で構成される。全反射素子３３は、
主に、ビームスプリッタ３４への光の入射角度を小さく
（垂直入射に近く）するために設けられているものであ
り、たとえば、光ファイバ３１1 およびレンズ３２1 に
より筐体３５内に入射された光は、全反射素子３３1 で
全反射され、小さな入射角度でビームスプリッタ３４に
入射される。ビームスプリッタ３４に入射された光は、
その一部が反射され、反射された光は、全反射素子３３
2 で全反射されてから、光ファイバ３１2 に出力され
る。ビームスプリッタ３４を透過した光は、全反射素子
３３3 により光ファイバ３１3 に導かれる。
【０００６】なお、全反射素子３３を用いて、ビームス
プリッタ３４への光の入射角度を小さくしているもの
は、従来のビームスプリッタでは、大きな入射角度（た
とえば、４５度）で光が入射された場合には、その分岐
割合が、入射光の偏光状態により変化してしまうため、
それを防ぐためである。
プリッタ３４への光の入射角度を小さくしているもの
は、従来のビームスプリッタでは、大きな入射角度（た
とえば、４５度）で光が入射された場合には、その分岐
割合が、入射光の偏光状態により変化してしまうため、
それを防ぐためである。
【０００７】
【発明が解決しようとする課題】このように、従来のビ
ームスプリッタでは、光の偏光状態に分岐割合を依存さ
せないために、光の入射角度を制限する必要があったの
で、適当な角度で光を取り出せる光分岐回路を構成する
ためには、ビームスプリッタと全反射素子を組み合わせ
ることが必要であった。このため、光分岐回路を小型化
することが困難であるという問題があった。
ームスプリッタでは、光の偏光状態に分岐割合を依存さ
せないために、光の入射角度を制限する必要があったの
で、適当な角度で光を取り出せる光分岐回路を構成する
ためには、ビームスプリッタと全反射素子を組み合わせ
ることが必要であった。このため、光分岐回路を小型化
することが困難であるという問題があった。
【０００８】そこで、本発明の目的は、およそ４５度の
入射された光に対して、その偏光状態に依存せずに一定
の割合で光を分岐することができるビームスプリッタを
提供することにある。
入射された光に対して、その偏光状態に依存せずに一定
の割合で光を分岐することができるビームスプリッタを
提供することにある。
【０００９】また、本発明の他の目的は、全反射素子を
用いることなく、入射光の偏光状態に依存せずに一定の
割合で光を分岐することができる光分岐回路を提供する
ことにある。
用いることなく、入射光の偏光状態に依存せずに一定の
割合で光を分岐することができる光分岐回路を提供する
ことにある。
【００１０】
【課題を解決するための手段】本発明のビームスプリッ
タは、屈折率ｎG を有する基板上に、屈折率ｎ1 ないし
ｎ5 のそれぞれ幾何学的厚さｄ1 ないしｄ5 を有する膜
を順に積層した光学多層膜であって、基板および各層の
屈折率が、ｎG ＝１．５、ｎ1 ＝２．１、ｎ2＝２．
３、ｎ3 ＝１．４５、ｎ4 ＝２．３、ｎ5 ＝１．４５と
いう関係をほぼ満たし、中心波長λの光がおよそ４５度
の入射角で入射されたときのｉ番の層における屈折角を
θi としたときに、各層の幾何学的厚さｄi が、ｎi ｄ
i ｃｏｓ（θi ）＝λ／４という関係を満たすものであ
る。
タは、屈折率ｎG を有する基板上に、屈折率ｎ1 ないし
ｎ5 のそれぞれ幾何学的厚さｄ1 ないしｄ5 を有する膜
を順に積層した光学多層膜であって、基板および各層の
屈折率が、ｎG ＝１．５、ｎ1 ＝２．１、ｎ2＝２．
３、ｎ3 ＝１．４５、ｎ4 ＝２．３、ｎ5 ＝１．４５と
いう関係をほぼ満たし、中心波長λの光がおよそ４５度
の入射角で入射されたときのｉ番の層における屈折角を
θi としたときに、各層の幾何学的厚さｄi が、ｎi ｄ
i ｃｏｓ（θi ）＝λ／４という関係を満たすものであ
る。
【００１１】なお、本発明において、用いることができ
る基板の屈折率の範囲は、１．４５から１．６０であ
り、第１層の屈折率ｎ1 の範囲は、２．０２から２．２
０であり、第２層の屈折率ｎ2 および第４層の屈折率ｎ
4 の範囲は、２．２５から２．３８であり、第３層の屈
折率ｎ3 および第５層の屈折率ｎ5 の範囲は、１．４４
から１．４７である。また、媒体からこのビームスプリ
ッタに入射される光の入射角度は、４０から５０度であ
ることが望ましい。
る基板の屈折率の範囲は、１．４５から１．６０であ
り、第１層の屈折率ｎ1 の範囲は、２．０２から２．２
０であり、第２層の屈折率ｎ2 および第４層の屈折率ｎ
4 の範囲は、２．２５から２．３８であり、第３層の屈
折率ｎ3 および第５層の屈折率ｎ5 の範囲は、１．４４
から１．４７である。また、媒体からこのビームスプリ
ッタに入射される光の入射角度は、４０から５０度であ
ることが望ましい。
【００１２】さらに、本発明のビームスプリッタは、上
記の第１層と第３層、または、第１層と第５層を置き換
えたものであってもよい。すなわち、第１層を屈折率が
およそ１．４５である層として、第３層を屈折率がおよ
そ２．１である層にしてもよく、第１層を屈折率がおよ
そ１．４５である層として、第５層を屈折率がおよそ
２．１である層にしてもよい。また、屈折率がおよそ
２．１である層を等価な効果を有する多層膜におきかえ
てもよい。
記の第１層と第３層、または、第１層と第５層を置き換
えたものであってもよい。すなわち、第１層を屈折率が
およそ１．４５である層として、第３層を屈折率がおよ
そ２．１である層にしてもよく、第１層を屈折率がおよ
そ１．４５である層として、第５層を屈折率がおよそ
２．１である層にしてもよい。また、屈折率がおよそ
２．１である層を等価な効果を有する多層膜におきかえ
てもよい。
【００１３】屈折率がおよそ２．１である層を構成する
物質としては、酸化タンタル（Ｔａ 2 Ｏ5 ）を用いるこ
とができ、屈折率がおよそ１．４５である層を構成する
物質としては、二酸化珪素（ＳｉＯ2 ）を用いることが
できる。また、屈折率がおよそ２．３である層を構成す
る物質としては、二酸化チタン（ＴｉＯ2 ）を用いるこ
とができる。これらの各層を基板上に形成する際には、
酸素プラズマによるイオン衝撃を併用した薄膜形成法を
使用することが望ましい。このような構成とすることに
より、およそ、４５度の入射角度で入射された光を、そ
の偏光状態によらず、一定の割合で分岐できるビームス
プリッタを得ることができる。
物質としては、酸化タンタル（Ｔａ 2 Ｏ5 ）を用いるこ
とができ、屈折率がおよそ１．４５である層を構成する
物質としては、二酸化珪素（ＳｉＯ2 ）を用いることが
できる。また、屈折率がおよそ２．３である層を構成す
る物質としては、二酸化チタン（ＴｉＯ2 ）を用いるこ
とができる。これらの各層を基板上に形成する際には、
酸素プラズマによるイオン衝撃を併用した薄膜形成法を
使用することが望ましい。このような構成とすることに
より、およそ、４５度の入射角度で入射された光を、そ
の偏光状態によらず、一定の割合で分岐できるビームス
プリッタを得ることができる。
【００１４】また、本発明のビームスプリッタを、筐体
内に固定し、固定されたビームスプリッタに対して、４
５度で光が入射されるように光ファイバを固定し接続す
るための手段と、その光ファイバから入射された光がビ
ームスプリッタにより、反射および透過される位置にそ
れぞれ光ファイバを固定し接続する手段とを設けた光分
岐回路を構成すれば、導入される光の偏光方向に依ら
ず、一定の割合で光を分岐することができる。また、各
光ファイバは、互いに９０度または１８０度の関係を有
することになり、他の光デバイスとの接続が容易にな
る。
内に固定し、固定されたビームスプリッタに対して、４
５度で光が入射されるように光ファイバを固定し接続す
るための手段と、その光ファイバから入射された光がビ
ームスプリッタにより、反射および透過される位置にそ
れぞれ光ファイバを固定し接続する手段とを設けた光分
岐回路を構成すれば、導入される光の偏光方向に依ら
ず、一定の割合で光を分岐することができる。また、各
光ファイバは、互いに９０度または１８０度の関係を有
することになり、他の光デバイスとの接続が容易にな
る。
【００１５】
【実施例】以下、実施例につき本発明を詳細に説明す
る。
る。
【００１６】図１に、本発明の一実施例におけるビーム
スプリッタの構造を示し、表１に、ビームスプリッタを
構成する各層の形成に用いた物質とその物質で形成され
た膜の屈折率と膜厚を記す。図１に示したように、実施
例のビームスプリッタは、ガラス基板１１に、第１層か
ら第５層の誘電体薄膜１２1 ないし１２5 を積層したも
のであり、それぞれの層は、二酸化珪素（ＳｉＯ2 ）、
二酸化チタン（ＴｉＯ 2 ）、または、酸化タンタル
（Ｖ）（Ｔａ2 Ｏ5 ）により形成されている。なお、実
施例のビームスプリッタを形成する際には、酸素プラズ
マによるイオン衝撃を併用した真空蒸着法を用いた。
スプリッタの構造を示し、表１に、ビームスプリッタを
構成する各層の形成に用いた物質とその物質で形成され
た膜の屈折率と膜厚を記す。図１に示したように、実施
例のビームスプリッタは、ガラス基板１１に、第１層か
ら第５層の誘電体薄膜１２1 ないし１２5 を積層したも
のであり、それぞれの層は、二酸化珪素（ＳｉＯ2 ）、
二酸化チタン（ＴｉＯ 2 ）、または、酸化タンタル
（Ｖ）（Ｔａ2 Ｏ5 ）により形成されている。なお、実
施例のビームスプリッタを形成する際には、酸素プラズ
マによるイオン衝撃を併用した真空蒸着法を用いた。
【００１７】表１に示した、これらの物質の組み合わせ
は、波長１５５０ｎｍの光を４５度で入射したときに分
岐率の偏光依存性が小さくなるように、分光反射率特性
のシミュレーションを行なうことにより得たものであ
る。また、ｉ番の層の膜厚ｄiは、対応する屈折率をｎ
i とし、中心波長λの光がおよそ４５度の入射角で入射
されたときのｉ番の層における屈折角をθi としたとき
に、ｎi ｄi ｃｏｓ（θ i ）＝λ／４を満たすように定
めてある。
は、波長１５５０ｎｍの光を４５度で入射したときに分
岐率の偏光依存性が小さくなるように、分光反射率特性
のシミュレーションを行なうことにより得たものであ
る。また、ｉ番の層の膜厚ｄiは、対応する屈折率をｎ
i とし、中心波長λの光がおよそ４５度の入射角で入射
されたときのｉ番の層における屈折角をθi としたとき
に、ｎi ｄi ｃｏｓ（θ i ）＝λ／４を満たすように定
めてある。
【００１８】
【表１】
【００１９】図２に、このビームスプリッタに入射角度
４５度で光を入射したときの分光反射率特性の測定結果
を示す。このように、実施例のビームスプリッタでは、
設計波長である１５５０ｎｍを中心とした波長範囲の光
が入射された際には、その光がＳ偏光、Ｐ偏光、いずれ
であっても、ほぼ、同一の反射率が得られる。なお、１
５５０ｎｍ付近での偏光依存性は、０．１デシベル以下
であった。
４５度で光を入射したときの分光反射率特性の測定結果
を示す。このように、実施例のビームスプリッタでは、
設計波長である１５５０ｎｍを中心とした波長範囲の光
が入射された際には、その光がＳ偏光、Ｐ偏光、いずれ
であっても、ほぼ、同一の反射率が得られる。なお、１
５５０ｎｍ付近での偏光依存性は、０．１デシベル以下
であった。
【００２０】また、各層を構成する材料は、表１に示し
たものに限られるものではなく、表２に示すような範囲
の屈折率を持つ材料であればよい。また、それぞれの層
を、等価な光学特性を有する多層膜で構成してもよいこ
とは当然である。たとえば、屈折率およそ２．０８５の
層として、Ｔａ2 Ｏ5 ／ＳｉＯ2 ／Ｔａ2 Ｏ5 やＴａ 2
Ｏ5 ／ＴｉＯ2 ／Ｔａ2 Ｏ5 などの３層構造を用いても
よい。
たものに限られるものではなく、表２に示すような範囲
の屈折率を持つ材料であればよい。また、それぞれの層
を、等価な光学特性を有する多層膜で構成してもよいこ
とは当然である。たとえば、屈折率およそ２．０８５の
層として、Ｔａ2 Ｏ5 ／ＳｉＯ2 ／Ｔａ2 Ｏ5 やＴａ 2
Ｏ5 ／ＴｉＯ2 ／Ｔａ2 Ｏ5 などの３層構造を用いても
よい。
【００２１】
【表２】
【００２２】また、上記の第１層と第３層、または、第
１層と第５層を置き換えても、偏光依存性がないビーム
スプリッタを構成できることが確認されている。すなわ
ち、第１層を屈折率がおよそ１．４５である層として、
第３層を屈折率がおよそ２．１である層にしてもよく、
第１層を屈折率がおよそ１．４５である層として、第５
層を屈折率がおよそ２．１である層にしてもよい。この
構成のビームスプリッタでは、図２に示した分光反射率
特性よりも、偏光依存性が少ない波長領域が狭くなるも
のの、設計波長における偏光依存性は、やはり、０．１
デシベル以下となった。
１層と第５層を置き換えても、偏光依存性がないビーム
スプリッタを構成できることが確認されている。すなわ
ち、第１層を屈折率がおよそ１．４５である層として、
第３層を屈折率がおよそ２．１である層にしてもよく、
第１層を屈折率がおよそ１．４５である層として、第５
層を屈折率がおよそ２．１である層にしてもよい。この
構成のビームスプリッタでは、図２に示した分光反射率
特性よりも、偏光依存性が少ない波長領域が狭くなるも
のの、設計波長における偏光依存性は、やはり、０．１
デシベル以下となった。
【００２３】なお、プラズマを発生させることなく、酸
素分圧、基板温度を制御することにより、上記のような
屈折率の膜を得ることは可能であるが、プラズマを用い
ない場合には、再現性が悪く、また、緻密な膜が得られ
ない。このため、プラズマを用いない場合には、偏光依
存性がないビームスプリッタを得ることが困難であるこ
とに加え、作製されたビームスプリッタが雰囲気中の湿
度の影響を受けやすいものになり、長期間にわたって安
定に使用することができない。
素分圧、基板温度を制御することにより、上記のような
屈折率の膜を得ることは可能であるが、プラズマを用い
ない場合には、再現性が悪く、また、緻密な膜が得られ
ない。このため、プラズマを用いない場合には、偏光依
存性がないビームスプリッタを得ることが困難であるこ
とに加え、作製されたビームスプリッタが雰囲気中の湿
度の影響を受けやすいものになり、長期間にわたって安
定に使用することができない。
【００２４】図３に、実施例のビームスプリッタを用い
た作製した光分岐回路の一例を示す。このように、本発
明のビームスプリッタを用いて光分岐回路を構成する場
合には、筐体３５に、光ファイバ３１を固定するための
部分を互いに直交するように設けておき、光ファイバ３
１からの入射光に対してビームスプリッタ３４を４５度
傾けて配置するだけで、光ファイバを通して入射された
光の偏光状態によらず、その光のおよそ１５％を入射方
向とは９０度異なる方向に取り出し、およそ８５％を入
射方向と同方向に取り出すことができる。また、全反射
素子を使用する必要がないので、従来の光分岐回路に比
して小型化が容易である。
た作製した光分岐回路の一例を示す。このように、本発
明のビームスプリッタを用いて光分岐回路を構成する場
合には、筐体３５に、光ファイバ３１を固定するための
部分を互いに直交するように設けておき、光ファイバ３
１からの入射光に対してビームスプリッタ３４を４５度
傾けて配置するだけで、光ファイバを通して入射された
光の偏光状態によらず、その光のおよそ１５％を入射方
向とは９０度異なる方向に取り出し、およそ８５％を入
射方向と同方向に取り出すことができる。また、全反射
素子を使用する必要がないので、従来の光分岐回路に比
して小型化が容易である。
【００２５】
【発明の効果】本発明のビームスプリッタによれば、従
来のビームスプリッタでは入射光の偏光方向にその反射
率および透過率が依存する入射角度である４５度を入射
角度としても、反射率と透過率に偏光依存性が生じな
い。このため、このビームスプリッタを用いることによ
り、全反射素子を用いることなく、入射光の偏光状態に
依らず、その入射光と同一方向に約８５％の光を透過
し、入射光と直交する方向に約１５％の光を反射する光
分岐回路を得ることができる。
来のビームスプリッタでは入射光の偏光方向にその反射
率および透過率が依存する入射角度である４５度を入射
角度としても、反射率と透過率に偏光依存性が生じな
い。このため、このビームスプリッタを用いることによ
り、全反射素子を用いることなく、入射光の偏光状態に
依らず、その入射光と同一方向に約８５％の光を透過
し、入射光と直交する方向に約１５％の光を反射する光
分岐回路を得ることができる。
【図１】本発明の一実施例におけるビームスプリッタの
概要を示す構成図である。
概要を示す構成図である。
【図２】実施例のビームスプリッタの分光反射率の入射
光波長依存性を示した特性図である。
光波長依存性を示した特性図である。
【図３】本発明の一実施例における光分岐回路の概要を
示す構成図である。
示す構成図である。
【図４】従来の光分岐回路の概要を示す構成図である。
１１ 基板 １２ 薄膜 ３１ 光ファイバ ３２ レンズ ３３ 全反射素子 ３４ ビームスプリッタ ３５ 筐体
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (56)参考文献 特開 昭63−8702（ＪＰ，Ａ) 特開 平２−51104（ＪＰ，Ａ) (58)調査した分野(Int.Cl.6，ＤＢ名) G02B 5/00 - 5/136
Claims (7)
- 【請求項１】 屈折率ｎG を有する基板上に、屈折率ｎ
1 ないしｎ5 のそれぞれ幾何学的厚さｄ1 ないしｄ5 を
有する膜を順に積層した光学多層膜であって、 基板および各層の屈折率が、ｎG ＝１．５、ｎ1 ＝２．
１、ｎ2 ＝２．３、ｎ 3 ＝１．４５、ｎ4 ＝２．３、ｎ
5 ＝１．４５という関係をほぼ満たし、 中心波長λの光がおよそ４５度の入射角で入射されたと
きのｉ番の層における屈折角をθi としたときに、各層
の幾何学的厚さｄi が、 ｎi ｄi ｃｏｓ（θi ）＝λ／４ という関係を満たすものであることを特徴とするビーム
スプリッタ。 - 【請求項２】 屈折率ｎG を有する基板上に、屈折率ｎ
1 ないしｎ5 のそれぞれ幾何学的厚さｄ1 ないしｄ5 を
有する膜を順に積層した光学多層膜であって、 基板および各層の屈折率が、ｎG ＝１．５、ｎ1 ＝１．
４５、ｎ2 ＝２．３、ｎ3 ＝１．４５、ｎ4 ＝２．３、
ｎ5 ＝２．１という関係をほぼ満たし、 中心波長λの光がおよそ４５度の入射角で入射されたと
きのｉ番の層における屈折角をθi としたときに、各層
の幾何学的厚さｄi が、 ｎi ｄi ｃｏｓ（θi ）＝λ／４ という関係を満たすものであることを特徴とするビーム
スプリッタ。 - 【請求項３】 屈折率ｎG を有する基板上に、屈折率ｎ
1 ないしｎ5 のそれぞれ幾何学的厚さｄ1 ないしｄ5 を
有する膜を順に積層した光学多層膜であって、 基板および各層の屈折率が、ｎG ＝１．５、ｎ1 ＝１．
４５、ｎ2 ＝２．３、ｎ3 ＝２．１、ｎ4 ＝２．３、ｎ
5 ＝１．４５という関係をほぼ満たし、 中心波長λの光がおよそ４５度の入射角で入射されたと
きのｉ番の層における屈折角をθi としたときに、各層
の幾何学的厚さｄi が、 ｎi ｄi ｃｏｓ（θi ）＝λ／４ という関係を満たすものであることを特徴とするビーム
スプリッタ。 - 【請求項４】 屈折率がおよそ２．１である層を構成す
る物質が酸化タンタル（Ｔａ2 Ｏ5 ）であり、屈折率が
およそ１．４５である層を構成する物質が二酸化珪素
（ＳｉＯ2 ）であり、屈折率がおよそ２．３である層を
構成する物質が二酸化チタン（ＴｉＯ2 ）であることを
特徴とする請求項１ないし請求項３記載のビームスプリ
ッタ。 - 【請求項５】 屈折率がおよそ２．１である層を複数の
膜で構成される等価膜の層で置き換えたことを特徴とす
る請求項１ないし請求項４記載のビームスプリッタ。 - 【請求項６】 前記基板上への各膜の積層が、酸素プラ
ズマによるイオン衝撃を併用した状態下で行われたこと
を特徴とする請求項１ないし請求項５記載のビームスプ
リッタ。 - 【請求項７】 請求項１ないし請求項６記載のビームス
プリッタと、 このビームスプリッタにほぼ４５度で光を入射するため
に用いられる第１の光ファイバをそのビームスプリッタ
に対して配置し接続するための第１の接続手段と、 前記ビームスプリッタを透過した光が入射されるように
第２の光ファイバを前記ビームスップリッタに対して配
置し接続するための第２の接続手段と、 前記ビームスプリッタを反射した光が入射されるように
第３の光ファイバを前記ビームスップリッタに対して配
置し接続するための第３の接続手段とを具備したことを
特徴とする光分岐回路。
Priority Applications (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5313455A JP2957399B2 (ja) | 1993-12-14 | 1993-12-14 | ビームスプリッタおよび光分岐回路 |
| CA002137972A CA2137972C (en) | 1993-12-14 | 1994-12-13 | Beam splitter and optical coupler using the same |
| US08/355,853 US5621832A (en) | 1993-12-14 | 1994-12-14 | Beam splitter and optical coupler using the same |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5313455A JP2957399B2 (ja) | 1993-12-14 | 1993-12-14 | ビームスプリッタおよび光分岐回路 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH07168009A JPH07168009A (ja) | 1995-07-04 |
| JP2957399B2 true JP2957399B2 (ja) | 1999-10-04 |
Family
ID=18041513
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP5313455A Expired - Fee Related JP2957399B2 (ja) | 1993-12-14 | 1993-12-14 | ビームスプリッタおよび光分岐回路 |
Country Status (3)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US5621832A (ja) |
| JP (1) | JP2957399B2 (ja) |
| CA (1) | CA2137972C (ja) |
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CH695171A5 (de) * | 1999-02-04 | 2005-12-30 | Balzers Hochvakuum | Lichtteiler und optische Uebertrageranordnung mit einem Lichtteiler. |
| US6398364B1 (en) | 1999-10-06 | 2002-06-04 | Optical Coating Laboratory, Inc. | Off-axis image projection display system |
| US20020150333A1 (en) * | 2001-02-17 | 2002-10-17 | Reed William Alfred | Fiber devices using grin fiber lenses |
| US7116479B1 (en) * | 2001-07-19 | 2006-10-03 | Wavesplitter Technologies, Inc. | Array polarization beamsplitter and combiner |
| US6903512B2 (en) * | 2001-08-07 | 2005-06-07 | Konica Corporation | Half mirror film producing method and optical element comprising a half mirror film |
| US9594195B2 (en) * | 2013-02-13 | 2017-03-14 | Centre Luxembourgeois de Recherches Pour le Verre et la Ceramique (CRVC) SaRL | Dielectric mirror |
| CN109597153B (zh) * | 2017-09-30 | 2021-04-20 | 张家港康得新光电材料有限公司 | 窄带反射膜 |
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE2334875C2 (de) * | 1972-07-10 | 1982-03-25 | Minolta Camera K.K., Osaka | Vierschichtiger Antireflex-Belag für ein optisches Glassubstrat |
| JPS5627106A (en) * | 1979-08-10 | 1981-03-16 | Canon Inc | Beam splitter |
| JPS62269106A (ja) * | 1986-05-19 | 1987-11-21 | Nec Corp | 光分岐結合器 |
| US5400179A (en) * | 1992-02-18 | 1995-03-21 | Asahi Kogaku Kogyo Kabushiki Kaisha | Optical multilayer thin film and beam splitter |
-
1993
- 1993-12-14 JP JP5313455A patent/JP2957399B2/ja not_active Expired - Fee Related
-
1994
- 1994-12-13 CA CA002137972A patent/CA2137972C/en not_active Expired - Fee Related
- 1994-12-14 US US08/355,853 patent/US5621832A/en not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| US5621832A (en) | 1997-04-15 |
| CA2137972C (en) | 1999-04-27 |
| JPH07168009A (ja) | 1995-07-04 |
| CA2137972A1 (en) | 1995-06-15 |
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