TWI273627B - Photosensitive resin transfer printing equipment and methods - Google Patents

Photosensitive resin transfer printing equipment and methods Download PDF

Info

Publication number
TWI273627B
TWI273627B TW093111960A TW93111960A TWI273627B TW I273627 B TWI273627 B TW I273627B TW 093111960 A TW093111960 A TW 093111960A TW 93111960 A TW93111960 A TW 93111960A TW I273627 B TWI273627 B TW I273627B
Authority
TW
Taiwan
Prior art keywords
photosensitive
photosensitive material
substrate
transfer
material supply
Prior art date
Application number
TW093111960A
Other languages
English (en)
Other versions
TW200504797A (en
Inventor
Hirosei Nagate
Kazuyoshi Suehara
Original Assignee
Fujifilm Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Fujifilm Corp filed Critical Fujifilm Corp
Publication of TW200504797A publication Critical patent/TW200504797A/zh
Application granted granted Critical
Publication of TWI273627B publication Critical patent/TWI273627B/zh

Links

Classifications

    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/16Coating processes; Apparatus therefor
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03CPHOTOSENSITIVE MATERIALS FOR PHOTOGRAPHIC PURPOSES; PHOTOGRAPHIC PROCESSES, e.g. CINE, X-RAY, COLOUR, STEREO-PHOTOGRAPHIC PROCESSES; AUXILIARY PROCESSES IN PHOTOGRAPHY
    • G03C1/00Photosensitive materials
    • G03C1/74Applying photosensitive compositions to the base; Drying processes therefor
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03CPHOTOSENSITIVE MATERIALS FOR PHOTOGRAPHIC PURPOSES; PHOTOGRAPHIC PROCESSES, e.g. CINE, X-RAY, COLOUR, STEREO-PHOTOGRAPHIC PROCESSES; AUXILIARY PROCESSES IN PHOTOGRAPHY
    • G03C8/00Diffusion transfer processes or agents therefor; Photosensitive materials for such processes
    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10TTECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
    • Y10T156/00Adhesive bonding and miscellaneous chemical manufacture
    • Y10T156/12Surface bonding means and/or assembly means with cutting, punching, piercing, severing or tearing
    • Y10T156/1317Means feeding plural workpieces to be joined
    • Y10T156/1322Severing before bonding or assembling of parts
    • Y10T156/1339Delivering cut part in sequence to serially conveyed articles
    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10TTECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
    • Y10T156/00Adhesive bonding and miscellaneous chemical manufacture
    • Y10T156/17Surface bonding means and/or assemblymeans with work feeding or handling means
    • Y10T156/1702For plural parts or plural areas of single part
    • Y10T156/1712Indefinite or running length work
    • Y10T156/1741Progressive continuous bonding press [e.g., roll couples]

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)
  • Optical Filters (AREA)
  • Materials For Photolithography (AREA)
  • Application Of Or Painting With Fluid Materials (AREA)
  • Laminated Bodies (AREA)
  • Manufacturing Of Printed Circuit Boards (AREA)

Description

1273627 玖、發明說明 一、 發明所屬之技術領域 本發明係關於感光性樹脂轉印裝置及方法,更詳而言, 係關於在液晶面板用基板、電漿顯示器用基板、印刷配線 用基板等轉印感光層之裝置及方法。 二、 先前技術 液晶面板或電漿顯示器之彩色濾光片,係例如經在透明 基板上轉印R、G、B之三色感光性樹脂(光阻)後,以光 微影法施加曝光、顯影處理所製得。感光性樹脂轉印裝置 係例如邊搬送在支承體上設置感光性樹脂層(感光層)之 感光材料與基板、邊以配置在搬送途徑上的熱壓接輥來將 上述感光層轉印在基板(請參閱例如下述專利文獻1 ): 〔專利文獻〕日本國專利特開第2002- 1 48 794號公報。 在感光性樹脂轉印裝置之感光材料供應部,則架設1支 經將具有數片份的長度之長尺寸感光材料繞成爲滾筒狀之 感光材料滾筒。感光材料之寬度係按照基板上的轉印區寬 度來作決定。由該感光材料滾筒所退捲之感光材料,係經 配合基板之長度在感光層施加裂縫後,供應於搬送途徑。 然後以熱壓接輥使感光層轉印在基板上後,即由感光層剝 離支承體。 三、 發明內容 發明所欲解決之課題 近年來隨著液晶面板或電漿顯示器之畫面尺寸大型化, 使得基板尺寸變大,以致轉印區之寬度也正在變寬。轉印 1273627 區之寬度一旦變寬,則感光材料之寬度也必須配合其而跟 著擴大不可,惟感光材料之寬度一旦擴大,則因感光材料 滾筒之寬度也會跟著而增加,因此,非採取滾筒搬送製程 大型化,或感光材料供應設備大型化之對策不可’如此一 來,則設備改造費用必然會增多。如此之費用,畢竟還是 會轉嫁到製品成本上,因此將導致降低成本上之障礙。另 外,擴大感光材料之寬度時,也有即將導致重量比以前增 加,同時容易產生皺紋,而造成感光材料之使用方便性惡 化之問題。 有鑑於此,本發明之目的係提供一種感光性樹脂轉印裝 置及方法,其係能抑制裝置之改造費用,同時可在不致於 .影響到感光材料之使用方便性下在寬幅之基板全面轉印感 光性樹脂者。 解決課顆之丰段 爲達成上述目的,本發明之感光性樹脂轉印裝置,其特 徵爲:具備可將比基板上轉印區之寬度爲窄之感光材料並 列數片供應之感光材料供應單^元、。 另外’該感光材料供應單元係由從將長尺寸感光材料繞 成滾筒狀之感光材料滾筒拉出感光材料之一端以供應給搬 送途徑的數片感光材料供應部所構成,且在該等各感光材 料供應部設置可獨立調整各感光材料之張力的張力調整機 構。 另外,該感光材料供應部係分別具備用作爲配合基板長 度在支承體上之感光層施加裂縫之切斷機構,與用作爲剝 1273627 離設置在感光層上層的表護膜之表護膜剝離機構。 感光層轉印方法,係以將比基板上轉印區之寬度爲窄之 感光材料並列數片供應,以對於該轉印區之大致全面轉印 感光層爲其特徵。 四、實施方式 第1圖所示之感光性樹脂轉印裝置2,係由基板供應部 1 〇、預熱部1 1、熱壓接部1 2、冷卻部1 3、剝離部14、基 板取出部1 5、以及感光材料供應單元1 6所構成。感光材 料供應單元1 6,係由第1感光材料供應部1 6a及第2感光 材料供應部1 6b所構成,在各感光材料供應部1 6a、1 6b則 將分別安置將長尺寸之感光材料17a、17b予以繞成滾筒狀 之感光材料滾筒18a、18b。各感光材料供應部16a、16b 係用作爲分別由感光材料滾筒18a、18b'分別拉出各自之感 光材料1 7a、1 7b,並呈並列地供應給搬送途徑。 如第2圖所示,各感光材料17a、17b係在支承體19上 將用作爲構成彩色濾光片之感光層20予以疊層所構成者, 並且在感光層20之上層則設置用作爲保護感光層之表護膜 2 1。在製造彩色顯示器之情形下,則將對應於R (紅色) 、G (綠色)、B (藍色)之三色彩色濾光片之R用、G用 、B用之三色感光材料1 7a、1 7b,依照上面順序轉印在基 板22上。例如首先予以安置R用之感光材料滾筒18a、 1 8b,並使R用感光層轉印在玻璃基板22。經該轉印後, 以光微影法,對於經轉印過的感光層施加曝光和顯影,藉 以形成濾光片圖案。經形成濾光片圖案之感光層則加以烘 1273627 焙以使其固定在基板上。 經該烘焙後,已形成R用濾光片之玻璃基板22,則使其 再回到感光性樹脂轉印裝置。然後將G用濾光片安置,並 使G用感光層轉印在玻璃基板22上。經轉印妥之用感 光層’則與R用感光層同樣地形成濾光片圖案,並以烘焙 處理加以固定。經形成G用濾光片後,則同樣地轉印b用 感光層,以形成B用濾光片。經形成該等三色彩色濾光片 後,爲塡埋其等之間隙,則轉印K (黑色)用之感光層。 第1圖中,基板22係藉由基板供應部1〇之遙控臂23來 以一定間隔使轉印面朝向下側之狀態下,供應給預熱部i i 。該基板22係例如爲包含4片份面板之大小,但經形成彩 色濾光片後則予以分割爲4片。 預熱部11係由基板搬送裝置24、加熱器25、26所構成 。基板搬送裝置24係由空氣懸浮板27與進料輥(feed roller) 28所構成。空氣懸浮板27係予以配置成可面對於 基板22之轉印面側之狀態,用作爲向轉印面噴出潔淨空氣 ,以使基板浮上。進料輥28係接觸於懸浮的基板22之轉 印面兩側緣部,並以旋轉使基板22朝向熱壓接部1 2搬送 。感光層係不會轉印在基板22之轉印面兩側緣部,因此進 料輥2 8之周面不致於接觸感光層2 0。該進料輥2 8係由附 有凸緣之輥所構成。因此,未圖示之凸緣係具有會導向基 板22之機能,可決定基板22之寬度方向位置。 加熱器25、26係以隔著基板搬送裝置24之基板22的搬 送途徑之狀態下上下配置數組,以使基板22加熱至介於 -10- 1273627 5 0至1 1 〇°C之間。在預熱部1 1受到加熱之基板22將由進 料輥2 8送出於熱壓接部1 2。 熱壓接部1 2係由一對層壓輥2 9與支承輥3 0所構成。一 對層壓輥29係由會接觸於基板22之層壓輥29a,與會接 觸於感光材料1 7之層壓輥2 9b所構成。加熱器係內建在該 等層壓輥2 9a、2 9b及支承輥30。一對層壓輥29係藉由將 基板22與感光材料17予以夾持而搬送,並以熱壓接使感 光材料17貼上於基板22。支承輥30係接觸於層壓輥29b 而作被動施轉,以壓抑層壓輥29a、29b之彎曲,以實現藉 均勻力的熱壓接。熱壓接部1 2,係當後述半切斷器45之 半切斷線通過特定位置時,則向基板搬送裝置24送出進料 開始信號。藉此,即可在對準半切斷線與基板22的位置之 狀態下,使感光材料之感光層20轉印在基板22。此時, 支承體1 9也會跟著基板22之移動而被送往一對層壓輥29 之進料方向下游側。 冷卻部1 3係由冷卻空氣噴出板3 1與搬送輥32所構成。 冷卻空氣噴出板31係用作爲將通過HEPA (高效率微粒子 空氣)過濾器的潔淨空氣向基板22噴出,以使經由搬送輥 32所搬送的基板22之溫度冷卻至大致室溫(低於3〇°C ) 〇 剝離部14係由剝離輥33及基底膜捲取機構34所構成, 用作爲由基板22連續地剝離支承體1 9,並將此支承體1 9 捲取於回收軸34a。回收軸34a係由未圖示之捲取馬達所 旋轉驅動。該捲取馬達係受到轉矩控制,以維持一對層壓 -11 - 1273627 輥29以後的支承體1 9之張力成爲一定,以使支承體1 9不 致於產生彎曲。 在剝離部1 4之下游側則設置由空氣懸浮板3 5構成之基 板取出部1 5。該空氣懸浮板3 5係構成爲與預熱部1 1之空 氣懸浮板2 7相同結構。經由剝離部1 4送出於基板取出部 1 5之基板22,係由遙控臂23吸附其上側面以取出。 如第3圖所示,第1感光材料供應部16a及第2感光材 料供應部16b,係各自獨立具有感光材料安裝軸37、38, 切斷部3 9、40,表護膜剝離機構41、42,以及張力調整機 構43、44。各感光材料滾筒18a、18b係分別安置在感光 材料安裝軸37、38。 切斷部39、40係具備半切斷器45,用作爲在保留各自 感光材料17a、17b的支承體19a、19b下,配合基板22之 轉印區22a之長度以對於感光層20a、20b及表護膜21a、 2 1b施加裂縫。半切斷器45係由其長度方向係向各感光材 料17a、17b之寬度方向延伸的兩片刀刃所構成。兩片刀刃 之間隔係對應於連續地被搬送的數片基板22之間隔。換言 之,兩片刀刃之間隔係對應於一片基板22的轉印區22a之 後端,與次一片基板22的轉印區22a之前的間隔,且使兩 片刀刃同時作一次動作,藉以在該位置同時施加裂縫。 表護膜剝離機構41、42係用作爲由各感光材料17a、 17b剝離各感光層20a、2 0b的上層之表護膜21a、21b。該 表護膜剝離機構4 1、42係用作爲將經由黏著帶輥46所拉 出之黏著帶47以按壓輥48貼附於表護膜2 1,並將貼上該 -12- 1273627 表護膜2 1之黏著帶4 7捲取在帶捲取軸4 9以回收。 張力調整機構43、44係由背張力輥50、51、馬達52、 53及張力感測器54、55所構成。背張力輥5〇、51係根據 由張力感測器54、55所檢測到之張力値,可將一對層壓輥 29以前的感光材料i7a、2 7b之張力保持成一定,以避免 在感光材料17a、17b產生彎曲。經由張力感測器54、55 所檢測到之張力値,係送給控制器5 6 (請參閱第5圖), 以控制馬達52、53之旋轉速率或旋轉量,藉以調整張力。 元件代表符號5 7係表示薄膜位置控制裝置。薄膜位置控 制裝置57係用作爲將並列搬送的兩片感光材料i7a、i7b 間之距離保持成特定間隔,以使感光材料1 7a、〗7b之搬送 趨於安定。另外,也可將薄膜位置控制裝置5 7到處設置以 期能在良好精確度下搬送感光材料17a、17b。 如第4圖所示,各感光材料17a、17b之寬度W2,係比 基板22上的轉印區22a之總寬度W1爲窄,例如W2 $ 1 /2 · W1。將如此之感光材料1 7a、1 7b以並列供應,即可 在轉邱區22a之大致全面轉印感光層20。如此,將寬度比 基板上之轉印區爲窄之感光材料排列成數片來供應,藉此 ’即可在不必使感光材料寬幅化下,使感光層大致轉印在 寬幅的轉印區全面。 如第5圖所示,各感光材料供應部1 6a、1 6b之各背張力 輥5 0、5 1,係設在同軸上。各背張力輥5 0、5 1係分別由 個別之馬達5 2、5 3所驅動。由控制器5 6獨立控制該等馬 達5 2、5 3,即可將各感光材料之張力分別加以獨立控制。 - 13- 1273627 若欲在一個背張力輥繞掛數片感光材料下搬送時,則會在 任一感光材料產生滑動,因此當無法使各感光材料之張力 保持成一定。於是在本實施例,則對於各感光材料設置張 力調整機構,並將其等加以獨立控制,以使各感光材料之 張力保持成一定。 接著,說明本實施形態之作用。基板22係以基板供應部 1 〇之遙控臂23供應給預熱部1 1。供應給預熱部1 1之基板 22,係經由加熱器25、26加熱後送出於熱壓接部12。並 且對於送到熱壓接部12之基板22,由第1感光材料供應 部16a及第2感光材料供應部16b以並列供應感光材料 17a、 17b ° 各感光材料17a、17b在供應給熱壓接部12之前’控制 器56則將感光材料供應部16a、16b加以獨立控制,以對 於感光材料17a、17b實行各感光材料供應部16a、16b之 各部的處理。感光材料1 7a、1 7b係由各切斷部39、40之 半切斷器45在配合基板22之轉印區22a的長度下被施加 裂縫,然後送往各表護膜剝離機構41、42。在各表護膜剝 離機構41、42,則由感光材料17a、17b剝離經切斷的各 感光層20a、20b之上層的表護fe 21a、21b。經通過各表 護膜剝離機構4 1、4 2之感光材料1 7 a、1 7 b ’將在經由各 張力調整機構43、44將感光材料17a、17b之張力保持成 一定之狀態下,供應給熱壓接部1 2。 經由各感光材料供應部16a、16b供應之感光材料17a、 17b,則在經使其位置對準於基板22之轉印區22a之狀態 -14- 1273627 下,通過熱壓接部1 2的一對層壓輥2 9之間,以使各感光 材料17a、17b之感光層20a、20b轉印在各感光材料17a、 1 7b上。其後,經轉印各感光材料1 7a、1 7b之感光層20a 、2 〇b的基板22,係被送往冷卻部1 3,受到來自冷卻空氣 噴出板3 1之冷卻空氣所冷卻後,則送往剝離部1 4。在剝 離部14則將各感光材料17a、17b之支承體捲取於回收軸 3 4a以予以剝離。經剝離各感光材料17a、17b之支承體的 基板2 2,係送出於基板取出部1 5,以由遙控臂3 6吸附其 上側面以予以取出。 如前所述,由於具備可以g列供應寬度比基板22之轉印 區22a的寬度爲窄之感光材料17a、17b之感光材料供應單 兀1 6,可不必將裝置之搬送系統加以寬幅化,因此能抑制 裝置之改造費用,同時可在寬幅之基板全面轉印感光層。 而且,由於使用寬度狹窄之感光材料,不容易產生皺紋, 也不致於損及感光材料之使用方便性。 另外,在上述實施形態中雖然將張力調整機構、切斷部 及表護膜剝離機構按每一感光材料滾筒分別設置,但是也 可採取對於數片感光材料滾筒只設置一共同機構之方法。 惟若採取將切斷部個別設置並將其等加以獨立控制之方法 ,即可作細致的面板之生產調整。換言之,由於上述實例 係使用多重方式之基板,藉由一次的熱壓接,以二感光材 料即可轉印各兩片份合計四片份的面板之感光層。由於經 由一次轉印所能轉印的感光層之長度,係取決於被半切斷 之長度,因此若加以控制切斷位置時,則也可實施在一方 -15- 1273627 的感光材料轉印兩片份之長度,在另一方的感光材料則僅 轉印一片份之方式。藉此,即可減少在顯影步驟時之負荷 〇 在上述實例係針對於由各感光材料供應部供應同一顏色 用的感光材料之實例加以說明,惟如第6圖所示,也可採 取如由第1感光材料供應部供應R用之感光材料,由另一 方則供應G用之感光材料般之方式供應不同顏色之感光材 料。另外,上述實例係以設置二感光材料供應部之實例加 以說明,惟也可設置兩部以上。 再者,在上述實例,則以將各感光材料供應部所供應之 各感光材料之寬度,設定成轉印區之1/2以下,並設定各 個爲相同寬度之情形爲例加以說明,惟各感光材料之寬度 也可爲如使其一方具有1/3之寬度,另一方則具有2/3之 寬度般並非相同者,也可爲並非爲轉印區之1 /2以下者。 如上述,若改變各感光材料之寬度時,則可有效地利用在 感光材料製程中所產生的零星寬度之感光材料。 第7圖爲由位於中央之第2感光材料供應部供應R用之 感光材料,由位於其兩側的第1及第3之各感光材料供應 部則供應爲轉印對準標記的K用之感光材料的實例。對準 標記是用作爲對準各顏色的轉印位置之定位標記。一般而 言,對準標記係在轉印R用之感光層時,以同一感光層來 形成,但是紅色之對比係比黑色較低,因此識別率低。然 而,若只爲轉印對準標記而轉印K用之感光層時,則因製 程增加即將招致生產效率低落之結果。於是如第7圖所示 -16- 1273627 般,若在轉印R用之感光層時與其同時轉印K用之感光層 時,即可在不致於增加製程下設置識別率較高之對準標記 〇 根據上述實施例,在經以並列供應之二感光材料間,雖 然有間隙,但是也可爲消除該間隙者,或可爲使二感光材 料重疊者。 根據上述實施例,其二感光材料供應部係使其各自供應 途徑並列設置,但是非爲並列也可,搭配9 0度轉向等使前 後·上下立體性地設置也可。 本發明係在對於液晶面板用基板、電漿顯示器用基板、 印刷配線用基板、有機EL (電致發光)用基板、以及TFT (薄膜電晶體)用基板等各種基板,轉印感光性樹脂時可 適用。 發明之效果 如前所述,根據本發明由於具備可將寬度比轉印區之寬 度爲窄之感光材料並列數片供應之感光材料供應單元,因 此可抑制裝置改造費用,同時可在不致於損及感光材料之 使用方便性下,在寬幅之基板全面轉印感光性樹脂。 另外,由於感光材料供應單元係由將長尺寸之感光材料 繞成滾筒狀的感光材料滾筒拉出感光材料之一端所供應給 搬送途徑的數片感光材料供應部所構成,且在該等各感光 材料供應部設有可獨立調整各感光材料之張力的張力調整 機構,因此可安定地將各感光材料供應給基板。 此外,由於感光材料供應部係分別具有用作爲在配合基 -17- 1273627 18a, 、1 8b 感 光 材 料 滾 筒 19 支 撐 體 20 > 20a ' 20b 感 光 層 2 1 表 護 膜 22 基 板 22a 轉 印 區 23、 36 遙 控 臂 24 基 板 搬 送 裝 置 25、 26 加 熱 器 11、 35 空 氣 縣 浮 板 28 進 料 宙曰 早比 29 一 對 層 壓 輥 29a 、29b 層 壓 輥 30 支 撐 輥 3 1 冷 卻 空 氣 噴 出 板 32 搬 送 輥 33 剝 離 輥 34 基 底 膜 捲 取 機 構 34a 回 收 軸 37、 38 感 光 材料 安 裝 軸 39、 40 切 斷 部 41、 42 表 護 膜 剝 離 機 構 43、 44 張 力 調 整 機 構 45 半 切 斷 器
-19- 1273627
46 黏著帶輥 47 黏著帶 48 按壓輥 49 帶捲取軸 50、 5 1 背張力輥 52、 53 馬達 54、 55 張力感測器 56 控制器 57 薄膜位置控制裝置
-20-

Claims (1)

1273627 拾、申請專利範圍 1 ·—種感光性樹脂轉印裝置,係用作爲對於配置熱壓接 輥之搬送途徑,供應在支承體上疊層感光性樹脂之感 光材料,與基板,並以該熱壓接輥在該基板上轉印區 轉印該感光層者,其特徵爲: 具備可將比該轉印區之寬度爲窄之感光材料並列數片 供應之感光材料供應單元。 2 · 如申請專利範圍第1項之感光性樹脂轉印裝置,其中 該感光材料供應單元係由從將長尺寸感光材料繞成滾 筒狀之感光材料滾筒拉出感光材料之一端以供應給搬 送途徑的數片感光材料供應部所構成,且在該等各感 光材料供應部設置可獨立調整各感光材料之張力的張 力調整機構。 3. 如申請專利範圍第1或2項之感光性樹脂轉印裝置, 其中該感光材料供應單元係分別具備用作爲配合基板 長度在支承體上之感光層施加裂縫之切斷機構,與用 作爲剝離設置在該感光層之上層的表護膜之表護膜剝 離機構。 4. 一種感光性樹脂轉印方法,·係用作爲對於配置熱壓接 輥之搬送途徑,供應在支承體上疊層感光性樹脂之感 光材料,與基板,並以該熱壓接輥在該基板上轉印區 轉印該感光層者,其特徵爲: 將比基板上轉印區之寬度爲窄之感光材料並列數片供 應,並對於該轉印區之大致全面轉印感光層。 -21 -
TW093111960A 2003-05-01 2004-04-29 Photosensitive resin transfer printing equipment and methods TWI273627B (en)

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2003126287A JP2004333616A (ja) 2003-05-01 2003-05-01 感光性樹脂転写装置および方法

Publications (2)

Publication Number Publication Date
TW200504797A TW200504797A (en) 2005-02-01
TWI273627B true TWI273627B (en) 2007-02-11

Family

ID=33308190

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
TW093111960A TWI273627B (en) 2003-05-01 2004-04-29 Photosensitive resin transfer printing equipment and methods

Country Status (5)

Country Link
US (1) US7213628B2 (zh)
JP (1) JP2004333616A (zh)
KR (1) KR20040094619A (zh)
CN (1) CN1542549B (zh)
TW (1) TWI273627B (zh)

Families Citing this family (15)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP4074293B2 (ja) * 2005-01-21 2008-04-09 株式会社都ローラー工業 電子回路用基板の塗料塗布保護フィルム付き塗膜形成方法及びその塗膜形成装置
KR100617042B1 (ko) * 2005-03-17 2006-08-30 엘지.필립스 엘시디 주식회사 인쇄롤용 블랭킷 제조방법 및 장치
TW200633852A (en) * 2005-03-23 2006-10-01 Fuji Photo Film Co Ltd Apparatus for and method of manufacturing photosensitive laminated body
JP2007212860A (ja) * 2006-02-10 2007-08-23 Fujifilm Corp 積層体の製造方法、積層体、液晶表示装置用基板、液晶表示素子及び液晶表示装置
JP2007219020A (ja) * 2006-02-14 2007-08-30 Fujifilm Corp 樹脂積層体及びその製造方法、表示装置用材料、並びに表示装置及び液晶表示装置
JP2007334095A (ja) * 2006-06-16 2007-12-27 Fujifilm Corp 樹脂積層体の製造方法、樹脂積層体、表示装置用材料、表示装置、及び液晶表示装置
US20100024954A1 (en) * 2006-09-27 2010-02-04 Fujifilm Corporation Apparatus and method for manufacturing photosensitive laminate, photosensitive transfer material, rib and method for forming the same, method for manufacturing laminate, member for display device, color filter for display device, method for manufacturing color filter, and display device
JP2008110490A (ja) * 2006-10-27 2008-05-15 Fujifilm Corp 感光性積層体の製造装置及び製造方法
US8931536B2 (en) * 2007-07-20 2015-01-13 Ropheka Technologies, Llc Devices for applying conductive gel-pads to electrodes and electrodes produced thereby
CN101342808B (zh) * 2008-08-25 2011-09-21 东莞市坤轮机械有限公司 防尘网的生产设备及其制作工艺
JPWO2012070546A1 (ja) * 2010-11-22 2014-05-19 旭硝子株式会社 転写装置及び樹脂パターン製造方法
US8841548B2 (en) * 2011-08-26 2014-09-23 Uchicago Argonne, Llc Resonance-shifting luminescent solar concentrators
JP5987312B2 (ja) * 2011-12-16 2016-09-07 日本電気硝子株式会社 成膜装置及び膜付ガラスフィルムの製造方法
CN111727208B (zh) 2018-02-21 2023-10-17 富士胶片株式会社 固化性组合物、固化物、滤色器、滤色器的制造方法、固体摄像元件及图像显示装置
CN116529188A (zh) * 2020-12-03 2023-08-01 富士胶片株式会社 多层膜的制造方法

Family Cites Families (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4495014A (en) * 1983-02-18 1985-01-22 E. I. Du Pont De Nemours And Company Laminating and trimming process
US4714504A (en) * 1986-10-10 1987-12-22 Ibm Corporation Process of laminating a photosensitive layer of a substrate
JPH04323031A (ja) * 1991-04-23 1992-11-12 Fuji Photo Film Co Ltd 感光層積層方法
JP3195123B2 (ja) * 1993-06-11 2001-08-06 富士写真フイルム株式会社 感光層積層方法及び装置
US5437960A (en) * 1993-08-10 1995-08-01 Fuji Photo Film Co., Ltd. Process for laminating photosensitive layer
TW283819B (zh) * 1995-02-03 1996-08-21 Fuji Photo Film Co Ltd
KR100396861B1 (ko) * 1995-08-21 2004-03-20 후지 샤신 필름 가부시기가이샤 기판상에필름시이트를적층하기위한라미네이터
US6500291B1 (en) * 1998-09-11 2002-12-31 Hitachi Chemical Co. Ltd. Device and method for lamination
US6694108B2 (en) * 1998-10-30 2004-02-17 Canon Kabushiki Kaisha System for managing temperature in an image forming apparatus by controlling printing speed
JP2002148794A (ja) * 2000-11-15 2002-05-22 Fuji Photo Film Co Ltd 感光層転写装置及び方法

Also Published As

Publication number Publication date
CN1542549A (zh) 2004-11-03
TW200504797A (en) 2005-02-01
JP2004333616A (ja) 2004-11-25
KR20040094619A (ko) 2004-11-10
US7213628B2 (en) 2007-05-08
CN1542549B (zh) 2010-04-07
CN1542549C (zh)
US20040219450A1 (en) 2004-11-04

Similar Documents

Publication Publication Date Title
TWI273627B (en) Photosensitive resin transfer printing equipment and methods
JP3756402B2 (ja) 基板搬送装置及び方法
TW594382B (en) Transfer device and method for a photo-sensing layer
JP3562468B2 (ja) ラミネート装置及びラミネート方法
US9172063B2 (en) Method and apparatus for manufacturing display devices
JP4415126B2 (ja) 積層フィルム貼合せ装置
KR101802025B1 (ko) 절단 기구, 접합 기구, 기판 처리 시스템, 기판 처리 장치, 및 기판 처리 방법
JP2002151571A (ja) 基板加熱エア浮上搬送装置及びそれを用いた基板搬送方法
JPS5955749A (ja) 床タイルの転写プリント方法
JP2007320678A (ja) 外層体の剥離方法及び剥離装置
JP4186805B2 (ja) フィルム貼付装置
KR101445442B1 (ko) 롤 프린팅 장치 및 이를 이용한 롤 프린팅 방법
JP3694119B2 (ja) 基板表面へのフィルムシートのラミネータ
JP2010131837A (ja) ラミネート装置及びラミネート方法
TW200922788A (en) System for manufacturing a photosensitive laminated body
JP2007145497A (ja) 積層体の剥離方法及び剥離装置
JP2007007985A (ja) ラミネート貼着装置およびその方法
JP4409256B2 (ja) カラーフィルタ製造装置、及びカラーフィルタ製造方法
WO2022163369A1 (ja) ガラスフィルムの製造方法
KR101810009B1 (ko) 교정압연기를 구비한 필름 권취기
JP2003322715A (ja) パターン部材の製造方法及び製造装置
JP4987656B2 (ja) 感光性積層体の製造装置及び製造方法
JPH08240706A (ja) カラーフィルタ用転写装置
JP3802101B2 (ja) カラーフィルタ用転写装置
JP6584761B2 (ja) Icカードの製造装置

Legal Events

Date Code Title Description
MM4A Annulment or lapse of patent due to non-payment of fees