TWI275445B - Abrasive machine and method of abrading work piece - Google Patents
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Description
1275445 五、發明說明（1) 【本發明所屬之技術領域 本發明是關於一種研磨裝置和一種研磨加工件如 晶，之方法。 【先前技術】 對高密度多層線路而言，化學—機械磨光 (Chemical-Mechanical Polishing) (CMP)技術是一種重要 術。 1 又 在CMP中有許多相關因素，例如研磨液、研磨板之旋轉速 又、研磨墊之種類、溫度等。因此要選擇在其下能得到預期 的研磨速度和平坦度之最理想研磨條件是困難的。 有鑑於習見之研磨裝置及研磨方法有上述之缺點，發明 人乃針對忒些缺點研究改進之道，終於有本發明的產生。 【本發明之内容】 本發明乃被發明以克服CMP之缺點。 本發明之一目的是提供一種和CMp因素較無關聯，能改變 應=於研磨加工件之壓力之研磨裝置和研磨方法，並輕易地 界定最理想之研磨條件。 為了要達成此目的，本發明具有後述之構造。 那就是，本發明之研磨裝置包含有·· 一具有開關壓力容器之蓋板之壓力容器，此壓力容器能 增加和減少内部壓力； 一裝設於壓力容器中之研磨板； 一被裝設在研磨板上之加壓板，此加壓板將置於研磨板 和加壓板間之加工件壓至研磨板上；
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第5頁 1275445 五 、發明說明（2) 一連帶地 件之驅動單元 一和壓力 容器之内部壓 在另一方 其用以 蓋板之 裝設在 板，加 上；一 件之驅 源增加 此 將 將 連 能研磨在 力π工件 以致能 件0 研磨加 壓力容 壓力容 壓板將 連帶地 動單元 或減少 方法包 加工件 氣體引 帶地藉 加工件 本發明會在壓 猎由調 移動 ;以 容器 力。 面， 工件 器， 器中 置於 移動 ;以 壓力 含之 置於 入壓 由驅 〇中， 力容節壓 和加壓板相關之研磨板，以致能研磨加工 及 相連接之壓力源，壓力源增加或減少壓力 本發明 之研磨 此壓力 之研磨 研磨板 和加壓 及'^和 容器之 步驟有 研磨板 力容器 動單元 之方法是一種研磨加工件之方法， 裝置包含：一具有開關壓力容器之 各器能增加和減少内部壓力；一被 板；一被裝設在研磨板上之加壓 和加壓板間之加工件壓至研磨板 板相關之研磨板，以致能研磨加工 壓力容器相連接之壓力源，此壓力 内部壓力。 和加壓板之間； ;以及 移動和加壓板相關之研磨板，以致 研磨板和加壓板被裝設在壓力容器中， 器内部壓力增加或減少之狀態中被研磨 力容器之内部壓力’而輕易地控制研磨 至於本發明之詳細構造、應用原理、作用與功效，則來 照下列依附圖所作之說明即可得到完全的了解。 【本發明之實施方式】
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五、發明說明（3) ，發明之較佳實施例，則參照下列附圖作詳細之說明。 ，1圖為本發明一實施例之研磨裝置之前視平面圖； 第2圖為研磨裝置之開關蓋開啟時之平面圖；第3圖為鐘 形體（bell jar)之平面圖。 鐘形體1 2具有一蓋板1 4，而作為一能承受其中增加和減 >、壓力之壓力谷器。蓋板1 4藉由一軸1 $ 8樞接到鐘形體丨4之主 體16(body proper)，以便開啟和關閉主體16(b〇dy pr〇per) 螺栓1 8之下端藉由一軸2 1樞接到主體丨6 ;螺栓丨8之上端 可進入一固定臂1 9之U形叉間之缺口。藉由旋轉螺帽2〇，蓋板 1 4能緊密地閉合主體1 6。在本實施例中，係隔著6 〇度裝設6板 螺栓。 本體16以鋼所製造，其具有規定厚度且底部為圓筒形 狀。蓋板1 4之一頂板向上彎曲（凹向下）。以此壓力抵抗構造 之鐘形體12可作為壓力容器。本體16之下部分16a是一平板 而且其厚度比圓筒部分之厚度厚很多，以便承受内部壓力。 注意，鐘形體1 2之形狀不限於圓筒形。其他具有足夠壓 力抵抗構造之壓力容器可被應用在本發明中。 一研磨板2 3被裝設在鐘形體1 2中。 由已知金屬製成之研磨布或研磨墊（圖未示）黏附在在 研磨板23之上表面。 一形成圓筒形狀之連接構件24被固定在研磨板23之下表 面。連接構件24藉由一鍵27連接到旋轉軸26，旋轉軸26藉由 下部分1 6a之軸承25被可旋轉地支承。以此構造，研磨板23和 旋轉軸26 —起旋轉。代號28代表一密封構件
第7頁 五、發明說明（4) 研磨板23之下端部分由-突出軸承29所支持。支持構件 30被裝設在下部份16a上，而且突出軸承29被裝設在 件30上。 予 一蓋板31圍住研磨板23之外部周圍表面，以便保持研磨 板2 3上研磨液之規定數量。注意，蓋板3丨能被省略。 一支持基座32支持鐘形體12並具有4根支腳32&。可調 螺栓33被裝設到每根支腳32a之下端，以便調整 高度和鐘形體12水平。 τ q 作為驅動單元之馬達35被裝在支持基座32。馬達35之 達軸連接到旋轉軸26，以使馬達35能轉動研磨板23。在本實 施例中，馬達35被裝設到鐘形體12外部， 到鐘形體1 2内部。 此攸衣< 9 q用:乂，壓加工件（圖未不）之加壓板3 6被裝設在研磨板 23上。加壓板36施加自身重量到研磨板“，作為加壓之力。 被研磨之加工件放置或夾在研磨板23和加壓板“之間。 多個砝碼37作為加壓單元，以施加壓力到加工件。、、主 意，砝碼37之數量根據研磨條件，被隨意地決定。 =研磨板23同軸的滾軸38，和裝設在研磨板⑴卜緣上方 ’接觸加壓板36之外緣’以使加壓板36在研磨板上 二》？立置被支承。滾軸38和39藉由裝設在鐘形體 形臂40 ’被可旋轉支承。 τ < % 在第2圖+，研磨板23以『Α』方向旋轉。藉由轉動研磨 、σ堅板3 6也纟％著自己的軸，被以相同方向轉動。 注意’滾軸38能藉由馬達（圖未示）被轉動，以便依規
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、 疋方向轉動和滾軸3 8相接觸之加壓板3 6。 ，當數量之研磨液儲存在本體16中。在本實施例中 車X低部分作為研磨液儲存部i 6b (見第4圖）。 循環如第4圖所不’儲存在本體16之研磨液藉由循環幫浦43軋 循環幫浦43連接到一和研磨液儲存部相連接之 ^及一和本體16上部相連接之導管45。儲存在 ’ ^ 用以研磨加工件之研磨液聚集在研磨液儲存部i6b。 研磨液儲存部16b、循環幫浦43以及導管44和45 磨液供給單元。注意，第1圖所示之代號44a代表導管444 之連接部。 研，液儲存部1 6b當然可以裝設到鐘形體1 2外部。 在第4^圖中，加壓單元47和減壓單元48構成一壓力源。 次加壓單元47經由導管49和本體16相連接，以便引導加壓 =體進=鐘形體丨2。在本實施例中，空氣、氧氣、氮氣和氬 ^作為流體使用。其他氣體能被隨意地使用。藉由打開閥門 <圖未不）選擇並供給流體進入鐘形體1 2。一減壓閥門被裝 设’以便以預定之壓力供給流體進入鐘形體12。代號52和53 為閥門丄而代號54為可控制流體流量之控制流閥門。 注意’混合之氣體能作為流體使用。 減壓單元48連接到位於閥H52和53間之導管49之一部 份。代號56代表一閥門。 減壓單元48包含一真空幫浦。
1275445 五、發明說明（6) 在思，弟1圖中所示之代號4 9 a代表導管4 9之連 藉由關閉閥門56並開啟閥門52和53，加壓流體 鐘形體1 2，以使鐘形體1 2之内部壓力可被降低 -作為測量設備之壓力計57，測量：=12之 力。其他用來測量溫度、濕度等之測量設傷，如果 裝設。 當鐘形體1 2之内部壓力超過規定值時，安全閥 加壓流體到外面。代號60a代表一視窗（見第3圖） 第5圖為驅動單元之另一範例。 包括定片5 9和轉片6 3之馬達6 4裝設在鐘形體j 2 磨板2 3被固定在轉片6 3上。馬達驅動器6 5裝設在鐘 部，而且電力經過線路66供給到定片線圈。咅里 已知電動馬達。 彳μ、 在本驅動單元中，只有線路66應該被密封， 構可被簡化。 更甚者，第6圖為驅動單元之又一範例。 在本範例中，研磨板23藉由磁力連結器旋轉。 磁極和S磁極交替在其外部周圍表面所形成之第丨磁 藉由馬達68而被轉動。第2磁轉片69被第1磁轉片67 磨板23被固定在第2磁轉片69上。 以此構造，研磨板能不以接觸任何位於外部之 被轉動，因此鐘形體1 2之内部空間可被清理。 在本實施例中’研磨板23繞著自身之軸被轉動 實施例中，研磨板2 3能在平行於研磨板2 3之研磨面 接部。 可被引入 内部壓 需要可被 門58釋放 ，而且研 形體12外 馬達64為 此密封機 那就是， 轉片67， 轉動。研 構件即可
第10頁 1275445 五、發明說明（7) 面）之f面被移動。本實施例見於第7圖 铲5 ί 巾’多數根曲柄軸70被裝在研磨板23，而且裝玫 ί 外部之曲柄軸?°藉由驅動單元(圖未示)被同步轉 造，研磨板23可和被固定之頂端一起沿著圓形軌 f被移動。那就是，研磨板上之所有點同時以 方向轉 動。 ，上述實施例中，加工件僅被加壓板36壓至研磨板23 i二：t能被黏在加壓板36之下表面上。在此案例中，當 研磨元成時，所研磨之加工件被從加壓板36削去。 加壓構件36能具有藉由產生負壓以支持加工件之吸引方 = (s = klng means)。在本案例中，吸引方法（sucking 此^接吸引並支承加工件或彈性彎曲構件buck! member ) ° 々辟^上述之貫施例中，砝碼3 7被當作加壓單元使用。裝設 在#40之圓筒單元（圖未示）可被使用於施加壓力❹工件。 m2 Ϊ ; 一壓力頭形式加壓板能被使用。壓力頭形式加 壓板36之乾例見於第8圖。 ^構件73藉由一彈性環構件74例如被 力”㈣。以此構造，形成一壓力室?5。加壓流體心 入壓力室75 ’以致使在支承構件73之下表面所托住之加工= 被壓至研磨板23上。更佳地，加壓板36藉由一馬達（ 不)?著可旋轉軸76被轉動。一包含馬達之 設在臂40上。 匕败展 更甚者’加壓板36能被-圓筒單元（圖未示）垂直地移 第11頁 1275445 五、發明說明（8) 動，以便移向和移離研磨板23之研磨面（研磨布）。在本案 中，旋轉軸76能被支承臂（圖未示）可轉動地支承，而且支 臂能被裝設在臂40上之圓筒單元（圖未示）垂直地移動。 驅動機構允許旋轉軸76在規定範圍内垂直移動，並傳遞 馬達之力矩。 加壓流體經由一在旋轉軸76中形成之流體路徑77，被 =進入壓力室75。此流體乃經由一旋轉接 導進入流體路徑77。 ^攸引 抑制環78預防支撐構件73從壓力頭本體 支撐構件73之垂直移動。 導 0型環79被裝設在壓力頭本體72内部周圍表面和 7 3外部周圍表面之間。〇型環79吸收支擇構件之水^ + 並阻止研磨液進入壓力頭本體72。 動’ 研磨裝置1 0中之試驗在以下條件中 12之内部氣壓產生變& ;並使銅 士：，鉍形體 矽基板被研磨。 一軋化矽層和加工件之 條件為， 研磨布：IC1 00 0/SUBA40 0 (專門淋1、 研磨液：用於二氧化石夕之石夕：π ’直徑; 用於矽之膠體矽土『C〇mpo卜80 25· 用於銅之礬土研磨液； 』 加壓板36之施加壓力：1〇〇〜5〇〇’ g/cm2 ; 研磨板23之旋轉速度：15〜9〇 · ’ 以及 ’ $ 12頁 1275445 五、發明說明（9) 研磨時間：2-4分鐘。 加工件以固定之施加壓力、固定之旋轉速度和固定之研 磨時間’以上之條件而被研磨。結果見於第9圖。 在第9圖中，内部壓力『零』為大氣壓力。那就是，水十 軸或鐘形體1 2之内部壓力表示從大氣壓力增加和減少之壓 力。 如在第9圖中清楚表示者，在大氣壓力下之研磨速率為聋 小值’研磨速率以近乎和增加及減少之内部壓力成比例辦 加0 特別地，就研磨二氧化矽層和矽基板而言，2〇〇 KPa 磨速率將近大氣壓力時的2倍；而且500 大氣壓力時的2· 5倍。 Ρ π名足手將近 ⑽至、於研磨銅層，最小研磨速率出現在負壓端（大約 是H那Λ是^最小研磨速率稍微偏移向負壓端，但不氣 乳化石夕層還疋石夕基板’研磨速率在最小值之兩端皆增 發明人認為在正壓下研磨速綠 被施加到加壓板36 ;以及研 ： :流體壓犬 在負壓下增加研磨速率 體堡力渗入研磨布。 :力:工件和研磨布間之摩擦熱因 ：月人 Γ二致於溫度上升而增加反應速力輻* 羊，研磨速率在負壓下增加。 午籍由乓加之反應i| 第1 〇圖為表示氧氣壓力和研磨述鱼ω # 以作為代替空氣之流體。 磨速率關係之圖表。氧氣用
1275445 五、發明說明（10) 同。特別：乳2 2:之傾向近乎和使用空氣之案例之傾向相 力“艮Γ 在研磨銅層之案例中，研磨速率在高壓力下增 根據此結果，研磨速傘 Μ 而不改變其他條件，而被…郎鐘形體12之内部壓力 體12 = ::力ΐ開始研磨而加工件被粗糙地研磨時，鐘形 體12之^壓力破增加或減少， 工件以高速率研磨祜办屮口士 ^门岍保逑羊研磨，田力 大氣壓力，以：2:ί 童形體12之内部遷力回到零或 者缺 便以低研磨速率研磨加工件。 π ^ i迷率此藉由結合其他因子而被控制，例如， 研磨板23之旋轉速度。 工作^ 多數種類之研磨液或研磨布而言’能使多個研磨 的。沙：f在—個研磨裝置中，因此研磨裝置必須是大 一個研磨工作内部壓力和研磨板23之旋轉速度能在 少、研磨條件可If改變’因此研磨工作站的種類可被減 、， y、午了破輕易地決定、研磨裝置之尺寸可變得更 ，，裝置的量產成本可被減少。 、# H 在1里形體12中之研磨液被加壓並循環，因此循環幫 浦43之裝載量並不太大。 如果研磨液儲存部裝設在鐘形體丨2之外部，研磨液被引 曰=内部壓力被增加之鐘形體1 2内，因此高功率循環幫浦 疋必須的。 山姻7磨液犯停留在鐘形體1 2。在本實施例中，研磨板2 3藉 °可"周^'螺检3 3而校準水平面，以致使研磨板2 3表面之
第14頁 1275445 匕、發明說明（11) 較低部分浸沒於研磨液中。以此構造 研磨布以研磨加工件。 第11圖為表示氮氣壓力和研磨速 座低之氣體’例如氮氣，被用以代替 1 2中之空氣藉由氮氣被淨化，然後内 、、，在負壓之下’和使用空氣及氧氣 被增加（見第9圖和第1 〇圖） 、另一方面’在正壓之下，特別是 壓力為400Kpa為止，研磨速率是減少 發明人認為銅層容易氧化，因此 圖）之研磨機構和在有氧氣壓下（見 那就是’在有氧氣壓之下，銅層藉由 刻，因此研磨速率是高的；在非氧氣 餘刻，因此研磨速率是低的。 第12圖為表示氬氣壓力和研磨速 使用作為流體。 ^ 如圖清楚表示者，使用氬氣案例 氣之案例相同。 第13圖為在各種氣體壓力中研磨 第14圖為在各種氣體壓力中研磨 第15圖為在各種氣體壓力中研磨 表。 主要藉由選擇加壓流體，研磨速 力而被控制。在選擇使用之流體（氣 ，研磨液永遠可以滲入 率關係之圖表。'一種活 空氣做為流體。鐘形體 口P壓力被增加和減少。 之案例一樣，研磨速率 研磨銅層之案例，直到 的。 在非氧氣壓下（見第U 第9圖和第1〇圖）不同 研磨液和氧化作用被餘 壓下，銅層只被研磨液 率關係之圖表。氬氣被 之傾向’近乎和使用氮 銅層速率之圖表。 矽基板速率之圖表。 二氧化矽層速率之圖 率可只藉由調整流體壓 體）之案例中，多數個
第15頁 1275445 五、發明說明（12) 1:應：供給單元被裝設在-個研磨裝置 孔仏給早几精由一開關閥門所選擇。 作A 一 :重研f ί二氧化矽層所隔離之埋置銅導線之方法，將 作為一範例參考第丨6圖解釋。 守Κ方法將 :柵金屬層61預防銅擴散進入二氧化 61由氮化鈕（TaN)所制忐士益山π 栅金屬層 ^。或猎由飛減组（spattering tantalu
Ua))所製造。銅層62藉由電鍍法製造等等。 磨 = + 來說’在加壓空氣中以高研磨速率被研 直到栅金屬層61暴露。 續 ^冓成柵金屬層61之金屬比銅更硬，如果研磨進 銅層62被研磨更多，以致埋設導線將變得太薄。、、 以低：U例Γ兒’銅層62在加壓氮氣（見第"圖）中被 j研磨速率研磨；栅金屬層61被以高研磨速率研磨。以此 方法’栅金屬層61和銅層62可被以相同速 17圖戶:示之適當之埋設導線…可被形成。研磨口此如第 釦=體1 2中之流體可以在一種研磨循環 改=速率，而致使研磨條件可被輕易地改變。二磨板 之叙轉速度當然可同時被控制。 ..===，，以上所述之者乃是本發明較佳具體的實施 L出明之構想所作之改變’其產生之功能作用，仍 與圖示所涵蓋之精神時’均應在本發明之範圖 第16頁 1275445 圖式簡單說明 第1圖為本發明一實施例之研磨裝置之正視截面圖； 第2圖為研磨裝置之開關蓋板為開啟時之平面圖； 第3圖為鐘形體（bell jar)之平面圖； 第4圖為連接到鐘形體之壓力源說明圖； 第5圖為另一實施例驅動單元之說明圖； 第6圖為又一實施例驅動單元之說明圖； 第7圖為用以移動研磨板機械裝置之說明圖； 第8圖為壓力頭形式之加壓板之截面圖； 第9圖為表示空氣壓力和研磨速率間關係之圖表； 第10圖為表示氧氣壓力和研磨速率關係之圖表； 第11圖為表示氮氣壓力和研磨速率關係之圖表； 第1 2圖為表示氬氣壓力和研磨速率關係之圖表； 第13圖為在各種氣體氣壓中研磨銅層速率之圖表； 第14圖為在各種氣體氣壓中研磨矽基板速率之圖表； 第15圖為在各種氣體氣壓中研磨二氧化矽層速率之圖 表； 第1 6圖為埋置於栅欄金屬層銅導線之截面圖；以及 第1 7圖為所埋置銅導線外露之截面圖。 〈圖示中元件編號與名稱對照〉 1 0 :研磨裝置 1 2 :壓力容器（鐘形體） 1 4 :蓋板 1 5、2 1 :軸 16:主體 16a:主體下部 1 6 b :研磨液儲存部 1 8 :螺栓
第17頁 1275445 圖式簡單說明 19 ： 臂 20 螺 帽 2 3 ·· 研磨板 24 連 接 構件 25 ： 軸承 26 旋 轉 軸 2 7 ·· 鍵 28 密 封 構件 29 ： 突出軸承 30 支 持 構件 31 ： 蓋板 32 支 持 基座 32a :支腳 33 可 調 整螺栓 35 ^ 6 4、3 8 :馬達 36 加 壓 板 37 : 石去 碼 38、 > 3 9 :滾軸 40 ： 弧 形臂 43 : :循環幫浦 44、 * 45 、49 :導管 44 a :連接部 4 7 : 加 壓單元 48 : :減壓單元 51 : :減 壓閥門 52、 • 53 、 54 、 56 :閥門 57 : :壓 力計 58 安全閥門 59 : :定 片 60 二氧化石夕層 60a :視窗 61 栅金屬層 62 : :銅 層 62a :導線 63 ： :轉 片 65 馬達驅動器 66 : :導 線 67 第1磁轉片 69 : :第 2磁轉片 70 曲柄軸 72 :壓 力頭本體 73 支持構件 74 :彈 性環構件 75 壓力室 76 :旋 轉轴 77 流體路徑 78 :抑 制環 79 0型環7
第18頁
Claims (1)
- 汰日❹激正本 LifZiL—— 士一名‘ ϋ6 六、申請專利範圍 1. 一種研磨裝置 _Ά 修正 包含： 器之蓋 用以將 至所述 驅動單 _ _ 增加或 2· 之驅動 3· 之驅動 4 包含 元0 個壓力 板，所 個被裝 被裝設 設置於 之研磨 用以連 元，以 和所述 減少壓 如申請 早元在 如申請 單元在 如申請 個供給 容器，其 述之壓力 設在所述 於所述之 所述之研 板上； 帶地移動 便研磨加 之壓力容 力容器之 專利範圍 平行於研 專利範圍 平行於研 專利範圍 研磨液到 具有一可開啟或關閉所述之壓力容 容器之内部壓力可增加和減少； 之壓力容器中之研磨板； 研磨板上之加壓板，所述之加壓板 磨板和所述之加壓板間之加工件壓 和所述加壓板相關之所述研磨板之 工件；以及 器相連接之壓力源，所述之壓力源 内部壓力。 第1項所述之研磨裝置，其中所述 磨面之平面，移動所述之研磨板。 第1項所述之研磨裝置，其中所述 磨面之平面，轉動所述之研磨板。 第1項所述之研磨裝置，更進一步 所述之研磨板上之研磨液供給單 5.如申請專利範圍第1項所述之研磨裝置，其中所述 之壓力源具有： 多數個氣體供給單元，其分別供給不同氣體，以便增 加内部壓力；以及 一個開關閥門，其用以開關連接於所述之壓力容器之第19頁 1275445 案號 91134166 A_Η 修正 六、申請專利範圍 氣體供給單元。 更進一步 6 .如申請專利範圍第1項所述之研磨裝置 包含一用以測量所述之壓力容器中壓力之設備 其中所述 7. 如申請專利範圍第1項所述之研磨裝置 之驅動單元被裝設在所述之壓力容器之外部。 更進一步 8. 如申請專利範圍第1項所述之研磨裝置 包含多數個和所述之加壓板之外部邊緣相接觸之滾軸，以 便在所述之研磨板上所規定之位置支撐所述之加壓板。 9. 如申請專利範圍第8項所述之研磨裝置，其中所述 之滾軸被由裝設於所述之壓力容器中之臂，可旋轉地支 撐。 更進一步 其中裝設 其中所述 1 0 .如申請專利範圍第1項所述之研磨裝置 包含一加壓單元，其施加壓力到加工件。 1 1 .如申請專利範圍第1項所述之研磨裝置 多數個所述之加壓板。 1 2 .如申請專利範圍第4項所述之研磨裝置 之研磨液供給單元具有： 一研磨液儲存部，其裝設在所述之壓力容器中，所述 之研磨液儲存部在其中儲存研磨液；以及 一循環幫浦，其裝設於所述之壓力容器外部，所述之 循環幫浦連接到所述之研磨液儲存部和所述之壓力容器， 以便研磨液在所述之研磨液儲存部和所述之研磨板之間循 環。 1 3.如申請專利範圍第4項所述之研磨裝置，其中所述第20頁二=液供給單元具有—裝設於所述 所、十，夕饥:， 存 其中儲存研磨液，以及 ...;L研磨板之一表面向水平面傾斜，以使所述之研 磨板表面之較低部分浸入研磨液中。 14. -種在研磨裝置中研磨加工件之方法，該研磨裝 置包含：-個壓力容器，其具有—可開啟或關閉所述之屢 力容器之蓋板’所述之壓力容器可增加和減少内部壓力；一個被裝設在所述=壓力容器中之研磨板；一被裝設於所 述之研磨板上之；^壓板，所述之加壓板將設置於所述之研 磨板和所述之加壓板間之加工件壓至所述之研磨板上；一 用以連帶地移動和所述加壓板相關之所述研磨板之驅動單 元，以便研磨加^件；以及一和所述之壓力容器相連接之 壓力源，所述之壓力源增加或減少壓力容器之内部壓力， 所述之方法包含之步驟·· 將加工件设置在所述之研磨板和所述之加壓板之間； 引導氣體浸入壓力容器；並且 藉由所述之驅動單元連帶地移動和所述加壓板相關之所述研磨板’以便研磨加工件。 1 5 ·如申請專利範圍第1 4項所述之方法，其中所述之 研磨裝置更進一步·包含一研磨液供給單元，並且 所磨液從所述之研磨液供給單元供給至所述之研磨第21頁1 6 ·如申請專利範圍第1 4項所述之方法，其中在研磨 加工件時，所述之壓力容器之内部壓力為多樣的。 1275445 案號91134166 年 修正 六、申請專利範圍 1 7 .如申請專利範圍第1 4項所述之方法，其中在研磨 加工件時，所述之壓力容器中之氣體交換為另一種氣體。 1 8.如申請專利範圍第1項所述之研磨裝置，其中所述 之壓力容器為一鐘形體。 1 9.如申請專利範圍第1 4項所述之方法，其中所述之 壓力容器為一鐘形體。第22頁 1275445 第1圖 141275445127544566— 馬達- L——hi動器·一 65 1275445 第6圖第7圖 B73 79 12754450000»0)0)0)0)0 ooooooooo 987654321 (uiursi篇氍案:u*s/UIU)oiseno:掛傲繼S 12010080604020 -200 -100 〇 m 200 m 400 500 鐘形體之內部壓力 第10圖 ooooooooo 987654321 (SUI/lfs :掛㈣雜¾ —i . - ——..............-:·· -〇-Si -〇Si02 _： -Δ- Gu I 負壓 I 正壓 I i Ί I ο ο ο 4 2 0 0 0 0 1118 6 4 20 cai )os 勿 nCJ:條滕»东 ο -200 -100 Ο ί〇θ 200 3Θ0 400 500 鐘形體之內部壓力 1275445 第11圖 /i /1 /i /% /1 o o o o o 6 5 4 3 2 (US/UIU) 一s ί 铄撖觀审 oc(ue/UIU)os e d :iF滕纖 Μ OOOO OQOOO 987654321 ο -200 -100 0 1敏 200 300 400 500 鐘形體之丙都壓力… — 第12圖 Jt /i /% /i /i /i o o o o o o 6 5 4 3 2 1 (US/UIUHS :#撖翻s ~2^ s - i ooooooooo 987654321 o 1275445 第13圖 οοοοοοο 4 2 0 8 6 4 2 1 1— 1 (Us/i)n3 :褂滕變Sυ 一200 —ιοο ο \m m soo m soo eoo 鐘形體之內部壓力 第14圖20( 00 咅 內 之 體 0 0 T鐘 00 I力 00 6 00 1275445 第15圖 ο ο ο0ο ο 2 0 8 6 4 2 1 ii (Ue/UIUYO一OQ:讲倒_萑第 鐘形體之內部壓力 16 圖 62第17圖61
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